活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ組成物
【課題】キノフタロン顔料をモノマー中に安定に分散し、吐出安定性、保存安定性に優れる活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ、および該活性エネルギー線硬化型インクジェットインキで硬化した印刷物の提供。
【解決手段】高分子分散剤、活性エネルギー線硬化性モノマー、キノフタロン顔料、およびキノフタロン顔料を濃硫酸等と反応させて得られる、スルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ。
【解決手段】高分子分散剤、活性エネルギー線硬化性モノマー、キノフタロン顔料、およびキノフタロン顔料を濃硫酸等と反応させて得られる、スルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、キノフタロン顔料を用いた、顔料分散性、吐出安定性、保存安定性に優れる活性エネルギー線硬化型インクジェットインキに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、耐水性の良好なインクジェットインキとしては、油溶性染料を高沸点溶剤に分散ないし溶解したもの、油溶性染料を揮発性の溶剤に溶解したものがあるが、染料は耐光性等の諸耐性で顔料に劣るため、着色剤として顔料を用いたインキが望まれている。しかしながら、顔料を安定して有機溶剤に分散することは困難であり、安定な分散性および吐出性を確保することも難しい。一方、高沸点溶剤を用いたインキは、非吸収性の受像体においては、インキ中の溶剤が揮発せず、溶剤の蒸発による乾燥は困難なので、非吸収性の基材への印字は不可能である。
【０００３】
揮発性の有機溶剤を用いたインキにおいては、使用する樹脂の密着性および溶剤の揮発によって非吸収性の基材においても良好な印字を形成することができる。しかしながら、揮発性の溶剤がインキの主成分となるためヘッドのノズル面において溶剤の揮発による乾燥が非常に早く、頻繁なメンテナンスを必要とする。また、インキは本質的に溶剤に対する再溶解性が必要とされるため、溶剤に対する耐性が十分得られないことがある。
【０００４】
このような特性を満足させるため、揮発性のないモノマー類を使用して、ヘッドでの乾燥を防ぎ、その一方、活性エネルギー線を与えることで硬化させる型のインキの利用もおこなわれている。活性エネルギー線硬化型インクジェットインキとしては、特許文献１ないし特許文献６において記載されているが、何れのインキも顔料としてキノフタロンをもちいた場合、顔料分散性、吐出安定性、保存安定性において実用上適さないものばかりであった。
【０００５】
【特許文献１】特開平５−２１４２８０号公報
【特許文献２】特開平９−１８３９２９号公報
【特許文献３】特開２００２−１６７５３７号公報
【特許文献４】特表２００４−５１８７８７号公報
【特許文献５】特許第３６１９７７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、キノフタロン顔料をモノマー中に安定に分散し、吐出安定性、保存安定性が優れた活性エネルギー線硬化型インクジェットインキの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明は、高分子分散剤、モノマー、キノフタロン顔料、およびスルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキに関する。
【０００８】
更に本発明は、高分子分散剤が塩基性の官能基を有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキに関する。
更に本発明は、基材上に、上記記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキにより画像を形成した後、該インキを活性エネルギー線で硬化してなる印刷物に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、キノフタロン顔料をモノマー中に安定に分散し、吐出安定性、保存安定性が優れた活性エネルギー線硬化型インクジェットインキを提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明で用いる高分子分散剤としては、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルの塩、高分子量不飽和酸エステル、高分子共重合物、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物塩、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ステアリルアミンアセテート、ポリアリルアミンと遊離のカルボン酸を有するポリエステルの縮合物もしくは造塩物、ポリ（エチレンイミン）−ポリ（１２−ヒドロキシステアリン酸）グラフトポリマー等を用いることができる。
【００１１】
高分子分散剤の具体例としては、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−Ｕ（ポリアミノアマイド燐酸塩）」、「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−２０３／２０４（高分子量ポリカルボン酸塩）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミノアマイド燐酸塩と酸エステル）、１０７（水酸基含有カルボン酸エステル）、１１０、１１１（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアマイド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１６８、１７０（高分子共重合物）、１８０」、「４００」、「Ｂｙｋｕｍｅｎ」（高分子量不飽和酸エステル）、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸）」、「Ｐ１０４Ｓ、２４０Ｓ（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン系）」、「Ｌａｃｔｉｍｏｎ（長鎖アミンと不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン）」が挙げられる。
【００１２】
また、Ｅｆｋａ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製「エフカ４４、４６、４７、４８、４９、５４、６３、６４、６５、６６、７１、７０１、７６４、７６６」、「エフカポリマー１００（変性ポリアクリレート）、１５０（脂肪族系変性ポリマー）、４００、４０１、４０２、４０３、４５０、４５１、４５２、４５３（変性ポリアクリレート）、７４５（銅フタロシアニン系）」、共栄社化学社製「フローレン ＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）、「フローノンＳＨ−２９０、ＳＰ−１０００」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合物）」、楠本化成社製「ディスパロン ＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４（高分子分散剤）、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル型）」が挙げられる。
【００１３】
さらに、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＥＰ」、「ホモゲノールＬ−１８（ポリカルボン酸型高分子）、「エマルゲン９２０、９３０、９３１、９３５、９５０、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）、「アセタミン２４（ココナッツアミンアセテート）、８６（ステアリルアミンアセテート）」、ルーブリゾール社製「ソルスパース５０００（フタロシアニンスルホン酸アンモニウム塩系）、１３９４０（ポリエステルアミン系）、１７０００（脂肪酸アミン系）、２２０００（ベンジジンイエロースルホン酸アンモニウム塩）、２４０００ＧＲ、３２０００、３３０００、３９０００、４１０００、５３０００」、日光ケミカル社製「ニッコール Ｔ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）、Ｈｅｘａｇｌｉｎｅ ４−０（ヘキサグリセリルテトラオレート）」、味の素ファインテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、８２２、８２４」等が挙げられる。
【００１４】
本発明に使用する高分子分散剤は、スルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体を介してキノフタロン顔料に吸着して、キノフタロン顔料に良好な分散安定性を付与するため、塩基性の官能基を有することが好ましい。塩基性の官能基としては一級、二級、または三級アミノ基、ピリジン、ピリミジン、ピラミジン等の含窒素ヘテロ環等を挙げることが出来、具体的にはルーブリゾール社製「ソルスパース２４０００ＧＲ、３２０００、３３０００、３９０００」、味の素ファインテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、８２２、８２４」等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１５】
分散剤はインキ中に０．１〜１０重量％含まれることが好ましい。
【００１６】
本発明に使用するモノマーとしては、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２−ｎ−ブチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヒドロキシピバリン酸トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化リン酸トリアクリレート、エトキシ化トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート）トリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、１，４−ブタンジオールオリゴアクリレート、１，６−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、ジプロピレングリコールアクリレート、β-カルボキシルエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、ビニルカプロラクタム、ビニルピロリドン、Ｎ-ビニルホルムアミド、エチルジグリコールアクリレート、トリメチロールプロパンフォルマルモノアクリレート、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、トリ（メタ）アリルイソシアヌレート、イミドアクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシ化コハク酸アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、エトキシ化トリブロモフェニルアクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート等が挙げられる。これら化合物は、一種または必要に応じて二種以上用いてもよい。
【００１７】
特に、高分子分散剤かつ／または顔料誘導体を溶解するモノマーが好ましい。具体的には、２−フェノキシエチルアクリレート、アクリロイルモルホリン、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、ビニルカプロラクタム、ビニルピロリドン、Ｎ-ビニルホルムアミド、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレートが挙げられる。
【００１８】
本発明のインクジェットインキには、上記モノマー以外にオリゴマー、プレポリマーと呼ばれるものを使用できる。具体的には、ダイセルＵＣＢ社製「Ｅｂｅｃｒｙｌ２３０、２４４、２４５、２７０、２８０／１５ＩＢ、２８４、２８５、４８３０、４８３５、４８５８、４８８３、８４０２、８８０３、８８００、２５４、２６４、２６５、２９４／３５ＨＤ、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、１２９０．１２９０Ｋ、５１２９、２０００、２００１、２００２、２１００、ＫＲＭ７２２２、ＫＲＭ７７３５、４８４２、２１０、２１５、４８２７、４８４９、６７００、６７００−２０Ｔ、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０、７７０、ＩＲＲ５６７、８１、８４、８３、８０、６５７、８００、８０５、８０８、８１０、８１２、１６５７、１８１０、ＩＲＲ３０２、４５０、６７０、８３０、８３５、８７０、１８３０、１８７０、２８７０、ＩＲＲ２６７、８１３、ＩＲＲ４８３、８１１、４３６、４３８、４４６、５０５、５２４、５２５、５５４Ｗ、５８４、５８６、７４５、７６７、１７０１、１７５５、７４０／４０ＴＰ、６００、６０１、６０４、６０５、６０７、６０８、６０９、６００／２５ＴＯ、６１６、６４５、６４８、８６０、１６０６、１６０８、１６２９、１９４０、２９５８、２９５９、３２００、３２０１、３４０４、３４１１、３４１２、３４１５、３５００、３５０２、３６００、３６０３、３６０４、３６０５、３６０８、３７００、３７００−２０Ｈ、３７００−２０Ｔ、３７００−２５Ｒ、３７０１、３７０１−２０Ｔ、３７０３、３７０２、ＲＤＸ６３１８２、６０４０、ＩＲＲ４１９」、サートマー社製「ＣＮ１０４、ＣＮ１２０、ＣＮ１２４、ＣＮ１３６、ＣＮ１５１、ＣＮ２２７０、ＣＮ２２７１Ｅ、ＣＮ４３５、ＣＮ４５４、ＣＮ９７０、ＣＮ９７１、ＣＮ９７２、ＣＮ９７８２、ＣＮ９８１、ＣＮ９８９３、ＣＮ９９１」、ＢＡＳＦ社製「Ｌａｒｏｍｅｒ ＥＡ８１、ＬＲ８７１３、ＬＲ８７６５、ＬＲ８９８６、ＰＥ５６Ｆ、ＰＥ４４Ｆ、ＬＲ８８００、ＰＥ４６Ｔ、ＬＲ８９０７、ＰＯ４３Ｆ、ＰＯ７７Ｆ、ＰＥ５５Ｆ、ＬＲ８９６７、ＬＲ８９８１、ＬＲ８９８２、ＬＲ８９９２、ＬＲ９００４、ＬＲ８９５６、ＬＲ８９８５、ＬＲ８９８７、ＵＰ３５Ｄ、ＵＡ１９Ｔ、ＬＲ９００５、ＰＯ８３Ｆ、ＰＯ３３Ｆ、ＰＯ８４Ｆ、ＰＯ９４Ｆ、ＬＲ８８６３、ＬＲ８８６９、ＬＲ８８８９、ＬＲ８９９７、ＬＲ８９９６、ＬＲ９０１３、ＬＲ９０１９、ＰＯ９０２６Ｖ、ＰＥ９０２７Ｖ」、コグニス社製「フォトマー３００５、３０１５、３０１６、３０７２、３９８２、３２１５、５０１０、５４２９、５４３０、５４３２、５６６２、５８０６、５９３０、６００８、６０１０、６０１９、６１８４、６２１０、６２１７、６２３０、６８９１、６８９２、６８９３−２０Ｒ、６３６３、６５７２、３６６０」、根上工業社製「アートレジンＵＮ−９０００ＨＰ、９０００ＰＥＰ、９２００Ａ、７６００、５２００、１００３、１２５５、３３２０ＨＡ、３３２０ＨＢ、３３２０ＨＣ、３３２０ＨＳ、９０１Ｔ、１２００ＴＰＫ、６０６０ＰＴＭ、６０６０Ｐ」、日本合成化学社製「紫光 ＵＶ−６６３０Ｂ、７０００Ｂ、７５１０Ｂ、７４６１ＴＥ、３０００Ｂ、３２００Ｂ、３２１０ＥＡ、３３１０Ｂ、３５００ＢＡ、３５２０ＴＬ、３７００Ｂ、６１００Ｂ、６６４０Ｂ、１４００Ｂ、１７００Ｂ、６３００Ｂ、７５５０Ｂ、７６０５Ｂ、７６１０Ｂ、７６２０ＥＡ、７６３０Ｂ、７６４０Ｂ、２０００Ｂ、２０１０Ｂ、２２５０ＥＡ、２７５０Ｂ」、日本化薬社製「カヤラッドＲ−２８０、Ｒ−１４６、Ｒ１３１、Ｒ−２０５、ＥＸ２３２０，Ｒ１９０、Ｒ１３０、Ｒ−３００，Ｃ−００１１、ＴＣＲ−１２３４、ＺＦＲ−１１２２、ＵＸ−２２０１，ＵＸ−２３０１，ＵＸ３２０４、ＵＸ−３３０１、ＵＸ−４１０１，ＵＸ−６１０１、ＵＸ−７１０１、ＭＡＸ−５１０１、ＭＡＸ−５１００，ＭＡＸ−３５１０、ＵＸ−４１０１」等が挙げられる。
【００１９】
本発明に使用するキノフタロン顔料としては、キノフタロンエロー（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８）が挙げられる。
【００２０】
本発明において顔料は、十分な濃度および十分な耐光性を得るため、インクジェットインキ中に０．３〜１５重量％の範囲で含まれることが好ましい。
【００２１】
本発明に使用するスルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体としては、キノフタロン顔料を濃硫酸等と反応させることで合成できる。具体的には、キノフタロンスルホン酸、及びそのアミン塩、アンモニウム塩、ナトリウム、アルミニウム等の金属塩類等が挙げられる。安定な分散液を得るためには、分散媒であるモノマーに溶解しやすい疎水性のキノフタロンが好ましく、特にキノフタロンアミン塩が好ましい。これは、キノフタロン顔料にキノフタロンアミン塩が吸着し易く、かつ脱離しにくいためである。
【００２２】
スルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体は、キノフタロン顔料に対して２〜１５重量％含まれることが好ましい。
【００２３】
本発明のインクジェットインキには、基材への濡れ性を向上させるために表面調整剤を加えることが好ましい。表面調整剤の具体例としては、ビックケミー社製「ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４０、３４４、３７０、３７５、３７７、３５０、３５２、３５４、３５５、３５６、３５８Ｎ、３６１Ｎ、３５７、３９０、３９２、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０」テゴケミー社製「Ｔｅｇｏｒａｄ−２１００，２２００、２２５０、２５００、２７００」等が挙げられる。これら表面調整剤は、一種または必要に応じて二種以上用いてもよい。
【００２４】
表面調整剤はインキ中に、０．００１〜１重量％含まれることが好ましい。
【００２５】
本発明において活性エネルギー線として紫外線を使用するときは、光ラジカル重合開始剤をインキ中に配合する。光ラジカル重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明に好適である。具体例としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２、４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４、６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２、４、６−ジメトキシベンゾイル）−２、４、４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、１，２−オクタンジオン、１−（４−（フェニルチオ）−２，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム））等が好適に用いられ、さらにこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良いし、さらに水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。
【００２６】
また上記光ラジカル重合開始剤に対し、増感剤として例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光ラジカル重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００２７】
光ラジカル重合開始剤と増感剤は紫外線硬化性組成物総量に対して０．１〜２０質量％，好ましくは，４〜１２質量％の範囲で用いる。
【００２８】
本発明のインクジェットインキには、インキの経時での安定性、記録装置内での機上の安定性を高めるため、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、t-ブチルカテコール、ピロガロール、ブチルヒドロキシトルエン等の重合禁止剤をインキ中０．０１〜５重量％配合することが好ましい。
【００２９】
本発明の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキは可塑剤、表面調整剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤等の種々の添加剤を使用することができる。
【００３０】
本発明のインクジェットインキは、モノマー、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め顔料高濃度の濃縮液を作成しておいてモノマーで希釈することが好ましい。通常の分散機による分散においても充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インキ成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインキが調製される。インキは、孔径３μｍ以下さらには、１μ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。
【００３１】
本発明のインクジェットインキは、２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓのインキは、特に通常の４〜１０ＫＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ＫＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。
粘度が５ｍＰａ・ｓ未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、５０ｍＰａ・ｓを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。
【００３２】
また、本発明のインクジェットインキは、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインキとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。
【００３３】
本発明のインクジェットインキを使用するには、まずこのインクジェットインキをインクジェット記録方式用プリンタのプリンタヘッドに供給し、このプリンタヘッドから基材上に吐出し、その後紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射する。これにより印刷媒体上の組成物は速やかに硬化する。
【００３４】
なお、活性エネルギー線の光源としては、紫外線を照射する場合には、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、紫外線レーザー、および太陽光を使用することができる。電子線により硬化させる場合には、通常３００ｅＶ以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、１〜５Ｍｒａｄの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。
【００３５】
以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に特に限定されるものではない。なお、実施例中、「部」は「重量部」を表す。
（顔料誘導体製造例）
【００３６】
一般式（１）に示すスルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体については下記表１に示すような性状のものを公知の方法にて合成した。
（Ｐ−ＳＯ３）・Ｘ 一般式（１）
（式中、Ｐはキノフタロンの有機色素残基、ＸはＨまたはアミン塩、またはアンモニウム塩。）
【００３７】
【表１】
【００３８】
下記のような配合で顔料分散体Ａを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤、キノフタロンスルホン酸を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約２時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ４．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７５．２部
・表１に示した顔料誘導体Ａ ０．８部
【００３９】
下記のような配合で顔料分散体Ｂを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤、キノフタロンスルホン酸アミン塩を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約２時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ４．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７５．２部
・表１に示した顔料誘導体Ｂ ０．８部
【００４０】
更に、下記のような配合で顔料分散体Ｃを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤、キノフタロンスルホン酸アンモニウム塩を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約３時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ６．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７２．６部
・表1に示した顔料誘導体Ｃ １．４部
【実施例１】
【００４１】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ａ ２２．５部
・２−フェノキシエチルアクリレート ２０．０部
・ＢＹＫ−３３１（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 シリコン樹脂） ０．１部
・イソボロニルアクリレート ３２．４部
・エトキシ化トリメチロ−ルプロパントリアクリレート １５．０部
・イルガキュア１２７（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
【実施例２】
【００４２】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｂ ２２．５部
・２−フェノキシエチルアクリレート １１．８部
・イソボロニルアクリレート ４２．６部
・エトキシ化トリメチロ−ルプロパントリアクリレート １３．０部
・ＢＹＫ−３６１Ｎ（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 アクリル樹脂） ０．１部
・イルガキュア３７９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
【実施例３】
【００４３】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｃ ２２．５部
・イソボロニルアクリレート ５７．４部
・エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート １０．０部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 シリコン樹脂） ０．１部
・イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
（比較用ミルベース調整例１）
【００４４】
下記のような配合で顔料分散体Ｄを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約２時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ４．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７６．０部
（比較用ミルベース調整例２）
【００４５】
下記のような配合で顔料分散体Ｅを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約２時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ４．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７６．０部
（比較用ミルベース調整例３）
【００４６】
更に、下記のような配合で顔料分散体Ｆを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約３時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ６．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７４．０部
（比較例１）
【００４７】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｄ ２２．５部
・２−フェノキシエチルアクリレート ２０．０部
・ＢＹＫ−３３１（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 シリコン樹脂） ０．１部
・イソボロニルアクリレート ３２．４部
・エトキシ化トリメチロ−ルプロパントリアクリレート １５．０部
・イルガキュア１２７（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
（比較例２）
【００４８】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｅ ２２．５部
・２−フェノキシエチルアクリレート １１．８部
・イソボロニルアクリレート ４２．６部
・エトキシ化トリメチロ−ルプロパントリアクリレート １３．０部
・ＢＹＫ−３６１Ｎ（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 アクリル樹脂） ０．１部
・イルガキュア３７９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
（比較例３）
【００４９】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｆ ２２．５部
・イソボロニルアクリレート ５７．４部
・エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート １０．０部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 シリコン樹脂） ０．１部
・イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
【００５０】
実施例１〜３および比較例１〜３のインキについて、次のような項目について評価した。（１）粘度、（２）分散粒径、（３）保存安定性（４）吐出安定性。それぞれの測定法を以下に示す。
【００５１】
（１）初期粘度：顔料分散体を２５℃に調製し、Ｅ型粘度計にて測定した。
【００５２】
（２）分散粒径：顔料分散対をメチルエチルケトンで２００倍〜１０００倍に希釈し、マイクロトラックＵＰＡ１５０（日機装製、湿式粒度分布計）にて、体積基準の５０％径を測定した。
【００５３】
（３）保存安定性：顔料分散体をボトル型のガラス容器に入れ、７０℃の恒温機に２週間保存、経時促進させた後、経時前後での顔料分散体の粘度変化について測定した。この時の粘度測定は（１）の粘度測定と同様の方法で実施した。粘度の変化率が±１０％以内なら○、±１０％を越えたら×とした。
【００５４】
（４）吐出安定性：ヘッド温度を４０℃に加温したピエゾヘッドを有するＵＶＩＪプリンターで印字を行い、印字物の印刷状態を目視により評価した。ノズル抜け無しノズル抜け、不吐出があるものは×、
【００５５】
実施例１〜３、比較例１〜３のインキの評価結果を下記の表２にまとめた。
【００５６】
【表２】
【００５７】
実施例１〜３のインキは顔料分散性、保存安定性、吐出安定性に優れていたが、スルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体を含まない比較例１〜３のインキは顔料分散性の悪いものが多く、また保存安定性、吐出安定性が不良であった。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、キノフタロン顔料を用いた、顔料分散性、吐出安定性、保存安定性に優れる活性エネルギー線硬化型インクジェットインキに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、耐水性の良好なインクジェットインキとしては、油溶性染料を高沸点溶剤に分散ないし溶解したもの、油溶性染料を揮発性の溶剤に溶解したものがあるが、染料は耐光性等の諸耐性で顔料に劣るため、着色剤として顔料を用いたインキが望まれている。しかしながら、顔料を安定して有機溶剤に分散することは困難であり、安定な分散性および吐出性を確保することも難しい。一方、高沸点溶剤を用いたインキは、非吸収性の受像体においては、インキ中の溶剤が揮発せず、溶剤の蒸発による乾燥は困難なので、非吸収性の基材への印字は不可能である。
【０００３】
揮発性の有機溶剤を用いたインキにおいては、使用する樹脂の密着性および溶剤の揮発によって非吸収性の基材においても良好な印字を形成することができる。しかしながら、揮発性の溶剤がインキの主成分となるためヘッドのノズル面において溶剤の揮発による乾燥が非常に早く、頻繁なメンテナンスを必要とする。また、インキは本質的に溶剤に対する再溶解性が必要とされるため、溶剤に対する耐性が十分得られないことがある。
【０００４】
このような特性を満足させるため、揮発性のないモノマー類を使用して、ヘッドでの乾燥を防ぎ、その一方、活性エネルギー線を与えることで硬化させる型のインキの利用もおこなわれている。活性エネルギー線硬化型インクジェットインキとしては、特許文献１ないし特許文献６において記載されているが、何れのインキも顔料としてキノフタロンをもちいた場合、顔料分散性、吐出安定性、保存安定性において実用上適さないものばかりであった。
【０００５】
【特許文献１】特開平５−２１４２８０号公報
【特許文献２】特開平９−１８３９２９号公報
【特許文献３】特開２００２−１６７５３７号公報
【特許文献４】特表２００４−５１８７８７号公報
【特許文献５】特許第３６１９７７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、キノフタロン顔料をモノマー中に安定に分散し、吐出安定性、保存安定性が優れた活性エネルギー線硬化型インクジェットインキの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明は、高分子分散剤、モノマー、キノフタロン顔料、およびスルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキに関する。
【０００８】
更に本発明は、高分子分散剤が塩基性の官能基を有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキに関する。
更に本発明は、基材上に、上記記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキにより画像を形成した後、該インキを活性エネルギー線で硬化してなる印刷物に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、キノフタロン顔料をモノマー中に安定に分散し、吐出安定性、保存安定性が優れた活性エネルギー線硬化型インクジェットインキを提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明で用いる高分子分散剤としては、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルの塩、高分子量不飽和酸エステル、高分子共重合物、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物塩、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ステアリルアミンアセテート、ポリアリルアミンと遊離のカルボン酸を有するポリエステルの縮合物もしくは造塩物、ポリ（エチレンイミン）−ポリ（１２−ヒドロキシステアリン酸）グラフトポリマー等を用いることができる。
【００１１】
高分子分散剤の具体例としては、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−Ｕ（ポリアミノアマイド燐酸塩）」、「Ａｎｔｉ−Ｔｅｒｒａ−２０３／２０４（高分子量ポリカルボン酸塩）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミノアマイド燐酸塩と酸エステル）、１０７（水酸基含有カルボン酸エステル）、１１０、１１１（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアマイド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１６８、１７０（高分子共重合物）、１８０」、「４００」、「Ｂｙｋｕｍｅｎ」（高分子量不飽和酸エステル）、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸）」、「Ｐ１０４Ｓ、２４０Ｓ（高分子量不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン系）」、「Ｌａｃｔｉｍｏｎ（長鎖アミンと不飽和酸ポリカルボン酸とシリコン）」が挙げられる。
【００１２】
また、Ｅｆｋａ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製「エフカ４４、４６、４７、４８、４９、５４、６３、６４、６５、６６、７１、７０１、７６４、７６６」、「エフカポリマー１００（変性ポリアクリレート）、１５０（脂肪族系変性ポリマー）、４００、４０１、４０２、４０３、４５０、４５１、４５２、４５３（変性ポリアクリレート）、７４５（銅フタロシアニン系）」、共栄社化学社製「フローレン ＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）、「フローノンＳＨ−２９０、ＳＰ−１０００」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合物）」、楠本化成社製「ディスパロン ＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４（高分子分散剤）、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル型）」が挙げられる。
【００１３】
さらに、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩）、ＥＰ」、「ホモゲノールＬ−１８（ポリカルボン酸型高分子）、「エマルゲン９２０、９３０、９３１、９３５、９５０、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）、「アセタミン２４（ココナッツアミンアセテート）、８６（ステアリルアミンアセテート）」、ルーブリゾール社製「ソルスパース５０００（フタロシアニンスルホン酸アンモニウム塩系）、１３９４０（ポリエステルアミン系）、１７０００（脂肪酸アミン系）、２２０００（ベンジジンイエロースルホン酸アンモニウム塩）、２４０００ＧＲ、３２０００、３３０００、３９０００、４１０００、５３０００」、日光ケミカル社製「ニッコール Ｔ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）、Ｈｅｘａｇｌｉｎｅ ４−０（ヘキサグリセリルテトラオレート）」、味の素ファインテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、８２２、８２４」等が挙げられる。
【００１４】
本発明に使用する高分子分散剤は、スルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体を介してキノフタロン顔料に吸着して、キノフタロン顔料に良好な分散安定性を付与するため、塩基性の官能基を有することが好ましい。塩基性の官能基としては一級、二級、または三級アミノ基、ピリジン、ピリミジン、ピラミジン等の含窒素ヘテロ環等を挙げることが出来、具体的にはルーブリゾール社製「ソルスパース２４０００ＧＲ、３２０００、３３０００、３９０００」、味の素ファインテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、８２２、８２４」等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１５】
分散剤はインキ中に０．１〜１０重量％含まれることが好ましい。
【００１６】
本発明に使用するモノマーとしては、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２−ｎ−ブチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヒドロキシピバリン酸トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化リン酸トリアクリレート、エトキシ化トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート）トリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、１，４−ブタンジオールオリゴアクリレート、１，６−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、ジプロピレングリコールアクリレート、β-カルボキシルエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、ビニルカプロラクタム、ビニルピロリドン、Ｎ-ビニルホルムアミド、エチルジグリコールアクリレート、トリメチロールプロパンフォルマルモノアクリレート、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、トリ（メタ）アリルイソシアヌレート、イミドアクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシ化コハク酸アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、エトキシ化トリブロモフェニルアクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート等が挙げられる。これら化合物は、一種または必要に応じて二種以上用いてもよい。
【００１７】
特に、高分子分散剤かつ／または顔料誘導体を溶解するモノマーが好ましい。具体的には、２−フェノキシエチルアクリレート、アクリロイルモルホリン、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、ビニルカプロラクタム、ビニルピロリドン、Ｎ-ビニルホルムアミド、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレートが挙げられる。
【００１８】
本発明のインクジェットインキには、上記モノマー以外にオリゴマー、プレポリマーと呼ばれるものを使用できる。具体的には、ダイセルＵＣＢ社製「Ｅｂｅｃｒｙｌ２３０、２４４、２４５、２７０、２８０／１５ＩＢ、２８４、２８５、４８３０、４８３５、４８５８、４８８３、８４０２、８８０３、８８００、２５４、２６４、２６５、２９４／３５ＨＤ、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、１２９０．１２９０Ｋ、５１２９、２０００、２００１、２００２、２１００、ＫＲＭ７２２２、ＫＲＭ７７３５、４８４２、２１０、２１５、４８２７、４８４９、６７００、６７００−２０Ｔ、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０、７７０、ＩＲＲ５６７、８１、８４、８３、８０、６５７、８００、８０５、８０８、８１０、８１２、１６５７、１８１０、ＩＲＲ３０２、４５０、６７０、８３０、８３５、８７０、１８３０、１８７０、２８７０、ＩＲＲ２６７、８１３、ＩＲＲ４８３、８１１、４３６、４３８、４４６、５０５、５２４、５２５、５５４Ｗ、５８４、５８６、７４５、７６７、１７０１、１７５５、７４０／４０ＴＰ、６００、６０１、６０４、６０５、６０７、６０８、６０９、６００／２５ＴＯ、６１６、６４５、６４８、８６０、１６０６、１６０８、１６２９、１９４０、２９５８、２９５９、３２００、３２０１、３４０４、３４１１、３４１２、３４１５、３５００、３５０２、３６００、３６０３、３６０４、３６０５、３６０８、３７００、３７００−２０Ｈ、３７００−２０Ｔ、３７００−２５Ｒ、３７０１、３７０１−２０Ｔ、３７０３、３７０２、ＲＤＸ６３１８２、６０４０、ＩＲＲ４１９」、サートマー社製「ＣＮ１０４、ＣＮ１２０、ＣＮ１２４、ＣＮ１３６、ＣＮ１５１、ＣＮ２２７０、ＣＮ２２７１Ｅ、ＣＮ４３５、ＣＮ４５４、ＣＮ９７０、ＣＮ９７１、ＣＮ９７２、ＣＮ９７８２、ＣＮ９８１、ＣＮ９８９３、ＣＮ９９１」、ＢＡＳＦ社製「Ｌａｒｏｍｅｒ ＥＡ８１、ＬＲ８７１３、ＬＲ８７６５、ＬＲ８９８６、ＰＥ５６Ｆ、ＰＥ４４Ｆ、ＬＲ８８００、ＰＥ４６Ｔ、ＬＲ８９０７、ＰＯ４３Ｆ、ＰＯ７７Ｆ、ＰＥ５５Ｆ、ＬＲ８９６７、ＬＲ８９８１、ＬＲ８９８２、ＬＲ８９９２、ＬＲ９００４、ＬＲ８９５６、ＬＲ８９８５、ＬＲ８９８７、ＵＰ３５Ｄ、ＵＡ１９Ｔ、ＬＲ９００５、ＰＯ８３Ｆ、ＰＯ３３Ｆ、ＰＯ８４Ｆ、ＰＯ９４Ｆ、ＬＲ８８６３、ＬＲ８８６９、ＬＲ８８８９、ＬＲ８９９７、ＬＲ８９９６、ＬＲ９０１３、ＬＲ９０１９、ＰＯ９０２６Ｖ、ＰＥ９０２７Ｖ」、コグニス社製「フォトマー３００５、３０１５、３０１６、３０７２、３９８２、３２１５、５０１０、５４２９、５４３０、５４３２、５６６２、５８０６、５９３０、６００８、６０１０、６０１９、６１８４、６２１０、６２１７、６２３０、６８９１、６８９２、６８９３−２０Ｒ、６３６３、６５７２、３６６０」、根上工業社製「アートレジンＵＮ−９０００ＨＰ、９０００ＰＥＰ、９２００Ａ、７６００、５２００、１００３、１２５５、３３２０ＨＡ、３３２０ＨＢ、３３２０ＨＣ、３３２０ＨＳ、９０１Ｔ、１２００ＴＰＫ、６０６０ＰＴＭ、６０６０Ｐ」、日本合成化学社製「紫光 ＵＶ−６６３０Ｂ、７０００Ｂ、７５１０Ｂ、７４６１ＴＥ、３０００Ｂ、３２００Ｂ、３２１０ＥＡ、３３１０Ｂ、３５００ＢＡ、３５２０ＴＬ、３７００Ｂ、６１００Ｂ、６６４０Ｂ、１４００Ｂ、１７００Ｂ、６３００Ｂ、７５５０Ｂ、７６０５Ｂ、７６１０Ｂ、７６２０ＥＡ、７６３０Ｂ、７６４０Ｂ、２０００Ｂ、２０１０Ｂ、２２５０ＥＡ、２７５０Ｂ」、日本化薬社製「カヤラッドＲ−２８０、Ｒ−１４６、Ｒ１３１、Ｒ−２０５、ＥＸ２３２０，Ｒ１９０、Ｒ１３０、Ｒ−３００，Ｃ−００１１、ＴＣＲ−１２３４、ＺＦＲ−１１２２、ＵＸ−２２０１，ＵＸ−２３０１，ＵＸ３２０４、ＵＸ−３３０１、ＵＸ−４１０１，ＵＸ−６１０１、ＵＸ−７１０１、ＭＡＸ−５１０１、ＭＡＸ−５１００，ＭＡＸ−３５１０、ＵＸ−４１０１」等が挙げられる。
【００１９】
本発明に使用するキノフタロン顔料としては、キノフタロンエロー（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８）が挙げられる。
【００２０】
本発明において顔料は、十分な濃度および十分な耐光性を得るため、インクジェットインキ中に０．３〜１５重量％の範囲で含まれることが好ましい。
【００２１】
本発明に使用するスルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体としては、キノフタロン顔料を濃硫酸等と反応させることで合成できる。具体的には、キノフタロンスルホン酸、及びそのアミン塩、アンモニウム塩、ナトリウム、アルミニウム等の金属塩類等が挙げられる。安定な分散液を得るためには、分散媒であるモノマーに溶解しやすい疎水性のキノフタロンが好ましく、特にキノフタロンアミン塩が好ましい。これは、キノフタロン顔料にキノフタロンアミン塩が吸着し易く、かつ脱離しにくいためである。
【００２２】
スルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体は、キノフタロン顔料に対して２〜１５重量％含まれることが好ましい。
【００２３】
本発明のインクジェットインキには、基材への濡れ性を向上させるために表面調整剤を加えることが好ましい。表面調整剤の具体例としては、ビックケミー社製「ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４０、３４４、３７０、３７５、３７７、３５０、３５２、３５４、３５５、３５６、３５８Ｎ、３６１Ｎ、３５７、３９０、３９２、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０」テゴケミー社製「Ｔｅｇｏｒａｄ−２１００，２２００、２２５０、２５００、２７００」等が挙げられる。これら表面調整剤は、一種または必要に応じて二種以上用いてもよい。
【００２４】
表面調整剤はインキ中に、０．００１〜１重量％含まれることが好ましい。
【００２５】
本発明において活性エネルギー線として紫外線を使用するときは、光ラジカル重合開始剤をインキ中に配合する。光ラジカル重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明に好適である。具体例としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２、４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４、６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２、４、６−ジメトキシベンゾイル）−２、４、４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、１，２−オクタンジオン、１−（４−（フェニルチオ）−２，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム））等が好適に用いられ、さらにこれら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良いし、さらに水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。
【００２６】
また上記光ラジカル重合開始剤に対し、増感剤として例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４'−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光ラジカル重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００２７】
光ラジカル重合開始剤と増感剤は紫外線硬化性組成物総量に対して０．１〜２０質量％，好ましくは，４〜１２質量％の範囲で用いる。
【００２８】
本発明のインクジェットインキには、インキの経時での安定性、記録装置内での機上の安定性を高めるため、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、t-ブチルカテコール、ピロガロール、ブチルヒドロキシトルエン等の重合禁止剤をインキ中０．０１〜５重量％配合することが好ましい。
【００２９】
本発明の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキは可塑剤、表面調整剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤等の種々の添加剤を使用することができる。
【００３０】
本発明のインクジェットインキは、モノマー、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め顔料高濃度の濃縮液を作成しておいてモノマーで希釈することが好ましい。通常の分散機による分散においても充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インキ成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインキが調製される。インキは、孔径３μｍ以下さらには、１μ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。
【００３１】
本発明のインクジェットインキは、２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓのインキは、特に通常の４〜１０ＫＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ＫＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。
粘度が５ｍＰａ・ｓ未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、５０ｍＰａ・ｓを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。
【００３２】
また、本発明のインクジェットインキは、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインキとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。
【００３３】
本発明のインクジェットインキを使用するには、まずこのインクジェットインキをインクジェット記録方式用プリンタのプリンタヘッドに供給し、このプリンタヘッドから基材上に吐出し、その後紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射する。これにより印刷媒体上の組成物は速やかに硬化する。
【００３４】
なお、活性エネルギー線の光源としては、紫外線を照射する場合には、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、紫外線レーザー、および太陽光を使用することができる。電子線により硬化させる場合には、通常３００ｅＶ以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、１〜５Ｍｒａｄの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。
【００３５】
以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に特に限定されるものではない。なお、実施例中、「部」は「重量部」を表す。
（顔料誘導体製造例）
【００３６】
一般式（１）に示すスルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体については下記表１に示すような性状のものを公知の方法にて合成した。
（Ｐ−ＳＯ３）・Ｘ 一般式（１）
（式中、Ｐはキノフタロンの有機色素残基、ＸはＨまたはアミン塩、またはアンモニウム塩。）
【００３７】
【表１】
【００３８】
下記のような配合で顔料分散体Ａを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤、キノフタロンスルホン酸を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約２時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ４．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７５．２部
・表１に示した顔料誘導体Ａ ０．８部
【００３９】
下記のような配合で顔料分散体Ｂを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤、キノフタロンスルホン酸アミン塩を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約２時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ４．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７５．２部
・表１に示した顔料誘導体Ｂ ０．８部
【００４０】
更に、下記のような配合で顔料分散体Ｃを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤、キノフタロンスルホン酸アンモニウム塩を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約３時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ６．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７２．６部
・表1に示した顔料誘導体Ｃ １．４部
【実施例１】
【００４１】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ａ ２２．５部
・２−フェノキシエチルアクリレート ２０．０部
・ＢＹＫ−３３１（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 シリコン樹脂） ０．１部
・イソボロニルアクリレート ３２．４部
・エトキシ化トリメチロ−ルプロパントリアクリレート １５．０部
・イルガキュア１２７（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
【実施例２】
【００４２】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｂ ２２．５部
・２−フェノキシエチルアクリレート １１．８部
・イソボロニルアクリレート ４２．６部
・エトキシ化トリメチロ−ルプロパントリアクリレート １３．０部
・ＢＹＫ−３６１Ｎ（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 アクリル樹脂） ０．１部
・イルガキュア３７９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
【実施例３】
【００４３】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｃ ２２．５部
・イソボロニルアクリレート ５７．４部
・エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート １０．０部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 シリコン樹脂） ０．１部
・イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
（比較用ミルベース調整例１）
【００４４】
下記のような配合で顔料分散体Ｄを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約２時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ４．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７６．０部
（比較用ミルベース調整例２）
【００４５】
下記のような配合で顔料分散体Ｅを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約２時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ４．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７６．０部
（比較用ミルベース調整例３）
【００４６】
更に、下記のような配合で顔料分散体Ｆを作成した。この分散体はモノマー中に顔料および高分子分散剤を投入し、ハイスピードミキサー等で均一になるまで撹拌後、得られたミルベースを横型サンドミルで約３時間分散して作成した。
・Ｌｉｏｎｏｌ Ｙｅｌｌｏｗ １０１０（東洋インキ製造社製 Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１３８） ２０．０部
・ソルスパーズ３２０００（アビシア社製 顔料分散剤） ６．０部
・２−フェノキシエチルアクリレート ７４．０部
（比較例１）
【００４７】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｄ ２２．５部
・２−フェノキシエチルアクリレート ２０．０部
・ＢＹＫ−３３１（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 シリコン樹脂） ０．１部
・イソボロニルアクリレート ３２．４部
・エトキシ化トリメチロ−ルプロパントリアクリレート １５．０部
・イルガキュア１２７（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
（比較例２）
【００４８】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｅ ２２．５部
・２−フェノキシエチルアクリレート １１．８部
・イソボロニルアクリレート ４２．６部
・エトキシ化トリメチロ−ルプロパントリアクリレート １３．０部
・ＢＹＫ−３６１Ｎ（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 アクリル樹脂） ０．１部
・イルガキュア３７９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
（比較例３）
【００４９】
上記顔料分散体を下記配合処方にてインキ化し、インクジェットインキを得た。
・顔料分散体Ｆ ２２．５部
・イソボロニルアクリレート ５７．４部
・エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート １０．０部
・ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製 シリコン樹脂） ０．１部
・イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
・イルガキュア８１９（チバスペシャルティケミカルズ社製 光ラジカル重合開始剤） ５．０部
【００５０】
実施例１〜３および比較例１〜３のインキについて、次のような項目について評価した。（１）粘度、（２）分散粒径、（３）保存安定性（４）吐出安定性。それぞれの測定法を以下に示す。
【００５１】
（１）初期粘度：顔料分散体を２５℃に調製し、Ｅ型粘度計にて測定した。
【００５２】
（２）分散粒径：顔料分散対をメチルエチルケトンで２００倍〜１０００倍に希釈し、マイクロトラックＵＰＡ１５０（日機装製、湿式粒度分布計）にて、体積基準の５０％径を測定した。
【００５３】
（３）保存安定性：顔料分散体をボトル型のガラス容器に入れ、７０℃の恒温機に２週間保存、経時促進させた後、経時前後での顔料分散体の粘度変化について測定した。この時の粘度測定は（１）の粘度測定と同様の方法で実施した。粘度の変化率が±１０％以内なら○、±１０％を越えたら×とした。
【００５４】
（４）吐出安定性：ヘッド温度を４０℃に加温したピエゾヘッドを有するＵＶＩＪプリンターで印字を行い、印字物の印刷状態を目視により評価した。ノズル抜け無しノズル抜け、不吐出があるものは×、
【００５５】
実施例１〜３、比較例１〜３のインキの評価結果を下記の表２にまとめた。
【００５６】
【表２】
【００５７】
実施例１〜３のインキは顔料分散性、保存安定性、吐出安定性に優れていたが、スルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体を含まない比較例１〜３のインキは顔料分散性の悪いものが多く、また保存安定性、吐出安定性が不良であった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子分散剤、モノマー、キノフタロン顔料、およびスルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ。
【請求項２】
高分子分散剤が塩基性の官能基を有することを特徴とする請求項１記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ。
【請求項３】
基材上に請求項１または請求項２記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキで画像形成した後、該インキを活性エネルギー線で硬化してなる印刷物。
【請求項１】
高分子分散剤、モノマー、キノフタロン顔料、およびスルホン酸もしくはその塩を含有するキノフタロン誘導体からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ。
【請求項２】
高分子分散剤が塩基性の官能基を有することを特徴とする請求項１記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキ。
【請求項３】
基材上に請求項１または請求項２記載の活性エネルギー線硬化型インクジェットインキで画像形成した後、該インキを活性エネルギー線で硬化してなる印刷物。
【公開番号】特開２００６−３４８２０５（Ｐ２００６−３４８２０５Ａ）
【公開日】平成１８年１２月２８日（２００６．１２．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１７７４６２（Ｐ２００５−１７７４６２）
【出願日】平成１７年６月１７日（２００５．６．１７）
【出願人】（０００２２２１１８）東洋インキ製造株式会社 (2,229)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年１２月２８日（２００６．１２．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年６月１７日（２００５．６．１７）
【出願人】（０００２２２１１８）東洋インキ製造株式会社 (2,229)
【Ｆターム（参考）】
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