説明

水素生成器

【課題】水素生成器は起動停止の繰り返しのより一酸化炭素低減触媒の一部が壊れ、触媒の粉末が落下した場合に、粉末が一酸化炭素低減部よりも上流に位置するガス流路の壁面に付着すると、壁面に付着した触媒により発熱を伴う触媒反応が起こり、一酸化炭素低減部でのガス温度が想定よりも高い側にズレる。一酸化炭素低減触媒がその最適な反応温度よりも高い温度で反応することになり、一酸化炭素を十分に低減できない。また、劣化しやすくなり触媒の寿命時間が想定よりも短くなる。
【解決手段】一酸化炭素低減触媒の粉末を溜まる空間を設け、ガス通路へ触媒の粉末が達することを抑制する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、炭化水素化合物を原料として水素を含む燃料ガスを生成し、燃料電池に燃料ガスを供給する水素生成器に関するものである。
【背景技術】
【0002】
燃料電池発電装置は、燃料電池と、燃料電池に水素を含む燃料ガスを供給する水素生成器と、燃料電池が発電した直流電力を交流電力へ変換するインバーター回路、およびそれらを制御する制御装置などによって構成されている。燃料電池には種々の方式が用いられているが、表面に貴金属触媒を坦持した高分子などの固体電解質の片面に水素ガスを供給し、供給された水素ガスを水素イオンへ変換し、反対面に酸素を供給して固体電解質内を拡散してきた水素イオンを燃焼消費することによって電荷の移動、すなわち電流を得る方式が一般的である。また、水素生成器にも幾つかの方式があるが、一般的にはルテニウムなどを坦持した触媒を用い、原料となる炭化水素化合物と水蒸気を高温で反応させて水蒸気改質反応によって水素を高濃度に含む改質ガスを生成する改質部と、改質ガス中に含まれる一酸化炭素を低減する一酸化炭素低減部と、によって構成される。
【0003】
改質部には改質触媒が、一酸化炭素低減部には一酸化炭素低減触媒がそれぞれ充填されており、改質触媒は600〜700℃と比較的高温で反応し、一酸化炭素低減触媒は、改質触媒より比較的低温(たとえば200〜300℃)で反応する。改質部が一定の温度になるように制御し、改質部より出たガスが一酸化炭素低減部へ行く途中に温度低下し、一酸化炭低減触媒では反応するのに最適な温度になっているように機器は設計されている。
【0004】
水素生成器は起動停止の繰り返しのより触媒が壊れやすく、特許文献3では、改質触媒の粉末が重力方向の下方に落ちて下流側の流路が詰まることについての課題が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】国際公開第02/098790号
【特許文献2】特開2010−269956号公報
【特許文献3】特開2011−6289号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
前記従来の構成では、水素生成器は起動停止の繰り返しにより一酸化炭素低減触媒の一部が壊れ、触媒の粉末が落下した場合に、粉末が一酸化炭素低減部よりも上流に位置するガス流路の壁面に付着すると、壁面に付着した触媒により発熱を伴う触媒反応が起こり、一酸化炭素低減部でのガス温度が想定よりも高い側にズレる恐れがあった。一酸化炭素低減触媒がその最適な反応温度よりも高い温度で反応することになると、一酸化炭素を十分に低減できなくなる恐れがある。また、一酸化炭素低減触媒がその最適な反応温度よりも高い温度で反応することになると、一酸化炭素低減触媒が劣化しやすくなり、触媒の寿命時間が想定よりも短くなる恐れがある。
【0007】
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、一酸化炭素低減部に達するガス温度がズレることを抑制し、水素生成器内部の温度バランスのズレが発生することを抑制し、一酸化炭素低減触媒の性能を想定どおり発揮させることができる水素生成器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
前記従来の課題を解決するために、本発明の水素生成器は、
原料及び水を反応させて水素を含む改質ガスを生成する改質部と、
改質ガスに含まれる一酸化炭素を低減するための一酸化炭素低減触媒を収容する一酸化炭素低減部と、
前記改質部及び前記一酸化炭素低減部を加熱する加熱部と、
一端が前記一酸化炭素低減部と連通し、他端が前記改質部と連通し、前記改質部から前記一酸化炭素低減部へ重力方向の上向きに伸びるように配置されるガス流路と、
前記一酸化炭素低減部の重力方向の下方に配置され、前記ガス流路の一端及び前記一酸化炭素低減部を接続する空間と、
を備え、
前記空間には、重力方向の上向きに開口する凹部が形成されている。
【0009】
この構成により、一酸化炭素低減触媒の粉末が落下した場合であっても、粉末は前記空間に溜まり、その上流側の通路には付着することを抑制できる。そのため、粉末で起こる発熱反応の影響によって、水素生成器内部の温度バランスのズレが発生することを抑制できる。
【0010】
また、本発明の水素生成器は、前記空間の凹部の底面が、前記空間と前記ガス流路の一端との接続部より低くなるよう形成されている。
【0011】
この構成により、前記凹部に溜まった触媒の粉末がガス流路側へ移動することを抑制することができる。
【0012】
また、本発明の水素生成器は、前記一酸化炭素低減部及び前記空間の間に、複数の貫通孔を備えた仕切部材が配置されている。
【0013】
この構成により、一酸化炭素低減触媒を保持するとともに、複数の貫通孔の寸法を小さくすることにより粉末の落下自体を少なくする工夫を施すことができる。
【0014】
また、本発明の水素生成器は、底板を備えた内筒と、
前記内筒の外側に配置される中筒と、
底板を備え、前記中筒の外側に配置される外筒と、
前記内筒と前記中筒との間に前記改質部が形成されており、
前記中筒と前記外筒との間に前記ガス流路、前記空間、及び前記一酸化炭素低減部が形成されている。
【0015】
この構成により、前記空間を水素生成器の内部に設けることが容易になる。
【0016】
また、本発明の水素生成器は、前記改質部は、前記一酸化炭素低減部より重力方向の下側に配置され、
前記ガス流路は、前記改質部に沿うように配置されている。
【0017】
この構成により、水素生成器をコンパクトにでき、かつ、前記空間を水素生成器の内部に設けることが容易になる。
【0018】
また、本発明の水素生成器は、前記一酸化炭素低減部の外側の壁面を形成する前記外筒の直径は、前記ガス流路の外側の壁面を形成する前記外筒の直径より大きい構成にしている。
【0019】
この構成により、前記空間の凹部は、前記ガス流路から前記一酸化炭素低減部へガスが流れるときの淀み部になるので、前記空間の凹部に触媒の粉末が溜まったときに、溜まった触媒で起こる発熱反応を抑制することができる。
【0020】
また、本発明の水素生成器は、前記改質部の重力方向の長さより長くなるように形成されている構成となっている。
【0021】
この構成により、前記空間は、比較的高温である前記改質触媒部の熱影響を受け難い位置に設けることができ、前記空間の凹部に触媒の粉末が溜まったときに、溜まった触媒で起こる発熱反応の促進をより確実に抑制することができる。
【0022】
なお、本発明の水素生成器は、前記空間の凹部の容積は、設計寿命の間に触媒が粉化すると見積もられる総量の体積以上である。
【0023】
この構成により、設計寿命の間に粉化した触媒をより確実に前記空間の凹部に溜めることができる。
【発明の効果】
【0024】
本発明の水素生成器によれば、一酸化炭素低減部に達するガス温度ズレの発生を極力抑制し、一酸化炭素低減触媒について性能を想定どおり発揮させることができるとともに、想定どおりの設計寿命を保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【0025】
【図1】本発明の実施の形態1における水素生成器の要部断面図
【図2】従来の水素生成器を示す要部断面図
【図3】本発明の実施の形態1における水素生成器の変形例を示す要部断面図
【図4】本発明の実施の形態1における水素生成器の他の変形例を示す要部断面図
【発明を実施するための形態】
【0026】
以下、本発明に係る水素生成器の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、本実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【0027】
(実施の形態1)
図1は、本発明の第一の実施の形態における水素生成器の要部断面を示す図である。
【0028】
水素生成器1の動作は、先ず、改質部2で、炭化水素化合物及び水蒸気を原料として水蒸気改質反応を行い、水素、二酸化炭素、一酸化炭素、未反応のメタン及び水蒸気を含む改質ガスを生成する。次に、変成部3A及び一酸化炭素除去部3Bを含む一酸化炭素低減部3によって燃料電池5に有害となる一酸化炭素を低減して燃料ガスを生成する。変成部3Aの内部には、変成触媒4Aが配置されている。一酸化炭素除去部3Bの内部には、一酸化炭素除去触媒4Bが配置されている。以下では、変成触媒4A及び一酸化炭素除去部3Bを一酸化炭素低減触媒と呼ぶ。一酸化炭素低減部3から排出される燃料ガスを用いて燃料電池5が発電を行う。変成部3Aでは、変成触媒4Aによって一酸化炭素を水蒸気と反応させて低減する変成反応を行う。一酸化炭素除去部3Bでは、なおも残留する一酸化炭素に空気を供給して燃焼させて除去する選択酸化反応を行う。変成反応及び選択酸化反応は発熱反応である。変成触媒4Aとしては、変成反応を行う変成触媒として一般的に用いられる触媒を用いることができる。また、一酸化炭素除去触媒4Bとしては、選択酸化反応を行う一酸化炭素除去触媒として一般的に用いられる触媒を用いることができる。
【0029】
また、簡単な構造で高効率の水素生成器を実現するには、水素生成器1のように、改質部2と一酸化炭素低減部3を含む反応容器14を一体化して上下に並べて配置し、改質部2と一酸化炭素低減部3を加熱するためのバーナ6が内部に設置される構成が考えられる。
【0030】
水素生成器1において、改質部2は、底板を備えた内筒7と、内筒7の外側に配置される中筒8の間に形成され、一酸化炭素低減部3は、中筒8と、底板を備え中筒8の外側に配置される外筒9との間に形成されている。
【0031】
一端が一酸化炭素低減部3と連通し、他端が改質部2と連通し、改質部2から一酸化炭素低減部3へ重力方向の上向きに伸びるようにガス流路10が形成されている。
【0032】
ガス流路10の一端及び一酸化炭素低減部3を接続する空間11が、一酸化炭素低減部3の重力方向の下方に配置され、前記空間11には、重力方向の上向きに開口する凹部が形成されている。
【0033】
改質部2には約φ3mmの球状形状を有するRu系の改質触媒が、一酸化炭素低減部3には、約φ3mmで高さ3mmの円筒形状を有するCu−Zn系の変成触媒が設けられている(設置に関する詳細な説明は、省略する)。
【0034】
次に、水素生成器1の起動動作、通常時の運転動作、及び停止動作を説明する。停止状態から水素生成器1を起動させる場合、運転制御部(詳細は図示せず)の指令により、原料をバーナ6に供給し、バーナ6で原料に着火して水素生成器1の加熱を開始する。
【0035】
バーナ6での加熱開始後に、原料供給経路を通して水素生成器1(改質部2)に原料を供給するとともに、水供給経路から水素生成器1に水を供給し、水と原料との改質反応を開始させる。
【0036】
装置停止時は、原料と水の供給を停止させ、水素生成器1内の改質部2、一酸化炭素低減部3の温度を低下させる。このとき、バーナ6の基本動作は停止させる。
【0037】
水素生成器1を起動停止させると、一酸化炭素低減部3が形成されている中筒8の外側面と外筒9の内側面が、熱ひずみにより変形し、一酸化炭素低減触媒の一部が圧壊し、触媒表面が削りとられて、その粉末が発生する。ここでは、具体的には、変成触媒4Aの粉末が発生する。発生した粉末は、重力により落下して、空間11に溜まる。空間11はガス流路10の一端及び一酸化炭素低減部3を接続しておりかつ重力方向の上向きに開口する凹部が形成されているので、一酸化炭素低減触媒から発生した粉末がガス流路10へ行くことを防止できる。
【0038】
また、一酸化炭素低減部3及び空間11の間には、複数の貫通孔を備えた仕切部材15が配置されている。仕切部材15は、一酸化炭素低減触媒を保持するとともに、複数の貫通孔の寸法を小さくすることにより粉末の落下自体を少なくする工夫を施すことができる。
【0039】
図2は、従来の水素生成器を示す要部断面図であり、その挙動について以下説明する。(一酸化炭素低減触媒の粉末が落下するまでの挙動は同じなので省略する)
図2において、一酸化炭素低減部3より発生した落下した粉末は、ガス流路10の中に入り、ガス流路10の壁面に付着する。壁面に付着した触媒により発熱を伴う触媒反応が起こり、一酸化炭素低減部3におけるガス温度が想定よりも高い側にズレる。
【0040】
具体的な例で示すと、改質部2を出た改質ガスは、図2に示す改質温度センサー12の位置で650℃にコントロールするようにバーナ6の加熱量を調整する。改質温度センサー12の温度が650℃のときに、図1に示す位置の一酸化炭素低減温度センサー13の温度は250℃になるように、反応容器14の構成を設計している。
【0041】
しかし、一酸化炭素低減触媒の粉末がガス流路10の壁面に付着したときは、改質温度センサー12の温度が650℃であるにもかかわらず、一酸化炭素低減温度センサー13の温度は300℃を超え最適な反応温度以上になってしまう。
【0042】
一酸化炭素低減触媒がその最適な反応温度以上で反応することになり、一酸化炭素を十分に低減できなくなる。また、一酸化炭素低減触媒自体が劣化しやすくなり触媒の寿命時間が想定よりも短くなる。
【0043】
また、本発明の第一の実施の形態である図1の構成では、空間の凹部の容積は、設計寿命の間に触媒が粉化すると見積もられる総量の体積以上である。この構成により、設計寿命の間は粉化した触媒は確実に空間の凹部に溜めることができ、その上流側のガス流路10には付着しないので、粉末による発熱反応はわずかであり、一酸化炭素低減部において、問題になるほどの温度ズレは発生しない。
【0044】
ここでいう「設計寿命の間に触媒が粉化すると見積もられる総量の体積」とは、例えば設計寿命を10年とした場合、10年間に起動・停止を繰り返す回数を算出し、1回の起動・停止により粉化する体積にその回数を乗じたときの値のことをいう。
【0045】
図3は、本発明の実施の形態1における水素生成器の変形例を示す要部断面図である。空間11の底板に傾斜をつけ、ガス流路10へ触媒の粉末が達することを防止している。
【0046】
図4は、本発明の実施の形態1における水素生成器の他の変形例を示す要部断面図である。空間11の底板をR形状とし、ガス流路10へ触媒の粉末が達することを防止している。
【0047】
なお、本実施の形態では、一酸化炭素低減部3として、変成部3A及び一酸化炭素除去部3Bを有する構成としたが、これに限定されない。一酸化炭素低減部3は、発熱反応を伴う反応を行う触媒がその内部に収容され、ガス中の一酸化炭素濃度を低減する機能を有していればよい。一酸化炭素低減部3は、例えば、変成部、一酸化炭素除去部及びメタネーション反応部の少なくとも1つを有していればよい。従って、一酸化炭素低減触媒は、例えば、変成触媒、一酸化炭素除去触媒及びメタネーション触媒の少なくとも1つを有していればよい。なお、メタネーション反応部では、一酸化炭素を水素でメタン化するメタネーション反応を行うことができる。メタネーション反応は発熱反応である。メタネーション触媒としては、メタネーション反応を行うために一般的に用いられる触媒を用いることができる。
【0048】
なお、前記空間11の開口部は重力方向の上向きとしたが、これに限定されず、本発明の効果を奏する範囲で設計することができる。例えば、前記空間11の開口部は、必ずしも重力方向に対して斜め上向きに開口する構成であってもよい。
【0049】
なお、一酸化炭素低減部3の位置は、改質部2の重力方向の上側に配置されるとしたが、改質部2の重力方向の直上にあることに限定されず、重力方向に対して改質部2の斜め上に配置されていてもよい。
【産業上の利用可能性】
【0050】
本発明は、起動停止を頻繁に行う、原料と水とを改質反応させ、水素含有ガスを生成する水素生成器について有用である。
【符号の説明】
【0051】
1 水素生成器
2 改質部
3 一酸化炭素低減部
3A 変成部
3B 一酸化炭素除去部
4A 変成触媒
4B 一酸化炭素除去触媒
5 燃料電池
6 バーナ
7 内筒
8 中筒
9 外筒
10 ガス流路
11 空間
12 改質温度センサー
13 一酸化炭素低減温度センサー
14 反応容器
15 仕切部材

【特許請求の範囲】
【請求項1】
原料及び水を反応させて水素を含む改質ガスを生成する改質部と、
改質ガスに含まれる一酸化炭素を低減するための一酸化炭素低減触媒を収容する一酸化炭素低減部と、
前記改質部及び前記一酸化炭素低減部を加熱する加熱部と、
一端が前記一酸化炭素低減部と連通し、他端が前記改質部と連通し、前記改質部から前記一酸化炭素低減部へ重力方向の上向きに伸びるように配置されるガス流路と、
前記一酸化炭素低減部の重力方向の下方に配置され、前記ガス流路の一端及び前記一酸化炭素低減部を接続する空間と、
を備え、
前記空間には、重力方向の上向きに開口する凹部が形成されている、水素生成器。
【請求項2】
前記空間は、前記凹部の底面が、前記空間と前記ガス流路の一端との接続部より低くなるよう形成されている、請求項1に記載の水素生成器。
【請求項3】
前記一酸化炭素低減部及び前記空間の間に、複数の貫通孔を備えた仕切部材が配置されている、請求項1又は2に記載の水素生成器。
【請求項4】
底板を備えた内筒と、
前記内筒の外側に配置される中筒と、
底板を備え、前記中筒の外側に配置される外筒と、
前記内筒と前記中筒との間に前記改質部が形成されており、
前記中筒と前記外筒との間に前記ガス流路、前記空間、及び前記一酸化炭素低減部が形成されている、請求項1〜3に記載の水素生成器。
【請求項5】
前記改質部は、前記一酸化炭素低減部より重力方向の下側に配置され、
前記ガス流路は、前記改質部に沿うように配置されている、請求項4に記載の水素生成器。
【請求項6】
前記一酸化炭素低減部の外側の壁面を形成する前記外筒の直径は、前記ガス流路の外側の壁面を形成する前記外筒の直径より大きい、請求項5に記載の水素生成器。
【請求項7】
前記ガス流路は、前記改質部の重力方向の長さより長くなるように形成されている、請求項4〜6に記載の水素生成器。
【請求項8】
前記空間の凹部の容積は、設計寿命の間に触媒が粉化すると見積もられる総量の体積以上である請求項1〜7に記載の水素生成器。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【公開番号】特開2012−201546(P2012−201546A)
【公開日】平成24年10月22日(2012.10.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−67241(P2011−67241)
【出願日】平成23年3月25日(2011.3.25)
【出願人】(000005821)パナソニック株式会社 (73,050)
【Fターム(参考)】