流体処理システム
（ｉ）流体入口と、（ｉｉ）流体出口と、（ｉｉｉ）この流体入口と流体出口とに流体接続されている流体処理領域とを具備する流体処理システムが、開示される。この流体処理領域は、流体分離セクション（この分離セクションは、１つの分離装置もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組み合わせを含み得る）と流体放射線セクションとが互いに流体接続されて中に配置されているハウジングを有している。前記流体分離セクションは、流体中の固体を取り除き、前記流体放射線セクションは、流体中の微生物に放射線を照射する。前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、ほぼ共通の流路を有するように構成されており、この共通の流路は、これら２つのセクションがそれぞれの機能を果たしながら、流体処理システムの全体で必要な空間、即ち占有面積を減じ、及び／もしくは、この中での水頭のロス（圧力の低下）を大いに減じる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願についての説明
本出願は、２００９年５月１１日付で提出された仮特許出願S.N.61／213,136の35U.S.C.§119(e)に基づく効果を主張しており、これの内容が、参照することにより本書に含まれる。
【０００２】
本発明は、流体処理システムに関わる。特に、本発明は、水のような液体の処理のための流体処理システムに関わる。より具体的には、本発明は、船舶用のバラスト水のような水の処理のための流体処理システムに関わる。
【背景技術】
【０００３】
流体処理システムは、本分野で一般に知られている。特に、紫外線（ＵＶ）流体処理システムが、本分野で一般に知られている。従来の処理システムは、少なくとも１つの（好ましくはＵＶ）放射線ランプを有する完全に閉鎖されたチャンバ構造を有していた。このような従来の構造に関して、特定の問題が存在した。このような問題は、大型の開口流体処理システム、代表的に、大規模な行政の廃水もしくは飲用水処理設備に適用された時に、特に明らかになった。かくして、このような形式の反応装置が、以下の問題に関連した。
【０００４】
・反応装置の資本コストが比較的高い、
・水中の反応装置、及び／もしくは濡れた装置（ランプ、スリーブクレンザなど）にアクセスしにくい、
・汚れた物質を流体処理装置から取り除きにくい、
・流体消毒効率が比較的悪い、
・濡れた構成部品（スリーブ、ランプなど）のメンテナンスのために、装置の十分な代理機能性が必要である。
【０００５】
従来の閉鎖反応装置のこのような欠点が、いわゆる「開口したチャンネル」の発展をもたらした。
【０００６】
例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３（すべてMaarschalkerweerdの名義であり、且つすべて本発明の譲受人に譲渡されており、以下ではMaarschalkerweerd＃１特許と称される）のすべてが、紫外線（ＵＶ）を使用し、重力により送られる流体処理システムを開示している。
【０００７】
このようなシステムは、複数のＵＶランプを有するＵＶランプモジュール（例えば、フレーム）のアレイを有している。前記複数のＵＶランプの各々は、クロスピースに取着されている２つの脚部の間に延びており且つこれら２つの脚部によって支持されている複数のスリーブ内に、配置されている。（前記ＵＶランプを収容しており）このように支持されている前記スリーブは、処理される流体中に沈められており、必要に応じて放射線を照射される。この流体に照射される放射線の量は、前記ランプへの流体の近さと、前記ランプの出力ワット数と、前記ランプのそばを通った流体の流量とによって決定される。代表的に、少なくとも１つのＵＶセンサが、前記ランプのＵＶ出力量をチェックするように適用され得、流体レベルが、一般的に、前記処理装置の下流で、レベルゲート（level gates）もしくはこれに似たものによって、ある程度制御される。
【０００８】
Maarschalkerweerd＃１特許は、装置の十分な代理機能性を必要としないで、装置を濡れた状態、もしくは沈められた状態から引き出すための改良された能力を特徴とした流体処理システムを提示している。このような設定は、ランプの複数のアレイを横列及び／もしくは縦列に区分しており、「上面が開いている」チャンネル中に流体の自由表面流を形成するように、反応装置の上面を開いた状態にすることを特徴とした。
【０００９】
Maarschalkerweerd＃１特許に提示されている流体処理システムは、流体の自由表面流（代表的に、流体の上面は、意図的に制御もしくは制限されない）を有することを特徴とする。かくして、このシステムは、代表的に、開口したチャンネルの液圧動作に従う。このシステムの設定は、本来、流体の自由表面流を含んでいたので、各ランプ、もしくはランプのアレイが処理することができる最大流に制約があり、１つのランプ、もしくは他の液圧に接したランプのアレイは、水位の変化によって不利な影響を受けることがあった。比較的高速の流れ、もしくは流体の大きな変化で、制御されない自由表面流は、流体の流れの処理ボリューム及び断面が変化される。このことによって、反応装置は、比較的有効でなくなる。アレイの各ランプへのパワーが比較的弱い場合、各ランプに対する流体の流れは比較的低速である。完全に開口したチャンネルの流体処理システムの概念は、このような比較的弱いランプのパワーの、液圧負荷が比較的弱い流体処理システムに適している。ここでの問題は、ランプのパワーが弱いので、同じボリュームの流体の流れを処理するために比較的多くのランプが必要とされることであった。かくして、このシステムの特有のコストが、過度に高くなり得、及び／もしくは、自動のランプスリーブ洗浄と大量の流体処理とのシステムの追加の特徴に対抗できないだろう。
【００１０】
この結果、いわゆる「半閉鎖（semi-enclosed）」流体処理システムがもたらされた。
【００１１】
特許文献４、特許文献５、特許文献６（すべてMaarschalkerweerdの名義であり、且つすべて本発明の譲受人に譲渡されており、以下ではMaarschalkerweerd＃２特許と称される）のすべてが、紫外線（ＵＶ）を使用し、重力により送られる流体処理システムで使用される改良された放射線源モジュールを開示している。概して、改良された放射線源モジュールは、シールするように支持部材から突出した放射線源のアセンブリ（代表的に放射線源及び保護（例えばクオーツ）スリーブ）を有している。この支持部材は、前記放射線源モジュールを前記重力により送られる流体処理システムに固定するために適した手段を、更に有している。
【００１２】
Maarschalkerweerd＃２特許は、反応装置の処理領域で処理される流体を囲む閉鎖面を有することを、特徴としている。この閉鎖処理システムは、開口したチャンネルに有効に配置された開口端部を有した。沈められた、即ち濡れた装置（ＵＶランプ、クリーナーなど）は、ピボットヒンジと、スライダーと、このような装置を前記半閉鎖反応装置から自由表面に取り出すことを可能にする他の道具とを使用して引き抜かれ得た。
【００１３】
Maarschalkerweerd＃２特許に記載されている流体処理システムは、代表的に、ほぼ垂直な支持アームに対して突出した比較的短いランプ（即ち、一端のみが支持されているランプ）が特徴であった。このことによって、旋回運動が、もしくは半閉鎖反応装置から前記ランプを引き抜くことが、可能であった。このような非常に短く比較的強力なランプは、電気エネルギーのＵＶエネルギーへの変換には有効でないことが、特徴である。この装置に関して、前記ランプを物理的に使用し且つ支持するために必要なコストは、非常に高かった。
【００１４】
従来、Maarschalkerweerd＃１及び＃２特許に記載されている流体処理モジュール及びシステムは、行政の廃水処理（即ち、川、池、湖、もしくは他のこのような受水流に放出される水の処理）の分野で、広く適用されている。
【００１５】
行政の飲用水の分野では、いわゆる「閉鎖」流体処理システム、もしくは「加圧」流体処理システムを使用することが、知られている。
【００１６】
閉鎖流体処理装置（例えば、特許文献７（Maarschalkerweerd＃３）参照）は、周知である。Maarschalkerweerd＃３は、流体の流れを受けるためのハウジングを有する閉鎖流体処理装置を開示している。このハウジングは、流体入口と、流体出口と、この流体入口と流体出口との間に配置されている流体処理領域と、この流体処理領域に配置されている少なくとも１つの放射線源モジュールとを有している。前記流体入口と、前記流体出口と、前記流体処理領域とは、互いに同一線上にある。前記少なくとも１つの放射線源モジュールは、前記ハウジングにシール可能に取り付けられている脚部に、シール可能に取り付けられている放射線源を有している。この放射線源は、流体の流れに対してほぼ平行に配置されている。
【００１７】
特許文献８は、水のような流体の紫外線処理のために特に有効な閉鎖流体処理装置を、更に開示している。この装置は、流体の流れを受けるためのハウジングを有している。このハウジングは、流体入口と、流体出口と、前記流体入口と流体出口との間に配置されている流体処理領域と、少なくとも１つの放射線源とを有している。前記少なくとも１つの放射線源は、前記流体処理領域中に配置されており、前記ハウジングを通る流体の流れの方向に対してほぼ直角である長軸を有している。前記流体入口と、前記流体出口と、前記流体処理領域とは、互いにほぼ同一線上に配置されている。前記流体入口は、（ｉ）前記流体処理領域の断面積より小さい断面積と、（ｉｉ）前記少なくとも１つの放射線源のアセンブリの長軸に対してほぼ平行な最大直径とを備えた第１の開口部を有している。
【００１８】
Maarschalkerweerd＃１特許、Maarschalkerweerd＃２特許、Maarschalkerweerd＃３特許に開示されている種々の実施形態は、地上の流体放射線処理システムに係る。代表的に、このような流体放射線処理システムは、場合によっては、行政の廃水処理場、もしくは行政の飲用水処理場の他の処理システムと、併せて使用される。このような設備では、複数の導管システムが、この流体放射線処理システムをこの設備の他の流体処理システムに相互接続させるために、使用されている。
【００１９】
このような設備では、設備中の各処理システムが最良の流れを発生させる構造となるように、各処理システムを区分することが、慣例である。このようなアプローチは、地上の流体処理システムに適していた。
【００２０】
流体処理システムの適用には、全体の流体処理に対して非常に小さい占有面積しか使用できないという問題がある。この問題は、輸送船舶のバラスト水を処理することが必要とされる場合に、特に生じる。
【００２１】
固有でない水生物種が絶えず侵入し、広がることは、海洋環境にとって深刻な恐怖である。他の形態の汚染とは異なって、ひとたび固有でない種が定住すると、この種はその新しい地に留まる。人間の食糧供給、経済、健康、全生物多様性への潜在的な悪影響を予想することは難しいが、コストが高くなり得ることは、幅広く支持されている。
【００２２】
固有でない水生物種が侵入し且つ広がることの１つの主な原因は、輸送船舶のバラスト水の連続的な輸送である。ある水域、即ち生態学的領域で積み込まれ、他の水域、即ち他の生態系の領域で放出されるバラスト水が、いわゆる侵入水生物種（ＡＩＳ）を持ち込み得る。侵入水生物種（ＡＩＳ）は、受け手となるコミュニティの生物学的多様性と、経済と、人間の健康との１つ以上に有害な影響を与える可能性を有する種である。
【００２３】
代表的に、輸送船舶は、運搬の間の安定性と機動性とを高めるように、ソースポイントでバラスト水（淡水及び／もしくは海水）を積み込み、搭載バラストタンク及び／もしくは貨物庫中でこれを保持する。前記輸送船舶が目的地に着くと、前記バラスト水は、通例、前記搭載バラストタンク及び／もしくは貨物庫から放出される。また、ソースポイントと目的地との間の途中でバラスト水が積み込まれる、及び／もしくは放出されることも、一般的である。年率で３０乃至５０億トンのバラスト水がこのように搬送されていると推定されている。
【００２４】
ソースポイントから目的地まで（もしくはこれらの間の途中の地点まで）搬送される固有のＡＩＳを減じるようにバラスト水を処理することができる搭載システムを有することが、望ましい。このようなシステムは、重要な処理システムを有する必要があり、輸送船舶での占有面積が非常に小さくなければならない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２５】
【特許文献１】米国特許４，４８２，８０９
【特許文献２】米国特許４，８７２，９８０
【特許文献３】米国特許５，００６，２４４
【特許文献４】米国特許５，４１８，３７０
【特許文献５】米国特許５，５３９，２１０
【特許文献６】米国特許Ｒｅ３６，８９６
【特許文献７】米国特許５，５０４，３３５
【特許文献８】米国特許６，５００，３４６[Taghipour et al. (Taghipour)]
【発明の概要】
【００２６】
本発明の目的は、従来技術の上述の欠点の少なくとも１つを防ぐか緩和させることである。
【００２７】
本発明の他の目的は、新しい流体処理システムを提供することである。
【００２８】
従って、複数の態様の１つでは、本発明は、（ｉ）流体入口と、（ｉｉ）流体出口と、（ｉｉｉ）流体処理領域とを具備する流体処理システムを提供する。この流体処理領域は、流体分離セクション（この流体分離セクションは、単一の分離装置、もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組み合わせを有し得る）と流体放射線セクションとが中で互いに流体接続されているハウジングを有している。
【００２９】
他の態様では、本発明は、流体入口と、流体出口と、これら流体入口と流体出口と流体接続されている閉鎖された流体処理領域とを有する流体処理システムを提供する。この流体処理領域は、（ａ）前記流体入口に流体接続されており中に少なくとも１つの流体分離セクション（この流体分離セクションは、単一の分離装置、もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組み合わせを有し得る）が設けられている第１のチャンバと、（ｂ）前記流体出口と前記第１のチャンバとに流体接続されており中に少なくとも１つの放射線源のアセンブリが設けられている第２のチャンバとを有するハウジングを有しており、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとは、互いにほぼ同軸に配置されている。
【００３０】
かくして、本発明は、一般に、流体分離セクションと流体放射線セクションとを有する流体処理システムを展開している。前記流体分離セクションは、流体中の固体を取り除き、前記流体放射線セクションは、流体中の微生物及び／もしくは汚染物質を非活性化させるように、流体に放射線を照射する。重要なことは、前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、ほぼ共通の流路を有するように構成されており、この共通の流路は、これら２つのセクションがそれぞれの機能を果たしながら、流体処理システム全体で必要な空間、即ち占有面積を減じ、及び／もしくは、流体処理システム全体での水頭のロス（圧力低下）を大いに減じることである。
【００３１】
このことは、図１Ａ及び図１Ｂを参照して理解され得る。図１Ａは、従来の流れを示しており、流体分離セクションと流体放射線セクションとが、中間パイプ２によって相互に接続されている。この流体分離セクションと流体放射線セクションとの各々は、セクションの適切な操作のために、各々の流体の流れを確立させなければならない。このことは、入口パイプ１と出口パイプ３との間の流体圧力を大きく変動させる。これに対して、図１Ｂを参照すると、前記流体分離セクションと流体放射線セクションとを図示されているように組み合わせることによって、入口パイプ１と出口パイプ３との間の流体圧力の変動が、防がれ、もしくは緩和される。このことは、前記２つのセクションがそれぞれの機能を果すことを可能にし、流体処理システムの全体のために必要な空間、即ち占有面積を減じる。
【００３２】
多くの場合、前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、両セクション間に「改良した（developed）流体の流れ」を発生させるように構成されている単一のハウジング、もしくは囲い中に収容されている。「改良した流体の流れ」によって、流体の流れの一般的な流体力学が、前記流体分離セクション中で改良され、前記流体放射線セクション中で十分に再度改良される必要がない。
【００３３】
好ましくは、この流体処理システムは、流体の処理、より好ましくは水の処理のために適用される。
【００３４】
この流体処理システムの前記流体分離セクションは、流体から固体を取り除くように作用する。かくして、このセクションは、広範囲の物理的な分離要素、例えばフィルタ、膜などを取り入れ得る。前記分離要素の物理的な構成は、様々であり、例えば、円筒形（湾曲した形状）であっても良く、円筒形でなくても（平坦な形状でも）良い。前記分離セクションは、単一の分離装置を、もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組み合わせを有し得る。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１Ａ】図１Ａは、流体処理への従来のアプローチを、概略的に示している図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本流体処理システムによって使用される流体処理のアプローチを概略的に示している図である。
【図１】図１は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図２】図２は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図３】図３は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図４】図４は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図５】図５は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図６】図６は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図７】図７は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図８】図８は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図９】図９は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１０】図１０は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１１】図１１は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１２】図１２は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１３】図１３は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１４】図１４は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１５】図１５は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１６】図１６は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１７】図１７は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１８】図１８は、本流体処理システムの第３の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１９】図１９は、本流体処理システムの第３の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図２０】図２０は、本流体処理システムの第３の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図２１】図２１は、本流体処理システムの第３の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図２２】図２２は、図１８乃至図２１に示されている流体処理システムの変形例を示している図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
本発明の複数の実施形態が、添付の図面を参照して説明される。同じ参照符号が、同じ部分を示している。
【００３７】
複数の態様のうちの一態様では、本発明は、（ｉ）流体入口と、（ｉｉ）流体出口と、（ｉｉｉ）流体処理領域とを具備する流体処理システムに関わる。この流体処理領域は、流体分離セクションと流体放射線セクションとが互いに流体接続されて中に配置されているハウジングを有している。本発明のこの実施形態は、好ましくは、以下の特徴の、いずれか１つを、もしくは、いずれか少なくとも２つの組み合わせを有する。
【００３８】
・前記流体分離セクションは、前記流体入口に流体接続され得る。
【００３９】
・前記流体放射線セクションは、前記流体出口に流体接続され得る。
【００４０】
・前記流体分離セクションは、前記流体入口に流体接続され得、前記流体放射線セクションは、前記流体出口に流体接続されている。
【００４１】
・前記流体処理領域は、流体の加圧された流れを受けるように構成され得る。
【００４２】
・前記流体処理領域は、前記流体入口から受けた流体の流れを、すべての側面で抑制するように構成され得る。
【００４３】
・前記流体分離セクションは、フィルタ部材（例えば、バッグ濾過、種々の濾過材を有するカートリッジ濾過、セラミック濾過、スクリーン濾過、金網濾過、クロス濾過、ウェッジワイヤ濾過、プラスチック濾過、（犠牲的且つ非犠牲的な）顆粒濾過、これら濾過のいずれか２つ以上の組み合わせ）を含み得る。
【００４４】
・前記流体分離セクションは、サイクロン部材を有し得る。
【００４５】
・前記流体分離セクションは、膜部材を有し得る。
【００４６】
・前記流体分離セクションは、少なくとも１つのキャンドルフィルタを有し得る。
【００４７】
・前記少なくとも１つのキャンドルフィルタは、流体入口に流体接続されているフィルタ入口と、流体放射線セクションに流体接続されているフィルタ出口とを備えた細長いフィルタハウジングを有し得る。
【００４８】
・前記フィルタハウジングは、ほぼ円筒形の部分を有し得る。
【００４９】
・前記細長いフィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内側から外側に、もしくは前記フィルタハウジングの外側から内側に、横方向に流体を通過させるように、前記フィルタ入口と前記フィルタ出口との間で、流体が浸透可能であり得る。
【００５０】
・前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面に、フィルタ部材を有し得る。
【００５１】
・前記フィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内面のほぼ全体に、フィルタ部材を有し得る。
【００５２】
・前記フィルタ部材は、セラミック材料によって形成され得る。
【００５３】
・前記フィルタ部材は、多孔性のセラミック材料によって形成され得る。
【００５４】
・前記フィルタ部材は、メタルチューブを有し得る。
【００５５】
・前記フィルタ部材は、焼結したメタルチューブを有し得る。
【００５６】
・前記フィルタ部材は、エキスパンデッドシート材によって構成され得る。
【００５７】
・前記フィルタ部材は、エキスパンデッドメタルシート材によって構成され得る。
【００５８】
・前記フィルタ部材は、メッシュスクリーンを有し得る。
【００５９】
・前記フィルタ部材は、織物のメッシュスクリーンを有し得る。
【００６０】
・前記フィルタ部材は、フィルタクロス材を有し得る。
【００６１】
・前記フィルタ部材は、起伏のない（non-undulating）面を有し得る。
【００６２】
・前記フィルタ部材は、起伏のある面を有し得る。
【００６３】
・前記流体分離セクションは、分離部材のアレイに配置されている複数の分離部材を有し得る。
【００６４】
・各分離部材は、流体の流れを受けるように構成され得る。
【００６５】
・各分離部材は、隣接した分離部材に対して独立した流体の流れを受けるように構成され得る。
【００６６】
・各分離部材は、細長い形状であり得る。
【００６７】
・各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行な長軸を有し得る。
【００６８】
・各分離部材は、３つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【００６９】
・各分離部材は、４つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【００７０】
・各分離部材は、５つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【００７１】
・前記流体放射線セクションは、少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリを有し得る。
【００７２】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリは、少なくとも１つの細長い放射線源を有し得る。
【００７３】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源は、紫外線源を有し得る。
【００７４】
・前記紫外線源は、低圧の紫外線ランプを有し得る。
【００７５】
・前記紫外線源は、低圧且つ高出力の紫外線ランプを有し得る。
【００７６】
・前記紫外線源は、中圧の紫外線ランプを有し得る。
【００７７】
・前記紫外線源は、誘電体バリア放電（ＤＢＤ）の紫外線ランプを有し得る。
【００７８】
・前記紫外線源は、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ）、もしくは紫外線ＬＥＤのアレイを有し得る。
【００７９】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源は、保護スリーブ中に配置され得る。
【００８０】
・前記保護スリーブは、紫外線透過材によって構成され得る。
【００８１】
・前記保護スリーブは、クオーツによって構成され得る。
【００８２】
・前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に対して直角になるように構成されている長軸を有し得る。
【００８３】
・前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に直交するように構成されている長軸を有し得る。
【００８４】
・前記流体処理システムは、複数の放射線源のアセンブリを有し得る。
【００８５】
・前記複数の放射線源のアセンブリは、放射線源のアレイに配置され得る。
【００８６】
・前記アレイは、中に前記流体分離セクションが配置されている中心部分を有し得る。
【００８７】
・前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に沿って、直列に配置され得る。
【００８８】
・前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に沿って、同軸上に配置され得る。
【００８９】
・前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体分離セクションを通る流体の流れの方向に沿って、同軸上に配置され得る。
【００９０】
他の態様では、本発明は、流体入口と、流体出口と、前記流体入口と前記流体出口とに流体接続されている閉じた流体処理領域とを具備する流体処理システムに関わる。この流体処理領域は、（ａ）前記流体入口に流体接続されており中に少なくとも１つの流体分離セクションが設けられている第１のチャンバと、（ｂ）前記流体出口と前記第１のチャンバとに流体接続されており中に少なくとも１つの放射線源のアセンブリが設けられている第２のチャンバとを有するハウジングを有している。前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとは、互いに対してほぼ同軸上に配置されている。本発明のこの実施形態は、好ましくは、以下の特徴の、いずれか１つを、もしくは、いずれか少なくとも２つの組み合わせを有し得る。
【００９１】
・前記第１のチャンバは、前記第２のチャンバに対して内側に配置され得る。
【００９２】
・前記第１のチャンバは、前記第２のチャンバに対して外側に配置され得る。
【００９３】
・前記流体処理システムは、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを分けるための壁を有し得る。
【００９４】
・前記流体処理システムは、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを分けるための共通の壁を有し得る。
【００９５】
・前記壁は、ほぼ円筒形であり得る。
【００９６】
・前記壁は、前記第１のチャンバから前記第２のチャンバへと流体を通らせるように、少なくとも１つの開口部を有し得る。
【００９７】
・前記少なくとも１つの開口部は、大きいディメンションと、この大きいディメンションより小さいディメンションとを有し得る。
【００９８】
・前記大きいディメンションは、少なくとも１つの放射線源のアセンブリの長軸にほぼアラインメントされ得る。
【００９９】
・前記大きいディメンションと前記少なくとも１つの放射線源のアセンブリのアーク長とは、ほぼ同じであり得る。
【０１００】
・前記大きいディメンションと前記少なくとも１つの放射線源のアセンブリのアーク長とは、異なり得る。
【０１０１】
・前記第１のチャンバは、複数の分離部材を有し得る。
【０１０２】
・前記第２のチャンバは、複数の放射線源のアセンブリを有し得る。
【０１０３】
・前記第２のチャンバは、前記第１のチャンバに対してほぼ環状の構造を有している。
【０１０４】
・前記流体処理領域は、流体の加圧された流れを受けるように構成され得る。
【０１０５】
・前記流体処理領域は、前記流体入口から受けた流体の流れを、すべての側面で抑制するように構成され得る。
【０１０６】
・前記流体分離セクションは、フィルタ部材（例えば、バッグ濾過、種々の濾過材を有するカートリッジ濾過、セラミック濾過、スクリーン濾過、金網濾過、クロス濾過、ウェッジワイヤ濾過、プラスチック濾過、（犠牲的且つ非犠牲的な）顆粒濾過、これら濾過のいずれか２つ以上の組み合わせ）を含み得る。
【０１０７】
・前記流体分離セクションは、サイクロン部材を有し得る。
【０１０８】
・前記流体分離セクションは、膜部材を有し得る。
【０１０９】
・前記流体分離セクションは、少なくとも１つのキャンドルフィルタを有し得る。
【０１１０】
・前記少なくとも１つのキャンドルフィルタは、流体入口に流体接続されているフィルタ入口と、流体放射線セクションに流体接続されているフィルタ出口とを備えた細長いフィルタハウジングを有し得る。
【０１１１】
・前記フィルタハウジングは、ほぼ円筒形の部分を有し得る。
【０１１２】
・前記細長いフィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内側から外側に、もしくは前記フィルタハウジングの外側から内側に、横方向に流体を通過させるように、前記フィルタ入口と前記フィルタ出口との間で、流体が浸透可能であり得る。
【０１１３】
・前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面に、フィルタ部材を有し得る。
【０１１４】
・前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面のほぼ全体に、フィルタ部材を有し得る。
【０１１５】
・前記フィルタ部材は、セラミック材料によって形成され得る。
【０１１６】
・前記フィルタ部材は、多孔性のセラミック材料によって形成され得る。
【０１１７】
・前記フィルタ部材は、メタルチューブを有し得る。
【０１１８】
・前記フィルタ部材は、焼結したメタルチューブを有し得る。
【０１１９】
・前記フィルタ部材は、エキスパンデッドシート材によって構成され得る。
【０１２０】
・前記フィルタ部材は、エキスパンデッドメタルシート材によって構成され得る。
【０１２１】
・前記フィルタ部材は、メッシュスクリーンを有し得る。
【０１２２】
・前記フィルタ部材は、織物のメッシュスクリーンを有し得る。
【０１２３】
・前記フィルタ部材は、フィルタクロス材を有し得る。
【０１２４】
・前記フィルタ部材は、起伏のない面を有し得る。
【０１２５】
・前記フィルタ部材は、起伏のある面を有し得る。
【０１２６】
・前記流体分離セクションは、分離部材のアレイに配置されている複数の分離部材を有し得る。
【０１２７】
・各分離部材は、流体の流れを受けるように構成され得る。
【０１２８】
・各分離部材は、隣接した分離部材に対して独立した流体の流れを受けるように、構成され得る。
【０１２９】
・各分離部材は、細長い形状であり得る。
【０１３０】
・各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行な長軸を有し得る。
【０１３１】
・各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行でない長軸を有し得る。
【０１３２】
・各分離部材は、３つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【０１３３】
・各分離部材は、４つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【０１３４】
・各分離部材は、５つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【０１３５】
・前記流体放射線セクションは、少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリを有し得る。
【０１３６】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリは、少なくとも１つの細長い放射線源を有し得る。
【０１３７】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源は、紫外線源を有し得る。
【０１３８】
・前記紫外線源は、低圧の紫外線ランプを有し得る。
【０１３９】
・前記紫外線源は、低圧且つ高出力の紫外線ランプを有し得る。
【０１４０】
・前記紫外線源は、中圧の紫外線ランプを有し得る。
【０１４１】
・前記紫外線源は、誘電体バリア放電（ＤＢＤ）の紫外線ランプを有し得る。
【０１４２】
・前記紫外線源は、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ）、もしくは紫外線ＬＥＤのアレイを有し得る。
【０１４３】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源は、保護スリーブ中に配置され得る。
【０１４４】
・前記保護スリーブは、紫外線透過材によって構成され得る。
【０１４５】
・前記保護スリーブは、クオーツによって構成され得る。
【０１４６】
・前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に対して直角になるように構成されている長軸を有し得る。
【０１４７】
・前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に直交するように構成されている長軸を有し得る。
【０１４８】
・前記流体処理システムは、複数の放射線源のアセンブリを有し得る。
【０１４９】
・前記複数の放射線源のアセンブリは、放射線源のアレイに配置され得る。
【０１５０】
・前記アレイは、中に前記流体分離セクションが配置されている中心部分を有し得る。
【０１５１】
図１乃至図９には、流体処理システム１００が示されている。流体処理システム１００は、傾斜してフレーム１０５に取り付けられている。
【０１５２】
流体処理システム１００は、流体入口１１０と流体出口１１５とを有している。この流体入口１１０は、フィルタ部材１２０に連通している。このフィルタ部材１２０は、一連のいわゆるキャンドルフィルタ１２５によって構成されている。これらキャンドルフィルタ１２５は、一連の支持部材１４０によって相互接続された１対のエンドプレート１３０、１３５によって取着されている。
【０１５３】
図６及び図７を参照では、覆い部材１４５が、空間１４７を規定するようにフィルタ部材１２０を囲んでいる。この覆い部材１４５は、開口部１５０を有しており、流体が、キャンドルフィルタ１２５とフィルタ部材１２０とに接蝕した後に、この開口部１５０を通って、空間１４７から出て行く。
【０１５４】
流体処理システム１００は、フィルタ部材１２０に対して環状に配置されている一連の細長い放射線源１５５（図８及び図９）を更に有している。これら放射線源１５５は、一連の開口部１６５を介して放射流体出口１１５に連通しているチャンバ１６０中に、配置されている。
【０１５５】
使用時、処理される流体は、代表的に、圧力を受けて、矢印Ａ（図３）の方向で、流体入口１１０に供給される。この後に、この流体は、フィルタ部材１２０のキャンドルフィルタ１２５中を通る。このフィルタ部材１２０の加圧によって、この流体は、濾過され、矢印Ｂ（図３、図９）を通って横方向に各キャンドルフィルタ１２５を通過し、フィルタ部材１２０と覆い部材１４５との間に設けられている空間１４７中に入る。
【０１５６】
そして、この加圧された流体は、覆い部材１４５に設けられている開口部１５０から矢印Ｃ（図９）の方向に出ると、チャンバ１６０を通って流体出口１１５へと矢印Ｄ（図９）の方向で通過する間に、放射線源１５５からの放射線に当たる。そして、処理された流体は、矢印Ｅの方向で流体出口１１５から出て行く。
【０１５７】
図１０乃至図１７を参照すると、流体処理システム２００が示されている。図１０乃至図１７では、図１乃至図９の流体処理システム１００に似た部品が、流体処理システム２００の似た部品と同じ下２桁の番号を有している。（例えば、流体処理システム１００の放射線源のアセンブリ１５５は、流体処理システム２００では放射線源のアセンブリ２５５と示されており、流体処理システム１００のキャンドルフィルタ１２５は、流体処理システム２００ではキャンドルフィルタ２２５と示されている。）
かくして、流体処理システム２００では、キャンドルフィルタ２２５は、流体入口２１０に流体接続されている第１のハウジング２０３中に配置されており、放射線源のアセンブリ２５５は、流体出口２１５に流体接続されている第２のハウジング２０７中に配置されている。第１のハウジング２０３と第２のハウジング２０７とは、接合部材２０９を介して互いに流体接続されている。特に図１１を参照すると、第１のハウジング２０３と第２のハウジング２０７と接合部材２０９とは、流体の流れを収容するための単一のハウジングを形成するように組み合わされている。
【０１５８】
好ましくは、接合部材２０９は、第１のハウジング２０３と第２のハウジング２０７と同じくらいの高さに構成された大きなディメンションを有している。重要な点は、前記第１のハウジング２０３と第２のハウジング２０７と接合部材２０９との間にこのような相互関係を設定することによって、ほぼ良好な流体の流れが、第１のハウジング２０３から第２のハウジング２０７まで確立され得、この中で、水頭のロスの発生（occurrence of hydraulic head losses）（もしくは圧力の変化）が、例えば、比較的小さい断面積の導管が流体分離部材と流体放射部材とを相互接続するために使用された場合と比較して、減少することである。
【０１５９】
図１８乃至図２２を参照すると、流体処理システム３００が、示されている。図１８乃至図２２では、図１乃至図９の流体処理システムに似た部品が、流体処理システム３００の似た部品と同じ下２桁の番号を有している。（例えば、流体処理システム１００の放射線源のアセンブリ１５５は、流体処理システム２００では放射線源のアセンブリ３５５と示されており、流体処理システム１００の流体入口１１０は、流体処理システム３００では流体入口３１０と示されている。）
図示されているように、流体処理システム３００には、前述の流体処理システム１００及び２００で使用されているキャンドルフィルタ１２５、２２５が組み込まれていない。流体処理システム３００は、チャンバ３２８によって分けられた第１のフィルタスクリーン３２６と第２のフィルタスクリーン３２９とを使用している。
【０１６０】
特に図２０を参照すると、流体の流れは、矢印Ａの方向で流体入口３１０に入る。そして、この流体は、第１のフィルタスクリーン３２６を矢印Ｂの方向で通過し、チャンバ３２８に入る。次に、この流体は、第２のフィルタスクリーン３２９を矢印Ｃの方向で通過する。そして、この流体は、この第２のフィルタスクリーン中を矢印Ｄの方向で通過する間に、放射線を照射される。処理された流体は、矢印Ｅの方向で、流体出口３１５から出る。
【０１６１】
図２２を参照すると、流体処理システム３００の変形例が示されており、この例では、バッフル板３３１が、各２つの放射線源のアセンブリ３５５間に配置されている。前記バッフル板３３１の使用によって、流体が、放射線を照射されている間にショートすること（short circuiting）を、防ぐ、あるいは緩和する。本分野で周知であるように、「ショート」は、流体が、所定の放射量を受けるための所定の距離を越えて流体処理領域を通過した場合に、生じる。
【０１６２】
本発明が、実施形態及び実施例を参照して説明されているが、このような説明は、制限的な意味で解釈されることを意図されていない。かくして、このような説明を参照することによって、本実施形態の種々の変形例と本発明の他の実施形態とが、本分野の専門家には明らかである。従って、このような変形例もしくは実施形態のいずれもが、添付の請求項の範囲内であると見なされる。
【０１６３】
本書で言及されるすべての公知文献、特許、特許出願は、参照によって全体が本明細書に含まれ、公知文献、特許、特許出願の各々が参照によって全体が本明細書に含まれることが個々に特別に示されているのと同じである。
【技術分野】
【０００１】
関連出願についての説明
本出願は、２００９年５月１１日付で提出された仮特許出願S.N.61／213,136の35U.S.C.§119(e)に基づく効果を主張しており、これの内容が、参照することにより本書に含まれる。
【０００２】
本発明は、流体処理システムに関わる。特に、本発明は、水のような液体の処理のための流体処理システムに関わる。より具体的には、本発明は、船舶用のバラスト水のような水の処理のための流体処理システムに関わる。
【背景技術】
【０００３】
流体処理システムは、本分野で一般に知られている。特に、紫外線（ＵＶ）流体処理システムが、本分野で一般に知られている。従来の処理システムは、少なくとも１つの（好ましくはＵＶ）放射線ランプを有する完全に閉鎖されたチャンバ構造を有していた。このような従来の構造に関して、特定の問題が存在した。このような問題は、大型の開口流体処理システム、代表的に、大規模な行政の廃水もしくは飲用水処理設備に適用された時に、特に明らかになった。かくして、このような形式の反応装置が、以下の問題に関連した。
【０００４】
・反応装置の資本コストが比較的高い、
・水中の反応装置、及び／もしくは濡れた装置（ランプ、スリーブクレンザなど）にアクセスしにくい、
・汚れた物質を流体処理装置から取り除きにくい、
・流体消毒効率が比較的悪い、
・濡れた構成部品（スリーブ、ランプなど）のメンテナンスのために、装置の十分な代理機能性が必要である。
【０００５】
従来の閉鎖反応装置のこのような欠点が、いわゆる「開口したチャンネル」の発展をもたらした。
【０００６】
例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３（すべてMaarschalkerweerdの名義であり、且つすべて本発明の譲受人に譲渡されており、以下ではMaarschalkerweerd＃１特許と称される）のすべてが、紫外線（ＵＶ）を使用し、重力により送られる流体処理システムを開示している。
【０００７】
このようなシステムは、複数のＵＶランプを有するＵＶランプモジュール（例えば、フレーム）のアレイを有している。前記複数のＵＶランプの各々は、クロスピースに取着されている２つの脚部の間に延びており且つこれら２つの脚部によって支持されている複数のスリーブ内に、配置されている。（前記ＵＶランプを収容しており）このように支持されている前記スリーブは、処理される流体中に沈められており、必要に応じて放射線を照射される。この流体に照射される放射線の量は、前記ランプへの流体の近さと、前記ランプの出力ワット数と、前記ランプのそばを通った流体の流量とによって決定される。代表的に、少なくとも１つのＵＶセンサが、前記ランプのＵＶ出力量をチェックするように適用され得、流体レベルが、一般的に、前記処理装置の下流で、レベルゲート（level gates）もしくはこれに似たものによって、ある程度制御される。
【０００８】
Maarschalkerweerd＃１特許は、装置の十分な代理機能性を必要としないで、装置を濡れた状態、もしくは沈められた状態から引き出すための改良された能力を特徴とした流体処理システムを提示している。このような設定は、ランプの複数のアレイを横列及び／もしくは縦列に区分しており、「上面が開いている」チャンネル中に流体の自由表面流を形成するように、反応装置の上面を開いた状態にすることを特徴とした。
【０００９】
Maarschalkerweerd＃１特許に提示されている流体処理システムは、流体の自由表面流（代表的に、流体の上面は、意図的に制御もしくは制限されない）を有することを特徴とする。かくして、このシステムは、代表的に、開口したチャンネルの液圧動作に従う。このシステムの設定は、本来、流体の自由表面流を含んでいたので、各ランプ、もしくはランプのアレイが処理することができる最大流に制約があり、１つのランプ、もしくは他の液圧に接したランプのアレイは、水位の変化によって不利な影響を受けることがあった。比較的高速の流れ、もしくは流体の大きな変化で、制御されない自由表面流は、流体の流れの処理ボリューム及び断面が変化される。このことによって、反応装置は、比較的有効でなくなる。アレイの各ランプへのパワーが比較的弱い場合、各ランプに対する流体の流れは比較的低速である。完全に開口したチャンネルの流体処理システムの概念は、このような比較的弱いランプのパワーの、液圧負荷が比較的弱い流体処理システムに適している。ここでの問題は、ランプのパワーが弱いので、同じボリュームの流体の流れを処理するために比較的多くのランプが必要とされることであった。かくして、このシステムの特有のコストが、過度に高くなり得、及び／もしくは、自動のランプスリーブ洗浄と大量の流体処理とのシステムの追加の特徴に対抗できないだろう。
【００１０】
この結果、いわゆる「半閉鎖（semi-enclosed）」流体処理システムがもたらされた。
【００１１】
特許文献４、特許文献５、特許文献６（すべてMaarschalkerweerdの名義であり、且つすべて本発明の譲受人に譲渡されており、以下ではMaarschalkerweerd＃２特許と称される）のすべてが、紫外線（ＵＶ）を使用し、重力により送られる流体処理システムで使用される改良された放射線源モジュールを開示している。概して、改良された放射線源モジュールは、シールするように支持部材から突出した放射線源のアセンブリ（代表的に放射線源及び保護（例えばクオーツ）スリーブ）を有している。この支持部材は、前記放射線源モジュールを前記重力により送られる流体処理システムに固定するために適した手段を、更に有している。
【００１２】
Maarschalkerweerd＃２特許は、反応装置の処理領域で処理される流体を囲む閉鎖面を有することを、特徴としている。この閉鎖処理システムは、開口したチャンネルに有効に配置された開口端部を有した。沈められた、即ち濡れた装置（ＵＶランプ、クリーナーなど）は、ピボットヒンジと、スライダーと、このような装置を前記半閉鎖反応装置から自由表面に取り出すことを可能にする他の道具とを使用して引き抜かれ得た。
【００１３】
Maarschalkerweerd＃２特許に記載されている流体処理システムは、代表的に、ほぼ垂直な支持アームに対して突出した比較的短いランプ（即ち、一端のみが支持されているランプ）が特徴であった。このことによって、旋回運動が、もしくは半閉鎖反応装置から前記ランプを引き抜くことが、可能であった。このような非常に短く比較的強力なランプは、電気エネルギーのＵＶエネルギーへの変換には有効でないことが、特徴である。この装置に関して、前記ランプを物理的に使用し且つ支持するために必要なコストは、非常に高かった。
【００１４】
従来、Maarschalkerweerd＃１及び＃２特許に記載されている流体処理モジュール及びシステムは、行政の廃水処理（即ち、川、池、湖、もしくは他のこのような受水流に放出される水の処理）の分野で、広く適用されている。
【００１５】
行政の飲用水の分野では、いわゆる「閉鎖」流体処理システム、もしくは「加圧」流体処理システムを使用することが、知られている。
【００１６】
閉鎖流体処理装置（例えば、特許文献７（Maarschalkerweerd＃３）参照）は、周知である。Maarschalkerweerd＃３は、流体の流れを受けるためのハウジングを有する閉鎖流体処理装置を開示している。このハウジングは、流体入口と、流体出口と、この流体入口と流体出口との間に配置されている流体処理領域と、この流体処理領域に配置されている少なくとも１つの放射線源モジュールとを有している。前記流体入口と、前記流体出口と、前記流体処理領域とは、互いに同一線上にある。前記少なくとも１つの放射線源モジュールは、前記ハウジングにシール可能に取り付けられている脚部に、シール可能に取り付けられている放射線源を有している。この放射線源は、流体の流れに対してほぼ平行に配置されている。
【００１７】
特許文献８は、水のような流体の紫外線処理のために特に有効な閉鎖流体処理装置を、更に開示している。この装置は、流体の流れを受けるためのハウジングを有している。このハウジングは、流体入口と、流体出口と、前記流体入口と流体出口との間に配置されている流体処理領域と、少なくとも１つの放射線源とを有している。前記少なくとも１つの放射線源は、前記流体処理領域中に配置されており、前記ハウジングを通る流体の流れの方向に対してほぼ直角である長軸を有している。前記流体入口と、前記流体出口と、前記流体処理領域とは、互いにほぼ同一線上に配置されている。前記流体入口は、（ｉ）前記流体処理領域の断面積より小さい断面積と、（ｉｉ）前記少なくとも１つの放射線源のアセンブリの長軸に対してほぼ平行な最大直径とを備えた第１の開口部を有している。
【００１８】
Maarschalkerweerd＃１特許、Maarschalkerweerd＃２特許、Maarschalkerweerd＃３特許に開示されている種々の実施形態は、地上の流体放射線処理システムに係る。代表的に、このような流体放射線処理システムは、場合によっては、行政の廃水処理場、もしくは行政の飲用水処理場の他の処理システムと、併せて使用される。このような設備では、複数の導管システムが、この流体放射線処理システムをこの設備の他の流体処理システムに相互接続させるために、使用されている。
【００１９】
このような設備では、設備中の各処理システムが最良の流れを発生させる構造となるように、各処理システムを区分することが、慣例である。このようなアプローチは、地上の流体処理システムに適していた。
【００２０】
流体処理システムの適用には、全体の流体処理に対して非常に小さい占有面積しか使用できないという問題がある。この問題は、輸送船舶のバラスト水を処理することが必要とされる場合に、特に生じる。
【００２１】
固有でない水生物種が絶えず侵入し、広がることは、海洋環境にとって深刻な恐怖である。他の形態の汚染とは異なって、ひとたび固有でない種が定住すると、この種はその新しい地に留まる。人間の食糧供給、経済、健康、全生物多様性への潜在的な悪影響を予想することは難しいが、コストが高くなり得ることは、幅広く支持されている。
【００２２】
固有でない水生物種が侵入し且つ広がることの１つの主な原因は、輸送船舶のバラスト水の連続的な輸送である。ある水域、即ち生態学的領域で積み込まれ、他の水域、即ち他の生態系の領域で放出されるバラスト水が、いわゆる侵入水生物種（ＡＩＳ）を持ち込み得る。侵入水生物種（ＡＩＳ）は、受け手となるコミュニティの生物学的多様性と、経済と、人間の健康との１つ以上に有害な影響を与える可能性を有する種である。
【００２３】
代表的に、輸送船舶は、運搬の間の安定性と機動性とを高めるように、ソースポイントでバラスト水（淡水及び／もしくは海水）を積み込み、搭載バラストタンク及び／もしくは貨物庫中でこれを保持する。前記輸送船舶が目的地に着くと、前記バラスト水は、通例、前記搭載バラストタンク及び／もしくは貨物庫から放出される。また、ソースポイントと目的地との間の途中でバラスト水が積み込まれる、及び／もしくは放出されることも、一般的である。年率で３０乃至５０億トンのバラスト水がこのように搬送されていると推定されている。
【００２４】
ソースポイントから目的地まで（もしくはこれらの間の途中の地点まで）搬送される固有のＡＩＳを減じるようにバラスト水を処理することができる搭載システムを有することが、望ましい。このようなシステムは、重要な処理システムを有する必要があり、輸送船舶での占有面積が非常に小さくなければならない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２５】
【特許文献１】米国特許４，４８２，８０９
【特許文献２】米国特許４，８７２，９８０
【特許文献３】米国特許５，００６，２４４
【特許文献４】米国特許５，４１８，３７０
【特許文献５】米国特許５，５３９，２１０
【特許文献６】米国特許Ｒｅ３６，８９６
【特許文献７】米国特許５，５０４，３３５
【特許文献８】米国特許６，５００，３４６[Taghipour et al. (Taghipour)]
【発明の概要】
【００２６】
本発明の目的は、従来技術の上述の欠点の少なくとも１つを防ぐか緩和させることである。
【００２７】
本発明の他の目的は、新しい流体処理システムを提供することである。
【００２８】
従って、複数の態様の１つでは、本発明は、（ｉ）流体入口と、（ｉｉ）流体出口と、（ｉｉｉ）流体処理領域とを具備する流体処理システムを提供する。この流体処理領域は、流体分離セクション（この流体分離セクションは、単一の分離装置、もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組み合わせを有し得る）と流体放射線セクションとが中で互いに流体接続されているハウジングを有している。
【００２９】
他の態様では、本発明は、流体入口と、流体出口と、これら流体入口と流体出口と流体接続されている閉鎖された流体処理領域とを有する流体処理システムを提供する。この流体処理領域は、（ａ）前記流体入口に流体接続されており中に少なくとも１つの流体分離セクション（この流体分離セクションは、単一の分離装置、もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組み合わせを有し得る）が設けられている第１のチャンバと、（ｂ）前記流体出口と前記第１のチャンバとに流体接続されており中に少なくとも１つの放射線源のアセンブリが設けられている第２のチャンバとを有するハウジングを有しており、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとは、互いにほぼ同軸に配置されている。
【００３０】
かくして、本発明は、一般に、流体分離セクションと流体放射線セクションとを有する流体処理システムを展開している。前記流体分離セクションは、流体中の固体を取り除き、前記流体放射線セクションは、流体中の微生物及び／もしくは汚染物質を非活性化させるように、流体に放射線を照射する。重要なことは、前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、ほぼ共通の流路を有するように構成されており、この共通の流路は、これら２つのセクションがそれぞれの機能を果たしながら、流体処理システム全体で必要な空間、即ち占有面積を減じ、及び／もしくは、流体処理システム全体での水頭のロス（圧力低下）を大いに減じることである。
【００３１】
このことは、図１Ａ及び図１Ｂを参照して理解され得る。図１Ａは、従来の流れを示しており、流体分離セクションと流体放射線セクションとが、中間パイプ２によって相互に接続されている。この流体分離セクションと流体放射線セクションとの各々は、セクションの適切な操作のために、各々の流体の流れを確立させなければならない。このことは、入口パイプ１と出口パイプ３との間の流体圧力を大きく変動させる。これに対して、図１Ｂを参照すると、前記流体分離セクションと流体放射線セクションとを図示されているように組み合わせることによって、入口パイプ１と出口パイプ３との間の流体圧力の変動が、防がれ、もしくは緩和される。このことは、前記２つのセクションがそれぞれの機能を果すことを可能にし、流体処理システムの全体のために必要な空間、即ち占有面積を減じる。
【００３２】
多くの場合、前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、両セクション間に「改良した（developed）流体の流れ」を発生させるように構成されている単一のハウジング、もしくは囲い中に収容されている。「改良した流体の流れ」によって、流体の流れの一般的な流体力学が、前記流体分離セクション中で改良され、前記流体放射線セクション中で十分に再度改良される必要がない。
【００３３】
好ましくは、この流体処理システムは、流体の処理、より好ましくは水の処理のために適用される。
【００３４】
この流体処理システムの前記流体分離セクションは、流体から固体を取り除くように作用する。かくして、このセクションは、広範囲の物理的な分離要素、例えばフィルタ、膜などを取り入れ得る。前記分離要素の物理的な構成は、様々であり、例えば、円筒形（湾曲した形状）であっても良く、円筒形でなくても（平坦な形状でも）良い。前記分離セクションは、単一の分離装置を、もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組み合わせを有し得る。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１Ａ】図１Ａは、流体処理への従来のアプローチを、概略的に示している図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本流体処理システムによって使用される流体処理のアプローチを概略的に示している図である。
【図１】図１は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図２】図２は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図３】図３は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図４】図４は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図５】図５は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図６】図６は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図７】図７は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図８】図８は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図９】図９は、本流体処理システムの第１の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１０】図１０は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１１】図１１は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１２】図１２は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１３】図１３は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１４】図１４は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１５】図１５は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１６】図１６は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１７】図１７は、本流体処理システムの第２の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１８】図１８は、本流体処理システムの第３の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図１９】図１９は、本流体処理システムの第３の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図２０】図２０は、本流体処理システムの第３の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図２１】図２１は、本流体処理システムの第３の実施形態を、本流体処理システムの構成部品と共に示している図である。
【図２２】図２２は、図１８乃至図２１に示されている流体処理システムの変形例を示している図である。
【発明を実施するための形態】
【００３６】
本発明の複数の実施形態が、添付の図面を参照して説明される。同じ参照符号が、同じ部分を示している。
【００３７】
複数の態様のうちの一態様では、本発明は、（ｉ）流体入口と、（ｉｉ）流体出口と、（ｉｉｉ）流体処理領域とを具備する流体処理システムに関わる。この流体処理領域は、流体分離セクションと流体放射線セクションとが互いに流体接続されて中に配置されているハウジングを有している。本発明のこの実施形態は、好ましくは、以下の特徴の、いずれか１つを、もしくは、いずれか少なくとも２つの組み合わせを有する。
【００３８】
・前記流体分離セクションは、前記流体入口に流体接続され得る。
【００３９】
・前記流体放射線セクションは、前記流体出口に流体接続され得る。
【００４０】
・前記流体分離セクションは、前記流体入口に流体接続され得、前記流体放射線セクションは、前記流体出口に流体接続されている。
【００４１】
・前記流体処理領域は、流体の加圧された流れを受けるように構成され得る。
【００４２】
・前記流体処理領域は、前記流体入口から受けた流体の流れを、すべての側面で抑制するように構成され得る。
【００４３】
・前記流体分離セクションは、フィルタ部材（例えば、バッグ濾過、種々の濾過材を有するカートリッジ濾過、セラミック濾過、スクリーン濾過、金網濾過、クロス濾過、ウェッジワイヤ濾過、プラスチック濾過、（犠牲的且つ非犠牲的な）顆粒濾過、これら濾過のいずれか２つ以上の組み合わせ）を含み得る。
【００４４】
・前記流体分離セクションは、サイクロン部材を有し得る。
【００４５】
・前記流体分離セクションは、膜部材を有し得る。
【００４６】
・前記流体分離セクションは、少なくとも１つのキャンドルフィルタを有し得る。
【００４７】
・前記少なくとも１つのキャンドルフィルタは、流体入口に流体接続されているフィルタ入口と、流体放射線セクションに流体接続されているフィルタ出口とを備えた細長いフィルタハウジングを有し得る。
【００４８】
・前記フィルタハウジングは、ほぼ円筒形の部分を有し得る。
【００４９】
・前記細長いフィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内側から外側に、もしくは前記フィルタハウジングの外側から内側に、横方向に流体を通過させるように、前記フィルタ入口と前記フィルタ出口との間で、流体が浸透可能であり得る。
【００５０】
・前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面に、フィルタ部材を有し得る。
【００５１】
・前記フィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内面のほぼ全体に、フィルタ部材を有し得る。
【００５２】
・前記フィルタ部材は、セラミック材料によって形成され得る。
【００５３】
・前記フィルタ部材は、多孔性のセラミック材料によって形成され得る。
【００５４】
・前記フィルタ部材は、メタルチューブを有し得る。
【００５５】
・前記フィルタ部材は、焼結したメタルチューブを有し得る。
【００５６】
・前記フィルタ部材は、エキスパンデッドシート材によって構成され得る。
【００５７】
・前記フィルタ部材は、エキスパンデッドメタルシート材によって構成され得る。
【００５８】
・前記フィルタ部材は、メッシュスクリーンを有し得る。
【００５９】
・前記フィルタ部材は、織物のメッシュスクリーンを有し得る。
【００６０】
・前記フィルタ部材は、フィルタクロス材を有し得る。
【００６１】
・前記フィルタ部材は、起伏のない（non-undulating）面を有し得る。
【００６２】
・前記フィルタ部材は、起伏のある面を有し得る。
【００６３】
・前記流体分離セクションは、分離部材のアレイに配置されている複数の分離部材を有し得る。
【００６４】
・各分離部材は、流体の流れを受けるように構成され得る。
【００６５】
・各分離部材は、隣接した分離部材に対して独立した流体の流れを受けるように構成され得る。
【００６６】
・各分離部材は、細長い形状であり得る。
【００６７】
・各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行な長軸を有し得る。
【００６８】
・各分離部材は、３つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【００６９】
・各分離部材は、４つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【００７０】
・各分離部材は、５つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【００７１】
・前記流体放射線セクションは、少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリを有し得る。
【００７２】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリは、少なくとも１つの細長い放射線源を有し得る。
【００７３】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源は、紫外線源を有し得る。
【００７４】
・前記紫外線源は、低圧の紫外線ランプを有し得る。
【００７５】
・前記紫外線源は、低圧且つ高出力の紫外線ランプを有し得る。
【００７６】
・前記紫外線源は、中圧の紫外線ランプを有し得る。
【００７７】
・前記紫外線源は、誘電体バリア放電（ＤＢＤ）の紫外線ランプを有し得る。
【００７８】
・前記紫外線源は、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ）、もしくは紫外線ＬＥＤのアレイを有し得る。
【００７９】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源は、保護スリーブ中に配置され得る。
【００８０】
・前記保護スリーブは、紫外線透過材によって構成され得る。
【００８１】
・前記保護スリーブは、クオーツによって構成され得る。
【００８２】
・前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に対して直角になるように構成されている長軸を有し得る。
【００８３】
・前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に直交するように構成されている長軸を有し得る。
【００８４】
・前記流体処理システムは、複数の放射線源のアセンブリを有し得る。
【００８５】
・前記複数の放射線源のアセンブリは、放射線源のアレイに配置され得る。
【００８６】
・前記アレイは、中に前記流体分離セクションが配置されている中心部分を有し得る。
【００８７】
・前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に沿って、直列に配置され得る。
【００８８】
・前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に沿って、同軸上に配置され得る。
【００８９】
・前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体分離セクションを通る流体の流れの方向に沿って、同軸上に配置され得る。
【００９０】
他の態様では、本発明は、流体入口と、流体出口と、前記流体入口と前記流体出口とに流体接続されている閉じた流体処理領域とを具備する流体処理システムに関わる。この流体処理領域は、（ａ）前記流体入口に流体接続されており中に少なくとも１つの流体分離セクションが設けられている第１のチャンバと、（ｂ）前記流体出口と前記第１のチャンバとに流体接続されており中に少なくとも１つの放射線源のアセンブリが設けられている第２のチャンバとを有するハウジングを有している。前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとは、互いに対してほぼ同軸上に配置されている。本発明のこの実施形態は、好ましくは、以下の特徴の、いずれか１つを、もしくは、いずれか少なくとも２つの組み合わせを有し得る。
【００９１】
・前記第１のチャンバは、前記第２のチャンバに対して内側に配置され得る。
【００９２】
・前記第１のチャンバは、前記第２のチャンバに対して外側に配置され得る。
【００９３】
・前記流体処理システムは、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを分けるための壁を有し得る。
【００９４】
・前記流体処理システムは、前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを分けるための共通の壁を有し得る。
【００９５】
・前記壁は、ほぼ円筒形であり得る。
【００９６】
・前記壁は、前記第１のチャンバから前記第２のチャンバへと流体を通らせるように、少なくとも１つの開口部を有し得る。
【００９７】
・前記少なくとも１つの開口部は、大きいディメンションと、この大きいディメンションより小さいディメンションとを有し得る。
【００９８】
・前記大きいディメンションは、少なくとも１つの放射線源のアセンブリの長軸にほぼアラインメントされ得る。
【００９９】
・前記大きいディメンションと前記少なくとも１つの放射線源のアセンブリのアーク長とは、ほぼ同じであり得る。
【０１００】
・前記大きいディメンションと前記少なくとも１つの放射線源のアセンブリのアーク長とは、異なり得る。
【０１０１】
・前記第１のチャンバは、複数の分離部材を有し得る。
【０１０２】
・前記第２のチャンバは、複数の放射線源のアセンブリを有し得る。
【０１０３】
・前記第２のチャンバは、前記第１のチャンバに対してほぼ環状の構造を有している。
【０１０４】
・前記流体処理領域は、流体の加圧された流れを受けるように構成され得る。
【０１０５】
・前記流体処理領域は、前記流体入口から受けた流体の流れを、すべての側面で抑制するように構成され得る。
【０１０６】
・前記流体分離セクションは、フィルタ部材（例えば、バッグ濾過、種々の濾過材を有するカートリッジ濾過、セラミック濾過、スクリーン濾過、金網濾過、クロス濾過、ウェッジワイヤ濾過、プラスチック濾過、（犠牲的且つ非犠牲的な）顆粒濾過、これら濾過のいずれか２つ以上の組み合わせ）を含み得る。
【０１０７】
・前記流体分離セクションは、サイクロン部材を有し得る。
【０１０８】
・前記流体分離セクションは、膜部材を有し得る。
【０１０９】
・前記流体分離セクションは、少なくとも１つのキャンドルフィルタを有し得る。
【０１１０】
・前記少なくとも１つのキャンドルフィルタは、流体入口に流体接続されているフィルタ入口と、流体放射線セクションに流体接続されているフィルタ出口とを備えた細長いフィルタハウジングを有し得る。
【０１１１】
・前記フィルタハウジングは、ほぼ円筒形の部分を有し得る。
【０１１２】
・前記細長いフィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内側から外側に、もしくは前記フィルタハウジングの外側から内側に、横方向に流体を通過させるように、前記フィルタ入口と前記フィルタ出口との間で、流体が浸透可能であり得る。
【０１１３】
・前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面に、フィルタ部材を有し得る。
【０１１４】
・前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面のほぼ全体に、フィルタ部材を有し得る。
【０１１５】
・前記フィルタ部材は、セラミック材料によって形成され得る。
【０１１６】
・前記フィルタ部材は、多孔性のセラミック材料によって形成され得る。
【０１１７】
・前記フィルタ部材は、メタルチューブを有し得る。
【０１１８】
・前記フィルタ部材は、焼結したメタルチューブを有し得る。
【０１１９】
・前記フィルタ部材は、エキスパンデッドシート材によって構成され得る。
【０１２０】
・前記フィルタ部材は、エキスパンデッドメタルシート材によって構成され得る。
【０１２１】
・前記フィルタ部材は、メッシュスクリーンを有し得る。
【０１２２】
・前記フィルタ部材は、織物のメッシュスクリーンを有し得る。
【０１２３】
・前記フィルタ部材は、フィルタクロス材を有し得る。
【０１２４】
・前記フィルタ部材は、起伏のない面を有し得る。
【０１２５】
・前記フィルタ部材は、起伏のある面を有し得る。
【０１２６】
・前記流体分離セクションは、分離部材のアレイに配置されている複数の分離部材を有し得る。
【０１２７】
・各分離部材は、流体の流れを受けるように構成され得る。
【０１２８】
・各分離部材は、隣接した分離部材に対して独立した流体の流れを受けるように、構成され得る。
【０１２９】
・各分離部材は、細長い形状であり得る。
【０１３０】
・各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行な長軸を有し得る。
【０１３１】
・各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行でない長軸を有し得る。
【０１３２】
・各分離部材は、３つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【０１３３】
・各分離部材は、４つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【０１３４】
・各分離部材は、５つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有し得る。
【０１３５】
・前記流体放射線セクションは、少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリを有し得る。
【０１３６】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリは、少なくとも１つの細長い放射線源を有し得る。
【０１３７】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源は、紫外線源を有し得る。
【０１３８】
・前記紫外線源は、低圧の紫外線ランプを有し得る。
【０１３９】
・前記紫外線源は、低圧且つ高出力の紫外線ランプを有し得る。
【０１４０】
・前記紫外線源は、中圧の紫外線ランプを有し得る。
【０１４１】
・前記紫外線源は、誘電体バリア放電（ＤＢＤ）の紫外線ランプを有し得る。
【０１４２】
・前記紫外線源は、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ）、もしくは紫外線ＬＥＤのアレイを有し得る。
【０１４３】
・前記少なくとも１つの細長い放射線源は、保護スリーブ中に配置され得る。
【０１４４】
・前記保護スリーブは、紫外線透過材によって構成され得る。
【０１４５】
・前記保護スリーブは、クオーツによって構成され得る。
【０１４６】
・前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に対して直角になるように構成されている長軸を有し得る。
【０１４７】
・前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に直交するように構成されている長軸を有し得る。
【０１４８】
・前記流体処理システムは、複数の放射線源のアセンブリを有し得る。
【０１４９】
・前記複数の放射線源のアセンブリは、放射線源のアレイに配置され得る。
【０１５０】
・前記アレイは、中に前記流体分離セクションが配置されている中心部分を有し得る。
【０１５１】
図１乃至図９には、流体処理システム１００が示されている。流体処理システム１００は、傾斜してフレーム１０５に取り付けられている。
【０１５２】
流体処理システム１００は、流体入口１１０と流体出口１１５とを有している。この流体入口１１０は、フィルタ部材１２０に連通している。このフィルタ部材１２０は、一連のいわゆるキャンドルフィルタ１２５によって構成されている。これらキャンドルフィルタ１２５は、一連の支持部材１４０によって相互接続された１対のエンドプレート１３０、１３５によって取着されている。
【０１５３】
図６及び図７を参照では、覆い部材１４５が、空間１４７を規定するようにフィルタ部材１２０を囲んでいる。この覆い部材１４５は、開口部１５０を有しており、流体が、キャンドルフィルタ１２５とフィルタ部材１２０とに接蝕した後に、この開口部１５０を通って、空間１４７から出て行く。
【０１５４】
流体処理システム１００は、フィルタ部材１２０に対して環状に配置されている一連の細長い放射線源１５５（図８及び図９）を更に有している。これら放射線源１５５は、一連の開口部１６５を介して放射流体出口１１５に連通しているチャンバ１６０中に、配置されている。
【０１５５】
使用時、処理される流体は、代表的に、圧力を受けて、矢印Ａ（図３）の方向で、流体入口１１０に供給される。この後に、この流体は、フィルタ部材１２０のキャンドルフィルタ１２５中を通る。このフィルタ部材１２０の加圧によって、この流体は、濾過され、矢印Ｂ（図３、図９）を通って横方向に各キャンドルフィルタ１２５を通過し、フィルタ部材１２０と覆い部材１４５との間に設けられている空間１４７中に入る。
【０１５６】
そして、この加圧された流体は、覆い部材１４５に設けられている開口部１５０から矢印Ｃ（図９）の方向に出ると、チャンバ１６０を通って流体出口１１５へと矢印Ｄ（図９）の方向で通過する間に、放射線源１５５からの放射線に当たる。そして、処理された流体は、矢印Ｅの方向で流体出口１１５から出て行く。
【０１５７】
図１０乃至図１７を参照すると、流体処理システム２００が示されている。図１０乃至図１７では、図１乃至図９の流体処理システム１００に似た部品が、流体処理システム２００の似た部品と同じ下２桁の番号を有している。（例えば、流体処理システム１００の放射線源のアセンブリ１５５は、流体処理システム２００では放射線源のアセンブリ２５５と示されており、流体処理システム１００のキャンドルフィルタ１２５は、流体処理システム２００ではキャンドルフィルタ２２５と示されている。）
かくして、流体処理システム２００では、キャンドルフィルタ２２５は、流体入口２１０に流体接続されている第１のハウジング２０３中に配置されており、放射線源のアセンブリ２５５は、流体出口２１５に流体接続されている第２のハウジング２０７中に配置されている。第１のハウジング２０３と第２のハウジング２０７とは、接合部材２０９を介して互いに流体接続されている。特に図１１を参照すると、第１のハウジング２０３と第２のハウジング２０７と接合部材２０９とは、流体の流れを収容するための単一のハウジングを形成するように組み合わされている。
【０１５８】
好ましくは、接合部材２０９は、第１のハウジング２０３と第２のハウジング２０７と同じくらいの高さに構成された大きなディメンションを有している。重要な点は、前記第１のハウジング２０３と第２のハウジング２０７と接合部材２０９との間にこのような相互関係を設定することによって、ほぼ良好な流体の流れが、第１のハウジング２０３から第２のハウジング２０７まで確立され得、この中で、水頭のロスの発生（occurrence of hydraulic head losses）（もしくは圧力の変化）が、例えば、比較的小さい断面積の導管が流体分離部材と流体放射部材とを相互接続するために使用された場合と比較して、減少することである。
【０１５９】
図１８乃至図２２を参照すると、流体処理システム３００が、示されている。図１８乃至図２２では、図１乃至図９の流体処理システムに似た部品が、流体処理システム３００の似た部品と同じ下２桁の番号を有している。（例えば、流体処理システム１００の放射線源のアセンブリ１５５は、流体処理システム２００では放射線源のアセンブリ３５５と示されており、流体処理システム１００の流体入口１１０は、流体処理システム３００では流体入口３１０と示されている。）
図示されているように、流体処理システム３００には、前述の流体処理システム１００及び２００で使用されているキャンドルフィルタ１２５、２２５が組み込まれていない。流体処理システム３００は、チャンバ３２８によって分けられた第１のフィルタスクリーン３２６と第２のフィルタスクリーン３２９とを使用している。
【０１６０】
特に図２０を参照すると、流体の流れは、矢印Ａの方向で流体入口３１０に入る。そして、この流体は、第１のフィルタスクリーン３２６を矢印Ｂの方向で通過し、チャンバ３２８に入る。次に、この流体は、第２のフィルタスクリーン３２９を矢印Ｃの方向で通過する。そして、この流体は、この第２のフィルタスクリーン中を矢印Ｄの方向で通過する間に、放射線を照射される。処理された流体は、矢印Ｅの方向で、流体出口３１５から出る。
【０１６１】
図２２を参照すると、流体処理システム３００の変形例が示されており、この例では、バッフル板３３１が、各２つの放射線源のアセンブリ３５５間に配置されている。前記バッフル板３３１の使用によって、流体が、放射線を照射されている間にショートすること（short circuiting）を、防ぐ、あるいは緩和する。本分野で周知であるように、「ショート」は、流体が、所定の放射量を受けるための所定の距離を越えて流体処理領域を通過した場合に、生じる。
【０１６２】
本発明が、実施形態及び実施例を参照して説明されているが、このような説明は、制限的な意味で解釈されることを意図されていない。かくして、このような説明を参照することによって、本実施形態の種々の変形例と本発明の他の実施形態とが、本分野の専門家には明らかである。従って、このような変形例もしくは実施形態のいずれもが、添付の請求項の範囲内であると見なされる。
【０１６３】
本書で言及されるすべての公知文献、特許、特許出願は、参照によって全体が本明細書に含まれ、公知文献、特許、特許出願の各々が参照によって全体が本明細書に含まれることが個々に特別に示されているのと同じである。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）流体入口と、（ｉｉ）流体出口と、（ｉｉｉ）前記流体入口と前記流体出口とに流体接続されている流体処理領域と、を具備し、
この流体処理領域は、流体分離セクション（この流体分離セクションは、１つの分離装置もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組合せを含み得る）と流体放射線セクションとが互いに流体接続されて中に配置されているハウジングを有している、流体処理システム。
【請求項２】
前記流体分離セクションは、前記流体入口に流体接続されている、請求項１に記載の流体処理システム。
【請求項３】
前記流体放射線セクションは、前記流体出口に流体接続されている、請求項１に記載の流体処理システム。
【請求項４】
前記流体分離セクションは、前記流体入口に流体接続されており、前記流体放射線セクションは、前記流体出口に流体接続されている、請求項１に記載の流体処理システム。
【請求項５】
前記流体処理領域は、流体の加圧された流れを受けるように構成されている、請求項１乃至４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６】
前記流体処理領域は、前記流体入口から受けた流体の流れを、すべての側面で抑制するように構成されている、請求項１乃至５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７】
前記流体分離セクションは、フィルタ部材（例えば、バッグ濾過、種々の濾過材を有するカートリッジ濾過、セラミック濾過、スクリーン濾過、金網濾過、クロス濾過、ウェッジワイヤ濾過、プラスチック濾過、（犠牲的且つ非犠牲的な）顆粒濾過、これら濾過のいずれか２つ以上の組み合わせ）を含む、請求項１乃至６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項８】
前記流体分離セクションは、サイクロン部材を有している、請求項１乃至６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項９】
前記流体分離セクションは、膜部材を有している、請求項１乃至６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０】
前記流体分離セクションは、少なくとも１つのキャンドルフィルタを有している、請求項１乃至６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのキャンドルフィルタは、流体入口に流体接続されているフィルタ入口と、流体放射線セクションに流体接続されているフィルタ出口とを備えた細長いフィルタハウジングを有している、請求項１０に記載の流体処理システム。
【請求項１２】
前記フィルタハウジングは、ほぼ円筒形の部分を有している、請求項１１に記載の流体処理システム。
【請求項１３】
前記細長いフィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内側から外側に、もしくは前記フィルタハウジングの外側から内側に、横方向に流体を通過させるように、前記フィルタ入口と前記フィルタ出口との間で、流体が浸透可能である、請求項１１又は１２に記載の流体処理システム。
【請求項１４】
前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面に、フィルタ部材を有している、請求項１１乃至１３のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１５】
前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面のほぼ全体に、フィルタ部材を有している、請求項１１乃至１３のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１６】
前記フィルタ部材は、セラミック材料によって形成されている、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項１７】
前記フィルタ部材は、多孔性のセラミック材料によって形成されている、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項１８】
前記フィルタ部材は、メタルチューブを有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項１９】
前記フィルタ部材は、焼結したメタルチューブを有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２０】
前記フィルタ部材は、エキスパンデッドシート材によって構成されている、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２１】
前記フィルタ部材は、エキスパンデッドメタルシート材によって構成されている、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２２】
前記フィルタ部材は、メッシュスクリーンを有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２３】
前記フィルタ部材は、織物のメッシュスクリーンを有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２４】
前記フィルタ部材は、フィルタクロス材を有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２５】
前記フィルタ部材は、起伏のない面を有している、請求項１４乃至２４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項２６】
前記フィルタ部材は、起伏のある面を有している、請求項１４乃至２４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項２７】
前記流体分離セクションは、分離部材のアレイに配置されている複数の分離部材を有している、請求項１乃至２６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項２８】
各分離部材は、流体の流れを受けるように構成されている、請求項２７に記載の流体処理システム。
【請求項２９】
各分離部材は、隣接した分離部材に対して独立した流体の流れを受けるように構成されている、請求項２７に記載の流体処理システム。
【請求項３０】
各分離部材は、細長い形状である、請求項２７乃至２９のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項３１】
各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行な長軸を有している、請求項３０に記載の流体処理システム。
【請求項３２】
各分離部材は、３つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項３０に記載の流体処理システム。
【請求項３３】
各分離部材は、４つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項３０に記載の流体処理システム。
【請求項３４】
各分離部材は、５つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項３０に記載の流体処理システム。
【請求項３５】
前記流体放射線セクションは、少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリを有している、請求項１乃至３４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項３６】
前記少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリは、少なくとも１つの細長い放射線源を有している、請求項３５に記載の流体処理システム。
【請求項３７】
前記少なくとも１つの細長い放射線源は、紫外線源を有している、請求項３６に記載の流体処理システム。
【請求項３８】
前記紫外線源は、低圧の紫外線ランプを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項３９】
前記紫外線源は、低圧且つ高出力の紫外線ランプを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項４０】
前記紫外線源は、中圧の紫外線ランプを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項４１】
前記紫外線源は、誘電体バリア放電（ＤＢＤ）の紫外線ランプを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項４２】
前記紫外線源は、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ）、もしくは紫外線ＬＥＤのアレイを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項４３】
前記少なくとも１つの細長い放射線源は、保護スリーブ中に配置されている、請求項３６乃至４２のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４４】
前記保護スリーブは、紫外線透過材（例えば、クオーツ）によって構成されている、請求項４３に記載の流体処理システム。
【請求項４５】
前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に対して直角になるように構成されている長軸を有している、請求項３５乃至４４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４６】
前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に直交するように構成されている長軸を有している、請求項３５乃至４４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４７】
複数の放射線源のアセンブリを有している、請求項３５乃至４６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４８】
前記複数の放射線源のアセンブリは、放射線源のアレイに配置されている、請求項４７に記載の流体処理システム。
【請求項４９】
前記アレイは、中に前記流体分離セクションが配置されている中心部分を有している、請求項４８に記載の流体処理システム。
【請求項５０】
前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に沿って、直列に配置されている、請求項１乃至４８のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項５１】
前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に沿って、同軸上に配置されない、請求項１乃至４８のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項５２】
前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体分離セクションを通る流体の流れの方向に沿って、同軸上に配置される、請求項１乃至４８のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項５３】
流体入口と、流体出口と、この流体入口と流体出口とに流体接続されている閉じた流体処理領域とを具備する流体処理システムにであって、この流体処理領域は、（ａ）前記流体入口に流体接続されており中に少なくとも１つの流体分離セクション（前記流体分離セクションは、単一の分離装置、もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組み合わせを有し得る）が設けられている第１のチャンバと、（ｂ）前記流体出口と前記第１のチャンバとに流体接続されており中に少なくとも１つの放射線源のアセンブリが設けられている第２のチャンバとを有するハウジングを有しており、前記第１のチャンバと第２のチャンバとは、互いに対してほぼ同軸上に配置されている、流体処理システム。
【請求項５４】
前記第１のチャンバは、前記第２のチャンバに対して内側に配置されている、請求項５３に記載の流体処理システム。
【請求項５５】
前記第１のチャンバは、前記第２のチャンバに対して外側に配置されている、請求項５３に記載の流体処理システム。
【請求項５６】
前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを分けるための壁を有している、請求項５３乃至５５に記載の流体処理システム。
【請求項５７】
前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを分けるための共通の壁を有している、請求項５３乃至５５に記載の流体処理システム。
【請求項５８】
前記壁は、ほぼ円筒形である、請求項５６又は５７に記載の流体処理システム。
【請求項５９】
前記壁は、前記第１のチャンバから前記第２のチャンバへと流体を通らせるように、少なくとも１つの開口部を有している、請求項５６又は５７に記載の流体処理システム。
【請求項６０】
前記少なくとも１つの開口部は、大きいディメンションと、この大きいディメンションより小さいディメンションとを有している、請求項５９に記載の流体処理システム。
【請求項６１】
前記大きいディメンションは、少なくとも１つの放射線源のアセンブリの長軸にほぼアラインメントされている、請求項６０に記載の流体処理システム。
【請求項６２】
前記大きいディメンションと前記少なくとも１つの放射線源のアセンブリのアーク長とは、ほぼ同じである、請求項６０又は６１に記載の流体処理システム。
【請求項６３】
前記第１のチャンバは、複数の分離部材を有している、請求項５３乃至６２のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６４】
前記第２のチャンバは、複数の放射線源のアセンブリを有している、請求項５３乃至６３のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６５】
前記第２のチャンバは、前記第１のチャンバに対してほぼ環状の構造を有している、請求項５３乃至６４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６６】
前記流体処理領域は、流体の加圧された流れを受けるように構成されている、請求項５３乃至６５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６７】
前記流体処理領域は、前記流体入口から受けた流体の流れを、すべての側面で抑制するように構成されている、請求項５３乃至６６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６８】
前記流体分離セクションは、フィルタ部材（例えば、バッグ濾過、種々の濾過材を有するカートリッジ濾過、セラミック濾過、スクリーン濾過、金網濾過、クロス濾過、ウェッジワイヤ濾過、プラスチック濾過、（犠牲的且つ非犠牲的な）顆粒濾過、これら濾過のいずれか２つ以上の組み合わせ）を含む、請求項５３乃至６７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６９】
前記流体分離セクションは、サイクロン部材を有している、請求項５３乃至６７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７０】
前記流体分離セクションは、膜部材を有している、請求項５３乃至６７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７１】
前記流体分離セクションは、少なくとも１つのキャンドルフィルタを有している、請求項５３乃至６７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７２】
前記少なくとも１つのキャンドルフィルタは、流体入口に流体接続されているフィルタ入口と、流体放射線セクションに流体接続されているフィルタ出口とを備えた細長いフィルタハウジングを有している、請求項７１に記載の流体処理システム。
【請求項７３】
前記フィルタハウジングは、ほぼ円筒形の部分を有している、請求項７２に記載の流体処理システム。
【請求項７４】
前記細長いフィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内側から外側に、もしくは前記フィルタハウジングの外側から内側に、横方向に流体を、通過させるように、前記フィルタ入口と前記フィルタ出口との間で、流体が浸透可能である、請求項７２又は７３に記載の流体処理システム。
【請求項７５】
前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面に、フィルタ部材を有している、請求項７２乃至７４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７６】
前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面のほぼ全体に、フィルタ部材を有している、請求項７２乃至７４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７７】
前記フィルタ部材は、セラミック材料によって形成されている、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項７８】
前記フィルタ部材は、多孔性のセラミック材料によって形成されている、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項７９】
前記フィルタ部材は、メタルチューブを有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８０】
前記フィルタ部材は、焼結したメタルチューブを有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８１】
前記フィルタ部材は、エキスパンデッドシート材によって構成されている、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８２】
前記フィルタ部材は、エキスパンデッドメタルシート材によって構成されている、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８３】
前記フィルタ部材は、メッシュスクリーンを有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８４】
前記フィルタ部材は、織物のメッシュスクリーンを有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８５】
前記フィルタ部材は、フィルタクロス材を有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８６】
前記フィルタ部材は、起伏のない面を有している、請求項７５乃至８５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項８７】
前記フィルタ部材は、起伏のある面を有している、請求項７５乃至８５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項８８】
前記流体分離セクションは、分離部材のアレイに配置されている複数の分離部材を有している、請求項５３乃至８７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項８９】
各分離部材は、流体の流れを受けるように構成されている、請求項８８に記載の流体処理システム。
【請求項９０】
各分離部材は、隣接した分離部材に対して独立した流体の流れを受けるように構成されている、請求項８８に記載の流体処理システム。
【請求項９１】
各分離部材は、細長い形状である、請求項８８乃至９０のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項９２】
各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行な長軸を有している、請求項９１に記載の流体処理システム。
【請求項９３】
各分離部材は、３つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項９１に記載の流体処理システム。
【請求項９４】
各分離部材は、４つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項９１に記載の流体処理システム。
【請求項９５】
各分離部材は、５つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項９１に記載の流体処理システム。
【請求項９６】
前記流体放射線セクションは、少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリを有している、請求項５３乃至９５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項９７】
前記少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリは、少なくとも１つの細長い放射線源を有している、請求項９６に記載の流体処理システム。
【請求項９８】
前記少なくとも１つの細長い放射線源は、紫外線源を有している、請求項９７に記載の流体処理システム。
【請求項９９】
前記紫外線源は、低圧の紫外線ランプを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１００】
前記紫外線源は、低圧且つ高出力の紫外線ランプを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１０１】
前記紫外線源は、中圧の紫外線ランプを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１０２】
前記紫外線源は、誘電体バリア放電（ＤＢＤ）の紫外線ランプを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１０３】
前記紫外線源は、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ）、もしくは紫外線ＬＥＤのアレイを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１０４】
前記少なくとも１つの細長い放射線源は、保護スリーブ中に配置されている、請求項９７乃至１０３のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０５】
前記保護スリーブは、紫外線透過材（例えば、クオーツ）によって構成されている、請求項１０４に記載の流体処理システム。
【請求項１０６】
前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に対して直角になるように構成されている長軸を有している、請求項９６乃至１０５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０７】
前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に直交するように構成されている長軸を有している、請求項９６乃至１０５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０８】
複数の放射線源のアセンブリを有している、請求項９６乃至１０７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０９】
前記複数の放射線源のアセンブリは、放射線源のアレイに配置されている、請求項１０８に記載の流体処理システム。
【請求項１１０】
前記アレイは、中に前記流体分離セクションが配置されている中心部分を有している、請求項１０９に記載の流体処理システム。
【請求項１】
（ｉ）流体入口と、（ｉｉ）流体出口と、（ｉｉｉ）前記流体入口と前記流体出口とに流体接続されている流体処理領域と、を具備し、
この流体処理領域は、流体分離セクション（この流体分離セクションは、１つの分離装置もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組合せを含み得る）と流体放射線セクションとが互いに流体接続されて中に配置されているハウジングを有している、流体処理システム。
【請求項２】
前記流体分離セクションは、前記流体入口に流体接続されている、請求項１に記載の流体処理システム。
【請求項３】
前記流体放射線セクションは、前記流体出口に流体接続されている、請求項１に記載の流体処理システム。
【請求項４】
前記流体分離セクションは、前記流体入口に流体接続されており、前記流体放射線セクションは、前記流体出口に流体接続されている、請求項１に記載の流体処理システム。
【請求項５】
前記流体処理領域は、流体の加圧された流れを受けるように構成されている、請求項１乃至４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６】
前記流体処理領域は、前記流体入口から受けた流体の流れを、すべての側面で抑制するように構成されている、請求項１乃至５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７】
前記流体分離セクションは、フィルタ部材（例えば、バッグ濾過、種々の濾過材を有するカートリッジ濾過、セラミック濾過、スクリーン濾過、金網濾過、クロス濾過、ウェッジワイヤ濾過、プラスチック濾過、（犠牲的且つ非犠牲的な）顆粒濾過、これら濾過のいずれか２つ以上の組み合わせ）を含む、請求項１乃至６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項８】
前記流体分離セクションは、サイクロン部材を有している、請求項１乃至６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項９】
前記流体分離セクションは、膜部材を有している、請求項１乃至６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０】
前記流体分離セクションは、少なくとも１つのキャンドルフィルタを有している、請求項１乃至６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つのキャンドルフィルタは、流体入口に流体接続されているフィルタ入口と、流体放射線セクションに流体接続されているフィルタ出口とを備えた細長いフィルタハウジングを有している、請求項１０に記載の流体処理システム。
【請求項１２】
前記フィルタハウジングは、ほぼ円筒形の部分を有している、請求項１１に記載の流体処理システム。
【請求項１３】
前記細長いフィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内側から外側に、もしくは前記フィルタハウジングの外側から内側に、横方向に流体を通過させるように、前記フィルタ入口と前記フィルタ出口との間で、流体が浸透可能である、請求項１１又は１２に記載の流体処理システム。
【請求項１４】
前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面に、フィルタ部材を有している、請求項１１乃至１３のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１５】
前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面のほぼ全体に、フィルタ部材を有している、請求項１１乃至１３のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１６】
前記フィルタ部材は、セラミック材料によって形成されている、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項１７】
前記フィルタ部材は、多孔性のセラミック材料によって形成されている、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項１８】
前記フィルタ部材は、メタルチューブを有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項１９】
前記フィルタ部材は、焼結したメタルチューブを有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２０】
前記フィルタ部材は、エキスパンデッドシート材によって構成されている、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２１】
前記フィルタ部材は、エキスパンデッドメタルシート材によって構成されている、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２２】
前記フィルタ部材は、メッシュスクリーンを有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２３】
前記フィルタ部材は、織物のメッシュスクリーンを有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２４】
前記フィルタ部材は、フィルタクロス材を有している、請求項１４又は１５に記載の流体処理システム。
【請求項２５】
前記フィルタ部材は、起伏のない面を有している、請求項１４乃至２４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項２６】
前記フィルタ部材は、起伏のある面を有している、請求項１４乃至２４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項２７】
前記流体分離セクションは、分離部材のアレイに配置されている複数の分離部材を有している、請求項１乃至２６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項２８】
各分離部材は、流体の流れを受けるように構成されている、請求項２７に記載の流体処理システム。
【請求項２９】
各分離部材は、隣接した分離部材に対して独立した流体の流れを受けるように構成されている、請求項２７に記載の流体処理システム。
【請求項３０】
各分離部材は、細長い形状である、請求項２７乃至２９のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項３１】
各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行な長軸を有している、請求項３０に記載の流体処理システム。
【請求項３２】
各分離部材は、３つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項３０に記載の流体処理システム。
【請求項３３】
各分離部材は、４つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項３０に記載の流体処理システム。
【請求項３４】
各分離部材は、５つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項３０に記載の流体処理システム。
【請求項３５】
前記流体放射線セクションは、少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリを有している、請求項１乃至３４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項３６】
前記少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリは、少なくとも１つの細長い放射線源を有している、請求項３５に記載の流体処理システム。
【請求項３７】
前記少なくとも１つの細長い放射線源は、紫外線源を有している、請求項３６に記載の流体処理システム。
【請求項３８】
前記紫外線源は、低圧の紫外線ランプを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項３９】
前記紫外線源は、低圧且つ高出力の紫外線ランプを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項４０】
前記紫外線源は、中圧の紫外線ランプを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項４１】
前記紫外線源は、誘電体バリア放電（ＤＢＤ）の紫外線ランプを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項４２】
前記紫外線源は、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ）、もしくは紫外線ＬＥＤのアレイを有している、請求項３７に記載の流体処理システム。
【請求項４３】
前記少なくとも１つの細長い放射線源は、保護スリーブ中に配置されている、請求項３６乃至４２のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４４】
前記保護スリーブは、紫外線透過材（例えば、クオーツ）によって構成されている、請求項４３に記載の流体処理システム。
【請求項４５】
前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に対して直角になるように構成されている長軸を有している、請求項３５乃至４４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４６】
前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に直交するように構成されている長軸を有している、請求項３５乃至４４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４７】
複数の放射線源のアセンブリを有している、請求項３５乃至４６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項４８】
前記複数の放射線源のアセンブリは、放射線源のアレイに配置されている、請求項４７に記載の流体処理システム。
【請求項４９】
前記アレイは、中に前記流体分離セクションが配置されている中心部分を有している、請求項４８に記載の流体処理システム。
【請求項５０】
前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に沿って、直列に配置されている、請求項１乃至４８のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項５１】
前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体処理領域を通る流体の流れの方向に沿って、同軸上に配置されない、請求項１乃至４８のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項５２】
前記流体分離セクションと前記流体放射線セクションとは、前記流体分離セクションを通る流体の流れの方向に沿って、同軸上に配置される、請求項１乃至４８のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項５３】
流体入口と、流体出口と、この流体入口と流体出口とに流体接続されている閉じた流体処理領域とを具備する流体処理システムにであって、この流体処理領域は、（ａ）前記流体入口に流体接続されており中に少なくとも１つの流体分離セクション（前記流体分離セクションは、単一の分離装置、もしくは２つ以上の同じか異なる分離装置の組み合わせを有し得る）が設けられている第１のチャンバと、（ｂ）前記流体出口と前記第１のチャンバとに流体接続されており中に少なくとも１つの放射線源のアセンブリが設けられている第２のチャンバとを有するハウジングを有しており、前記第１のチャンバと第２のチャンバとは、互いに対してほぼ同軸上に配置されている、流体処理システム。
【請求項５４】
前記第１のチャンバは、前記第２のチャンバに対して内側に配置されている、請求項５３に記載の流体処理システム。
【請求項５５】
前記第１のチャンバは、前記第２のチャンバに対して外側に配置されている、請求項５３に記載の流体処理システム。
【請求項５６】
前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを分けるための壁を有している、請求項５３乃至５５に記載の流体処理システム。
【請求項５７】
前記第１のチャンバと前記第２のチャンバとを分けるための共通の壁を有している、請求項５３乃至５５に記載の流体処理システム。
【請求項５８】
前記壁は、ほぼ円筒形である、請求項５６又は５７に記載の流体処理システム。
【請求項５９】
前記壁は、前記第１のチャンバから前記第２のチャンバへと流体を通らせるように、少なくとも１つの開口部を有している、請求項５６又は５７に記載の流体処理システム。
【請求項６０】
前記少なくとも１つの開口部は、大きいディメンションと、この大きいディメンションより小さいディメンションとを有している、請求項５９に記載の流体処理システム。
【請求項６１】
前記大きいディメンションは、少なくとも１つの放射線源のアセンブリの長軸にほぼアラインメントされている、請求項６０に記載の流体処理システム。
【請求項６２】
前記大きいディメンションと前記少なくとも１つの放射線源のアセンブリのアーク長とは、ほぼ同じである、請求項６０又は６１に記載の流体処理システム。
【請求項６３】
前記第１のチャンバは、複数の分離部材を有している、請求項５３乃至６２のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６４】
前記第２のチャンバは、複数の放射線源のアセンブリを有している、請求項５３乃至６３のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６５】
前記第２のチャンバは、前記第１のチャンバに対してほぼ環状の構造を有している、請求項５３乃至６４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６６】
前記流体処理領域は、流体の加圧された流れを受けるように構成されている、請求項５３乃至６５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６７】
前記流体処理領域は、前記流体入口から受けた流体の流れを、すべての側面で抑制するように構成されている、請求項５３乃至６６のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６８】
前記流体分離セクションは、フィルタ部材（例えば、バッグ濾過、種々の濾過材を有するカートリッジ濾過、セラミック濾過、スクリーン濾過、金網濾過、クロス濾過、ウェッジワイヤ濾過、プラスチック濾過、（犠牲的且つ非犠牲的な）顆粒濾過、これら濾過のいずれか２つ以上の組み合わせ）を含む、請求項５３乃至６７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項６９】
前記流体分離セクションは、サイクロン部材を有している、請求項５３乃至６７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７０】
前記流体分離セクションは、膜部材を有している、請求項５３乃至６７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７１】
前記流体分離セクションは、少なくとも１つのキャンドルフィルタを有している、請求項５３乃至６７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７２】
前記少なくとも１つのキャンドルフィルタは、流体入口に流体接続されているフィルタ入口と、流体放射線セクションに流体接続されているフィルタ出口とを備えた細長いフィルタハウジングを有している、請求項７１に記載の流体処理システム。
【請求項７３】
前記フィルタハウジングは、ほぼ円筒形の部分を有している、請求項７２に記載の流体処理システム。
【請求項７４】
前記細長いフィルタハウジングは、前記フィルタハウジングの内側から外側に、もしくは前記フィルタハウジングの外側から内側に、横方向に流体を、通過させるように、前記フィルタ入口と前記フィルタ出口との間で、流体が浸透可能である、請求項７２又は７３に記載の流体処理システム。
【請求項７５】
前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面に、フィルタ部材を有している、請求項７２乃至７４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７６】
前記フィルタハウジングは、このフィルタハウジングの内面のほぼ全体に、フィルタ部材を有している、請求項７２乃至７４のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項７７】
前記フィルタ部材は、セラミック材料によって形成されている、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項７８】
前記フィルタ部材は、多孔性のセラミック材料によって形成されている、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項７９】
前記フィルタ部材は、メタルチューブを有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８０】
前記フィルタ部材は、焼結したメタルチューブを有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８１】
前記フィルタ部材は、エキスパンデッドシート材によって構成されている、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８２】
前記フィルタ部材は、エキスパンデッドメタルシート材によって構成されている、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８３】
前記フィルタ部材は、メッシュスクリーンを有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８４】
前記フィルタ部材は、織物のメッシュスクリーンを有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８５】
前記フィルタ部材は、フィルタクロス材を有している、請求項７５又は７６に記載の流体処理システム。
【請求項８６】
前記フィルタ部材は、起伏のない面を有している、請求項７５乃至８５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項８７】
前記フィルタ部材は、起伏のある面を有している、請求項７５乃至８５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項８８】
前記流体分離セクションは、分離部材のアレイに配置されている複数の分離部材を有している、請求項５３乃至８７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項８９】
各分離部材は、流体の流れを受けるように構成されている、請求項８８に記載の流体処理システム。
【請求項９０】
各分離部材は、隣接した分離部材に対して独立した流体の流れを受けるように構成されている、請求項８８に記載の流体処理システム。
【請求項９１】
各分離部材は、細長い形状である、請求項８８乃至９０のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項９２】
各分離部材は、少なくとも２つの隣接した分離部材の長軸に対してほぼ平行な長軸を有している、請求項９１に記載の流体処理システム。
【請求項９３】
各分離部材は、３つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項９１に記載の流体処理システム。
【請求項９４】
各分離部材は、４つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項９１に記載の流体処理システム。
【請求項９５】
各分離部材は、５つの隣接した分離部材の長軸からほぼ等距離のところにある長軸を有している、請求項９１に記載の流体処理システム。
【請求項９６】
前記流体放射線セクションは、少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリを有している、請求項５３乃至９５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項９７】
前記少なくとも１つの細長い放射線源のアセンブリは、少なくとも１つの細長い放射線源を有している、請求項９６に記載の流体処理システム。
【請求項９８】
前記少なくとも１つの細長い放射線源は、紫外線源を有している、請求項９７に記載の流体処理システム。
【請求項９９】
前記紫外線源は、低圧の紫外線ランプを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１００】
前記紫外線源は、低圧且つ高出力の紫外線ランプを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１０１】
前記紫外線源は、中圧の紫外線ランプを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１０２】
前記紫外線源は、誘電体バリア放電（ＤＢＤ）の紫外線ランプを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１０３】
前記紫外線源は、紫外線発光ダイオード（ＬＥＤ）、もしくは紫外線ＬＥＤのアレイを有している、請求項９８に記載の流体処理システム。
【請求項１０４】
前記少なくとも１つの細長い放射線源は、保護スリーブ中に配置されている、請求項９７乃至１０３のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０５】
前記保護スリーブは、紫外線透過材（例えば、クオーツ）によって構成されている、請求項１０４に記載の流体処理システム。
【請求項１０６】
前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に対して直角になるように構成されている長軸を有している、請求項９６乃至１０５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０７】
前記細長い放射線源のアセンブリは、前記流体放射線セクションを通る流体の流れの方向に直交するように構成されている長軸を有している、請求項９６乃至１０５のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０８】
複数の放射線源のアセンブリを有している、請求項９６乃至１０７のいずれか１に記載の流体処理システム。
【請求項１０９】
前記複数の放射線源のアセンブリは、放射線源のアレイに配置されている、請求項１０８に記載の流体処理システム。
【請求項１１０】
前記アレイは、中に前記流体分離セクションが配置されている中心部分を有している、請求項１０９に記載の流体処理システム。
【図１】
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図１Ａ】
【図１Ｂ】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【公表番号】特表２０１２−５２５９７５（Ｐ２０１２−５２５９７５Ａ）
【公表日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−５１００７８（Ｐ２０１２−５１００７８）
【出願日】平成２２年５月１１日（２０１０．５．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＣＡ２０１０／０００７０１
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１３００３１
【国際公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（５１１２７４９２７）トロジャン・テクノロジーズ (2)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月１１日（２０１０．５．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＣＡ２０１０／０００７０１
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１３００３１
【国際公開日】平成２２年１１月１８日（２０１０．１１．１８）
【出願人】（５１１２７４９２７）トロジャン・テクノロジーズ (2)
【Ｆターム（参考）】
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