液晶シャッタ
【課題】スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮した液晶シャッタを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、シャッタ部を備えた液晶シャッタが提供される。シャッタ部は、第１透明電極を有する第１基板部と、第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、第１透明電極と第２透明電極との間に設けられた液晶層と、を含む。液晶層の液晶配列は、第１透明電極と第２透明電極との間の電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、電位差が第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移する。第１基板部は、液晶層におけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の転移核部を有する。第１基板部の周縁部の少なくとも一部における複数の転移核部の密度は、周縁部よりも内側の内側部における複数の転移核部の密度よりも高い。
【解決手段】実施形態によれば、シャッタ部を備えた液晶シャッタが提供される。シャッタ部は、第１透明電極を有する第１基板部と、第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、第１透明電極と第２透明電極との間に設けられた液晶層と、を含む。液晶層の液晶配列は、第１透明電極と第２透明電極との間の電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、電位差が第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移する。第１基板部は、液晶層におけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の転移核部を有する。第１基板部の周縁部の少なくとも一部における複数の転移核部の密度は、周縁部よりも内側の内側部における複数の転移核部の密度よりも高い。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、液晶シャッタに関する。
【背景技術】
【０００２】
娯楽、教育、放送、医療などの分野において、立体視システムの実用化が進んでいる。立体視システムにおいては、例えば、左右眼の視差に対応した左眼用像と右眼用像とが、左右眼にそれぞれ時分割で呈示される。このための高速応答のシャッタに、液晶が用いられる。
【０００３】
例えば、右目用領域と左目用領域とを有する液晶セルを用いたシャッターメガネを用いる立体映像表示装置がある。この液晶セルの液晶層に、ツイステッドネマティック液晶やスーパーツイステッドネマティック液晶を用いた場合は、応答速度が不十分である。また、強誘電性液晶を用いた場合は、耐ショック性や温度特性などの信頼性に関して改善を要する。
【０００４】
一方、πセルを応用したＯＣＢ（Optically Compensated Bend）モード液晶がある。ＯＣＢモードにおいては、液晶のベンド配列を利用することで、高速応答が得られる。また、ネマティック液晶を用いることから信頼性が高い。
【０００５】
ＯＣＢモードにおいては、初期のスプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理が行われる。そして、ベンド配列状態において、光のスイッチングの動作が行われる。この初期化処理を短時間で均一に実施することが実用的に重要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平０８−３２７９６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の実施形態は、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮した液晶シャッタを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施形態によれば、第１シャッタ部を備えた液晶シャッタが提供される。前記第１シャッタ部は、第１透明電極を有する第１基板部と、前記第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に設けられた第１液晶層と、を含む。前記第１液晶層の液晶配列は、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の第１電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第１電位差が前記第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移する。前記第１基板部は、前記第１液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第１転移核部を有する。前記第１基板部の周縁部の少なくとも一部における前記複数の第１転移核部の密度は、前記周縁部よりも内側の内側部における前記複数の第１転移核部の密度よりも高い。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１（ａ）〜図１（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式図である。
【図２】第１の実施形態に係る液晶シャッタが用いられる表示システムの構成を例示する模式図である。
【図３】図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式図である。
【図４】図４（ａ）及び図４（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的断面図である。
【図５】図５（ａ）〜図５（ｄ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの動作を例示する模式的断面図である。
【図６】図６（ａ）〜図６（ｃ）は、液晶シャッタの初期化処理の状態を例示する模式的斜視図である。
【図７】図７（ａ）及び図７（ｂ）は、液晶層の配列状態を例示する模式図である。
【図８】第１の実施形態に係る液晶シャッタの動作を例示する模式的平面図である。
【図９】図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１０】図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１１】図１１（ａ）及び図１１（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的断面図である。
【図１２】図１２（ａ）〜図１２（ｃ）は、第２の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１３】図１３（ａ）〜図１３（ｃ）は、第３の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１４】図１４（ａ）及び図１４（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１５】図１５（ａ）及び図１５（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１６】図１６（ａ）及び図１６（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１７】第４の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的斜視図である。
【図１８】第４の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【００１１】
（第１の実施の形態）
図１（ａ）〜図１（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式図である。
図２は、第１の実施形態に係る液晶シャッタが用いられる表示システムの構成を例示する模式図である。
まず、図２により、本実施形態に係る液晶シャッタが用いられる立体視が可能な表示システムの例について説明する。
【００１２】
図２に表したように、表示システム１１は、ディスプレイ１３（表示部）と、液晶シャッタ眼鏡１２と、を備える。表示システム１１は、３次元表示モードを有している。３次元表示モードにおいては、視差に対応する左眼用像と右眼用像とが表示される。この左眼用像と右眼用像とを、観視者が３次元映像として観視する。なお、表示システム１１は、２次元表示モードを有していても良い。２次元表示モードにおいては、ディスプレイ１３に表示された像を、観視者が２次元映像として観視する。以下、３次元表示モードについて説明する。
【００１３】
ディスプレイ１３は、表示面１３ｄを有する。この表示面１３ｄに、左眼用像と右眼用像とに対応した画像が交互に切り替えて表示される。例えば、ディスプレイ１３には、アクティブマトリクス型液晶ディスプレイが用いられる。このディスプレイには任意の動作モードが適用できる。ディスプレイには、例えばＯＣＢモードが適用できる。ディスプレイ１３は、マトリクス状に配置された複数の画素を有する。例えば、デジタル信号処理により、例えばフィールド周波数が１２０Ｈｚに変換され、表示が行われる。
【００１４】
液晶シャッタ眼鏡１２は、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２を有する。第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２のそれぞれは、観視者の左眼及び右眼にそれぞれ対向して配置される。観視者は、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２を介して、ディスプレイ１３の表示像を観視する。液晶シャッタ眼鏡１２においては、時分割シャッタ動作が行われる。ディスプレイ１３の表示に同期して、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２が交互に透光状態及び遮光状態となる。
【００１５】
なお、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２は、相互に別体として設けられても良い。また、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２は一体的に連続していても良い。例えば、１つの基板の上に、２つの電極が設けられ、２つの電極のそれぞれが、第１シャッタ部１０１または第２シャッタ部１０２のそれぞれに含まれても良い。
【００１６】
表示システム１１においては、左眼用像と右眼用像とを時分割的に観視する方式が適用される。例えば、ディスプレイ１３は、左眼及び右眼に対応した画像をフィールドごとに交互に切り替えて表示する。この時、ディスプレイ１３に左眼用画像が表示されている期間においては、左眼用のシャッタ部が透光状態とされ、右眼用のシャッタ部が遮光状態とされる。そして、ディスプレイ１３に右眼用画像が表示されている期間において、右眼用のシャッタ部が透光状態とされ、左眼用のシャッタ部が遮光状態とされる。
【００１７】
例えば、表示システム１１は、制御部１４をさらに有することができる。シャッタ部の動作は、例えば、制御部１４によって行われる。ただし、制御部１４の機能は、ディスプレイ１３及び液晶シャッタ眼鏡１２のいずれかに含まれても良い。制御部１４とディスプレイ１３との間の信号の授受、制御部１４と液晶シャッタ眼鏡１２との間の信号の授受、及び、ディスプレイ１３と液晶シャッタ眼鏡１２との間の信号の授受は、有線または無線の方式によって行われる。
【００１８】
表示システム１１においては、左眼用画像を左眼で観視し、右眼用画像を右眼で観視することで、立体的な映像を知覚できる。
【００１９】
第２シャッタ部１０２の構成は、第１シャッタ部１０１の構成と同様とすることができる。以下では、第１シャッタ部１０１の構成の例について説明する。
【００２０】
図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式図である。
図４（ａ）及び図４（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的断面図である。
図４（ａ）は、図３（ａ）のＡ１−Ａ２線断面図である。図４（ｂ）は、図３（ａ）のＢ１−Ｂ２線断面図である。
【００２１】
図３（ａ）、図４（ａ）及び図４（ｂ）に表したように、実施形態に係る液晶シャッタ１００は第１シャッタ部１０１を備える。第１シャッタ部１０１は、第１基板部１１０ａと、第２基板部１２０ａと、第１液晶層１３０ａと、を含む。
【００２２】
第１基板部１１０ａは、第１透明電極１１２ａを有する。第２基板部１２０ａは、第２透明電極１２２ａを有する。第２透明電極１２２ａは、第１透明電極１１２ａに対向する。第１液晶層１３０ａは、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に設けられる。
【００２３】
第１シャッタ部１０１は、第１シール部１８０ａをさらに含む。第１シール部１８０ａは、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとの間において第１液晶層１３０ａを囲む。
【００２４】
第１基板部１１０ａから第１基板部１２０ａに向かう方向をＺ軸方向とする。Ｚ軸に対して垂直な１つの軸をＸ軸とする。Ｚ軸とＸ軸とに対して垂直な軸をＹ軸とする。
【００２５】
図３（ｂ）は、第１基板部１１０ａの構成を例示している。図３（ｃ）は、第２基板部１２０ａの構成を例示している。
【００２６】
図３（ｂ）に表したように、第１基板部１１０ａの第１透明電極１１２ａは、第１電圧印加部１１２ａｓと、第１接続部１１２ａｃと、を有している。第１電圧印加部１１２ａｓは、第１液晶層１３０ａに対向する部分である。第１基板部１１０ａは、第１トランスファ部１１２ａｔをさらに有することができる。第１トランスファ部１１２ａｔは、第１透明電極１１２ａ（第１電圧印加部１１２ａｓ及び第１接続部１１２ａｃ）と電気的に絶縁されている。第１トランスファ部１１２ａｔに、第１透明電極１１２ａ（第１電圧印加部１１２ａｓ及び第１接続部１１２ａｃ）に用いられる材料を用いても良い。
【００２７】
図３（ｃ）に表したように、第２基板部１２０ａの第２透明電極１２２ａは、第２電圧印加部１２２ａｓと、第２接続部１２２ａｃと、を有している。第２電圧印加部１２２ａｓは、第１液晶層１３０ａに対向する部分である。
【００２８】
図４（ａ）に表したように、第１接続部１１２ａｃは、第１シール部１８０ａの外側に延出する。第１透明電極１１２ａのうちの第１電圧印加部１１２ａｓは、第１シール部１８０ａの内側の部分である。第１透明電極１１２ａのうちで第１シール部１８０ａの外側に延出する部分が、第１接続部１１２ａｃとなる。
【００２９】
図４（ｂ）に表したように、第２接続部１２２ａｃは、第１シール部１８０ａの外側に延出する。第２透明電極１２２ａのうちの第２電圧印加部１２２ａｓは、第１シール部１８０ａの内側の部分である。第２透明電極１２２ａのうちで第１シール部１８０ａの外側に延出する部分が、第２接続部１２２ａｃとなる。
【００３０】
第１接続部１１２ａｃと第２接続部１２２ａｃとの間に電気信号が供給され、第１液晶層１３０ａに電気信号（電圧）が印加される。
【００３１】
この例では、第１トランスファ部１１２ａｔが、第２接続部１２２ａｃに対向している。そして、第１トランスファ部１１２ａｔと第２接続部１２２ａｃとを電気的に接続する導電部材１８１ａが設けられている。
【００３２】
図３（ａ）に表したように、第１トランスファ部１１２ａｔと第１接続部１１２ａｃとに駆動部３３０が接続される。駆動部３３０から第１トランスファ部１１２ａｔと第１接続部１１２ａｃとに電気信号を供給することで、第１電圧印加部１１２ａｓと第２電圧印加部１２２ａｓとに電気信号が供給される。すなわち、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の電位差（第１電位差Ｖａ）が、第１液晶層１３０ａに印加される。
【００３３】
ただし、実施形態はこれに限らない。例えば、第１トランスファ部１１２ａｔが設けられず、第１接続部１１２ａｃと第２接続部１２２ａｃとに駆動部３３０が接続されても良い。
【００３４】
図４（ａ）及び図４（ｂ）に表したように、本具体例においては、第１透明電極１１２ａには、複数の第１孔１１２ｈ（孔）が設けられている。複数の第１孔１１２ｈは、例えば、第１透明電極１１２ａを第１透明電極１１２ａの厚さ方向に貫通する。第１孔１１２ｈは、第１透明電極１１２ａをＺ軸に沿って貫通する。第１孔１１２ｈについては後述する。
【００３５】
図４（ａ）に表したように、第１基板部１１０ａは、第１透明電極１１２ａに加え、第１支持基板１１１ａと、第１配向膜１１３ａと、をさらに含む。第１支持基板１１１ａの上に第１透明電極１１２ａが設けられる。第１透明電極１１２ａを覆うように、第１配向膜１１３ａが設けられる。
【００３６】
第２基板部１２０ａは、第２透明電極１２２ａに加え、第２支持基板１２１ａと、第２配向膜１２３ａと、をさらに含む。第２支持基板１２１ａの上に第２透明電極１２２ａが設けられる。第２透明電極１２２ａの上に第２配向膜１２３ａが設けられる。
【００３７】
なお、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間隔（第１配向膜１１３ａと第２配向膜１２３ａとの間の間隔）を制御するスペーサ（図示しない）を設けても良い。スペーサとしては、例えば、第１基板部１１０ａ（例えば第１透明電極１１２ａの上）に設けられた柱状スペーサを用いることができる。柱状スペーサは第２基板部１２０ａに設けられても良い。また、柱状スペーサは、第１基板部１１０ａ及び第１基板部１２０ａの両方に設けられても良い。
【００３８】
第１シャッタ部１０１は、第１偏光板１６０ａと、第１光学補償板１４０ａと、第２偏光板１７０ａと、第２光学補償板１５０ａと、をさらに含むことができる。第１偏光板１６０ａと第２偏光板１７０ａとの間に第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａが配置される。第１偏光板１６０ａと第２基板部１２０ａとの間に第１基板部１１０ａが配置される。第２偏光板１７０ａと第１基板部１１０ａとの間に第２基板部１２０ａが配置される。第１偏光板１６０ａと第１基板部１１０ａとの間に第１光学補償板１４０ａが配置される。第２偏光板１７０ａと第２基板部１２０ａとの間に第２光学補償板１５０ａが配置される。
【００３９】
第１支持基板１１１ａ及び第２支持基板１２１ａは、透光性である。第１支持基板１１１ａ及び第２支持基板１２１ａには、例えばガラスや樹脂などが用いられる。
【００４０】
第１透明電極１１２ａ及び第２透明電極１２２ａには、液晶シャッタ１００において透光及び遮光の動作の対象となる光に対して透光性の導電材料が用いられる。液晶シャッタ１００が、例えば液晶シャッタ眼鏡１２に用いられる場合には、第１透明電極１１２ａ及び第２透明電極１２２ａは、可視光に対して透光性である。第１透明電極１１２ａ及び第２透明電極１２２ａには、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＺｎＯなどを用いることができる。
【００４１】
第１配向膜１１３ａ及び第２配向膜１２３ａには、例えばポリイミドを用いることができる。このポリイミド膜には、例えばラビング処理が施される。第１配向膜１１３ａのラビング処理の方向は、第２配向膜１２３ａにおけるラビング処理の方向と、実質的に平行である。第１配向膜１１３ａのラビング処理の方向は、第２配向膜１２３ａにおけるラビング処理の方向と、実質的に同じ向きである。
【００４２】
第１液晶層１３０ａにはネマティック液晶が用いられる。第１配向膜１１３ａ及び第２配向膜１２３ａの機能により、第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａの近傍における第１液晶層１３０ａの液晶分子は高いプレチルト角を有する。これにより、第１液晶層１３０ａは、初期状態（電圧が印加されない状態）においてスプレイ配列状態である。電圧印加状態で、ベンド配列状態に転移する。第１シャッタ部１０１（液晶シャッタ１００）は、ＯＣＢモードで動作する。
【００４３】
第１光学補償板１４０ａ及び第２光学補償板１５０ａには、例えば、ディスコティック液晶化合物をハイブリッド配向させた光学異方性層を含む二軸性のフィルム等を用いることができる。
【００４４】
図５（ａ）〜図５（ｄ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの動作を例示する模式的断面図である。
これらの図において、第１配向膜１１３ａ及び第２配向膜１２３ａは省略されている。
【００４５】
図５（ａ）は、第１電圧Ｖ１を印加した時の状態を例示している。第１電圧Ｖ１は、第１液晶層１３０ａにおける液晶配列がスプレイ配列からベンド配列に転移するしきい値未満の電圧である。第１電圧Ｖ１は、例えば、０ボルト（Ｖ）である。すなわち、図５（ａ）は、電源オフ時の状態を例示している。
【００４６】
図５（ｂ）は、第２電圧Ｖ２を印加した時の状態を例示している。第２電圧Ｖ２は、第１液晶層１３０ａにおける液晶配列がスプレイ配列からベンド配列に転移するしきい値以上の電圧である。第２電圧Ｖ２の実効値は、第１電圧Ｖ１の実効値よりも大きい。すなわち、図５（ｂ）は、初期化処理後の状態を例示している。
【００４７】
図５（ｃ）は、初期化処理後のベンド配列状態において、第１ベンド電圧ＶＢ１を印加した時の状態を例示している。図５（ｄ）は、初期化処理後のベンド配列状態において、第２ベンド電圧ＶＢ２を印加した時の状態を例示している。第２ベンド電圧ＶＢ２の実効値は、第１ベンド電圧ＶＢ１の実効値よりも大きい。
【００４８】
図５（ａ）に表したように、電源オフ時において、第１液晶層１３０ａの液晶分子１３０ｌの配列は、スプレイ配列状態である。
【００４９】
そして、液晶シャッタ１００において、電源を投入し、初期化処理が行われる。初期化処理においては、所定の転移電圧（ベンド配列に転移させる第２電圧Ｖ２）を第１液晶層１３０ａに印加する。
【００５０】
これにより、図５（ｂ）に表したように、第１液晶層１３０ａの配列状態が、スプレイ配列からベンド配列に転移する。
【００５１】
第１電圧Ｖ１は、例えば０Ｖである。
第２電圧Ｖ２は、動作時に直流電圧が残存しないよう、正負交番電圧であることが望ましい。スプレイ配列からベンド配列に速やかに転移させるために、第２電圧Ｖ２には、実効値が比較的大きい電圧が用いられる。
【００５２】
第２電圧Ｖ２の絶対値（例えば実効値）は、例えば、１０Ｖ〜３０Ｖである。ただし、第２電圧Ｖ２の値は、しきい値電圧以上であれば任意である。第２電圧Ｖ２の実効値が大きいと、スプレイ配列からベンド配列へ速やかに転移する。具体的には、第２電圧Ｖ２には、例えば、＋１５Ｖで数百ミリ秒（ｍｓ）程度の正極性パルスと、−１５Ｖで数百ミリ秒程度の負極性パルスと、の組み合わせ、を用いることができる。このような第２電圧Ｖ２の印加によって第１液晶層１３０ａは、スプレイ配列からベンド配列に転移する。
【００５３】
このように、初期化処理が行われた後に、図５（ｃ）及び図５（ｄ）に表した動作が行われる。すなわち、ベンド配列状態において、例えば第１ベンド電圧ＶＢ１を印加した状態（図４（ｂ）の状態）と、例えば第２ベンド電圧ＶＢ２を印加した状態（図４（ｃ）の状態）と、のスイッチングが行われる。例えば、第１ベンド電圧ＶＢ１は、０Ｖである。第２ベンド電圧ＶＢ２は、例えば±５Ｖである。
【００５４】
液晶シャッタ１００の動作中は、第１液晶層１３０ａの液晶分子１３０ｌの配向状態はベンド配列に維持される。そして、このベンド配列の液晶分子１３０ｌに印加される電圧を変化させると配列状態が変化する。この配列状態の変化に対応して、第１液晶層１３０ａのリタデーションが変化する。第１偏光板１６０ａ及び第２偏光板１７０ａを用いることで、このリタデーションの変化に応じた透光状態及び遮光状態が得られる。
【００５５】
例えば、第１ベンド電圧ＶＢ１を印加した時に、液晶シャッタ１００は透光状態となり、第２ベンド電圧ＶＢ２を印加した時に液晶シャッタ１００は遮光状態となる。または、第１ベンド電圧ＶＢ１を印加した時に遮光状態となり、第２ベンド電圧ＶＢ２を印加した時に透光状態としても良い。
【００５６】
液晶シャッタ１００が液晶シャッタ眼鏡１２に応用される場合は、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２とは、交互に透光状態と遮光状態とを繰り返す。例えば、第１シャッタ部１０１は、奇数フィールドでは遮光状態であり、偶数フィールドでは透光状態である。一方、第２シャッタ部１０２は、奇数フィールドでは透光状態であり、偶数フィールドでは遮光状態である。
【００５７】
例えば、第１シャッタ部１０１においては、第１フィールドでは、第１液晶層１３０ａに＋５Ｖの電圧（第２ベンド電圧ＶＢ２）が印加されて遮光状態とされる。次の第２フィールドでは、第１液晶層１３０ａの印加電圧が０Ｖ（第１ベンド電圧ＶＢ１）にされ、透光状態とされる。次の第３フィールドでは、第１液晶層１３０ａに−５Ｖの電圧（第２ベンド電圧ＶＢ２）が印加され、遮光状態とされる。次の第４フィールドでは、第１液晶層１３０ａの印加電圧が０Ｖ（第１ベンド電圧ＶＢ１）にされ、透光状態とされる。
【００５８】
また、第２シャッタ部１０２においては、第１シャッタ部１０１に対して、奇数フィールドと偶数フィールドとが入れ替わった電圧が印加される。
【００５９】
このように、例えば、駆動時において第１液晶層１３０ａには正負交番電圧が印加される。これにより、焼き付きなどを防止することができる。なお、１つのフィールドの期間において、交流電圧を印加しても良い。例えば、バースト信号状の波形が印加されても良い。バースト信号状の波形においては、例えば、奇数フィールドにおいてフィールド周期に相当する周波数よりも高い周波数の±５Ｖの高周波電圧が印加され、偶数フィールドにおいて、印加電圧が例えば０Ｖにされる。
【００６０】
なお、印加電圧が低い状態（例えば０Ｖ）が、一定の期間以上続くと、ベンド配列からスプレイ配列に戻る。上記のように、液晶シャッタ１００を液晶シャッタ眼鏡１２に応用する場合は、動作中は短い周期でオンとオフとが切り替えられる。このため、長期間にわたり低電圧状態が維持されることがない。これにより、ベンド状態が維持される。また、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の電圧が、一定以上長い期間、低い値にならないように、定期的にしきい値電圧以上の電圧を、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に印加しても良い。
【００６１】
このように、実施形態に係る液晶シャッタ１００における第１液晶層１３０ａの液晶配列は、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１に設定されたときにスプレイ配列である。第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１よりも実効値が大きい第２電圧Ｖ２に設定されたときにベンド配列へ転移する。そして、この転移の後に、光スイッチングの動作が行われる。
【００６２】
図１（ａ）は、第１シャッタ部１０１の平面図を例示している。
図１（ａ）に表したように、第１基板部１１０ａは周縁部ＰＰと、内側部ＣＰと、を有する。内側部ＣＰは、周縁部ＰＰよりも内側である。
【００６３】
図１（ｂ）及び図１（ｃ）は、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を拡大して示した模式的平面図である。図１（ｂ）は、周縁部ＰＰに対応する。図１（ｃ）は、内側部ＣＰに対応する。
【００６４】
図１（ｂ）及び図１（ｃ）に表したように、第１基板部１１０ａは、複数の第１転移核部１１４ａを有している。第１転移核部１１４ａは、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる。この例では、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈが用いられている。ただし、後述するように、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈの他に、種々の構成を用いることができる。
【００６５】
図１（ｂ）に表したように、周縁部ＰＰにおける第１転移核部１１４ａの密度は相対的に高い。図１（ｃ）に表したように、内側部ＣＰにおける第１転移核部１１４ａの密度は相対的に低い。
【００６６】
すなわち、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰの少なくとも一部における複数の第１転移核部１１４ａの密度は、周縁部ＰＰよりも内側の内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高い。
【００６７】
これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【００６８】
以下、スプレイ配列からベンド配列への転移に関する発明者が実験の結果について説明する。
発明者は、液晶材料、シール部の材料、配向膜材料、及び、プロセス条件などを変えて、各種の液晶シャッタの試料を作製した。この試料においては、第１転移核部１１４ａ（第１孔１１２ｈ）が設けられていない。または、この試料においては、第１転移核部１１４ａ（第１孔１１２ｈ）が均一な密度で設けられている。そして、スプレイ配列からベンド配列への転移に関して評価した。
【００６９】
図６（ａ）〜図６（ｃ）は、液晶シャッタの初期化処理の状態を例示する模式的斜視図である。
実験の試料において、スプレイ配列からベンド配列への転移が短い時間で完了する領域と、転移に長い時間を要する領域と、が存在することが分かった。
【００７０】
図６（ａ）に表したように、例えば、第１試料１０９ａにおいては、シャッタ部（第１シャッタ部１０１）の周縁部ＰＸ１においては、転移に長い時間を要する。そして、内側部ＣＸ１においては、転移の時間が短い。
【００７１】
図６（ｂ）に表したように、例えば、第２試料１０９ｂにおいては、互いに対向する２つの角部（第１角部ＰＹ１及び第２角部ＰＹ２）においては、転移に長い時間を要する。そして、これらの角部を除く部分ＣＹ１においては、転移の時間が短い。
【００７２】
図６（ｃ）に表したように、例えば、第３試料１０９ｃにおいては、１つの角部ＰＺ１において、転移に長い時間を要する。そして、これらの角部を除く部分ＣＺ１においては、転移の時間が短い。
なお、上記の第１〜第３試料１０９ａ〜１０９ｃにおいては、シャッタ部に用いられる材料、または、プロセス条件が互いに異なる。
【００７３】
このように、スプレイ配列からベンド配列への転移に時間がかかる領域が存在し、これの領域が、シャッタ部としての初期化処理の時間の短縮の律速になることが分かった。
【００７４】
そして、上記のように、発明者が行った独自の実験により、転移の時間が長い領域は、周縁部において発生する場合（図６（ａ）の状態）があることが分かった。これを第１パターンということにする。
【００７５】
また、転移の時間が長い領域は、２つの角部において発生する場合（図６（ｂ）の状態）があることが分かった。これを第２パターンということにする。
【００７６】
また、転移の時間が長い領域は、１つの角部において発生する場合（図６（ｃ）の状態）があることが分かった。これを第３パターンということにする。
【００７７】
まず、第３パターン（転移の時間が長い領域が１つの角部において発生する状態）に関しては、液晶層内及びシール部などに含まれる不純物などが液晶シャッタの動作によって液晶層の周縁部に押しやられ、その結果、不純物などの濃度が周縁部で高くなることが、転移の時間を長くしていると考えられる。そして、転移の時間が長い領域は、ラビング方向の上流側に位置する場合が多い。一方、転移の時間が長い領域がラビング方向の下流側に位置する場合もあることが確認されている。この場合は、使用環境温度が関係している可能性もある。
【００７８】
第２パターン（転移の時間が長い領域が２つの角部において発生する状態）の場合は、上述した現象がラビング処理の方向の上流及び下流側の双方に生じるものと考えられる。
【００７９】
一方、第１パターン（転移の時間が長い領域が周縁部において発生する状態）の場合は、上述した不純物が所定の領域に押しやられ、不純物がその場所に滞留するのではなく、逃げ場がなく周縁で対流するものと思われ、このことが周縁全体にわたって転移の時間を長くしていると考えられる。
【００８０】
ここで、第１液晶層１３０ａの配列状態について説明する。
図７（ａ）及び図７（ｂ）は、液晶層の配列状態を例示する模式図である。
図７（ａ）は、模式的斜視図であり、図７（ｂ）は、模式的平面図である。
図７（ａ）及び図７（ｂ）に表したように、第１基板部１１０ａにおいて、液晶分子１３０ｌを配列させるための配向処理の方向は、第１配向方向１１８ｄである。第２基板部１２０ａにおいて、液晶分子１３０ｌを配列させるための配向処理の方向は、第２配向方向１２８ｄである。
【００８１】
第２配向方向１２８ｄは、第１配向方向１１８ｄと実質的に平行である。第２配向方向１２８ｄは、第１配向方向１１８ｄと同じ向きである（反平行でない）。例えば、第１配向方向１１８ｄ及び第２配向方向１２８ｄは、例えばＸ１軸に沿う。Ｘ１軸は、Ｚ軸に対して垂直である。ここで、Ｙ１軸は、Ｚ軸及びＸ１軸に対して垂直であるとする。
【００８２】
図７（ｂ）に表したように、液晶分子１３０ｌの長軸（光学異方性の異常光の屈折率ｎｅが得られる方向）は、Ｘ１軸に対して平行である。液晶分子１３０ｌの短軸（光学異方性の常光の屈折率ｎｏが得られる方向）は、Ｙ１軸に対して平行である。
【００８３】
図７（ａ）に表したように、実施形態において、液晶分子１３０ｌのプレチルト角θは比較的大きい。プレチルト角θは、例えば、３度以上、１５度以下程度である。なお、第１基板部１１０ａにおけるプレチルト角θは、第２基板部１２０ａにおけるプレチルト角θと同じでも良く、異なっていても良い。
【００８４】
液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れ、液晶分子１３０ｌの他端が第１基板部１１０ａに接するように、液晶分子１３０ｌは配列する。
液晶分子１３０ｌの一端が第２基板部１２０ａから離れ、液晶分子１３０ｌの他端が第２基板部１２０ａに接するように、液晶分子１３０ｌは配列する。
【００８５】
第１液晶層１３０ａの液晶配列において、液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側（チルト側）は、液晶分子１３０ｌの一端が第２基板部１２０ａから離れている側（チルト側）と同じ側である。この構成により、スプレイ配列が得られる。
【００８６】
なお、第１液晶層１３０ａの液晶配列において、液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側（チルト側）が、液晶分子１３０ｌの一端が第２基板部１２０ａから離れている側（チルト側）と逆である場合には、ユニフォーム配列（例えばホモジニアス配列）が得られる。
【００８７】
例えば、基板部（第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａ）に施される配向処理がラビング処理である場合は、配向方向（第１配向方向１１８ｄ及び第２配向方向１２８ｄ）は、ラビング処理の進入側から出口側に向かう方向（ラビング方向ＲＤ）である。すなわち、チルト側は、ラビング処理の出口側である。
【００８８】
例えば、第１基板部１１０ａは、第１部分と、第２部分と、を有する。第１部分は、第１基板部１１０ａのうちで、第１液晶層１３０ａの液晶配列において液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側（チルト側）である。第２部分は、第１基板部１１０ａのうちで、第１部分とは反対側の部分である。
【００８９】
第１部分は、例えば、ラビング処理の出口側の部分である。第２部分は、例えば、ラビング処理の進入側の部分である。
【００９０】
なお、第１基板部１１０ａにおいて、チルト側（液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側であり、例えば、ラビング方向ＲＤの出口側）は、例えば、以下の素子を評価することで比較的簡便に判断することができる。すなわち、１枚の第１基板部１１０ａを分断し、この分断された第１基板部１１０ａの一部どうしを反平行の状態で対向させて、その間に液晶を挟む素子を作製する。この素子は、ユニフォーム配列を有しており、一様なプレチルト角θを有する。この素子の光学特性（光学的な異方性）を評価することで、チルト側を比較的簡便に判定することが分かる。
【００９１】
また、第１基板部１１０ａにラビング処理が施されている場合は、ラビング処理による筋状のむらを例えば顕微鏡で観察することによっても、配向方向及びチルト側（ラビング方向ＲＤの出口側）を判定することもできる。また、液晶シャッタを動作させつつ顕微鏡で第１液晶層１３０ａの光学変化を観察することで、ラビング処理によるむらにより、配向方向及びチルト側（ラビング方向ＲＤの出口側）を判定することもできる。
【００９２】
図６（ｃ）に関して説明した第３パターン（転移の時間が長い領域が１つの角部において発生する状態）においては、この１つの角部の位置は、第１基板部１１０ａのうちの第２部分（例えばラビング方向ＲＤの進入側の部分）の位置であることが分かった。
【００９３】
上記のように、転移の時間が長い領域が、上記の第１〜第３パターン（周縁部、２つの角部、及び、１つの角部）において発生するという知見に基づき、本実施形態の構成が構築された。
【００９４】
すなわち、本実施形態においては、図１（ａ）〜図１（ｃ）に関して説明したように、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰの少なくとも一部における複数の第１転移核部１１４ａの密度を、周縁部ＰＰよりも内側の内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高く設定する。
【００９５】
第１転移核部１１４ａとして、例えば、第１孔１１２ｈが用いられる。これにより、例えば、第１パターン及び第２パターンが抑制できる。場合によっては、第３パターンも抑制される。
【００９６】
第１孔１１２ｈが第１転移核部１１４ａとして機能するのは、例えば、第１孔１１２ｈにより、液晶分子にツイストの力が作用することによるものと考えられる。
【００９７】
図８は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの動作を例示する模式的平面図である。
図８に表したように、液晶分子１３０ｌの配列方向がＸ１軸に対して平行であるとする。このとき、第１透明電極１１２ａに第１孔１１２ｈが設けられることにより、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に電圧を印加すると、第１液晶層１３０ａにおいて発生する電界１１８ｅは、Ｘ１軸に対して交差する成分（例えばＹ１軸に沿う成分）を有する。
【００９８】
すなわち、液晶分子１３０ｌの長軸方向に対して直交する成分を有する電界１１８ｅが、液晶分子１３０ｌに印加される。すなわち、液晶分子１３０ｌをツイストさせる電界１１８ｅ（誘電エネルギーの力）が第１液晶層１３０ａに印加される。液晶分子１３０ｌがスプレイ配列状態からベンド状態に転移する際に、ツイストさせる力が作用することで、スプレイ配列からベンド配列への転移がし易くなるものと考えられる。
【００９９】
このように、本実施形態においては、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に電圧が印加されたときの複数の第１転移核部１１４ａの周囲の電界１１８ｅは、Ｚ軸方向（第１基板部１１０ａから第２基板部１２０ａに向かう第１方向）に対して垂直な平面内（Ｘ−Ｙ平面内）における液晶配列の方向（例えばＸ１軸方向）と交差する成分を有する。
【０１００】
すなわち、複数の第１転移核部１１４ａの周囲の電界１１８ｅは、第１液晶層１３０ａの液晶配列を得るために第１基板部１１０ａに実施される配向処理の方向と交差する成分を有する。
【０１０１】
例えば、配向処理としてラビング処理が用いられる場合には、複数の第１転移核部１１４ａの周囲の電界１１８ｅは、ラビング処理の方向（ラビング方向ＲＤ）と交差する成分を有する。
【０１０２】
これにより、液晶分子にツイストの力が作用される。これにより、スプレイ配列からベンド配列への転移がし易くなり、転移の時間が短縮される。
【０１０３】
このような第１転移核部１１４ａに関して、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰの少なくとも一部における複数の第１転移核部１１４ａの密度を、内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高く設定することで、第１パターン及び第２パターンが抑制できる。場合によっては、第３パターンも抑制される。
【０１０４】
特に、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度を、内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高く設定することが望ましい。これにより、上記の第１〜第３パターンが特に効果に抑制できる。
【０１０５】
なお、第１転移核部１１４ａとして、上記のように第１孔１１２ｈを用いた場合、第１液晶層１３０ａのうちで第１孔１１２ｈに対向する部分は、光スイッチングに寄与しない。例えば、液晶シャッタを液晶シャッタ眼鏡１２として用いる際に、内側部ＣＰは、特に光学特性が良好であることが求められる。この内側部ＣＰにおいて、第１孔１１２ｈの密度が高いと、光スイッチングの特性に悪影響が生じる場合がある。このため、内側部ＣＰにおいては、第１孔１１２ｈ（第１転移核部１１４ａ）の密度は低くされる。そして、転移に長い時間を要する周縁部ＰＰにおいて、第１孔１１２ｈ（第１転移核部１１４ａ）の密度が高く設定される。
これにより、実用的に良好な光スイッチング特性と、短い転移時間と、が得られる。
【０１０６】
図１（ｂ）、図１（ｃ）及び図８に例示したように、第１孔１１２ｈの平面形状は、例えば長方形または扁平円などである。本具体例では、第１孔１１２ｈは、長方形のパターン形状を有している。長方形の長辺の長さは例えば約１５μｍであり、短辺の長さは例えば約１０μｍである。
【０１０７】
図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
これらの図は、実施形態に係る別の液晶シャッタ１００ａの構成を例示している。液晶シャッタ１００ａの全体の構成は、液晶シャッタ１００と同様である。図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を拡大して示した平面図である。図９（ａ）は、周縁部ＰＰに対応する。図９（ｂ）は、内側部ＣＰに対応する。
【０１０８】
図９（ａ）及び図９（ｂ）に表したように、液晶シャッタ１００ａにおいても、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）に第１転移核部１１４ａが設けられる。この例では、第１転移核部１１４ａとして第１孔１１２ｈが用いられる。そして、液晶シャッタ１００ａにおいては、第１孔１１２ｈの形状（Ｚ軸に沿ってみたときの形状）が、液晶シャッタ１００ａの場合とは異なる。
【０１０９】
この例においては、第１孔１１２ｈの形状は、縦長の長方形の一端と、横長の長方形の一端と、を連結した形状を有する。すなわち、第１孔１１２ｈの形状は、折れ曲がった細線の形状を有する。この場合も、第１孔１１２ｈは、第１転移核部１１４ａとして機能する。例えば、第１孔１１２ｈの周囲の電界１１８ｅは、第１液晶層１３０ａの液晶配列を得るために第１基板部１１０ａに実施される配向処理の方向と交差する成分を有する。
【０１１０】
そして、図９（ａ）及び図９（ｂ）に表したように、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度は、周縁部ＰＰよりも内側の内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高い。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１１１】
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、第１基板部１１０ａを拡大して示した平面図である。図１０（ａ）は、周縁部ＰＰに対応する。図１０（ｂ）は、内側部ＣＰに対応する。
図１１（ａ）及び図１１（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的断面図である。
図１１（ａ）は、図３（ａ）のＡ１−Ａ２線断面に相当する断面図である。図１１（ｂ）は、図３（ａ）のＢ１−Ｂ２線断面に相当する断面図である。
【０１１２】
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に表したように、実施形態に係る別の液晶シャッタ１００ｂにおいては、第１転移核部１１４ａとして、柱状スペーサ１１７が用いられている。液晶シャッタ１００ｂの全体の構成は、液晶シャッタ１００と同様である。以下では、第１転移核部１１４ａとして用いられる柱状スペーサ１１７に関して説明する。
【０１１３】
図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に表したように、柱状スペーサ１１７は、第１透明電極１１２ａの上に設けられる。柱状スペーサ１１７は、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の間隔を制御する。なお、柱状スペーサ１１７は、第１透明電極１１２ａの上に設けられた別の層の上に設けられても良い。この場合も、柱状スペーサ１１７が第１透明電極１１２ａの上に設けられる状態に含まれる。
【０１１４】
柱状スペーサ１１７は、例えば、第１配向膜１１３ａと第２配向膜１２３ａとの間隔を制御する。柱状スペーサ１１７は、第１液晶層１３０ａの厚さを制御する。なお、第１配向膜１１３ａは、柱状スペーサ１１７を覆わなくても良い。
【０１１５】
柱状スペーサ１１７の周囲においては、第１液晶層１３０ａの液晶配列が乱される。これにより、柱状スペーサ１１７の周囲においては、それ以外の部分よりも、スプレイ配列からベンド配列への転移が容易に行われる。
【０１１６】
このように、複数の第１転移核部１１４ａは、第１透明電極１１２ａの上に設けられ、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の間隔を制御する複数の柱状スペーサ１１７を含むことができる。
【０１１７】
そして、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に表したように、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰにおける複数の第１転移核部１１４ａ（柱状スペーサ１１７）の密度は、周縁部ＰＰよりも内側の内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａ（柱状スペーサ１１７）の密度よりも高い。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１１８】
本実施形態において、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとは、互いに入れ替えが可能である。転移核部は、第２基板部１２０ａに設けられても良い。また、転移核部は、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとに設けられても良い。
【０１１９】
例えば、第１基板部１１０ａが複数の第１転移核部１１４ａを有し、さらに第２基板部１２０ａは、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の転移核部を有することができる。そして、第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａの周縁部の少なくとも一部における転移核部（第１転移核部１１４ａ、及び、第２基板部の転移核部）の密度は、周縁部よりも内側の内側部における転移核部の密度よりも高く設定することができる。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１２０】
第１転移核部１１４ａが第１透明電極１１２ａの周縁部ＰＰに設けられ、第１転移核部１１４ａは内側部ＣＰに設けられなくても良い。例えば、第１孔１１２ｈが第１透明電極１１２ａの周縁部ＰＰに設けられ、第１孔１１２ｈは内側部ＣＰに設けられなくても良い。
【０１２１】
複数の第１孔１１２ｈが第１透明電極１１２ａの周縁部ＰＰに設けられるとき、複数の第１孔１１２ｈのうちのいずれかは、第１透明電極１１２ａの外周に露出していても良い。すなわち、複数の第１孔１１２ｈのうちの一部の周囲の全てが、第１透明電極１１２ａの材料で囲まれていなくても良い。複数の第１孔１１２ｈのうちの一部は、第１透明電極１１２ａの外周に設けられた切り込み状でも良い。
【０１２２】
本実施形態において、液晶シャッタ１００を液晶シャッタ眼鏡１２に応用する場合、内側部ＣＰの縦方向の幅は、例えば３０ミリメートル（ｍｍ）以上７０ｍｍ以下に設定される。これにより、映像の良好な視認性が得られる。
【０１２３】
液晶シャッタ１００を液晶シャッタ眼鏡１２に応用する場合、周縁部ＰＰは、例えば、第１透明電極１２２ａの端から０ｍｍよりも大きく１０ｍｍ以下の幅の領域とされる。周縁部ＰＰの幅が広いと、周縁部ＰＰに設けられる高密度の第１転移核部１１４ａが、実用的な光学特性に与える影響が大きくなるためである。一方、内側部ＣＰから周縁部ＰＰに向かって徐々に密度を変更することで光学特性に与える影響を抑えることができ、この場合は周縁部ＰＰの幅の自由度を大きくすることができる。
【０１２４】
（第２の実施の形態）
図１２（ａ）〜図１２（ｃ）は、第２の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１２（ａ）は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｃの構成を例示する模式的平面図である。
【０１２５】
図１２（ａ）に表したように、液晶シャッタ１００ｃは第１シャッタ部１０１を備える。第１シャッタ部１０１は、第１透明電極１１２ａを有する第１基板部１１０ａと、第１透明電極１１２ａに対向する第２透明電極１２２ａを有する第２基板部１２０ａと、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に設けられた第１液晶層１３０ａと、を含む。
【０１２６】
この場合も、第１液晶層１３０ａの液晶配列は、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１に設定されたときにスプレイ配列であり、第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１よりも実効値が大きい第２電圧Ｖ２に設定されたときにベンド配列へ転移する。
【０１２７】
図１２（ａ）に表したように、第１基板部１１０ａは、第１部分Ｐ１と、第２部分Ｐ２と、を有する。第１部分Ｐ１は、第１基板部１１０ａのうちで第１液晶層１３０ａの液晶配列において液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側（チルト側）の部分である。第２部分Ｐ２は、第１基板部１１０ａのうちで第１部分Ｐ１とは反対側の部分である。
【０１２８】
例えば、第１部分Ｐ１は、例えば、ラビング処理（ラビング方向ＲＤ）の出口側の部分である。第２部分Ｐ２は、例えば、ラビング処理（ラビング方向ＲＤ）の進入側の部分である。
【０１２９】
第１部分Ｐ１は、第２部分Ｐ２と、配向処理の方向（例えばＸ１軸方向）に沿って対向する。
【０１３０】
図１２（ｂ）及び図１２（ｃ）は、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を拡大して示した模式的平面図である。図１２（ｂ）は、第２部分Ｐ２に対応する。図１２（ｃ）は、第１部分Ｐ１に対応する。
【０１３１】
図１２（ｂ）及び図１２（ｃ）に表したように、この場合も、第１基板部１１０ａは、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の第１転移核部１１４ａを有する。この例では、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈが用いられる。
【０１３２】
そして、第２部分Ｐ２における複数の第１転移核部１１４ａ（例えば第１孔１１２ｈ）の密度は、第１部分Ｐ１における複数の第１転移核部１１４ａ（例えば第１孔１１２ｈ）の密度よりも高い。
【０１３３】
この構成においては、特に、上記で説明した第３パターンの発生を抑制する。すなわち、転移の時間が長い領域が１つの角部において発生する場合に、その角部は、ラビング処理（ラビング方向ＲＤ）の進入側の部分の角部である。従って、第２部分Ｐ２における第１転移核部１１４ａの密度を、第１部分Ｐ１における第１転移核部１１４ａの密度よりも高く設定することで、シャッタ部の全体の転移の時間を短縮できる。
【０１３４】
これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１３５】
第２の実施形態において、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈが用いられたが、第１転移核部１１４ａとして、柱状スペーサ１１７を用いても良い。
【０１３６】
第２の実施形態においても、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとは、互いに入れ替えが可能である。転移核部は、第２基板部１２０ａに設けられても良い。また、転移核部は、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとに設けられても良い。
【０１３７】
例えば、第１基板部１１０ａが複数の第１転移核部１１４ａを有し、さらに第２基板部１２０ａは、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の転移核部を有することができる。
【０１３８】
第２基板部１２０ａは、第２基板部１２０ａのうちで第１液晶層１３０ａの液晶配列において液晶分子の一端が第２基板部１２０ａから離れている側（チルト側）の部分と、第２基板部１２０ａのうちでチルト側の部分とは反対側の部分と、を有することができる。
【０１３９】
そして、第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａのチルト側の部分における複数の転移核部の密度は、チルト側の部分とは反対側の部分における複数の転移核部の密度よりも高く設定することができる。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１４０】
第１及び第２の実施形態において、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈ及び柱状スペーサ１１７以外のものを用いても良い。
【０１４１】
例えば、第１転移核部１１４ａとして、部分的にプレチルト角θを大きくする領域を用いても良い。例えば、第１透明電極１１２ａの上に第１配向膜１１３ａを設け、その一部を加工する。そして、加工された部分のプレチルト角θが、加工されていない部分のプレチルト角θとは異なるようにしても良い。これにより、スプレイ配列からベンド配列への転移がより容易な領域を部分的に設けることができる。
【０１４２】
また、例えば、第１配向膜１１３ａの上に、液晶配列を不均一にする複数の領域を設け、これを第１転移核部１１４ａとして用いても良い。
【０１４３】
第１転移核部１１４ａには、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる任意の構成を適用できる。
【０１４４】
第１転移核部１１４ａに近接する部分におけるスプレイ配列からベンド配列への転移の時間は、第１転移核部１１４ａから離れた部分におけるスプレイ配列からベンド配列への転移の時間よりも短い。
【０１４５】
換言すれば、例えば、第１液晶層１３０ａの液晶配列の変化を顕微鏡で観察したときに、スプレイ配列からベンド配列への転移の時間が、他の部分におけるスプレイ配列からベンド配列への転移の時間よりも短い複数の領域が存在したとき、その領域に対応する第１基板部１１０ａに含まれる要素が複数の第１転移核部１１４ａである。この要素として、例えば、第１孔１１２ｈ、柱状スペーサ１１７、及び、配向性が他と異なる部分などを用いることができる。
【０１４６】
第１及び第２の実施形態において、第１孔１１２ｈの大きさは小さいほうが好ましい。これにより、第１孔１１２ｈにより生じる光漏れが実用的に抑制できる。
【０１４７】
第１孔１１２ｈの１つの軸（例えばＸ軸）に沿った長さは、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下である。第１孔１１２ｈの別の軸（例えばＹ軸）に沿った長さは、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下である。長さが５μｍ未満の場合は、転移の時間を縮小する効果が小さくなる場合がある。また、加工が困難になる。また、長さが１００μｍを超えると、光の漏れが生じ、光スイッチングのコントラスト比が低くなる。
【０１４８】
第１及び第２の実施形態において、柱状スペーサ１１７の１つの軸（例えばＸ軸）に沿った長さは、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下である。柱状スペーサ１１７の別の軸（例えばＹ軸）に沿った長さは、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下である。長さが５μｍ未満の場合は、転移の時間を縮小する効果が小さくなる場合がある。また、加工が困難になる。また、長さが１００μｍを超えると、光の漏れが生じ、光スイッチングのコントラスト比が低くなる。なお、柱状スペーサ１１７の高さ（例えばＺ軸に沿った長さ）は、第１液晶層１３０ａの適正な厚みに応じて定められる。
【０１４９】
なお、ＯＣＢモードを用いたアクティブマトリクス型液晶ディスプレイにおいては、例えば、第１基板部に複数の画素電極と、画素電極のそれぞれに接続されたスイッチング素子（例えば薄膜トランジスタ）と、が設けられる。このような構成の液晶ディスプレイにおいても、スプレイ配列からベンド配列への転移の初期化処理が実施される。しかし、この構成においては、複数の画素電極のそれぞれに転移核部（例えば、孔または柱状スペーサなど）が設けられることはない。例えば、液晶ディスプレイにおいては、柱状スペーサが設けられる場合においても、柱状スペーサは画素電極の上ではなく、例えば配線部やスイッチング素子の上に設けられる。そして、液晶ディスプレイにおいては、１つの透明電極（画素電極）の内部において、柱状スペーサや孔の密度が変更されることはない。
【０１５０】
これに対して、第１及び第２の実施形態に係る液晶シャッタおいては、１つの透明電極のなかで、第１転移核部１１４ａ（例えば第１孔１１２ｈ及び柱状スペーサ１７７など）の密度が変更される。
【０１５１】
（第３の実施の形態）
図１３（ａ）〜図１３（ｃ）は、第３の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１３（ａ）は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｄの構成を例示する平面図である。図１３（ｂ）は、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を例示する平面図である。図１３（ｃ）は、第２基板部１２０ａ（第２透明電極１２２ａ）を例示する平面図である。
【０１５２】
図１３（ａ）に表したように、液晶シャッタ１００ｄは第１シャッタ部１０１を備える。第１シャッタ部１０１は、第１透明電極１１２ａを有する第１基板部１１０ａと、第１透明電極１１２ａに対向する第２透明電極１２２ａを有する第２基板部１２０ａと、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に設けられた第１液晶層１３０ａと、を含む。本実施形態においては、第１シャッタ部１０１は、第１シール部１８０ａをさらに含む。第１シール部１８０ａは、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとの間において第１液晶層１３０ａを囲む。
【０１５３】
そして、この場合も、第１液晶層１３０ａの液晶配列は、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１に設定されたときにスプレイ配列であり、第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１よりも実効値が大きい第２電圧Ｖ２に設定されたときにベンド配列へ転移する。
【０１５４】
図１３（ａ）に表したように、第１透明電極１１２ａは、第１接続部１１２ａｃと、第１電圧印加部１１２ａｓと、第１凹凸部１１２ａｐと、を有する。
【０１５５】
第１接続部１１２ａｃは、第１シール部１８０ａの外側に延出する。
第１電圧印加部１１２ａｓは、第１シール部１８０ａよりも内側である。第１電圧印加部１１２ａｓは、第１シール部１８０ａよりも第１液晶層１３０ａの側に配置される。第１電圧印加部１１２ａｓは、第１液晶層１３０ａに対向する。
【０１５６】
第１凹凸部１１２ａｐは、第１電圧印加部１１２ａｓの周縁の少なくとも一部に設けられる。第１凹凸部１１２ａｐは、第１シール部１８０ａよりも内側である。第１凹凸部１１２ａｐは、第１シール部１８０ａの内側から第１シール部１８０ａに向かう方向に沿って突出または後退する。
【０１５７】
すなわち、この例では、第１凹凸部１１２ａｐとして、第１電圧印加部１１２ａｓの周縁に設けられた複数の凹部と凸部とが用いられている。
【０１５８】
一方、この例では、図１３（ｃ）に表したように、第２基板部１２０ａの第２透明電極１２２ａのパターン形状は、図３（ｃ）に例示した液晶シャッタ１００の第２透明電極１２２ａのパターン形状と同様である。
【０１５９】
このような構成を有する液晶シャッタ１００ｄにおいて、第１凹凸部１１２ａｐは、例えば、第１転移核部１１４ａとして機能する。例えば、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に電圧が印加されたときの第１凹凸部１１２ａｐの周囲における電界は、Ｘ−Ｙ平面（第１基板部１１０ａから第２基板部１２０ａに向かうＺ軸方向に対して垂直な平面）内における液晶配列の方向と交差する成分を有する。
【０１６０】
すなわち、液晶シャッタ１００ｄの構成は、周縁部に第１転移核部１１４ａが設けられていることに相当する。これにより、上記の第１パターンの発生が抑制できる。また、場合によっては、第２パターン及び第３パターンの発生が抑制できる。
【０１６１】
本実施形態においても、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとは、互いに入れ替えが可能である。また、透明電極の凹凸部は、第２基板部１２０ａに設けられても良い。
【０１６２】
図１４（ａ）及び図１４（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１４（ａ）は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｅにおける第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を例示する平面図である。図１４（ｂ）は、第２基板部１２０ａ（第２透明電極１２２ａ）を例示する平面図である。
【０１６３】
図１４（ａ）及び図１４（ｂ）に表したように、液晶シャッタ１００ｅにおいては、第２基板部１２０ａの第２透明電極１２２ａは、第１シール部１８０ａの外側に延出する第２接続部１２２ａｃと、第１シール部１８０ａよりも内側の第２電圧印加部１２２ａｓと、第２電圧印加部１２２ａｓの周縁の少なくとも一部に設けられ、第１シール部１８０ａの内側から第１シール部１８０ａに向かう方向に沿って突出または後退した第２凹凸部１２２ａｐと、を有している。第２凹凸部１２２ａｐも、転移核部として機能する。
【０１６４】
これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１６５】
液晶シャッタ１００ｄ及び１００ｅにおいては、凹凸部（例えば第１凹凸部１１２ａｐ）は、三角形状である。ただし、実施形態はこれに限らない。凹凸部のパターン形状は任意である。
【０１６６】
図１５（ａ）及び図１５（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１５（ａ）は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｆにおける第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を例示する平面図である。図１５（ｂ）は、第２基板部１２０ａ（第２透明電極１２２ａ）を例示する平面図である。
【０１６７】
図１５（ａ）及び図１５（ｂ）に表したように、液晶シャッタ１００ｆにおいては、第１凹凸部１１２ａｐのパターンは、長方形状である。この場合も、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１６８】
また、実施形態において、第１凹凸部１１２ａｐは、直線状の線分を有する輪郭を有する任意の多角形、及び、曲線状の輪郭を有する任意のパターン形状を有することができる。
【０１６９】
図１６（ａ）及び図１６（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
これらの図は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｇ及び１００ｈにおける第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を例示している。
【０１７０】
図１６（ａ）に表したように、液晶シャッタ１００ｇにおいては、第１透明電極１１２ａの第１電圧印加部１１２ａｓの周縁に、狭い幅の凹部が設けられている。なお、この形状は、広い幅の凸部が設けられていると見なすことができる。このような凹部または凸部を、第１凹凸部１１２ａｐとして用いることができる。
【０１７１】
図１６（ｂ）に表したように、液晶シャッタ１００ｈにおいては、第１透明電極１１２ａの第１電圧印加部１１２ａｓの周縁に、狭い幅の凸部が設けられている。なお、この形状は、広い幅の凹部が設けられていると見なすことができる。このような凹部または凸部を、第１凹凸部１１２ａｐとして用いることができる。
【０１７２】
本実施形態において、第１凹凸部１１２ａｐの凹部のピッチは、３μｍ以上２００μｍ以下とすることができる。３μｍ未満の微細ピッチで精度よく加工するは困難であり、また高精度な設備の使用が必要となるためコスト増となる。また、ピッチが２００μｍを超えると、その間隔が広すぎて、転移の時間を縮小する効果が小さくなる場合がある。
【０１７３】
第１凹凸部１１２ａｐの突出または後退の長さは、３μｍ以上２００μｍ以下とすることができる。長さが３μｍ未満の場合は、転移の時間を縮小する効果が小さくなる場合がある。また、加工が困難になる。また、長さが２００μｍを超えると、凹凸パターンが視認できるようになり、使用者が違和感を持つ場合がある。
【０１７４】
なお、ＯＣＢモードを用いたアクティブマトリクス型液晶ディスプレイにおいて、複数の画素電極のそれぞれに、例えば、切り込み部を設ける構成がある。これに対し、本実施形態に係る液晶シャッタのシャッタ部においては、１つの基板部には１つの透明電極が設けられる。そして、その透明電極の面積は、液晶ディスプレイの複数の画素電極のそれぞれの面積とは比較できないくらいに大きい。液晶ディスプレイにおいては、開口率が低下するため、画素電極のそれぞれの周縁に凹凸部を設けることは行われない。これに対し、実施形態に係る液晶シャッタにおいては、中央部分のスイッチング特性が主に利用され、周縁部のスイッチング特性は実用的には利用されない。このため、実施形態においては、透明電極の周縁部に凹凸部を設ける。これにより、中央部分のスイッチング特性に悪影響を与えないで、液晶配向の転移の時間を短縮できる。
【０１７５】
（第４の実施の形態）
図１７は、第４の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的斜視図である。 図１７に表したように、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｍは、既に説明した第１シャッタ部１０１に加え、第２シャッタ部１０２を備える。第２シャッタ部１０２は、第１シャッタ部１０２と並置される。
【０１７６】
第２シャッタ部１０２は、第３透明電極１１２ｂを有する第３基板部１１０ｂと、第３透明電極１１２ｂに対向する第４透明電極１２２ｂを有する第４基板部１２０ｂと、第３透明電極１１２ｂと第４透明電極１２２ｂとの間に設けられた第２液晶層１３０ｂと、を含む。
【０１７７】
第２液晶層１３０ｂの液晶配列は、第３透明電極１１２ｂと第４透明電極１２２ｂとの間の第２電位差が第３電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、第２電位差が第３電圧よりも実効値が大きい第４電圧に設定されたときにベンド配列へ転移する。
【０１７８】
第２シャッタ部１０２は、第１シャッタ部１０１と同様の構成を有することができる。 例えば、第３基板部１１０ｂは、第２液晶層１３０ｂにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の第２転移核部１１４ｂを有することができる。第２転移核部１１４ｂは、第１〜第３の実施形態に関して説明した第１転移核部１１４ａと同様の構成を有することができる。
【０１７９】
例えば、第３基板部１１０ｂの周縁部の少なくとも一部における複数の第２転移核部１１４ｂの密度は、第３基板部１１０ｂの周縁部よりも内側の内側部における複数の第２転移核部１１４ｂの密度よりも高く設定することができる。
【０１８０】
また、第３基板部１１０ｂは、第３基板部１１０ｂのうちで第２液晶層１３０ｂの液晶配列において液晶分子１３０ｌの一端が第３基板部１１０ｂから離れている側（チルト側）の第３部分と、第３基板部１１０ｂのうちで第３部分とは反対側の第４部分と、を有することができる。そして、第４部分における複数の第２転移核部１１４ｂの密度は、第３部分における複数の第２転移核部１１４ｂの密度よりも高く設定される。
【０１８１】
この場合も、複数の第２転移核部１１４ｂとして、第３透明電極１１２ｂに設けられた複数の孔を用いることができる。また、複数の第２転移核部１１４ｂとして、第３透明電極１１２ｂの上の設けられた複数の柱状スペーサを用いることができる。
【０１８２】
また、第２シャッタ部１０２は、第３基板部１１０ｂ、第４基板部１２０ｂ及び第２液晶層１３０ｂに加え、第３基板部１１０ｂと第４基板部１２０ｂとの間において第２液晶層１３０ｂを囲む第２シール部をさらに含むことができる。
【０１８３】
第３透明電極１１２ｂは、第３接続部と、第３電圧印加部と、第３凹凸部と、を有することができる。第３接続部は、第２シール部の外側に延出する。第３電圧印加部は、第３シール部よりも内側である。第３凹凸部は、第３電圧印加部の周縁の少なくとも一部に設けられる。第３凹凸部は、第２シール部の内側から第２シール部に向かう方向に沿って突出または後退する。
【０１８４】
このような構成により、例えば、第１〜第３パターンの転移に長い時間を要する領域が生成されることを抑制することができる。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１８５】
液晶シャッタ１００ｍは、２つのシャッタ部を備えることで、液晶シャッタ眼鏡１２ａとして利用することができる。
図１７に表したように、例えば、液晶シャッタ１００ｍ（液晶シャッタ眼鏡１２ａ）は、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２とを連結する連結部３５５と、左耳用の左支持部３５１と、右耳用の右支持部３５２と、をさらに備えることができる。左支持部３５１は、左耳かけ部３５３を有し、右支持部３５２は、右耳かけ部３５４を有す。
【０１８６】
例えば、第１シャッタ部１０１が左眼に対応して配置され、第２シャッタ部１０２が右眼に対応して配置される。なお、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２の配置は逆でも良い。
【０１８７】
また、第１シャッタ部１０１の第１基板部１１０ａの側に、第２シャッタ部１０２の第３基板部１１０ｂが配置されているが、第１基板部１１０ａの側に第４基板部１２０ｂが配置されても良い。
【０１８８】
本具体例では、第２基板部１２０ａが、第１基板部１１０ａよりも左耳かけ部３５３の側に配置され、第４基板部１２０ｂが、第３基板部１１０ｂよりも右耳かけ部３５４の側に配置されている。第１基板部１１０ａが、第２基板部１２０ａよりも左耳かけ部３５３の側に配置され、第３基板部１１０ｂが、第４基板部１２０ｂよりも右耳かけ部３５４の側に配置されても良い。
【０１８９】
図１８は、第４の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的斜視図である。
図１８に表したように、本実施形態に係る別の液晶シャッタ１００ｎも、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２とを備える。この例では、第１基板部１１０ａと第３基板部１１０ｂとが同一の支持基板４１１に設けられ、第２基板部１２０ａと第４基板部１２０ｂとが同一の別の支持基板４２１に設けられている。
【０１９０】
すなわち、支持基板４１１の一部に第１透明電極１１２ａが設けられる。支持基板４１１の別の一部に、第１透明電極１１２ａに並置して第３透明電極１１２ｂが設けられる。第１透明電極１１２ａが設けられる部分が第１基板部１１０ａとなる。第３透明電極１１２ｂが設けられる部分が第３基板部１１０ｂとなる。
【０１９１】
同様に、別の支持基板４２１の一部に第２透明電極１２２ａが設けられる。支持基板４２１の別の一部に、第２透明電極１２２ａに並置して第４透明電極１２２ｂが設けられる。第２透明電極１２２ａが設けられる部分が第２基板部１２０ａとなり、第４透明電極１２２ｂが設けられる部分が第４基板部１２０ｂとなる。
【０１９２】
このように、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２とは、一体的に設けられても良い。
【０１９３】
上記の液晶シャッタ１００ｍ及び１００ｎにおいて、例えば、第１転移核部１１４ａが第１基板部１１０ａに設けられ、第２転移核部１１４ｂが第３基板部１１０ｂに設けられる。ただし、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとは互いに入れ換えができ、第３基板部１１０ｂと第４基板部１２０ｂとは互いに入れ換えができる。
【０１９４】
液晶シャッタが液晶シャッタ眼鏡１２ｂに応用される場合において、第１転移核部１１４ａ及び第２転移核部１１４ｂは、観視者の目に近い側の基板部に設けられても良く、目から遠い側の基板部に設けられても良い。
【０１９５】
このように、液晶シャッタ（液晶シャッタ眼鏡）は、第１シャッタ部１０１と、第２シャッタ部１０２と、装着部３６０（例えば左支持部３５１及び右支持部３５２）と、を備えることができる。装着部３６０は、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２の少なくともいずれかに連結され、使用者の頭部に装着され、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２を使用者の頭部に固定させる。なお、装着部３６０は、帯状でも良く、液晶シャッタはゴーグル状の形態でも良い。
【０１９６】
上記においては、ディスプレイ１３としてＯＣＢモードで動作するアクティブマトリクス型液晶ディスプレイを用いる場合として説明したが、実施形態はこれに限定されない。例えば、実施形態に係る液晶シャッタが適用できる表示システム１１のディスプレイ１３には、高速応答性を有するディスプレイ全般を用いることができる。例えば、ディスプレイ１３として、有機ＥＬディスプレイやプラズマディスプレイなどを用いても良い。
【０１９７】
なお、実施形態において、スプレイ配列及びベンド配列は、図５（ａ）〜図５（ｄ）に例示した液晶配列以外の種々の変形の配列を有することができる。
【０１９８】
例えば、図５（ａ）に例示した液晶配列では、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間のＸ軸に沿った全域にわたってスプレイ配列状態である。ただし、実施形態において、例えば、第１透明電極１１２ａの近傍でスプレイ配列で、第２透明電極１２２ａの近傍でベンド配列になっている配列状態（「スプレイ−ベンド配列状態」と言うことにする）もスプレイ配列の１種とする。例えば、第１透明電極１１２ａの近傍でベンド配列で、第２透明電極１２２ａの近傍でスプレイ配列になっている配列状態（「ベンド−スプレイ配列状態」という）もスプレイ配列の１種とする。一方、ベンド配列状態においては、第１透明電極１１２ａの近傍、及び、第２透明電極１２２ａの近傍、の両方でベンド配列である。
【０１９９】
実施形態によれば、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮した液晶シャッタが提供される。
【０２００】
なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。
【０２０１】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、液晶シャッタに含まれる基板部、透明電極、支持基板、配向膜、液晶層、柱状スペーサ及び孔などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
【０２０２】
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
【０２０３】
その他、本発明の実施の形態として上述した液晶シャッタを基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての液晶シャッタも、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【０２０４】
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【０２０５】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０２０６】
１１…表示システム、 １２、１２ａ、１２ｂ…液晶シャッタ眼鏡、 １３…ディスプレイ、 １３ｄ…表示面、 １４…制御部、 １００、１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ、１１０ｅ、１００ｆ、１１０ｇ、１１０ｈ、１００ｍ、１００ｎ…液晶シャッタ、 １０１…第１シャッタ部、 １０２…第２シャッタ部、 １０９ａ〜１０９ｃ…第１〜第３試料、 １１０ａ…第１基板部、 １１０ｂ…第３基板部、 １１１ａ…第１支持基板、 １１２ａ…第１透明電極、 １１２ａｃ…第１接続部、 １１２ａｐ…第１凹凸部、 １１２ａｓ…第１電圧印加部、 １１２ａｔ…第１トランスファ部、 １１２ｂ…第３透明電極、 １１２ｈ…第１孔、 １１３ａ…第１配向膜、 １１４ａ…第１転移核部、 １１４ｂ…第２転移核部、 １１７…柱状スペーサ、 １１８ｄ…第１配向方向、 １１８ｅ…電界、 １２０ａ…第２基板部、 １２０ｂ…第４基板部、 １２１ａ…第２支持基板、 １２２ａ…第２透明電極、 １２２ａｃ…第２接続部、 １２２ａｐ…第２凹凸部、 １２２ａｓ…第２電圧印加部、 １２２ｂ…第４透明電極、 １２３ａ…第２配向膜、 １２８ｄ…第２配向方向、 １３０ａ…第１液晶層、 １３０ｂ…第２液晶層、 １３０ｌ…液晶分子、 １４０ａ…第１光学補償板、 １５０ａ…第２光学補償板、 １６０ａ…第１偏光板、 １７０ａ…第２偏光板、 １８０ａ…第１シール部、 １８１ａ…導電部材、 ３３０…駆動部、 ３５１…左支持部、 ３５２…右支持部、 ３５３…左耳かけ部、 ３５４…右耳かけ部、 ３５５…連結部、 ３６０…装着部、 ４１１、４２１…支持基板、 ＣＰ…内側部、 ＣＸ１…内側部、 ＣＹ１…部分、 ＣＺ１…部分、 Ｐ１…第１部分、 Ｐ２…第２部分、 ＰＰ…周縁部、 ＰＸ１…周縁部、 ＰＹ１、ＰＹ２…角部、 ＰＺ１…角部、 ＲＤ…ラビング方向、 Ｖ１、Ｖ２…第１、第２電圧、 ＶＢ１、ＶＢ２…第１、第２ベンド電圧、 Ｖａ…電位差（第１電位差）、 θ…プレチルト角
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、液晶シャッタに関する。
【背景技術】
【０００２】
娯楽、教育、放送、医療などの分野において、立体視システムの実用化が進んでいる。立体視システムにおいては、例えば、左右眼の視差に対応した左眼用像と右眼用像とが、左右眼にそれぞれ時分割で呈示される。このための高速応答のシャッタに、液晶が用いられる。
【０００３】
例えば、右目用領域と左目用領域とを有する液晶セルを用いたシャッターメガネを用いる立体映像表示装置がある。この液晶セルの液晶層に、ツイステッドネマティック液晶やスーパーツイステッドネマティック液晶を用いた場合は、応答速度が不十分である。また、強誘電性液晶を用いた場合は、耐ショック性や温度特性などの信頼性に関して改善を要する。
【０００４】
一方、πセルを応用したＯＣＢ（Optically Compensated Bend）モード液晶がある。ＯＣＢモードにおいては、液晶のベンド配列を利用することで、高速応答が得られる。また、ネマティック液晶を用いることから信頼性が高い。
【０００５】
ＯＣＢモードにおいては、初期のスプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理が行われる。そして、ベンド配列状態において、光のスイッチングの動作が行われる。この初期化処理を短時間で均一に実施することが実用的に重要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平０８−３２７９６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の実施形態は、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮した液晶シャッタを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施形態によれば、第１シャッタ部を備えた液晶シャッタが提供される。前記第１シャッタ部は、第１透明電極を有する第１基板部と、前記第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に設けられた第１液晶層と、を含む。前記第１液晶層の液晶配列は、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の第１電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第１電位差が前記第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移する。前記第１基板部は、前記第１液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第１転移核部を有する。前記第１基板部の周縁部の少なくとも一部における前記複数の第１転移核部の密度は、前記周縁部よりも内側の内側部における前記複数の第１転移核部の密度よりも高い。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１（ａ）〜図１（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式図である。
【図２】第１の実施形態に係る液晶シャッタが用いられる表示システムの構成を例示する模式図である。
【図３】図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式図である。
【図４】図４（ａ）及び図４（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的断面図である。
【図５】図５（ａ）〜図５（ｄ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの動作を例示する模式的断面図である。
【図６】図６（ａ）〜図６（ｃ）は、液晶シャッタの初期化処理の状態を例示する模式的斜視図である。
【図７】図７（ａ）及び図７（ｂ）は、液晶層の配列状態を例示する模式図である。
【図８】第１の実施形態に係る液晶シャッタの動作を例示する模式的平面図である。
【図９】図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１０】図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１１】図１１（ａ）及び図１１（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的断面図である。
【図１２】図１２（ａ）〜図１２（ｃ）は、第２の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１３】図１３（ａ）〜図１３（ｃ）は、第３の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１４】図１４（ａ）及び図１４（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１５】図１５（ａ）及び図１５（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１６】図１６（ａ）及び図１６（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
【図１７】第４の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的斜視図である。
【図１８】第４の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【００１１】
（第１の実施の形態）
図１（ａ）〜図１（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式図である。
図２は、第１の実施形態に係る液晶シャッタが用いられる表示システムの構成を例示する模式図である。
まず、図２により、本実施形態に係る液晶シャッタが用いられる立体視が可能な表示システムの例について説明する。
【００１２】
図２に表したように、表示システム１１は、ディスプレイ１３（表示部）と、液晶シャッタ眼鏡１２と、を備える。表示システム１１は、３次元表示モードを有している。３次元表示モードにおいては、視差に対応する左眼用像と右眼用像とが表示される。この左眼用像と右眼用像とを、観視者が３次元映像として観視する。なお、表示システム１１は、２次元表示モードを有していても良い。２次元表示モードにおいては、ディスプレイ１３に表示された像を、観視者が２次元映像として観視する。以下、３次元表示モードについて説明する。
【００１３】
ディスプレイ１３は、表示面１３ｄを有する。この表示面１３ｄに、左眼用像と右眼用像とに対応した画像が交互に切り替えて表示される。例えば、ディスプレイ１３には、アクティブマトリクス型液晶ディスプレイが用いられる。このディスプレイには任意の動作モードが適用できる。ディスプレイには、例えばＯＣＢモードが適用できる。ディスプレイ１３は、マトリクス状に配置された複数の画素を有する。例えば、デジタル信号処理により、例えばフィールド周波数が１２０Ｈｚに変換され、表示が行われる。
【００１４】
液晶シャッタ眼鏡１２は、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２を有する。第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２のそれぞれは、観視者の左眼及び右眼にそれぞれ対向して配置される。観視者は、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２を介して、ディスプレイ１３の表示像を観視する。液晶シャッタ眼鏡１２においては、時分割シャッタ動作が行われる。ディスプレイ１３の表示に同期して、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２が交互に透光状態及び遮光状態となる。
【００１５】
なお、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２は、相互に別体として設けられても良い。また、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２は一体的に連続していても良い。例えば、１つの基板の上に、２つの電極が設けられ、２つの電極のそれぞれが、第１シャッタ部１０１または第２シャッタ部１０２のそれぞれに含まれても良い。
【００１６】
表示システム１１においては、左眼用像と右眼用像とを時分割的に観視する方式が適用される。例えば、ディスプレイ１３は、左眼及び右眼に対応した画像をフィールドごとに交互に切り替えて表示する。この時、ディスプレイ１３に左眼用画像が表示されている期間においては、左眼用のシャッタ部が透光状態とされ、右眼用のシャッタ部が遮光状態とされる。そして、ディスプレイ１３に右眼用画像が表示されている期間において、右眼用のシャッタ部が透光状態とされ、左眼用のシャッタ部が遮光状態とされる。
【００１７】
例えば、表示システム１１は、制御部１４をさらに有することができる。シャッタ部の動作は、例えば、制御部１４によって行われる。ただし、制御部１４の機能は、ディスプレイ１３及び液晶シャッタ眼鏡１２のいずれかに含まれても良い。制御部１４とディスプレイ１３との間の信号の授受、制御部１４と液晶シャッタ眼鏡１２との間の信号の授受、及び、ディスプレイ１３と液晶シャッタ眼鏡１２との間の信号の授受は、有線または無線の方式によって行われる。
【００１８】
表示システム１１においては、左眼用画像を左眼で観視し、右眼用画像を右眼で観視することで、立体的な映像を知覚できる。
【００１９】
第２シャッタ部１０２の構成は、第１シャッタ部１０１の構成と同様とすることができる。以下では、第１シャッタ部１０１の構成の例について説明する。
【００２０】
図３（ａ）〜図３（ｃ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式図である。
図４（ａ）及び図４（ｂ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的断面図である。
図４（ａ）は、図３（ａ）のＡ１−Ａ２線断面図である。図４（ｂ）は、図３（ａ）のＢ１−Ｂ２線断面図である。
【００２１】
図３（ａ）、図４（ａ）及び図４（ｂ）に表したように、実施形態に係る液晶シャッタ１００は第１シャッタ部１０１を備える。第１シャッタ部１０１は、第１基板部１１０ａと、第２基板部１２０ａと、第１液晶層１３０ａと、を含む。
【００２２】
第１基板部１１０ａは、第１透明電極１１２ａを有する。第２基板部１２０ａは、第２透明電極１２２ａを有する。第２透明電極１２２ａは、第１透明電極１１２ａに対向する。第１液晶層１３０ａは、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に設けられる。
【００２３】
第１シャッタ部１０１は、第１シール部１８０ａをさらに含む。第１シール部１８０ａは、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとの間において第１液晶層１３０ａを囲む。
【００２４】
第１基板部１１０ａから第１基板部１２０ａに向かう方向をＺ軸方向とする。Ｚ軸に対して垂直な１つの軸をＸ軸とする。Ｚ軸とＸ軸とに対して垂直な軸をＹ軸とする。
【００２５】
図３（ｂ）は、第１基板部１１０ａの構成を例示している。図３（ｃ）は、第２基板部１２０ａの構成を例示している。
【００２６】
図３（ｂ）に表したように、第１基板部１１０ａの第１透明電極１１２ａは、第１電圧印加部１１２ａｓと、第１接続部１１２ａｃと、を有している。第１電圧印加部１１２ａｓは、第１液晶層１３０ａに対向する部分である。第１基板部１１０ａは、第１トランスファ部１１２ａｔをさらに有することができる。第１トランスファ部１１２ａｔは、第１透明電極１１２ａ（第１電圧印加部１１２ａｓ及び第１接続部１１２ａｃ）と電気的に絶縁されている。第１トランスファ部１１２ａｔに、第１透明電極１１２ａ（第１電圧印加部１１２ａｓ及び第１接続部１１２ａｃ）に用いられる材料を用いても良い。
【００２７】
図３（ｃ）に表したように、第２基板部１２０ａの第２透明電極１２２ａは、第２電圧印加部１２２ａｓと、第２接続部１２２ａｃと、を有している。第２電圧印加部１２２ａｓは、第１液晶層１３０ａに対向する部分である。
【００２８】
図４（ａ）に表したように、第１接続部１１２ａｃは、第１シール部１８０ａの外側に延出する。第１透明電極１１２ａのうちの第１電圧印加部１１２ａｓは、第１シール部１８０ａの内側の部分である。第１透明電極１１２ａのうちで第１シール部１８０ａの外側に延出する部分が、第１接続部１１２ａｃとなる。
【００２９】
図４（ｂ）に表したように、第２接続部１２２ａｃは、第１シール部１８０ａの外側に延出する。第２透明電極１２２ａのうちの第２電圧印加部１２２ａｓは、第１シール部１８０ａの内側の部分である。第２透明電極１２２ａのうちで第１シール部１８０ａの外側に延出する部分が、第２接続部１２２ａｃとなる。
【００３０】
第１接続部１１２ａｃと第２接続部１２２ａｃとの間に電気信号が供給され、第１液晶層１３０ａに電気信号（電圧）が印加される。
【００３１】
この例では、第１トランスファ部１１２ａｔが、第２接続部１２２ａｃに対向している。そして、第１トランスファ部１１２ａｔと第２接続部１２２ａｃとを電気的に接続する導電部材１８１ａが設けられている。
【００３２】
図３（ａ）に表したように、第１トランスファ部１１２ａｔと第１接続部１１２ａｃとに駆動部３３０が接続される。駆動部３３０から第１トランスファ部１１２ａｔと第１接続部１１２ａｃとに電気信号を供給することで、第１電圧印加部１１２ａｓと第２電圧印加部１２２ａｓとに電気信号が供給される。すなわち、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の電位差（第１電位差Ｖａ）が、第１液晶層１３０ａに印加される。
【００３３】
ただし、実施形態はこれに限らない。例えば、第１トランスファ部１１２ａｔが設けられず、第１接続部１１２ａｃと第２接続部１２２ａｃとに駆動部３３０が接続されても良い。
【００３４】
図４（ａ）及び図４（ｂ）に表したように、本具体例においては、第１透明電極１１２ａには、複数の第１孔１１２ｈ（孔）が設けられている。複数の第１孔１１２ｈは、例えば、第１透明電極１１２ａを第１透明電極１１２ａの厚さ方向に貫通する。第１孔１１２ｈは、第１透明電極１１２ａをＺ軸に沿って貫通する。第１孔１１２ｈについては後述する。
【００３５】
図４（ａ）に表したように、第１基板部１１０ａは、第１透明電極１１２ａに加え、第１支持基板１１１ａと、第１配向膜１１３ａと、をさらに含む。第１支持基板１１１ａの上に第１透明電極１１２ａが設けられる。第１透明電極１１２ａを覆うように、第１配向膜１１３ａが設けられる。
【００３６】
第２基板部１２０ａは、第２透明電極１２２ａに加え、第２支持基板１２１ａと、第２配向膜１２３ａと、をさらに含む。第２支持基板１２１ａの上に第２透明電極１２２ａが設けられる。第２透明電極１２２ａの上に第２配向膜１２３ａが設けられる。
【００３７】
なお、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間隔（第１配向膜１１３ａと第２配向膜１２３ａとの間の間隔）を制御するスペーサ（図示しない）を設けても良い。スペーサとしては、例えば、第１基板部１１０ａ（例えば第１透明電極１１２ａの上）に設けられた柱状スペーサを用いることができる。柱状スペーサは第２基板部１２０ａに設けられても良い。また、柱状スペーサは、第１基板部１１０ａ及び第１基板部１２０ａの両方に設けられても良い。
【００３８】
第１シャッタ部１０１は、第１偏光板１６０ａと、第１光学補償板１４０ａと、第２偏光板１７０ａと、第２光学補償板１５０ａと、をさらに含むことができる。第１偏光板１６０ａと第２偏光板１７０ａとの間に第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａが配置される。第１偏光板１６０ａと第２基板部１２０ａとの間に第１基板部１１０ａが配置される。第２偏光板１７０ａと第１基板部１１０ａとの間に第２基板部１２０ａが配置される。第１偏光板１６０ａと第１基板部１１０ａとの間に第１光学補償板１４０ａが配置される。第２偏光板１７０ａと第２基板部１２０ａとの間に第２光学補償板１５０ａが配置される。
【００３９】
第１支持基板１１１ａ及び第２支持基板１２１ａは、透光性である。第１支持基板１１１ａ及び第２支持基板１２１ａには、例えばガラスや樹脂などが用いられる。
【００４０】
第１透明電極１１２ａ及び第２透明電極１２２ａには、液晶シャッタ１００において透光及び遮光の動作の対象となる光に対して透光性の導電材料が用いられる。液晶シャッタ１００が、例えば液晶シャッタ眼鏡１２に用いられる場合には、第１透明電極１１２ａ及び第２透明電極１２２ａは、可視光に対して透光性である。第１透明電極１１２ａ及び第２透明電極１２２ａには、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＺｎＯなどを用いることができる。
【００４１】
第１配向膜１１３ａ及び第２配向膜１２３ａには、例えばポリイミドを用いることができる。このポリイミド膜には、例えばラビング処理が施される。第１配向膜１１３ａのラビング処理の方向は、第２配向膜１２３ａにおけるラビング処理の方向と、実質的に平行である。第１配向膜１１３ａのラビング処理の方向は、第２配向膜１２３ａにおけるラビング処理の方向と、実質的に同じ向きである。
【００４２】
第１液晶層１３０ａにはネマティック液晶が用いられる。第１配向膜１１３ａ及び第２配向膜１２３ａの機能により、第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａの近傍における第１液晶層１３０ａの液晶分子は高いプレチルト角を有する。これにより、第１液晶層１３０ａは、初期状態（電圧が印加されない状態）においてスプレイ配列状態である。電圧印加状態で、ベンド配列状態に転移する。第１シャッタ部１０１（液晶シャッタ１００）は、ＯＣＢモードで動作する。
【００４３】
第１光学補償板１４０ａ及び第２光学補償板１５０ａには、例えば、ディスコティック液晶化合物をハイブリッド配向させた光学異方性層を含む二軸性のフィルム等を用いることができる。
【００４４】
図５（ａ）〜図５（ｄ）は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの動作を例示する模式的断面図である。
これらの図において、第１配向膜１１３ａ及び第２配向膜１２３ａは省略されている。
【００４５】
図５（ａ）は、第１電圧Ｖ１を印加した時の状態を例示している。第１電圧Ｖ１は、第１液晶層１３０ａにおける液晶配列がスプレイ配列からベンド配列に転移するしきい値未満の電圧である。第１電圧Ｖ１は、例えば、０ボルト（Ｖ）である。すなわち、図５（ａ）は、電源オフ時の状態を例示している。
【００４６】
図５（ｂ）は、第２電圧Ｖ２を印加した時の状態を例示している。第２電圧Ｖ２は、第１液晶層１３０ａにおける液晶配列がスプレイ配列からベンド配列に転移するしきい値以上の電圧である。第２電圧Ｖ２の実効値は、第１電圧Ｖ１の実効値よりも大きい。すなわち、図５（ｂ）は、初期化処理後の状態を例示している。
【００４７】
図５（ｃ）は、初期化処理後のベンド配列状態において、第１ベンド電圧ＶＢ１を印加した時の状態を例示している。図５（ｄ）は、初期化処理後のベンド配列状態において、第２ベンド電圧ＶＢ２を印加した時の状態を例示している。第２ベンド電圧ＶＢ２の実効値は、第１ベンド電圧ＶＢ１の実効値よりも大きい。
【００４８】
図５（ａ）に表したように、電源オフ時において、第１液晶層１３０ａの液晶分子１３０ｌの配列は、スプレイ配列状態である。
【００４９】
そして、液晶シャッタ１００において、電源を投入し、初期化処理が行われる。初期化処理においては、所定の転移電圧（ベンド配列に転移させる第２電圧Ｖ２）を第１液晶層１３０ａに印加する。
【００５０】
これにより、図５（ｂ）に表したように、第１液晶層１３０ａの配列状態が、スプレイ配列からベンド配列に転移する。
【００５１】
第１電圧Ｖ１は、例えば０Ｖである。
第２電圧Ｖ２は、動作時に直流電圧が残存しないよう、正負交番電圧であることが望ましい。スプレイ配列からベンド配列に速やかに転移させるために、第２電圧Ｖ２には、実効値が比較的大きい電圧が用いられる。
【００５２】
第２電圧Ｖ２の絶対値（例えば実効値）は、例えば、１０Ｖ〜３０Ｖである。ただし、第２電圧Ｖ２の値は、しきい値電圧以上であれば任意である。第２電圧Ｖ２の実効値が大きいと、スプレイ配列からベンド配列へ速やかに転移する。具体的には、第２電圧Ｖ２には、例えば、＋１５Ｖで数百ミリ秒（ｍｓ）程度の正極性パルスと、−１５Ｖで数百ミリ秒程度の負極性パルスと、の組み合わせ、を用いることができる。このような第２電圧Ｖ２の印加によって第１液晶層１３０ａは、スプレイ配列からベンド配列に転移する。
【００５３】
このように、初期化処理が行われた後に、図５（ｃ）及び図５（ｄ）に表した動作が行われる。すなわち、ベンド配列状態において、例えば第１ベンド電圧ＶＢ１を印加した状態（図４（ｂ）の状態）と、例えば第２ベンド電圧ＶＢ２を印加した状態（図４（ｃ）の状態）と、のスイッチングが行われる。例えば、第１ベンド電圧ＶＢ１は、０Ｖである。第２ベンド電圧ＶＢ２は、例えば±５Ｖである。
【００５４】
液晶シャッタ１００の動作中は、第１液晶層１３０ａの液晶分子１３０ｌの配向状態はベンド配列に維持される。そして、このベンド配列の液晶分子１３０ｌに印加される電圧を変化させると配列状態が変化する。この配列状態の変化に対応して、第１液晶層１３０ａのリタデーションが変化する。第１偏光板１６０ａ及び第２偏光板１７０ａを用いることで、このリタデーションの変化に応じた透光状態及び遮光状態が得られる。
【００５５】
例えば、第１ベンド電圧ＶＢ１を印加した時に、液晶シャッタ１００は透光状態となり、第２ベンド電圧ＶＢ２を印加した時に液晶シャッタ１００は遮光状態となる。または、第１ベンド電圧ＶＢ１を印加した時に遮光状態となり、第２ベンド電圧ＶＢ２を印加した時に透光状態としても良い。
【００５６】
液晶シャッタ１００が液晶シャッタ眼鏡１２に応用される場合は、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２とは、交互に透光状態と遮光状態とを繰り返す。例えば、第１シャッタ部１０１は、奇数フィールドでは遮光状態であり、偶数フィールドでは透光状態である。一方、第２シャッタ部１０２は、奇数フィールドでは透光状態であり、偶数フィールドでは遮光状態である。
【００５７】
例えば、第１シャッタ部１０１においては、第１フィールドでは、第１液晶層１３０ａに＋５Ｖの電圧（第２ベンド電圧ＶＢ２）が印加されて遮光状態とされる。次の第２フィールドでは、第１液晶層１３０ａの印加電圧が０Ｖ（第１ベンド電圧ＶＢ１）にされ、透光状態とされる。次の第３フィールドでは、第１液晶層１３０ａに−５Ｖの電圧（第２ベンド電圧ＶＢ２）が印加され、遮光状態とされる。次の第４フィールドでは、第１液晶層１３０ａの印加電圧が０Ｖ（第１ベンド電圧ＶＢ１）にされ、透光状態とされる。
【００５８】
また、第２シャッタ部１０２においては、第１シャッタ部１０１に対して、奇数フィールドと偶数フィールドとが入れ替わった電圧が印加される。
【００５９】
このように、例えば、駆動時において第１液晶層１３０ａには正負交番電圧が印加される。これにより、焼き付きなどを防止することができる。なお、１つのフィールドの期間において、交流電圧を印加しても良い。例えば、バースト信号状の波形が印加されても良い。バースト信号状の波形においては、例えば、奇数フィールドにおいてフィールド周期に相当する周波数よりも高い周波数の±５Ｖの高周波電圧が印加され、偶数フィールドにおいて、印加電圧が例えば０Ｖにされる。
【００６０】
なお、印加電圧が低い状態（例えば０Ｖ）が、一定の期間以上続くと、ベンド配列からスプレイ配列に戻る。上記のように、液晶シャッタ１００を液晶シャッタ眼鏡１２に応用する場合は、動作中は短い周期でオンとオフとが切り替えられる。このため、長期間にわたり低電圧状態が維持されることがない。これにより、ベンド状態が維持される。また、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の電圧が、一定以上長い期間、低い値にならないように、定期的にしきい値電圧以上の電圧を、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に印加しても良い。
【００６１】
このように、実施形態に係る液晶シャッタ１００における第１液晶層１３０ａの液晶配列は、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１に設定されたときにスプレイ配列である。第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１よりも実効値が大きい第２電圧Ｖ２に設定されたときにベンド配列へ転移する。そして、この転移の後に、光スイッチングの動作が行われる。
【００６２】
図１（ａ）は、第１シャッタ部１０１の平面図を例示している。
図１（ａ）に表したように、第１基板部１１０ａは周縁部ＰＰと、内側部ＣＰと、を有する。内側部ＣＰは、周縁部ＰＰよりも内側である。
【００６３】
図１（ｂ）及び図１（ｃ）は、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を拡大して示した模式的平面図である。図１（ｂ）は、周縁部ＰＰに対応する。図１（ｃ）は、内側部ＣＰに対応する。
【００６４】
図１（ｂ）及び図１（ｃ）に表したように、第１基板部１１０ａは、複数の第１転移核部１１４ａを有している。第１転移核部１１４ａは、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる。この例では、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈが用いられている。ただし、後述するように、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈの他に、種々の構成を用いることができる。
【００６５】
図１（ｂ）に表したように、周縁部ＰＰにおける第１転移核部１１４ａの密度は相対的に高い。図１（ｃ）に表したように、内側部ＣＰにおける第１転移核部１１４ａの密度は相対的に低い。
【００６６】
すなわち、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰの少なくとも一部における複数の第１転移核部１１４ａの密度は、周縁部ＰＰよりも内側の内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高い。
【００６７】
これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【００６８】
以下、スプレイ配列からベンド配列への転移に関する発明者が実験の結果について説明する。
発明者は、液晶材料、シール部の材料、配向膜材料、及び、プロセス条件などを変えて、各種の液晶シャッタの試料を作製した。この試料においては、第１転移核部１１４ａ（第１孔１１２ｈ）が設けられていない。または、この試料においては、第１転移核部１１４ａ（第１孔１１２ｈ）が均一な密度で設けられている。そして、スプレイ配列からベンド配列への転移に関して評価した。
【００６９】
図６（ａ）〜図６（ｃ）は、液晶シャッタの初期化処理の状態を例示する模式的斜視図である。
実験の試料において、スプレイ配列からベンド配列への転移が短い時間で完了する領域と、転移に長い時間を要する領域と、が存在することが分かった。
【００７０】
図６（ａ）に表したように、例えば、第１試料１０９ａにおいては、シャッタ部（第１シャッタ部１０１）の周縁部ＰＸ１においては、転移に長い時間を要する。そして、内側部ＣＸ１においては、転移の時間が短い。
【００７１】
図６（ｂ）に表したように、例えば、第２試料１０９ｂにおいては、互いに対向する２つの角部（第１角部ＰＹ１及び第２角部ＰＹ２）においては、転移に長い時間を要する。そして、これらの角部を除く部分ＣＹ１においては、転移の時間が短い。
【００７２】
図６（ｃ）に表したように、例えば、第３試料１０９ｃにおいては、１つの角部ＰＺ１において、転移に長い時間を要する。そして、これらの角部を除く部分ＣＺ１においては、転移の時間が短い。
なお、上記の第１〜第３試料１０９ａ〜１０９ｃにおいては、シャッタ部に用いられる材料、または、プロセス条件が互いに異なる。
【００７３】
このように、スプレイ配列からベンド配列への転移に時間がかかる領域が存在し、これの領域が、シャッタ部としての初期化処理の時間の短縮の律速になることが分かった。
【００７４】
そして、上記のように、発明者が行った独自の実験により、転移の時間が長い領域は、周縁部において発生する場合（図６（ａ）の状態）があることが分かった。これを第１パターンということにする。
【００７５】
また、転移の時間が長い領域は、２つの角部において発生する場合（図６（ｂ）の状態）があることが分かった。これを第２パターンということにする。
【００７６】
また、転移の時間が長い領域は、１つの角部において発生する場合（図６（ｃ）の状態）があることが分かった。これを第３パターンということにする。
【００７７】
まず、第３パターン（転移の時間が長い領域が１つの角部において発生する状態）に関しては、液晶層内及びシール部などに含まれる不純物などが液晶シャッタの動作によって液晶層の周縁部に押しやられ、その結果、不純物などの濃度が周縁部で高くなることが、転移の時間を長くしていると考えられる。そして、転移の時間が長い領域は、ラビング方向の上流側に位置する場合が多い。一方、転移の時間が長い領域がラビング方向の下流側に位置する場合もあることが確認されている。この場合は、使用環境温度が関係している可能性もある。
【００７８】
第２パターン（転移の時間が長い領域が２つの角部において発生する状態）の場合は、上述した現象がラビング処理の方向の上流及び下流側の双方に生じるものと考えられる。
【００７９】
一方、第１パターン（転移の時間が長い領域が周縁部において発生する状態）の場合は、上述した不純物が所定の領域に押しやられ、不純物がその場所に滞留するのではなく、逃げ場がなく周縁で対流するものと思われ、このことが周縁全体にわたって転移の時間を長くしていると考えられる。
【００８０】
ここで、第１液晶層１３０ａの配列状態について説明する。
図７（ａ）及び図７（ｂ）は、液晶層の配列状態を例示する模式図である。
図７（ａ）は、模式的斜視図であり、図７（ｂ）は、模式的平面図である。
図７（ａ）及び図７（ｂ）に表したように、第１基板部１１０ａにおいて、液晶分子１３０ｌを配列させるための配向処理の方向は、第１配向方向１１８ｄである。第２基板部１２０ａにおいて、液晶分子１３０ｌを配列させるための配向処理の方向は、第２配向方向１２８ｄである。
【００８１】
第２配向方向１２８ｄは、第１配向方向１１８ｄと実質的に平行である。第２配向方向１２８ｄは、第１配向方向１１８ｄと同じ向きである（反平行でない）。例えば、第１配向方向１１８ｄ及び第２配向方向１２８ｄは、例えばＸ１軸に沿う。Ｘ１軸は、Ｚ軸に対して垂直である。ここで、Ｙ１軸は、Ｚ軸及びＸ１軸に対して垂直であるとする。
【００８２】
図７（ｂ）に表したように、液晶分子１３０ｌの長軸（光学異方性の異常光の屈折率ｎｅが得られる方向）は、Ｘ１軸に対して平行である。液晶分子１３０ｌの短軸（光学異方性の常光の屈折率ｎｏが得られる方向）は、Ｙ１軸に対して平行である。
【００８３】
図７（ａ）に表したように、実施形態において、液晶分子１３０ｌのプレチルト角θは比較的大きい。プレチルト角θは、例えば、３度以上、１５度以下程度である。なお、第１基板部１１０ａにおけるプレチルト角θは、第２基板部１２０ａにおけるプレチルト角θと同じでも良く、異なっていても良い。
【００８４】
液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れ、液晶分子１３０ｌの他端が第１基板部１１０ａに接するように、液晶分子１３０ｌは配列する。
液晶分子１３０ｌの一端が第２基板部１２０ａから離れ、液晶分子１３０ｌの他端が第２基板部１２０ａに接するように、液晶分子１３０ｌは配列する。
【００８５】
第１液晶層１３０ａの液晶配列において、液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側（チルト側）は、液晶分子１３０ｌの一端が第２基板部１２０ａから離れている側（チルト側）と同じ側である。この構成により、スプレイ配列が得られる。
【００８６】
なお、第１液晶層１３０ａの液晶配列において、液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側（チルト側）が、液晶分子１３０ｌの一端が第２基板部１２０ａから離れている側（チルト側）と逆である場合には、ユニフォーム配列（例えばホモジニアス配列）が得られる。
【００８７】
例えば、基板部（第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａ）に施される配向処理がラビング処理である場合は、配向方向（第１配向方向１１８ｄ及び第２配向方向１２８ｄ）は、ラビング処理の進入側から出口側に向かう方向（ラビング方向ＲＤ）である。すなわち、チルト側は、ラビング処理の出口側である。
【００８８】
例えば、第１基板部１１０ａは、第１部分と、第２部分と、を有する。第１部分は、第１基板部１１０ａのうちで、第１液晶層１３０ａの液晶配列において液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側（チルト側）である。第２部分は、第１基板部１１０ａのうちで、第１部分とは反対側の部分である。
【００８９】
第１部分は、例えば、ラビング処理の出口側の部分である。第２部分は、例えば、ラビング処理の進入側の部分である。
【００９０】
なお、第１基板部１１０ａにおいて、チルト側（液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側であり、例えば、ラビング方向ＲＤの出口側）は、例えば、以下の素子を評価することで比較的簡便に判断することができる。すなわち、１枚の第１基板部１１０ａを分断し、この分断された第１基板部１１０ａの一部どうしを反平行の状態で対向させて、その間に液晶を挟む素子を作製する。この素子は、ユニフォーム配列を有しており、一様なプレチルト角θを有する。この素子の光学特性（光学的な異方性）を評価することで、チルト側を比較的簡便に判定することが分かる。
【００９１】
また、第１基板部１１０ａにラビング処理が施されている場合は、ラビング処理による筋状のむらを例えば顕微鏡で観察することによっても、配向方向及びチルト側（ラビング方向ＲＤの出口側）を判定することもできる。また、液晶シャッタを動作させつつ顕微鏡で第１液晶層１３０ａの光学変化を観察することで、ラビング処理によるむらにより、配向方向及びチルト側（ラビング方向ＲＤの出口側）を判定することもできる。
【００９２】
図６（ｃ）に関して説明した第３パターン（転移の時間が長い領域が１つの角部において発生する状態）においては、この１つの角部の位置は、第１基板部１１０ａのうちの第２部分（例えばラビング方向ＲＤの進入側の部分）の位置であることが分かった。
【００９３】
上記のように、転移の時間が長い領域が、上記の第１〜第３パターン（周縁部、２つの角部、及び、１つの角部）において発生するという知見に基づき、本実施形態の構成が構築された。
【００９４】
すなわち、本実施形態においては、図１（ａ）〜図１（ｃ）に関して説明したように、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰの少なくとも一部における複数の第１転移核部１１４ａの密度を、周縁部ＰＰよりも内側の内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高く設定する。
【００９５】
第１転移核部１１４ａとして、例えば、第１孔１１２ｈが用いられる。これにより、例えば、第１パターン及び第２パターンが抑制できる。場合によっては、第３パターンも抑制される。
【００９６】
第１孔１１２ｈが第１転移核部１１４ａとして機能するのは、例えば、第１孔１１２ｈにより、液晶分子にツイストの力が作用することによるものと考えられる。
【００９７】
図８は、第１の実施形態に係る液晶シャッタの動作を例示する模式的平面図である。
図８に表したように、液晶分子１３０ｌの配列方向がＸ１軸に対して平行であるとする。このとき、第１透明電極１１２ａに第１孔１１２ｈが設けられることにより、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に電圧を印加すると、第１液晶層１３０ａにおいて発生する電界１１８ｅは、Ｘ１軸に対して交差する成分（例えばＹ１軸に沿う成分）を有する。
【００９８】
すなわち、液晶分子１３０ｌの長軸方向に対して直交する成分を有する電界１１８ｅが、液晶分子１３０ｌに印加される。すなわち、液晶分子１３０ｌをツイストさせる電界１１８ｅ（誘電エネルギーの力）が第１液晶層１３０ａに印加される。液晶分子１３０ｌがスプレイ配列状態からベンド状態に転移する際に、ツイストさせる力が作用することで、スプレイ配列からベンド配列への転移がし易くなるものと考えられる。
【００９９】
このように、本実施形態においては、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に電圧が印加されたときの複数の第１転移核部１１４ａの周囲の電界１１８ｅは、Ｚ軸方向（第１基板部１１０ａから第２基板部１２０ａに向かう第１方向）に対して垂直な平面内（Ｘ−Ｙ平面内）における液晶配列の方向（例えばＸ１軸方向）と交差する成分を有する。
【０１００】
すなわち、複数の第１転移核部１１４ａの周囲の電界１１８ｅは、第１液晶層１３０ａの液晶配列を得るために第１基板部１１０ａに実施される配向処理の方向と交差する成分を有する。
【０１０１】
例えば、配向処理としてラビング処理が用いられる場合には、複数の第１転移核部１１４ａの周囲の電界１１８ｅは、ラビング処理の方向（ラビング方向ＲＤ）と交差する成分を有する。
【０１０２】
これにより、液晶分子にツイストの力が作用される。これにより、スプレイ配列からベンド配列への転移がし易くなり、転移の時間が短縮される。
【０１０３】
このような第１転移核部１１４ａに関して、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰの少なくとも一部における複数の第１転移核部１１４ａの密度を、内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高く設定することで、第１パターン及び第２パターンが抑制できる。場合によっては、第３パターンも抑制される。
【０１０４】
特に、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度を、内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高く設定することが望ましい。これにより、上記の第１〜第３パターンが特に効果に抑制できる。
【０１０５】
なお、第１転移核部１１４ａとして、上記のように第１孔１１２ｈを用いた場合、第１液晶層１３０ａのうちで第１孔１１２ｈに対向する部分は、光スイッチングに寄与しない。例えば、液晶シャッタを液晶シャッタ眼鏡１２として用いる際に、内側部ＣＰは、特に光学特性が良好であることが求められる。この内側部ＣＰにおいて、第１孔１１２ｈの密度が高いと、光スイッチングの特性に悪影響が生じる場合がある。このため、内側部ＣＰにおいては、第１孔１１２ｈ（第１転移核部１１４ａ）の密度は低くされる。そして、転移に長い時間を要する周縁部ＰＰにおいて、第１孔１１２ｈ（第１転移核部１１４ａ）の密度が高く設定される。
これにより、実用的に良好な光スイッチング特性と、短い転移時間と、が得られる。
【０１０６】
図１（ｂ）、図１（ｃ）及び図８に例示したように、第１孔１１２ｈの平面形状は、例えば長方形または扁平円などである。本具体例では、第１孔１１２ｈは、長方形のパターン形状を有している。長方形の長辺の長さは例えば約１５μｍであり、短辺の長さは例えば約１０μｍである。
【０１０７】
図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
これらの図は、実施形態に係る別の液晶シャッタ１００ａの構成を例示している。液晶シャッタ１００ａの全体の構成は、液晶シャッタ１００と同様である。図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を拡大して示した平面図である。図９（ａ）は、周縁部ＰＰに対応する。図９（ｂ）は、内側部ＣＰに対応する。
【０１０８】
図９（ａ）及び図９（ｂ）に表したように、液晶シャッタ１００ａにおいても、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）に第１転移核部１１４ａが設けられる。この例では、第１転移核部１１４ａとして第１孔１１２ｈが用いられる。そして、液晶シャッタ１００ａにおいては、第１孔１１２ｈの形状（Ｚ軸に沿ってみたときの形状）が、液晶シャッタ１００ａの場合とは異なる。
【０１０９】
この例においては、第１孔１１２ｈの形状は、縦長の長方形の一端と、横長の長方形の一端と、を連結した形状を有する。すなわち、第１孔１１２ｈの形状は、折れ曲がった細線の形状を有する。この場合も、第１孔１１２ｈは、第１転移核部１１４ａとして機能する。例えば、第１孔１１２ｈの周囲の電界１１８ｅは、第１液晶層１３０ａの液晶配列を得るために第１基板部１１０ａに実施される配向処理の方向と交差する成分を有する。
【０１１０】
そして、図９（ａ）及び図９（ｂ）に表したように、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度は、周縁部ＰＰよりも内側の内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａの密度よりも高い。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１１１】
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）は、第１基板部１１０ａを拡大して示した平面図である。図１０（ａ）は、周縁部ＰＰに対応する。図１０（ｂ）は、内側部ＣＰに対応する。
図１１（ａ）及び図１１（ｂ）は、第１の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的断面図である。
図１１（ａ）は、図３（ａ）のＡ１−Ａ２線断面に相当する断面図である。図１１（ｂ）は、図３（ａ）のＢ１−Ｂ２線断面に相当する断面図である。
【０１１２】
図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に表したように、実施形態に係る別の液晶シャッタ１００ｂにおいては、第１転移核部１１４ａとして、柱状スペーサ１１７が用いられている。液晶シャッタ１００ｂの全体の構成は、液晶シャッタ１００と同様である。以下では、第１転移核部１１４ａとして用いられる柱状スペーサ１１７に関して説明する。
【０１１３】
図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に表したように、柱状スペーサ１１７は、第１透明電極１１２ａの上に設けられる。柱状スペーサ１１７は、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の間隔を制御する。なお、柱状スペーサ１１７は、第１透明電極１１２ａの上に設けられた別の層の上に設けられても良い。この場合も、柱状スペーサ１１７が第１透明電極１１２ａの上に設けられる状態に含まれる。
【０１１４】
柱状スペーサ１１７は、例えば、第１配向膜１１３ａと第２配向膜１２３ａとの間隔を制御する。柱状スペーサ１１７は、第１液晶層１３０ａの厚さを制御する。なお、第１配向膜１１３ａは、柱状スペーサ１１７を覆わなくても良い。
【０１１５】
柱状スペーサ１１７の周囲においては、第１液晶層１３０ａの液晶配列が乱される。これにより、柱状スペーサ１１７の周囲においては、それ以外の部分よりも、スプレイ配列からベンド配列への転移が容易に行われる。
【０１１６】
このように、複数の第１転移核部１１４ａは、第１透明電極１１２ａの上に設けられ、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の間隔を制御する複数の柱状スペーサ１１７を含むことができる。
【０１１７】
そして、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）に表したように、第１基板部１１０ａの周縁部ＰＰにおける複数の第１転移核部１１４ａ（柱状スペーサ１１７）の密度は、周縁部ＰＰよりも内側の内側部ＣＰにおける複数の第１転移核部１１４ａ（柱状スペーサ１１７）の密度よりも高い。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１１８】
本実施形態において、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとは、互いに入れ替えが可能である。転移核部は、第２基板部１２０ａに設けられても良い。また、転移核部は、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとに設けられても良い。
【０１１９】
例えば、第１基板部１１０ａが複数の第１転移核部１１４ａを有し、さらに第２基板部１２０ａは、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の転移核部を有することができる。そして、第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａの周縁部の少なくとも一部における転移核部（第１転移核部１１４ａ、及び、第２基板部の転移核部）の密度は、周縁部よりも内側の内側部における転移核部の密度よりも高く設定することができる。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１２０】
第１転移核部１１４ａが第１透明電極１１２ａの周縁部ＰＰに設けられ、第１転移核部１１４ａは内側部ＣＰに設けられなくても良い。例えば、第１孔１１２ｈが第１透明電極１１２ａの周縁部ＰＰに設けられ、第１孔１１２ｈは内側部ＣＰに設けられなくても良い。
【０１２１】
複数の第１孔１１２ｈが第１透明電極１１２ａの周縁部ＰＰに設けられるとき、複数の第１孔１１２ｈのうちのいずれかは、第１透明電極１１２ａの外周に露出していても良い。すなわち、複数の第１孔１１２ｈのうちの一部の周囲の全てが、第１透明電極１１２ａの材料で囲まれていなくても良い。複数の第１孔１１２ｈのうちの一部は、第１透明電極１１２ａの外周に設けられた切り込み状でも良い。
【０１２２】
本実施形態において、液晶シャッタ１００を液晶シャッタ眼鏡１２に応用する場合、内側部ＣＰの縦方向の幅は、例えば３０ミリメートル（ｍｍ）以上７０ｍｍ以下に設定される。これにより、映像の良好な視認性が得られる。
【０１２３】
液晶シャッタ１００を液晶シャッタ眼鏡１２に応用する場合、周縁部ＰＰは、例えば、第１透明電極１２２ａの端から０ｍｍよりも大きく１０ｍｍ以下の幅の領域とされる。周縁部ＰＰの幅が広いと、周縁部ＰＰに設けられる高密度の第１転移核部１１４ａが、実用的な光学特性に与える影響が大きくなるためである。一方、内側部ＣＰから周縁部ＰＰに向かって徐々に密度を変更することで光学特性に与える影響を抑えることができ、この場合は周縁部ＰＰの幅の自由度を大きくすることができる。
【０１２４】
（第２の実施の形態）
図１２（ａ）〜図１２（ｃ）は、第２の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１２（ａ）は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｃの構成を例示する模式的平面図である。
【０１２５】
図１２（ａ）に表したように、液晶シャッタ１００ｃは第１シャッタ部１０１を備える。第１シャッタ部１０１は、第１透明電極１１２ａを有する第１基板部１１０ａと、第１透明電極１１２ａに対向する第２透明電極１２２ａを有する第２基板部１２０ａと、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に設けられた第１液晶層１３０ａと、を含む。
【０１２６】
この場合も、第１液晶層１３０ａの液晶配列は、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１に設定されたときにスプレイ配列であり、第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１よりも実効値が大きい第２電圧Ｖ２に設定されたときにベンド配列へ転移する。
【０１２７】
図１２（ａ）に表したように、第１基板部１１０ａは、第１部分Ｐ１と、第２部分Ｐ２と、を有する。第１部分Ｐ１は、第１基板部１１０ａのうちで第１液晶層１３０ａの液晶配列において液晶分子１３０ｌの一端が第１基板部１１０ａから離れている側（チルト側）の部分である。第２部分Ｐ２は、第１基板部１１０ａのうちで第１部分Ｐ１とは反対側の部分である。
【０１２８】
例えば、第１部分Ｐ１は、例えば、ラビング処理（ラビング方向ＲＤ）の出口側の部分である。第２部分Ｐ２は、例えば、ラビング処理（ラビング方向ＲＤ）の進入側の部分である。
【０１２９】
第１部分Ｐ１は、第２部分Ｐ２と、配向処理の方向（例えばＸ１軸方向）に沿って対向する。
【０１３０】
図１２（ｂ）及び図１２（ｃ）は、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を拡大して示した模式的平面図である。図１２（ｂ）は、第２部分Ｐ２に対応する。図１２（ｃ）は、第１部分Ｐ１に対応する。
【０１３１】
図１２（ｂ）及び図１２（ｃ）に表したように、この場合も、第１基板部１１０ａは、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の第１転移核部１１４ａを有する。この例では、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈが用いられる。
【０１３２】
そして、第２部分Ｐ２における複数の第１転移核部１１４ａ（例えば第１孔１１２ｈ）の密度は、第１部分Ｐ１における複数の第１転移核部１１４ａ（例えば第１孔１１２ｈ）の密度よりも高い。
【０１３３】
この構成においては、特に、上記で説明した第３パターンの発生を抑制する。すなわち、転移の時間が長い領域が１つの角部において発生する場合に、その角部は、ラビング処理（ラビング方向ＲＤ）の進入側の部分の角部である。従って、第２部分Ｐ２における第１転移核部１１４ａの密度を、第１部分Ｐ１における第１転移核部１１４ａの密度よりも高く設定することで、シャッタ部の全体の転移の時間を短縮できる。
【０１３４】
これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１３５】
第２の実施形態において、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈが用いられたが、第１転移核部１１４ａとして、柱状スペーサ１１７を用いても良い。
【０１３６】
第２の実施形態においても、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとは、互いに入れ替えが可能である。転移核部は、第２基板部１２０ａに設けられても良い。また、転移核部は、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとに設けられても良い。
【０１３７】
例えば、第１基板部１１０ａが複数の第１転移核部１１４ａを有し、さらに第２基板部１２０ａは、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の転移核部を有することができる。
【０１３８】
第２基板部１２０ａは、第２基板部１２０ａのうちで第１液晶層１３０ａの液晶配列において液晶分子の一端が第２基板部１２０ａから離れている側（チルト側）の部分と、第２基板部１２０ａのうちでチルト側の部分とは反対側の部分と、を有することができる。
【０１３９】
そして、第１基板部１１０ａ及び第２基板部１２０ａのチルト側の部分における複数の転移核部の密度は、チルト側の部分とは反対側の部分における複数の転移核部の密度よりも高く設定することができる。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１４０】
第１及び第２の実施形態において、第１転移核部１１４ａとして、第１孔１１２ｈ及び柱状スペーサ１１７以外のものを用いても良い。
【０１４１】
例えば、第１転移核部１１４ａとして、部分的にプレチルト角θを大きくする領域を用いても良い。例えば、第１透明電極１１２ａの上に第１配向膜１１３ａを設け、その一部を加工する。そして、加工された部分のプレチルト角θが、加工されていない部分のプレチルト角θとは異なるようにしても良い。これにより、スプレイ配列からベンド配列への転移がより容易な領域を部分的に設けることができる。
【０１４２】
また、例えば、第１配向膜１１３ａの上に、液晶配列を不均一にする複数の領域を設け、これを第１転移核部１１４ａとして用いても良い。
【０１４３】
第１転移核部１１４ａには、第１液晶層１３０ａにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる任意の構成を適用できる。
【０１４４】
第１転移核部１１４ａに近接する部分におけるスプレイ配列からベンド配列への転移の時間は、第１転移核部１１４ａから離れた部分におけるスプレイ配列からベンド配列への転移の時間よりも短い。
【０１４５】
換言すれば、例えば、第１液晶層１３０ａの液晶配列の変化を顕微鏡で観察したときに、スプレイ配列からベンド配列への転移の時間が、他の部分におけるスプレイ配列からベンド配列への転移の時間よりも短い複数の領域が存在したとき、その領域に対応する第１基板部１１０ａに含まれる要素が複数の第１転移核部１１４ａである。この要素として、例えば、第１孔１１２ｈ、柱状スペーサ１１７、及び、配向性が他と異なる部分などを用いることができる。
【０１４６】
第１及び第２の実施形態において、第１孔１１２ｈの大きさは小さいほうが好ましい。これにより、第１孔１１２ｈにより生じる光漏れが実用的に抑制できる。
【０１４７】
第１孔１１２ｈの１つの軸（例えばＸ軸）に沿った長さは、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下である。第１孔１１２ｈの別の軸（例えばＹ軸）に沿った長さは、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下である。長さが５μｍ未満の場合は、転移の時間を縮小する効果が小さくなる場合がある。また、加工が困難になる。また、長さが１００μｍを超えると、光の漏れが生じ、光スイッチングのコントラスト比が低くなる。
【０１４８】
第１及び第２の実施形態において、柱状スペーサ１１７の１つの軸（例えばＸ軸）に沿った長さは、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下である。柱状スペーサ１１７の別の軸（例えばＹ軸）に沿った長さは、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下である。長さが５μｍ未満の場合は、転移の時間を縮小する効果が小さくなる場合がある。また、加工が困難になる。また、長さが１００μｍを超えると、光の漏れが生じ、光スイッチングのコントラスト比が低くなる。なお、柱状スペーサ１１７の高さ（例えばＺ軸に沿った長さ）は、第１液晶層１３０ａの適正な厚みに応じて定められる。
【０１４９】
なお、ＯＣＢモードを用いたアクティブマトリクス型液晶ディスプレイにおいては、例えば、第１基板部に複数の画素電極と、画素電極のそれぞれに接続されたスイッチング素子（例えば薄膜トランジスタ）と、が設けられる。このような構成の液晶ディスプレイにおいても、スプレイ配列からベンド配列への転移の初期化処理が実施される。しかし、この構成においては、複数の画素電極のそれぞれに転移核部（例えば、孔または柱状スペーサなど）が設けられることはない。例えば、液晶ディスプレイにおいては、柱状スペーサが設けられる場合においても、柱状スペーサは画素電極の上ではなく、例えば配線部やスイッチング素子の上に設けられる。そして、液晶ディスプレイにおいては、１つの透明電極（画素電極）の内部において、柱状スペーサや孔の密度が変更されることはない。
【０１５０】
これに対して、第１及び第２の実施形態に係る液晶シャッタおいては、１つの透明電極のなかで、第１転移核部１１４ａ（例えば第１孔１１２ｈ及び柱状スペーサ１７７など）の密度が変更される。
【０１５１】
（第３の実施の形態）
図１３（ａ）〜図１３（ｃ）は、第３の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１３（ａ）は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｄの構成を例示する平面図である。図１３（ｂ）は、第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を例示する平面図である。図１３（ｃ）は、第２基板部１２０ａ（第２透明電極１２２ａ）を例示する平面図である。
【０１５２】
図１３（ａ）に表したように、液晶シャッタ１００ｄは第１シャッタ部１０１を備える。第１シャッタ部１０１は、第１透明電極１１２ａを有する第１基板部１１０ａと、第１透明電極１１２ａに対向する第２透明電極１２２ａを有する第２基板部１２０ａと、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に設けられた第１液晶層１３０ａと、を含む。本実施形態においては、第１シャッタ部１０１は、第１シール部１８０ａをさらに含む。第１シール部１８０ａは、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとの間において第１液晶層１３０ａを囲む。
【０１５３】
そして、この場合も、第１液晶層１３０ａの液晶配列は、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間の第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１に設定されたときにスプレイ配列であり、第１電位差Ｖａが第１電圧Ｖ１よりも実効値が大きい第２電圧Ｖ２に設定されたときにベンド配列へ転移する。
【０１５４】
図１３（ａ）に表したように、第１透明電極１１２ａは、第１接続部１１２ａｃと、第１電圧印加部１１２ａｓと、第１凹凸部１１２ａｐと、を有する。
【０１５５】
第１接続部１１２ａｃは、第１シール部１８０ａの外側に延出する。
第１電圧印加部１１２ａｓは、第１シール部１８０ａよりも内側である。第１電圧印加部１１２ａｓは、第１シール部１８０ａよりも第１液晶層１３０ａの側に配置される。第１電圧印加部１１２ａｓは、第１液晶層１３０ａに対向する。
【０１５６】
第１凹凸部１１２ａｐは、第１電圧印加部１１２ａｓの周縁の少なくとも一部に設けられる。第１凹凸部１１２ａｐは、第１シール部１８０ａよりも内側である。第１凹凸部１１２ａｐは、第１シール部１８０ａの内側から第１シール部１８０ａに向かう方向に沿って突出または後退する。
【０１５７】
すなわち、この例では、第１凹凸部１１２ａｐとして、第１電圧印加部１１２ａｓの周縁に設けられた複数の凹部と凸部とが用いられている。
【０１５８】
一方、この例では、図１３（ｃ）に表したように、第２基板部１２０ａの第２透明電極１２２ａのパターン形状は、図３（ｃ）に例示した液晶シャッタ１００の第２透明電極１２２ａのパターン形状と同様である。
【０１５９】
このような構成を有する液晶シャッタ１００ｄにおいて、第１凹凸部１１２ａｐは、例えば、第１転移核部１１４ａとして機能する。例えば、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間に電圧が印加されたときの第１凹凸部１１２ａｐの周囲における電界は、Ｘ−Ｙ平面（第１基板部１１０ａから第２基板部１２０ａに向かうＺ軸方向に対して垂直な平面）内における液晶配列の方向と交差する成分を有する。
【０１６０】
すなわち、液晶シャッタ１００ｄの構成は、周縁部に第１転移核部１１４ａが設けられていることに相当する。これにより、上記の第１パターンの発生が抑制できる。また、場合によっては、第２パターン及び第３パターンの発生が抑制できる。
【０１６１】
本実施形態においても、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとは、互いに入れ替えが可能である。また、透明電極の凹凸部は、第２基板部１２０ａに設けられても良い。
【０１６２】
図１４（ａ）及び図１４（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１４（ａ）は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｅにおける第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を例示する平面図である。図１４（ｂ）は、第２基板部１２０ａ（第２透明電極１２２ａ）を例示する平面図である。
【０１６３】
図１４（ａ）及び図１４（ｂ）に表したように、液晶シャッタ１００ｅにおいては、第２基板部１２０ａの第２透明電極１２２ａは、第１シール部１８０ａの外側に延出する第２接続部１２２ａｃと、第１シール部１８０ａよりも内側の第２電圧印加部１２２ａｓと、第２電圧印加部１２２ａｓの周縁の少なくとも一部に設けられ、第１シール部１８０ａの内側から第１シール部１８０ａに向かう方向に沿って突出または後退した第２凹凸部１２２ａｐと、を有している。第２凹凸部１２２ａｐも、転移核部として機能する。
【０１６４】
これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１６５】
液晶シャッタ１００ｄ及び１００ｅにおいては、凹凸部（例えば第１凹凸部１１２ａｐ）は、三角形状である。ただし、実施形態はこれに限らない。凹凸部のパターン形状は任意である。
【０１６６】
図１５（ａ）及び図１５（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
図１５（ａ）は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｆにおける第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を例示する平面図である。図１５（ｂ）は、第２基板部１２０ａ（第２透明電極１２２ａ）を例示する平面図である。
【０１６７】
図１５（ａ）及び図１５（ｂ）に表したように、液晶シャッタ１００ｆにおいては、第１凹凸部１１２ａｐのパターンは、長方形状である。この場合も、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１６８】
また、実施形態において、第１凹凸部１１２ａｐは、直線状の線分を有する輪郭を有する任意の多角形、及び、曲線状の輪郭を有する任意のパターン形状を有することができる。
【０１６９】
図１６（ａ）及び図１６（ｂ）は、第３の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的平面図である。
これらの図は、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｇ及び１００ｈにおける第１基板部１１０ａ（第１透明電極１１２ａ）を例示している。
【０１７０】
図１６（ａ）に表したように、液晶シャッタ１００ｇにおいては、第１透明電極１１２ａの第１電圧印加部１１２ａｓの周縁に、狭い幅の凹部が設けられている。なお、この形状は、広い幅の凸部が設けられていると見なすことができる。このような凹部または凸部を、第１凹凸部１１２ａｐとして用いることができる。
【０１７１】
図１６（ｂ）に表したように、液晶シャッタ１００ｈにおいては、第１透明電極１１２ａの第１電圧印加部１１２ａｓの周縁に、狭い幅の凸部が設けられている。なお、この形状は、広い幅の凹部が設けられていると見なすことができる。このような凹部または凸部を、第１凹凸部１１２ａｐとして用いることができる。
【０１７２】
本実施形態において、第１凹凸部１１２ａｐの凹部のピッチは、３μｍ以上２００μｍ以下とすることができる。３μｍ未満の微細ピッチで精度よく加工するは困難であり、また高精度な設備の使用が必要となるためコスト増となる。また、ピッチが２００μｍを超えると、その間隔が広すぎて、転移の時間を縮小する効果が小さくなる場合がある。
【０１７３】
第１凹凸部１１２ａｐの突出または後退の長さは、３μｍ以上２００μｍ以下とすることができる。長さが３μｍ未満の場合は、転移の時間を縮小する効果が小さくなる場合がある。また、加工が困難になる。また、長さが２００μｍを超えると、凹凸パターンが視認できるようになり、使用者が違和感を持つ場合がある。
【０１７４】
なお、ＯＣＢモードを用いたアクティブマトリクス型液晶ディスプレイにおいて、複数の画素電極のそれぞれに、例えば、切り込み部を設ける構成がある。これに対し、本実施形態に係る液晶シャッタのシャッタ部においては、１つの基板部には１つの透明電極が設けられる。そして、その透明電極の面積は、液晶ディスプレイの複数の画素電極のそれぞれの面積とは比較できないくらいに大きい。液晶ディスプレイにおいては、開口率が低下するため、画素電極のそれぞれの周縁に凹凸部を設けることは行われない。これに対し、実施形態に係る液晶シャッタにおいては、中央部分のスイッチング特性が主に利用され、周縁部のスイッチング特性は実用的には利用されない。このため、実施形態においては、透明電極の周縁部に凹凸部を設ける。これにより、中央部分のスイッチング特性に悪影響を与えないで、液晶配向の転移の時間を短縮できる。
【０１７５】
（第４の実施の形態）
図１７は、第４の実施形態に係る液晶シャッタの構成を例示する模式的斜視図である。 図１７に表したように、本実施形態に係る液晶シャッタ１００ｍは、既に説明した第１シャッタ部１０１に加え、第２シャッタ部１０２を備える。第２シャッタ部１０２は、第１シャッタ部１０２と並置される。
【０１７６】
第２シャッタ部１０２は、第３透明電極１１２ｂを有する第３基板部１１０ｂと、第３透明電極１１２ｂに対向する第４透明電極１２２ｂを有する第４基板部１２０ｂと、第３透明電極１１２ｂと第４透明電極１２２ｂとの間に設けられた第２液晶層１３０ｂと、を含む。
【０１７７】
第２液晶層１３０ｂの液晶配列は、第３透明電極１１２ｂと第４透明電極１２２ｂとの間の第２電位差が第３電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、第２電位差が第３電圧よりも実効値が大きい第４電圧に設定されたときにベンド配列へ転移する。
【０１７８】
第２シャッタ部１０２は、第１シャッタ部１０１と同様の構成を有することができる。 例えば、第３基板部１１０ｂは、第２液晶層１３０ｂにおけるスプレイ配列からベンド配列への転移を促進させる複数の第２転移核部１１４ｂを有することができる。第２転移核部１１４ｂは、第１〜第３の実施形態に関して説明した第１転移核部１１４ａと同様の構成を有することができる。
【０１７９】
例えば、第３基板部１１０ｂの周縁部の少なくとも一部における複数の第２転移核部１１４ｂの密度は、第３基板部１１０ｂの周縁部よりも内側の内側部における複数の第２転移核部１１４ｂの密度よりも高く設定することができる。
【０１８０】
また、第３基板部１１０ｂは、第３基板部１１０ｂのうちで第２液晶層１３０ｂの液晶配列において液晶分子１３０ｌの一端が第３基板部１１０ｂから離れている側（チルト側）の第３部分と、第３基板部１１０ｂのうちで第３部分とは反対側の第４部分と、を有することができる。そして、第４部分における複数の第２転移核部１１４ｂの密度は、第３部分における複数の第２転移核部１１４ｂの密度よりも高く設定される。
【０１８１】
この場合も、複数の第２転移核部１１４ｂとして、第３透明電極１１２ｂに設けられた複数の孔を用いることができる。また、複数の第２転移核部１１４ｂとして、第３透明電極１１２ｂの上の設けられた複数の柱状スペーサを用いることができる。
【０１８２】
また、第２シャッタ部１０２は、第３基板部１１０ｂ、第４基板部１２０ｂ及び第２液晶層１３０ｂに加え、第３基板部１１０ｂと第４基板部１２０ｂとの間において第２液晶層１３０ｂを囲む第２シール部をさらに含むことができる。
【０１８３】
第３透明電極１１２ｂは、第３接続部と、第３電圧印加部と、第３凹凸部と、を有することができる。第３接続部は、第２シール部の外側に延出する。第３電圧印加部は、第３シール部よりも内側である。第３凹凸部は、第３電圧印加部の周縁の少なくとも一部に設けられる。第３凹凸部は、第２シール部の内側から第２シール部に向かう方向に沿って突出または後退する。
【０１８４】
このような構成により、例えば、第１〜第３パターンの転移に長い時間を要する領域が生成されることを抑制することができる。これにより、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮することができる。
【０１８５】
液晶シャッタ１００ｍは、２つのシャッタ部を備えることで、液晶シャッタ眼鏡１２ａとして利用することができる。
図１７に表したように、例えば、液晶シャッタ１００ｍ（液晶シャッタ眼鏡１２ａ）は、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２とを連結する連結部３５５と、左耳用の左支持部３５１と、右耳用の右支持部３５２と、をさらに備えることができる。左支持部３５１は、左耳かけ部３５３を有し、右支持部３５２は、右耳かけ部３５４を有す。
【０１８６】
例えば、第１シャッタ部１０１が左眼に対応して配置され、第２シャッタ部１０２が右眼に対応して配置される。なお、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２の配置は逆でも良い。
【０１８７】
また、第１シャッタ部１０１の第１基板部１１０ａの側に、第２シャッタ部１０２の第３基板部１１０ｂが配置されているが、第１基板部１１０ａの側に第４基板部１２０ｂが配置されても良い。
【０１８８】
本具体例では、第２基板部１２０ａが、第１基板部１１０ａよりも左耳かけ部３５３の側に配置され、第４基板部１２０ｂが、第３基板部１１０ｂよりも右耳かけ部３５４の側に配置されている。第１基板部１１０ａが、第２基板部１２０ａよりも左耳かけ部３５３の側に配置され、第３基板部１１０ｂが、第４基板部１２０ｂよりも右耳かけ部３５４の側に配置されても良い。
【０１８９】
図１８は、第４の実施形態に係る別の液晶シャッタの構成を例示する模式的斜視図である。
図１８に表したように、本実施形態に係る別の液晶シャッタ１００ｎも、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２とを備える。この例では、第１基板部１１０ａと第３基板部１１０ｂとが同一の支持基板４１１に設けられ、第２基板部１２０ａと第４基板部１２０ｂとが同一の別の支持基板４２１に設けられている。
【０１９０】
すなわち、支持基板４１１の一部に第１透明電極１１２ａが設けられる。支持基板４１１の別の一部に、第１透明電極１１２ａに並置して第３透明電極１１２ｂが設けられる。第１透明電極１１２ａが設けられる部分が第１基板部１１０ａとなる。第３透明電極１１２ｂが設けられる部分が第３基板部１１０ｂとなる。
【０１９１】
同様に、別の支持基板４２１の一部に第２透明電極１２２ａが設けられる。支持基板４２１の別の一部に、第２透明電極１２２ａに並置して第４透明電極１２２ｂが設けられる。第２透明電極１２２ａが設けられる部分が第２基板部１２０ａとなり、第４透明電極１２２ｂが設けられる部分が第４基板部１２０ｂとなる。
【０１９２】
このように、第１シャッタ部１０１と第２シャッタ部１０２とは、一体的に設けられても良い。
【０１９３】
上記の液晶シャッタ１００ｍ及び１００ｎにおいて、例えば、第１転移核部１１４ａが第１基板部１１０ａに設けられ、第２転移核部１１４ｂが第３基板部１１０ｂに設けられる。ただし、第１基板部１１０ａと第２基板部１２０ａとは互いに入れ換えができ、第３基板部１１０ｂと第４基板部１２０ｂとは互いに入れ換えができる。
【０１９４】
液晶シャッタが液晶シャッタ眼鏡１２ｂに応用される場合において、第１転移核部１１４ａ及び第２転移核部１１４ｂは、観視者の目に近い側の基板部に設けられても良く、目から遠い側の基板部に設けられても良い。
【０１９５】
このように、液晶シャッタ（液晶シャッタ眼鏡）は、第１シャッタ部１０１と、第２シャッタ部１０２と、装着部３６０（例えば左支持部３５１及び右支持部３５２）と、を備えることができる。装着部３６０は、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２の少なくともいずれかに連結され、使用者の頭部に装着され、第１シャッタ部１０１及び第２シャッタ部１０２を使用者の頭部に固定させる。なお、装着部３６０は、帯状でも良く、液晶シャッタはゴーグル状の形態でも良い。
【０１９６】
上記においては、ディスプレイ１３としてＯＣＢモードで動作するアクティブマトリクス型液晶ディスプレイを用いる場合として説明したが、実施形態はこれに限定されない。例えば、実施形態に係る液晶シャッタが適用できる表示システム１１のディスプレイ１３には、高速応答性を有するディスプレイ全般を用いることができる。例えば、ディスプレイ１３として、有機ＥＬディスプレイやプラズマディスプレイなどを用いても良い。
【０１９７】
なお、実施形態において、スプレイ配列及びベンド配列は、図５（ａ）〜図５（ｄ）に例示した液晶配列以外の種々の変形の配列を有することができる。
【０１９８】
例えば、図５（ａ）に例示した液晶配列では、第１透明電極１１２ａと第２透明電極１２２ａとの間のＸ軸に沿った全域にわたってスプレイ配列状態である。ただし、実施形態において、例えば、第１透明電極１１２ａの近傍でスプレイ配列で、第２透明電極１２２ａの近傍でベンド配列になっている配列状態（「スプレイ−ベンド配列状態」と言うことにする）もスプレイ配列の１種とする。例えば、第１透明電極１１２ａの近傍でベンド配列で、第２透明電極１２２ａの近傍でスプレイ配列になっている配列状態（「ベンド−スプレイ配列状態」という）もスプレイ配列の１種とする。一方、ベンド配列状態においては、第１透明電極１１２ａの近傍、及び、第２透明電極１２２ａの近傍、の両方でベンド配列である。
【０１９９】
実施形態によれば、スプレイ配列からベンド配列に転移させる初期化処理の時間を短縮した液晶シャッタが提供される。
【０２００】
なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。
【０２０１】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、液晶シャッタに含まれる基板部、透明電極、支持基板、配向膜、液晶層、柱状スペーサ及び孔などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
【０２０２】
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
【０２０３】
その他、本発明の実施の形態として上述した液晶シャッタを基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての液晶シャッタも、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【０２０４】
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【０２０５】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０２０６】
１１…表示システム、 １２、１２ａ、１２ｂ…液晶シャッタ眼鏡、 １３…ディスプレイ、 １３ｄ…表示面、 １４…制御部、 １００、１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ、１１０ｅ、１００ｆ、１１０ｇ、１１０ｈ、１００ｍ、１００ｎ…液晶シャッタ、 １０１…第１シャッタ部、 １０２…第２シャッタ部、 １０９ａ〜１０９ｃ…第１〜第３試料、 １１０ａ…第１基板部、 １１０ｂ…第３基板部、 １１１ａ…第１支持基板、 １１２ａ…第１透明電極、 １１２ａｃ…第１接続部、 １１２ａｐ…第１凹凸部、 １１２ａｓ…第１電圧印加部、 １１２ａｔ…第１トランスファ部、 １１２ｂ…第３透明電極、 １１２ｈ…第１孔、 １１３ａ…第１配向膜、 １１４ａ…第１転移核部、 １１４ｂ…第２転移核部、 １１７…柱状スペーサ、 １１８ｄ…第１配向方向、 １１８ｅ…電界、 １２０ａ…第２基板部、 １２０ｂ…第４基板部、 １２１ａ…第２支持基板、 １２２ａ…第２透明電極、 １２２ａｃ…第２接続部、 １２２ａｐ…第２凹凸部、 １２２ａｓ…第２電圧印加部、 １２２ｂ…第４透明電極、 １２３ａ…第２配向膜、 １２８ｄ…第２配向方向、 １３０ａ…第１液晶層、 １３０ｂ…第２液晶層、 １３０ｌ…液晶分子、 １４０ａ…第１光学補償板、 １５０ａ…第２光学補償板、 １６０ａ…第１偏光板、 １７０ａ…第２偏光板、 １８０ａ…第１シール部、 １８１ａ…導電部材、 ３３０…駆動部、 ３５１…左支持部、 ３５２…右支持部、 ３５３…左耳かけ部、 ３５４…右耳かけ部、 ３５５…連結部、 ３６０…装着部、 ４１１、４２１…支持基板、 ＣＰ…内側部、 ＣＸ１…内側部、 ＣＹ１…部分、 ＣＺ１…部分、 Ｐ１…第１部分、 Ｐ２…第２部分、 ＰＰ…周縁部、 ＰＸ１…周縁部、 ＰＹ１、ＰＹ２…角部、 ＰＺ１…角部、 ＲＤ…ラビング方向、 Ｖ１、Ｖ２…第１、第２電圧、 ＶＢ１、ＶＢ２…第１、第２ベンド電圧、 Ｖａ…電位差（第１電位差）、 θ…プレチルト角
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１透明電極を有する第１基板部と、
前記第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に設けられた第１液晶層と、
を含む第１シャッタ部を備え、
前記第１液晶層の液晶配列は、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の第１電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第１電位差が前記第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第１基板部は、前記第１液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第１転移核部を有し、
前記第１基板部の周縁部の少なくとも一部における前記複数の第１転移核部の密度は、前記周縁部よりも内側の内側部における前記複数の第１転移核部の密度よりも高いことを特徴とする液晶シャッタ。
【請求項２】
第１透明電極を有する第１基板部と、
前記第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に設けられた第１液晶層と、
を含む第１シャッタ部を備え、
前記第１液晶層の液晶配列は、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の第１電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第１電位差が前記第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第１基板部は、前記第１液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第１転移核部を有し、
前記第１基板部は、前記第１基板部のうちで前記第１液晶層の前記液晶配列において液晶分子の一端が前記第１基板部から離れている側の第１部分と、前記第１基板部のうちで前記第１部分とは反対側の第２部分と、を有し、
前記第２部分における前記複数の第１転移核部の密度は、前記第１部分における前記複数の第１転移核部の密度よりも高いことを特徴とする液晶シャッタ。
【請求項３】
前記第１部分は、前記第１液晶層の前記液晶配列を得るために前記第１基板部に実施されるラビング処理の出口側の部分であり、
前記第２部分は、前記ラビング処理の進入側の部分であることを特徴とする請求項２記載の液晶シャッタ。
【請求項４】
前記複数の第１転移核部は、前記第１透明電極に設けられた複数の孔を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項５】
前記複数の第１転移核部は、前記第１透明電極の上に設けられ、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の間隔を制御する複数の柱状スペーサを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項６】
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に電圧が印加されたときの前記複数の第１転移核部の周囲の電界は、前記第１基板部から前記第２基板部に向かう第１方向に対して垂直な平面内における前記液晶配列の方向と交差する成分を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項７】
第１透明電極を有する第１基板部と、
前記第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に設けられた第１液晶層と、
前記第１基板部と前記第２基板部との間において前記第１液晶層を囲む第１シール部と、
を含む第１シャッタ部を備え、
前記第１液晶層の液晶配列は、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の第１電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第１電位差が前記第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第１透明電極は、
前記第１シール部の外側に延出する第１接続部と、
前記第１シール部よりも内側の第１電圧印加部と、
前記第１電圧印加部の周縁の少なくとも一部に設けられ、前記第１シール部の前記内側から前記第１シール部に向かう方向に沿って突出または後退した第１凹凸部と、
を有することを特徴とする液晶シャッタ。
【請求項８】
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に電圧が印加されたときの前記第１凹凸部の周囲における電界は、前記第１基板部から前記第２基板部に向かう第１方向に対して垂直な平面内における前記液晶配列の方向と交差する成分を有することを特徴とする請求項７記載の液晶シャッタ。
【請求項９】
前記第１シャッタ部と並置された第２シャッタ部をさらに備え、
前記第２シャッタ部は、
第３透明電極を有する第３基板部と、
前記第３透明電極に対向する第４透明電極を有する第４基板部と、
前記第３透明電極と前記第４透明電極との間に設けられた第２液晶層と、
を含み、
前記第２液晶層の液晶配列は、前記第３透明電極と前記第４透明電極との間の第２電位差が第３電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第２電位差が前記第３電圧よりも実効値が大きい第４電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第３基板部は、前記第２液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第２転移核部を有し、
第３基板部の周縁部の少なくとも一部における前記複数の第２転移核部の密度は、前記第３基板部の前記周縁部よりも内側の内側部における前記複数の第２転移核部の密度よりも高いことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項１０】
前記第１シャッタ部と並置された第２シャッタ部をさらに備え、
前記第２シャッタ部は、
第３透明電極を有する第３基板部と、
前記第３透明電極に対向する第４透明電極を有する第４基板部と、
前記第３透明電極と前記第４透明電極との間に設けられた第２液晶層と、
を含み、
前記第２液晶層の液晶配列は、前記第３透明電極と前記第４透明電極との間の第２電位差が第３電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第２電位差が前記第３電圧よりも実効値が大きい第４電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第３基板部は、前記第２液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第２転移核部を有し、
前記第３基板部は、前記第３基板部のうちで前記第２液晶層の前記液晶配列において液晶分子の一端が前記第３基板部から離れている側の第３部分と、前記第３基板部のうちで前記第３部分とは反対側の第４部分と、を有し、
前記第４部分における前記複数の第２転移核部の密度は、前記第３部分における前記複数の第２転移核部の密度よりも高いことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項１１】
前記第１シャッタ部と並置された第２シャッタ部をさらに備え、
前記第２シャッタ部は、
第３透明電極を有する第３基板部と、
前記第３透明電極に対向する第４透明電極を有する第４基板部と、
前記第３透明電極と前記第４透明電極との間に設けられた第２液晶層と、
前記第３基板部と前記第４基板部との間において前記第２液晶層を囲む第２シール部と、
を含み、
前記第２液晶層の液晶配列は、前記第３透明電極と前記第４透明電極との間の第２電位差が第３電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第２電位差が前記第３電圧よりも実効値が大きい第４電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第３透明電極は、
前記第２シール部の外側に延出する第３接続部と、
前記第３シール部よりも内側の第３電圧印加部と、
前記第３電圧印加部の周縁の少なくとも一部に設けられ、前記第２シール部の前記内側から前記第２シール部に向かう方向に沿って突出または後退した第３凹凸部と、
を有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項１】
第１透明電極を有する第１基板部と、
前記第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に設けられた第１液晶層と、
を含む第１シャッタ部を備え、
前記第１液晶層の液晶配列は、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の第１電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第１電位差が前記第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第１基板部は、前記第１液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第１転移核部を有し、
前記第１基板部の周縁部の少なくとも一部における前記複数の第１転移核部の密度は、前記周縁部よりも内側の内側部における前記複数の第１転移核部の密度よりも高いことを特徴とする液晶シャッタ。
【請求項２】
第１透明電極を有する第１基板部と、
前記第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に設けられた第１液晶層と、
を含む第１シャッタ部を備え、
前記第１液晶層の液晶配列は、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の第１電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第１電位差が前記第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第１基板部は、前記第１液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第１転移核部を有し、
前記第１基板部は、前記第１基板部のうちで前記第１液晶層の前記液晶配列において液晶分子の一端が前記第１基板部から離れている側の第１部分と、前記第１基板部のうちで前記第１部分とは反対側の第２部分と、を有し、
前記第２部分における前記複数の第１転移核部の密度は、前記第１部分における前記複数の第１転移核部の密度よりも高いことを特徴とする液晶シャッタ。
【請求項３】
前記第１部分は、前記第１液晶層の前記液晶配列を得るために前記第１基板部に実施されるラビング処理の出口側の部分であり、
前記第２部分は、前記ラビング処理の進入側の部分であることを特徴とする請求項２記載の液晶シャッタ。
【請求項４】
前記複数の第１転移核部は、前記第１透明電極に設けられた複数の孔を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項５】
前記複数の第１転移核部は、前記第１透明電極の上に設けられ、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の間隔を制御する複数の柱状スペーサを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項６】
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に電圧が印加されたときの前記複数の第１転移核部の周囲の電界は、前記第１基板部から前記第２基板部に向かう第１方向に対して垂直な平面内における前記液晶配列の方向と交差する成分を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項７】
第１透明電極を有する第１基板部と、
前記第１透明電極に対向する第２透明電極を有する第２基板部と、
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に設けられた第１液晶層と、
前記第１基板部と前記第２基板部との間において前記第１液晶層を囲む第１シール部と、
を含む第１シャッタ部を備え、
前記第１液晶層の液晶配列は、前記第１透明電極と前記第２透明電極との間の第１電位差が第１電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第１電位差が前記第１電圧よりも実効値が大きい第２電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第１透明電極は、
前記第１シール部の外側に延出する第１接続部と、
前記第１シール部よりも内側の第１電圧印加部と、
前記第１電圧印加部の周縁の少なくとも一部に設けられ、前記第１シール部の前記内側から前記第１シール部に向かう方向に沿って突出または後退した第１凹凸部と、
を有することを特徴とする液晶シャッタ。
【請求項８】
前記第１透明電極と前記第２透明電極との間に電圧が印加されたときの前記第１凹凸部の周囲における電界は、前記第１基板部から前記第２基板部に向かう第１方向に対して垂直な平面内における前記液晶配列の方向と交差する成分を有することを特徴とする請求項７記載の液晶シャッタ。
【請求項９】
前記第１シャッタ部と並置された第２シャッタ部をさらに備え、
前記第２シャッタ部は、
第３透明電極を有する第３基板部と、
前記第３透明電極に対向する第４透明電極を有する第４基板部と、
前記第３透明電極と前記第４透明電極との間に設けられた第２液晶層と、
を含み、
前記第２液晶層の液晶配列は、前記第３透明電極と前記第４透明電極との間の第２電位差が第３電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第２電位差が前記第３電圧よりも実効値が大きい第４電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第３基板部は、前記第２液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第２転移核部を有し、
第３基板部の周縁部の少なくとも一部における前記複数の第２転移核部の密度は、前記第３基板部の前記周縁部よりも内側の内側部における前記複数の第２転移核部の密度よりも高いことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項１０】
前記第１シャッタ部と並置された第２シャッタ部をさらに備え、
前記第２シャッタ部は、
第３透明電極を有する第３基板部と、
前記第３透明電極に対向する第４透明電極を有する第４基板部と、
前記第３透明電極と前記第４透明電極との間に設けられた第２液晶層と、
を含み、
前記第２液晶層の液晶配列は、前記第３透明電極と前記第４透明電極との間の第２電位差が第３電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第２電位差が前記第３電圧よりも実効値が大きい第４電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第３基板部は、前記第２液晶層における前記スプレイ配列から前記ベンド配列への前記転移を促進させる複数の第２転移核部を有し、
前記第３基板部は、前記第３基板部のうちで前記第２液晶層の前記液晶配列において液晶分子の一端が前記第３基板部から離れている側の第３部分と、前記第３基板部のうちで前記第３部分とは反対側の第４部分と、を有し、
前記第４部分における前記複数の第２転移核部の密度は、前記第３部分における前記複数の第２転移核部の密度よりも高いことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【請求項１１】
前記第１シャッタ部と並置された第２シャッタ部をさらに備え、
前記第２シャッタ部は、
第３透明電極を有する第３基板部と、
前記第３透明電極に対向する第４透明電極を有する第４基板部と、
前記第３透明電極と前記第４透明電極との間に設けられた第２液晶層と、
前記第３基板部と前記第４基板部との間において前記第２液晶層を囲む第２シール部と、
を含み、
前記第２液晶層の液晶配列は、前記第３透明電極と前記第４透明電極との間の第２電位差が第３電圧に設定されたときにスプレイ配列であり、前記第２電位差が前記第３電圧よりも実効値が大きい第４電圧に設定されたときにベンド配列へ転移し、
前記第３透明電極は、
前記第２シール部の外側に延出する第３接続部と、
前記第３シール部よりも内側の第３電圧印加部と、
前記第３電圧印加部の周縁の少なくとも一部に設けられ、前記第２シール部の前記内側から前記第２シール部に向かう方向に沿って突出または後退した第３凹凸部と、
を有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載の液晶シャッタ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【公開番号】特開２０１２−１８９７５１（Ｐ２０１２−１８９７５１Ａ）
【公開日】平成２４年１０月４日（２０１２．１０．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５２５５１（Ｐ２０１１−５２５５１）
【出願日】平成２３年３月１０日（２０１１．３．１０）
【出願人】（３０２０２０２０７）株式会社ジャパンディスプレイセントラル (2,170)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月４日（２０１２．１０．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月１０日（２０１１．３．１０）
【出願人】（３０２０２０２０７）株式会社ジャパンディスプレイセントラル (2,170)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]