液晶装置及び電子機器
【課題】変形応力が液晶装置に加わった後に残存する表示ムラを低減する。
【解決手段】液晶装置１０は、互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサ１５とを有し、前記収容部１０Ｐの中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄとの間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部１５ａの断面積若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値より小さく構成された中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられる。
【解決手段】液晶装置１０は、互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサ１５とを有し、前記収容部１０Ｐの中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄとの間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部１５ａの断面積若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値より小さく構成された中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶装置及び電子機器に係り、特に、液晶を収容する収容部の厚みを規定するための柱状スペーサを備えた液晶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、図１１及び図１２に示すように、液晶装置１０は第１の基板１１と第２の基板１２とがシール材１４により貼り合わされ、これらの基板間にシール材１４によって囲まれた収容部１０Ｐが設けられ、この収容部１０Ｐの内部に液晶１３が配置される。通常、この液晶装置１０には液晶１３に独立して電界が与えられる領域である画素Ｇを構成するための画素構造が設けられ、この画素構造によって複数の画素Ｇが独立して光学的に制御可能に構成される。複数の画素Ｇの間には遮光膜１９により画素間領域Ｈが形成されるが、この画素間領域Ｈは複数の画素Ｇの配列態様に応じて複数の画素Ｇの間を所定の方向に伸びるように構成される。典型的な画素間領域Ｈの構造としては縦横に配列された画素Ｇの間に格子状に構成されたものが知られている。
【０００３】
第１の基板１１の第２の基板１２と対向する面には配向膜１６が形成される。この配向膜１６は液晶１３に所定の初期配向状態（例えば、電界が印加されていないときの配向状態）を与えるための配向機能を備えている。なお、第１の基板１１と第２の基板１２のそれぞれの外面（他方の基板と対向する面とは反対側の面）上には偏光板１７，１８が配置される場合もある。
【０００４】
一方、第１の基板１１と第２の基板１２との間隔（基板間ギャップ若しくはセルギャップ）を保持するために、第２の基板１２の第１の基板１１と対向する面上に柱状スペーサ１５が形成される場合がある。この柱状スペーサ１５は、光学的な影響を低減するために多くの場合上記画素間領域Ｈ内に形成される。この柱状スペーサ１５の構造や分布密度は第１の基板１１と第２の基板１２の基板間ギャップに影響を与えるので、液晶１３の厚みのばらつき等に起因する輝度ムラや色ムラなどといった表示ムラを防止するために柱状スペーサ１５の構造や分布に関して多くの提案がなされている。
【０００５】
例えば、以下の特許文献１及び２には、柱状スペーサの面積密度をパネル構造の周縁から中央に向かうに従って大きく構成することにより、外力に起因する基板間ギャップの変化による表示ムラ、気泡の発生等の不具合を防止することのできる構造が開示されている。また、以下の特許文献３及び４には、高さの異なる柱状スペーサを組み合わせることで、基板間ギャップの精度向上や耐圧の確保を可能とした構造が開示されている。
【特許文献１】国際公開パンフレットＷＯ２００５／０３８５１８Ａ１
【特許文献２】特開２００５−２４１８８０号公報
【特許文献３】特開２０００−３３８５０３号公報
【特許文献４】特開２００４−２３３９８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述の柱状スペーサを備えた液晶装置においては、柱状スペーサの面積密度を場所に応じて変えたり高さの異なる柱状スペーサを併用したりすることで、基板間ギャップの変化を抑制し、表示品位を確保するようにしている。しかしながら、発明者が種々実験を行い検討した結果、上記従来の柱状スペーサの改良技術では、外力等の変形応力が液晶装置に加わった後に残存する表示ムラを十分に改善することができないことが判明した。
【０００７】
そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、変形応力が液晶装置に加わった後に残存する表示ムラを低減することのできる新規の構成を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
斯かる実情に鑑み、本願発明者がさらに検討したところによると、図１１及び図１２に示すように、柱状スペーサ１５を備えた液晶装置１０の場合には、表示パネルの表面が押圧されたり表示パネルが屈曲されたりするなど外力（変形応力）が与えられると、基板１１，１２の変形に伴って柱状スペーサ１５の突出方向が変化し、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの第１の基板１１に対する当接位置がずれることで、柱状スペーサ１５の先端部１５ａが画素間領域Ｈに隣接する画素Ｇの構造に損傷を与えて液晶１３の配向状態が乱れ、これによって表示ムラが発生することが判明した。特に、第１の基板１１の表面に配向膜１６が形成されている場合には、変形応力による基板の撓みによって柱状スペーサ１５の先端部１５ａが配向膜１６の表面に損傷を与えるので、配向膜１６の表面の損傷によって液晶の配向に乱れが生じ、表示ムラが顕著になる。
【０００９】
例えば、図１１及び図１２に示すように、第２の基板１２を指などで押圧した場合には、押圧部の直下にある柱状スペーサ１５は単に圧縮されるだけであるが、当該押圧部の周囲にある柱状スペーサ１５は第２の基板１２の撓みによりその突出方向が変化する。また、状況によっては第２の基板１２のみが撓むのではなく、多くの場合には図示のように第１の基板１１も第２の基板１２の撓みに応じて撓むので、この第１の基板１１の撓みによって柱状スペーサ１５の先端部１５ａの第１の基板１１に対する当接位置のずれが生じやすくなる。
【００１０】
このような柱状スペーサ１５に起因する画素構造の損傷による表示ムラの発生は、原理的にみて上記従来の柱状スペーサの面積密度の変化や高さの異なる柱状スペーサの組み合わせでは全く改善できないことが予想された。そこで、本願発明者は、鋭意検討した結果、押圧力が液晶装置１０に加わると特定の領域に表示ムラが発生しやすくなることを見出した。
【００１１】
図１０には、上記の液晶装置１０の第２基板１２の中央領域１０ｃを押圧した後に生じた表示ムラ（色ムラ）の程度の分布を示す。この液晶装置１０では、シール材１４が矩形枠状に形成されることで、その内側に矩形状の収容部１０Ｐが構成されている。そして、この収容部１０Ｐ内には上記画素Ｇが配列されてなる表示領域１０Ａが形成される。図１０は、この表示領域１０Ａの表示ムラの程度を五段階で五種類の記号により示したものである。
【００１２】
図１０に示すように、収容部１０Ｐのうち、中央領域１０ｃと周縁領域１０ｄの間に表示ムラが大きい中間領域１０ｓ、１０ｔが形成される。中間領域１０ｓ、１０ｔは、上記矩形状の収容部１０Ｐの二本の対角線Ｌｔ１とＬｔ２（図示二点鎖線で示す。）の交点近傍を上記中心領域１０ｃとし、シール材１４の近傍内側を上記周縁領域１０ｄとしたとき、中心領域１０ｃの周囲において周縁領域１０ｄとの間に上記対角線Ｌｔ１とＬｔ２によって区画される四つの三角形状の平面範囲ごとにそれぞれ設けられる。図示例の場合、中間領域１０ｓ、１０ｔは、中央領域１０ｃに向けて幅が小さくなる形状、より具体的には、上記平面範囲の形状と同じ姿勢の、すなわち、一つの頂点が中心領域１０ｃを向き、他の二つの頂点がそれぞれ収容部１０Ｐの角部に向いた、略三角形状を備えている。
【００１３】
図示例の場合、収容部１０Ｐは図示左右方向に長く、図示上下方向に短い矩形状に構成されているので、上記対角線Ｌｔ１、Ｌｔ２で区画される平面範囲のうち図示上下方向にそれぞれ配置される平面範囲の形状と、図示左右方向にそれぞれ配置される平面範囲の形状とが異なるものとなっている。そして、この平面範囲の形状の相違に伴って、異なる形状の平面範囲にそれぞれ形成された上記中間領域１０ｓと１０ｔも相互に異なる平面形状を有するものとなっている。すなわち、相対的に見て、中間領域１０ｓは広くかつ表示ムラが大きく、中間領域１０ｔは狭くかつ表示ムラが小さくなっている。
【００１４】
上記のように中間領域１０ｓと１０ｔの平面範囲や表示ムラの程度が異なる理由は以下のように考えられる。すなわち、図１０の左右方向に沿った断面では、図１１に示すように、収容部１０Ｐの中央から基板１１，１２を拘束しているシール材１４の形成位置までの距離が相対的に長いことから、中間領域１０ｓでの柱状スペーサ１５の傾斜角度が小さくなり、したがって、柱状スペーサ１５の先端部１５ａによる配向膜１６の損傷範囲も狭くなるため、表示ムラの出現範囲が狭く、表示ムラの程度も小さくなっているものと考えられる。一方、図１０の上下方向に沿った断面では、図１２に示すように、収容部１０Ｐの中央から基板１１，１２を拘束しているシール材１４の形成位置までの距離が相対的に短いことから、中間領域１０ｔでの柱状スペーサ１５の傾斜角度が大きくなり、したがって、柱状スペーサ１５の先端部１５ａによる配向膜１６の損傷範囲も広くなるため、表示ムラの出現範囲が広く、表示ムラの程度も大きくなっているものと考えられる。そして、本発明の液晶装置は以上のような知見に基づいてなされたものである。
【００１５】
すなわち、第１発明の液晶装置は、互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、を有し、前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値より小さく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする。
【００１６】
この第１発明によれば、外部からの押圧力や折り曲げ力等により二枚の基板のうち少なくとも片方の基板がシール材によって画成された収容部の中央領域を中心に撓むと、この中央領域と周縁領域との間の中間位置で二枚の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状スペーサの先端部が他方の基板に対して収容部の中央から周縁に向けて位置ずれを起こす。しかしながら、本発明では、収容部の中央領域と周縁領域の間の中間位置に設けられた中間領域に配置された複数の柱状スペーサの先端部の断面積若しくはその平均値が、中央領域と周縁領域に配置された柱状スペーサの先端部の断面積若しくはその平均値より小さく構成されるので、柱状スペーサの先端部による他方の基板の液晶側の表面に対する損傷範囲を低減させることができる。すなわち、中間領域における柱状スペーサの先端部の断面積が小さいことにより、画素内における上記表面に対する損傷範囲も小さくすることができる。したがって、表示ムラの発生領域を狭くすることができるとともに表示ムラの程度も小さくすることができる。また、収容部の中央領域及び周縁領域では柱状スペーサの先端部の断面積を小さくする必要がないので、パネル剛性を確保することができる。すなわち、表示ムラの発生しやすい中間領域において柱状スペーサの先端部の断面積を低減して表示ムラを低減するとともに、表示ムラの発生しにくい中央領域及び周縁領域では柱状スペーサの先端部の断面積を確保することで支持剛性を確保できるから、表示ムラの低減とパネル剛性の確保を両立することができる。
【００１７】
この場合に、前記中央領域と前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサは第１の前記断面積を備え、前記中間領域に配置された前記複数の柱状スペーサは前記第１の断面積より小さい第２の前記断面積を備えていることが好ましい。上記のように本発明では中央領域と周縁領域の上記断面積若しくはその平均値よりも中間領域の上記断面積若しくはその平均値が小さくなっていればよいが、特に、中央領域及び周縁領域の第１の断面積より中間領域の第２の断面積が全ての柱状スペーサについて小さくなっていることにより、上述の作用効果をさらに高めることができる。ここで、上記の第１の断面積及び第２の断面積はそれぞれ後述する実施形態のように全て同一である必要はない。
【００１８】
また、第２発明の液晶装置は、互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、を有し、前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう方向の幅若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう方向の幅若しくはその平均値より小さく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする。
【００１９】
この第２発明によれば、外部からの押圧力や折り曲げ力等により二枚の基板のうち少なくとも片方の基板がシール材によって画成された収容部の中央領域を中心に撓むと、この中央領域と周縁領域との間の中間位置で二枚の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状スペーサの先端部が他方の基板に対して収容部の中央から周縁に向けて位置ずれを起こす。しかしながら、本発明では、収容部の中央領域と周縁領域の間の中間位置に設けられた中間領域に配置された複数の柱状スペーサの先端部の収容部の中央から周縁に向かう方向（つまり、上記の柱状スペーサの先端部の位置ずれ方向）の幅若しくはその平均値が、中央領域と周縁領域に配置された柱状スペーサの先端部の収容部の中央から周縁に向かう方向の幅より小さく構成されるので、柱状スペーサの先端部による他方の基板の液晶側の表面に対する損傷範囲を低減させることができる。すなわち、中間領域における柱状スペーサの先端部の上記方向の幅が小さいことにより、柱状スペーサの先端部が同方向に位置ずれを起こしても、画素内の上記表面に対する損傷範囲を小さくすることができる。したがって、表示ムラの発生領域を狭くすることができるとともに表示ムラの程度も小さくすることができる。また、表示ムラの発生しやすい中間領域において柱状スペーサの先端部の上記幅を低減して表示ムラを低減するとともに、表示ムラの発生しにくい中央領域及び周縁領域では柱状スペーサの先端部の上記幅を確保することで支持剛性を確保できるから、表示ムラの低減とパネル剛性の確保を両立することができる。
【００２０】
この場合に、前記中央領域と前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサは第１の前記幅を備え、前記中間領域に配置された前記複数の柱状スペーサは前記第１の幅より小さい第２の前記幅を備えていることが好ましい。上記のように本発明では中央領域と周縁領域の上記幅若しくはその平均値よりも中間領域の上記幅若しくはその平均値が小さくなっていればよいが、特に、中央領域及び周縁領域の第１の幅より中間領域の第２の幅が全ての柱状スペーサについて小さくなっていることにより、上述の作用効果をさらに高めることができる。ここで、上記の第１の幅及び第２の幅はそれぞれ後述する実施形態のように全て同一である必要はない。
【００２１】
本発明の一の態様においては、前記収容部には前記液晶に対し独立して電界を印加可能に構成された複数の画素が画素間領域を介して配列され、前記柱状スペーサが前記画素間領域に設けられている。これによれば、柱状スペーサが画素間領域に設けられていることにより、柱状スペーサによる光学的影響を低減できるために全般的に表示品位の向上を図ることができるとともに、柱状スペーサの先端部の位置ずれ量が小さい領域では、中間領域における当該先端部の断面積や上記幅が小さいことにより当該先端部が画素内に入り込まない場合も生じうるので、他方の基板の液晶側の表面に対する損傷領域を狭くし、表示ムラの発生領域を狭くすることができ、また、表示ムラが生じた領域にあっても、その表示ムラの程度を軽減することができる。
【００２２】
さらに、第３発明の液晶装置は、互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、を有し、前記収容部には前記液晶に対し独立して電界を印加可能に構成された複数の画素が画素間領域を介して配列され、前記柱状スペーサが前記画素間領域に設けられ、前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう向きに測った、前記柱状スペーサの外縁から前記画素間領域と前記画素の境界位置までの距離の平均値が、前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう向きに測った、前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの外縁から前記画素間領域と前記画素の境界位置までの距離の平均値より大きく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする。なお、上記距離は、二枚の基板が撓んでいないとき、すなわち、柱状スペーサの先端部が位置ずれを起こしていないときに計測した値とする。
【００２３】
この第３発明によれば、外部からの押圧力や折り曲げ力等により二枚の基板のうち少なくとも片方の基板がシール材によって画成された収容部の中央領域を中心に撓むと、この中央領域と周縁領域との間の中間位置で二枚の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状スペーサの先端部が他方の基板に対して収容部の中央から周縁に向けて位置ずれを起こす。しかしながら、本発明では、収容部の中央から周縁に向かう向き（つまり、上記の柱状スペーサの先端部の位置ずれの向き）に測った、中間領域に配置された柱状スペーサの先端部の外縁から画素間領域と画素の境界位置までの距離の平均値が、中央領域と周縁領域に配置された柱状スペーサの先端部の上記と同じ向きに測った上記距離の平均値より大きく構成されるので、柱状スペーサの先端部による他方の基板の液晶側の表面に対する損傷範囲を低減させることができる。すなわち、中間領域における柱状スペーサの先端部の上記方向の距離が大きいことにより、柱状スペーサの先端部が同方向に位置ずれを起こしても、画素内の上記表面に対する損傷範囲を小さくすることができる。したがって、表示ムラの発生領域を狭くすることができるとともに表示ムラの程度も小さくすることができる。また、表示ムラの発生しやすい中間領域において柱状スペーサの先端部の上記距離を増大させて表示ムラを低減するとともに、表示ムラの発生しにくい中央領域及び周縁領域では柱状スペーサの先端部の上記距離を低減することで支持剛性を確保できるから、表示ムラの低減とパネル剛性の確保を両立することができる。
【００２４】
上記各発明において、前記中間領域は、前記収容部内の周囲の領域に囲まれた島状に形成されている場合がある。押圧力や折り曲げ力が加わる場合には、表示ムラはこれらの力が加わった場所の周囲に島状に形成されるので、本発明の中間領域もまた島状に構成することで、パネル剛性を確保しつつ、表示ムラの低減を図ることができる。たとえば、後述する実施形態では表示ムラの分布と対応して矩形状の収容部内に四つの中間領域が島状に構成される。また、たとえば、円形の収容部が設けられたとするならば、表示ムラは中央と周縁の間にリング状に形成されるものと思われるので、やはりリング状の島状に形成されることが好ましい。いずれにしても、中央領域と周縁領域の間に中間領域が島状に構成されることが望ましい。
【００２５】
上記各発明の他の態様においては、前記画素間領域は前記複数の画素の間を互いに交差する二方向にそれぞれ伸びるように設けられ、前記柱状スペーサは、前記画素間領域の前記二方向に伸びる部分の交差部に設けられている。これによれば、二方向に伸びる画素間領域の交差部に柱状スペーサが設けられていることにより、柱状スペーサの位置ずれ方向が当該二方向のいずれかであれば他方の基板の液晶側の表面に損傷を与えることがなくなり表示ムラも生じないので、表示ムラの生ずる領域を狭くすることができる。
【００２６】
本発明の別の態様においては、前記収容部が矩形状に構成され、前記収容部には、前記矩形状の二本の対角線によって分割された四つの平面範囲ごとに前記中間領域が設けられる。これによれば、矩形状の収容部が構成される場合、二本の対角線に沿った領域には表示ムラが生じにくくなり、対角線の中間位置には表示ムラが生じやすいので、中間領域を二本の対角線で区画された四つの平面範囲ごとに設けることで、表示ムラを低減しつつ、上記対角線に沿った領域において柱状スペーサによる支持面積を確保することで、柱状スペーサによるパネル構造の支持剛性をより高いレベルで確保できる。
【００２７】
この場合に、前記平面範囲内に形成される前記中間領域は、前記平面範囲の三角形状に対応して前記中央領域に向けて幅が小さくなる形状に形成されていることが好ましい。これによれば、四つの上記平面範囲は三角形状に構成されるが、各平面領域内において表示ムラの程度は各平面範囲の形状に対応して分布するので、各平面範囲の平面形状に合わせて上記中間領域を設けることで、効率的に表示ムラを低減でき、しかも支持剛性の低下を抑制できる。
【００２８】
本発明の異なる態様においては、前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの形成密度は、前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの形成密度より大きい。これによれば、中間領域に配置された柱状スペーサについては先端部の断面積が小さいか、或いは、先端部の収容部の中央から周縁に向かう方向の幅が小さい場合があるので、一般的には中間領域における柱状スペーサによる支持剛性は低下するが、上記のように柱状スペーサの形成密度、すなわち、単位面積当たりの柱状スペーサの数を大きくすることにより、当該支持剛性の低下を抑制することができる。
【００２９】
本発明のさらに別の態様においては、前記他方の基板の前記液晶側の表面は配向膜で構成される。この配向膜を有する場合には、柱状スペーサの先端部が配向膜に損傷を与えることで液晶の配向が大きく乱れる虞があるが、本発明では画素内の配向膜の損傷を低減できるため、特に効果的である。
【００３０】
上記各発明において柱状スペーサの先端部の断面形状は特に限定されないが、一つの態様としては、前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状は円形であり、前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面の直径が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面の直径より小さい場合がある。上記断面形状が円形であることにより、いずれの方向への位置ずれにおいても等方的な効果が得られる。
【００３１】
また、上記各発明の他の態様としては、前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状は扁平形状であり、前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状の長手方向が前記収容部の中央から周縁へ向かう方向と実質的に直交する方向である場合がある。この場合には、上記の扁平形状とすることにより、上記各発明において、中間領域における柱状スペーサの先端部の断面積の低減量を抑制しつつ、或いは、当該断面積を低減しなくても、表示ムラの低減を図ることが可能になるので、表示ムラの低減とパネル剛性の確保とをより高いレベルで両立できる。
【００３２】
なお、上記の第３発明の態様としては、上記断面形状の上記断面積や上記幅を変更するか否かに拘わらず、先端部１５ａを画素間領域Ｈ内において収容部の中心側へ並行移動させ、これによって上記距離を大きくする構成も考えられる。このようにすることでも、先端部１５ａの周縁側への位置ずれに起因する表示ムラを低減することができる。
【００３３】
本発明の異なる態様においては、前記他方の基板は前記画素毎に設けられたスイッチング素子を含み、前記一方の基板は前記画素に対応してフィルタ層を備えるカラーフィルタを有する。この態様では、スイッチング素子を含む他方の基板には柱状スペーサを設けず、カラーフィルタを有する一方の基板に柱状スペーサを設けることにより、両基板の製造工程のバランスを図ることができる。特に、柱状スペーサをフォトリソグラフィ技術を用いて形成する場合には、構造が簡易で下地面の平坦性に優れた一方の基板に柱状スペーサを形成することが製造上有利である。
【００３４】
本発明においては、前記他方の基板において前記複数の画素を構成する画素構造は、前記他方の基板の前記液晶側の表面に沿った横電界を形成可能に構成されることが好ましい。この横電界モードの画素構造は他方の基板の一方の基板と対向する面に沿った電界により液晶を配向させるものであり、この場合には画素の透過率を高めることが困難であるために、表示の明るさを確保するには画素の開口率を高める必要があるが、当該開口率を高めるためには画素間領域を狭小化する必要がある。このように画素間領域を狭小化すると、柱状スペーサの先端部がずれることによる他方の基板の一方の基板と対向する面の損傷に起因する表示ムラの発生も顕著となるため、上記本発明は特に効果的である。
【００３５】
上記の横電界モードのより具体的な構成としては、前記他方の基板は前記画素毎に電界を付与するための第１の電極と第２の電極を含み、前記一方の基板は前記画素に対応してフィルタ層を備えるカラーフィルタを有する。この態様では、他方の基板に第１の電極と第２の電極を設けることで、他方の基板の液晶側の表面に沿った横電界を形成することができる。
【００３６】
次に、本発明の電子機器は、上記のいずれかに記載の液晶装置と、該液晶装置を制御する制御手段とを具備する。このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、電子時計、表示モニタ、テレビジョン受像機などが挙げられる。特に、携帯電話機等といった携帯型電子機器においては、ポケットやスーツケースなどに当該携帯型電子機器を収納する場合に、液晶装置に対して折り曲げ力が加わる虞が高いので、上記表示ムラを低減するための手段を有する本発明の構成はきわめて有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
［第１実施形態］
次に、添付図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。図１は本実施形態の第１の基板の表面構造を示す平面図、図２は本実施形態の拡大部分断面図（図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図）、図３は本実施形態の第２の基板の表面構造を示す平面図である。なお、これらの図示以外の構造は基本的に図１１及び図１２に示す構成と同様であるので、対応する部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。
【００３８】
本実施形態の液晶装置１０は、いわゆる横電界モードの液晶装置であり、より具体的にはＦＦＳ（Fring Field Switching）モードと呼ばれるタイプの液晶装置である。ただし、本発明の液晶装置はこの種の液晶装置に限定されるものではない。
【００３９】
しかしながら、特に、ＦＦＳやＩＰＳ（In Plane Switching）などといった横電界モードの液晶装置では、縦電界モードの液晶装置、例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）モードなどといった液晶装置に比べると、画素の透過率を高めることが難しいため、表示の明るさを確保するためには開口率を高める必要があり、開口率を高めると画素間領域Ｈの幅が狭くなるために、上述した柱状スペーサによる画素構造の損傷による光学的不具合が大きくなりやすい。したがって、本発明は、特にＦＦＳやＩＰＳなどといった横電界モードの液晶装置に用いることが効果的であるので、本実施形態では横電界モードの液晶装置の一例としてＦＦＳモードの構成について以下に説明する。
【００４０】
本実施形態の液晶装置１０は、図２に示すように、第１の基板１１の第２の基板１２と対向する面に第１の画素構造１１０が形成され、第２の基板１２の第１の基板１１と対向する面に第２の画素構造１２０が形成される。そして、第１の画素構造１１０と第２の画素構造１２０により、上記の各画素Ｇが画成されるとともに各画素Ｇにおいてそれぞれ独立した電界が液晶１３に付与可能とされる。これらの複数の画素Ｇは平面上において縦横にマトリクス状に配列されている。
【００４１】
図１及び図２に示すように、第１の画素構造１１０は、第１の基板１１上に下地絶縁層１１１を介して形成されたゲート線１１２及びコモン線１１３と、このコモン線１１３に導電接続された共通電極１１４と、ゲート線１１２に対しゲート絶縁膜１１２ａを介して上方に対向配置されるシリコン等の半導体層１１５と、上記ゲート線１１２及びコモン線１１３とは交差する方向に伸びるデータ線１１６と、データ線１１６に導電接続され、半導体層１１５に導電接続されたソース電極１１６ａと、当該ソース電極１１６ａに対し半導体層１１５のチャネル領域（ゲート線１１２の一部のゲート電極となる部分と対向する活性領域）を挟んで半導体層１１５に導電接続されるドレイン電極１１６ｂと、このドレイン電極１１６ｂに導電接続されるとともに、上記共通電極１１４と絶縁層１１９を介して平面的に重ねて配置され、共通電極１１４と平面的に重なる範囲に開口部１１７ａを備えた画素電極１１７とを有する。なお、この第１の画素構造１１０には上述の配向膜１６も含まれる。
【００４２】
上記ゲート線１１２のゲート電極部分、ゲート絶縁膜１１２ａ、半導体層１１５、ソース電極１１６及びドレイン電極１１６ｂは画素Ｇ毎に設けられるスイッチング素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を構成し、このゲート線１１２の電位によってオンオフ制御される当該ＴＦＴを介してデータ線１１６の電位が画素電極１１７に供給される。そして、上記の第１の電極である共通電極１１４と、上記第２の電極である画素電極１１７との間に電位差が与えられると、画素電極１１７の開口部１１７ａを通して第１の画素構造１１０の表面に沿った横電界が形成され、これが液晶１３に付与される。
【００４３】
一方、図２及び図３に示すように、第２の画素構造１２０には、第２の基板１２上にＣｒやＣｒ合金等よりなる遮光膜１２１が形成され、この遮光膜１２１の非形成領域が画素Ｇを画成するとともに、遮光膜１２１の形成領域が画素間領域Ｈを構成する。また、その上にはカラーフィルタ１２２が形成される。このカラーフィルタ１２２は、画素Ｇ毎に対応する色を備えたフィルタ層が配列されたものである。図１及び図３には、赤色のフィルタ層を備えた画素Ｇｒ、緑色のフィルタ層を備えた画素Ｇｇ、青色のフィルタ層を備えた画素Ｇｂが順番に配列されている様子を示してある。これらのフィルタ層の配列パターンとしては、本実施形態の場合にはストライプ配列、斜めモザイク配列などが例示される。各色のフィルタ層の境界は上記遮光膜１２１の設けられた画素間領域Ｈに配置される。なお、この第２の画素構造１２０にも配向膜１２３が含まれる。
【００４４】
本実施形態の場合には上述のように複数の画素Ｇが縦横にマトリクス状に配列されているので、画素Ｇ間に設けられる画素間領域Ｈには、図３に示すように、平面方向のうち第１の方向Ｆ１に直線状に延在する第１の画素間領域部Ｈ１が画素Ｇ間において平行に複数形成されるとともに、上記第１の方向Ｆ１と交差する（図示例では直交する）第２の方向Ｆ２に直線状に延在する第２の画素間領域部Ｈ２が画素Ｇ間において平行に複数形成される。ここで、第１の画素間領域部Ｈ１は主としてゲート線１１２及びコモン線１１３の形成領域を遮光する部分であり、第２の画素間領域部Ｈ２は主としてデータ線１１６の形成領域を遮光する部分である。そして、第１の画素間領域部Ｈ１と第２の画素間領域部Ｈ２は画素Ｇの配列周期ごとに交差し、画素間領域Ｈは、両画素間領域部Ｈ１とＨ２が交差してなる交点状の複数の交差部を有するものとされ、全体として格子状に構成される。
【００４５】
本実施形態では、第２の基板１２の第１の基板１１と対向する面上に柱状スペーサ１５が形成される。柱状スペーサ１５は絶縁材料で構成され、好ましくはフォトレジストを露光してパターニングするフォトリソグラフィ技術によって形成される。第２の基板１２に設けられた柱状スペーサ１５の先端部１５ａは、第１の基板１１の第２の基板１２と対向する面に当接して基板間ギャップを保つように第１の基板１１を支持する。
【００４６】
ここで、図１及び図３において示す円形は本実施形態の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状の一例を示す。ただし、当該断面形状は、円に限らず、三角形、四角形などの多角形状であってもよく、楕円などのような所定方向に延長された形状（後述する扁平形状など）であってもよい。
【００４７】
柱状スペーサ１５は上記画素間領域Ｈ内の、第１の画素間領域Ｈ１と第２の画素間領域Ｈ２が交差する交差部に配置される。図示例の場合には、柱状スペーサ１５は、第１の画素間領域Ｈ１の軸線Ｌ１と第２の画素間領域Ｈ２の軸線Ｌ２の交点が断面形状の中心（一般的には重心、以下同様。）Ｃｘと重なるように配置される。ここで、軸線Ｌ１はその両側にある第１の画素間領域Ｈ１（第２の画素間領域Ｈ２との間の交差部も含む）の面積が等しくなる直線であり、軸線Ｌ２はその両側にある第２の画素間領域Ｈ２（第１の画素間領域Ｈ１との間の交差部を含む）の面積が等しくなる直線である。
【００４８】
ただし、柱状スペーサ１５は、図示例のように軸線Ｌ１とＬ２の交点に断面形状の中心Ｃｘが厳密に一致する必要はなく、第１の画素間領域Ｈ１と第２の画素間領域Ｈ２の交差部内に配置されていればよい。また、本発明においては、上記柱状スペーサ１５が上記交差部内に配置されず、たとえば、交差部以外の第１の画素間領域Ｈ１又は第２の画素間領域Ｈ２内に配置されていてもよく、さらには、上記柱状スペーサ１５が画素間領域Ｈ内に配置されていない場合でも、本実施形態（第１の発明）は後述する一定の効果を得ることができる。
【００４９】
図４は、本実施形態における、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積（第１の基板１１及び第２の基板１２の対向面に沿った断面形状、すなわち横断面形状）と収容部１０Ｐ内の平面上の位置との関係を模式的に示す概略分布図、図５(ａ)は中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄにおける柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状を示す拡大部分断面図、図５（ｂ）は中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおける柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状を示す拡大部分断面図である。ここで、図４はあくまでも先端部１５ａの断面積の大きさの収容部１０Ｐ内の平面分布を模式的に示すものであり、図示中に円で示す断面形状は実際の収容部１０Ｐ内における絶対的な断面積の値及び断面形状を反映するものではなく、実際の断面積及び断面形状を簡略化し、かつ、強調して描いてある。
【００５０】
図４に示すように、本実施形態では、シール材１４が矩形枠状の閉じた形状に配置され、このシール材１４によって第１の基板１１と第２の基板１２が貼り合わされている。シール材１４の内側には両基板１１と１２の間に矩形状の収容部１０Ｐが構成され、この収容部１０Ｐ内に上記液晶１３が封入される。収容部１０Ｐ内には上記画素が配列されてなる矩形状の表示領域１０Ａが設けられている。収容部１０Ｐ内には第１の基板１１と第２の基板１２の間隔、すなわち、液晶１３の厚みを所定値（通常、３〜１０μｍ程度の範囲内の値）に規定するためのセルギャップを設定するために、複数の柱状スペーサ１５が分散して形成される。
【００５１】
本実施形態において、複数の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積若しくはその平均値は、収容部１０Ｐ内の中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて小さく形成される。上記中央領域１０Ｃは、矩形状の収容部１０Ｐの対向する角部同士を結ぶ二本の対角線Ｌｔ１とＬｔ２の交点である中心点Ｏｘを含みその近傍を包含する領域であり、上記周縁領域１０Ｄは、シール材１４の内縁で構成される矩形状の各辺に沿ってその内側に設けられる矩形枠状の領域である。また、中間領域１０Ｓ、１０Ｔは、上記中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄとの間の中間位置において複数の前記柱状スペーサ１５が配置される領域である。
【００５２】
なお、図４（後述する図６、図８も同様）においては、表示領域１０Ａ内にのみ柱状スペーサ１５が配置されるように描いてあるが、実際には表示領域１０Ａの周囲とシール材１４の間にも柱状スペーサ１５が配置されていることが好ましい。また、本実施形態の中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄは表示領域１０Ａの範囲とは直接関係がないが、中間領域１０Ｓ、１０Ｔは通常は表示領域１０Ａ内に構成される。
【００５３】
図４に模式的に示す態様では、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積が同じ値の第１の断面積とされ、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積が同じ値の第２の断面積とされる。そして、第１の断面積よりも第２の断面積は小さく設定される。また、単に断面積だけでなく、図示例では中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状が同一であり、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでも全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状が同一である。なお、上記中間領域１０Ｓ、１０Ｔは常に中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄの間の中間位置に配置されるが、図示例の場合には、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ以外の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部１５ａが全て上記第１の断面積を備えた同一の断面形状とされている。
【００５４】
本実施形態では、また、図５に示すように、複数の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの収容部１０Ｐの中心（上記中心点Ｏｘ）から周縁に向かう方向の幅Ｗｏ若しくはその平均値は、収容部１０Ｐ内の中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄに対して中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて小さく形成される。特に、図示例では中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記幅Ｗｏが同一の第１の幅であり、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでも全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記幅Ｗｏが同一の第２の幅となっている。さらに、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ以外の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記幅Ｗｏが全て上記第１の幅を備えている。
【００５５】
なお、上記のように、図示例では上記中間領域１０Ｓ及び１０Ｔの内部に配置された複数の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積及び上記幅Ｗｏ並びに断面形状は全て同一であり、上記中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄの内部に配置された複数の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積及び上記幅Ｗｏ並びに断面形状は全て同一である。ただし、本実施形態において、上記各領域内の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積及び上記幅Ｗｏ並びに断面形状が全て同一である必要はなく、各領域において断面積又は上記幅Ｗｏが相互に異なる柱状スペーサ１５が存在しても良い。この場合には、上記断面積又は上記幅Ｗｏの平均値で比較したときに、中間領域１０Ｓ及び１０Ｔが中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄより小さくなっていればよい。
【００５６】
また、本実施形態では柱状スペーサ１５の少なくとも先端部１５ａが上記の断面形状となっていればよく、第１の基板１１の第２の基板と対向する面と接触する可能性のない先端部以外の部分（基端部）の断面形状は任意である。したがって、柱状スペーサ１５としては、高さ方向の全範囲において上記の断面形状の構成を有するものであってもよく、先端部のみが上記の断面形状の構成を有するものであってもよい。後者の場合には、例えば、柱状スペーサ１５の基部側の断面形状から先端部１５ａの上記の断面形状の構成に向けて高さ方向に徐々に変化した形状を有するものであってもよく、或いは、柱状スペーサ１５の基端部の断面形状と先端部１５ａの上記断面形状の構成とが或る高さ位置において段差状に不連続に変化するものでもよい。
【００５７】
以上説明した本実施形態によれば、上記中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて柱状スペーサ１５の先端部１５ａは上記中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも断面積若しくはその平均値が小さいので、基板１１、１２が撓むことで当該先端部１５ａが位置ずれを起こしても、図５に示すように、収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう向きＦｘに測った、画素間領域Ｈ内の柱状スペーサ１５の外縁から画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置までの距離Ｌｘを大きく設定することが可能になるため、位置ずれ量が少ない場合には画素間領域Ｈからはみ出しにくくなるから画素Ｇ内の表面に影響を与えにくくなり、位置ずれ量が多い場合でも先端部１５ａの断面積が小さいことで画素Ｇ内の配向膜１６等の表面に損傷を与える範囲が低減される。
【００５８】
また、見方を変えると、基板１１、１２が撓むことで当該先端部１５ａは収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向に位置ずれを起こすが、本実施形態によれば、上記中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて柱状スペーサ１５の先端部１５ａは上記中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向の幅Ｗｏ若しくはその平均値が小さいので、収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう向きＦｘに測った、画素間領域Ｈ内の柱状スペーサ１５の外縁から画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置までの距離Ｌｘを大きく設定することが可能になるため、位置ずれ量が少ない場合には画素間領域Ｈからはみ出しにくくなるから画素Ｇ内の表面に影響を与えにくくなり、位置ずれ量が多い場合でも先端部１５ａの位置ずれ方向の幅が小さいことで画素Ｇ内への侵入範囲が低減されるため配向膜１６等の表面に損傷を与える範囲も低減される。したがって、いずれの観点から見ても、基板の撓みに起因する柱状スペーサ１５の先端部１５ａの位置ずれによる表示ムラの発生を抑制することが可能になる。
【００５９】
以上のように上記断面積又は幅Ｗｏの低減により、図５に示す上記距離Ｌｘを大きく設定することが可能になるが、本実施形態の構成を変更し、上記断面積や幅Ｗｏとは別に、すなわち、上記断面積や幅Ｗｏの大小関係の有無に拘らず、上記距離Ｌｘの平均値を中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄのそれよりも大きくすることでも、上記と同様の効果を得ることができる。なお、上記距離Ｌｘとは、二枚の基板が撓んでいないとき、すなわち、柱状スペーサの先端部が位置ずれを起こしていないときに計測した値である。また、上記向きＦｘは、収容部１０Ｐの中心点Ｏｘ（上記対角線Ｌｔ１とＬｔ２の交差点）と柱状スペーサ１５の先端部１５ａの中心点（重心点）とを結ぶ線に沿った方向を有し、中心点Ｏｘとは反対側、すなわち周縁の側に向けた向きである。したがって、上記距離Ｌｘは常に先端部１５ａの周縁側に存在する画素間領域Ｈの幅となる。
【００６０】
なお、上記距離Ｌｘは上記向きＦｘと画素間領域Ｈの延在する第１の方向Ｆ１、第２の方向Ｆ２との関係により変化し、上記向きＦｘは柱状スペーサ１５の形成場所によって変わるので、各領域１０Ｃ、１０Ｄ、１０Ｓ、１０Ｔの内部においても種々変化するが、上記距離Ｌｘの平均値が中央領域１０Ｃや周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔで大きくなっていればよい。また、上記向きＦｘが第１の方向Ｆ１又は第２の方向Ｆ２に近く、上記距離Ｌｘが規定できない場合（画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置が存在しない場合）には上記平均値の計算から除外される。
【００６１】
また、本実施形態では上記のように中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積及び上記幅Ｗｏが小さいので、当該部分の柱状スペーサ１５によるセルギャップに対する支持剛性が低下するが、中間領域以外の他の領域、特に中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは上記断面積及び幅Ｗｏが大きいので、これらの領域での支持剛性を確保することができるため、パネル全体の剛性の低下を抑制できる。すなわち、表示ムラの低減とパネル剛性の確保とを両立できる。さらに、これと同様に、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは上記距離Ｌｘが小さくてよいので、結果的に柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積や上記幅Ｗｏを大きくすることができ、これによってパネル全体の剛性を確保することができる。
【００６２】
図示例の場合には、中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて他の領域に対して柱状スペーサ１５の先端部１５ａの中心Ｃｘの位置を変えずに、断面積を小さくすることで上記幅Ｗｏを小さくするとともに上記距離Ｌｘを大きくしているが、たとえば、図５（ａ）に点線で示す先端部１５ａ′のように、断面形状を変えずに中心Ｃｘを中心点Ｏｘの側に並行移動させることで、上記距離Ｌｘを大きくするようにしてもよい。また、このような柱状スペーサ１５の位置の変更を、本実施形態で行った断面積や上記幅Ｗｏの低減と併用することも可能である。なお、このような位置の変更は、以下に示す他の実施形態においても同様に実施することが可能である。
【００６３】
中間領域１０Ｓ、１０Ｔは一般に収容部１０Ｐ内において周囲を囲まれた島状に構成される。これは、収容部１０Ｐにおいて中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄでは、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの位置ずれが少なく、したがって、断面積、上記幅Ｗｏ、上記距離Ｌｘを変更する必要がなく、また、これらの領域では支持剛性を確保する必要があるからである。本実施形態では収容部１０Ｐが矩形状であるので以下に説明するように特殊な状況となるが、一般的にはこのような島状の構成とされる。たとえば、収容部１０Ｐが円形である場合を想定すると、中間領域は中央領域と周縁領域に挟まれたリング状の領域となる。
【００６４】
本実施形態では、矩形状の収容部１０Ｐの二本の対角線Ｌｔ１とＬｔ２によって分割される四つの三角形状の平面範囲内にそれぞれ一つずつ上記中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられる。これによって、二本の対角線Ｌｔ１,Ｌｔ２に沿った領域では上記断面積及び幅Ｗｏを大きくすることができるため、当該対角線Ｌｔ１、Ｌｔ２に沿った領域の支持剛性を確保できるため、パネル全体の剛性の低下をさらに効率的に抑制できる。
【００６５】
さらに、本実施形態では、上記三角形状の四つの平面範囲のそれぞれに当該平面範囲の三角形状に対応させて、中央領域１０Ｃに向けて幅が小さくなる形状（三角形状、台形状、その他の多角形状、或いは、これらの多角形状の角部を丸めた形状など）の中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられているので、各平面範囲において支持剛性の低下を抑制しつつ効率的に表示ムラを低減できる。すなわち、図１０に示すように、各平面範囲には中央領域１０ｃに向けて幅が小さくなる形状の表示ムラが生じやすいので、中間領域１０Ｓ、１０Ｔの平面形状を上記平面範囲の形状に対応した形状とすることで、表示ムラの生じやすい領域を効率的にカバーできる。
【００６６】
本実施形態では、液晶装置１０の表示領域１０Ａの中央を指やペン先などで押圧した場合にはもちろんのこと、液晶装置１０を搭載した電子機器をポケット（特にズボンの臀部に設けられたポケット）に入れたときやスーツケースなどの狭い空間に収容したときなど、液晶装置１０の表示領域１０Ａに折り曲げ力が加えられた場合でも、第１の基板１１及び第２の基板１２に撓みが生ずるので、この撓みによって柱状スペーサ１５の先端部１５ａに収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向の位置ずれが発生する。そして、これらの場合には、以上のように構成されていることにより、パネル剛性をある程度確保しつつ、表示ムラの低減を図ることができる。
【００６７】
以上説明した本実施形態において、中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄの間の中間位置に中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられる態様としては、例えば、上記断面積又は上記幅Ｗｏが収容部１０Ｐ内の中央から中間位置へ向けて徐々に低下し、中間位置から周縁へ向けて徐々に増大する態様、或いは、上記距離Ｌｘが収容部１０Ｐ内の中央から中間位置へ向けて徐々に増大し、中間位置から周縁へ向けて徐々に減少する態様も含まれる。また、本実施形態の図示例のように、中央領域１０Ｃの周囲の一部の方位にのみ中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられる場合に限らず、中央領域１０Ｃの周囲の全方位に亘り一体の中間領域（例えば、リング状、枠状の領域）が設けられていてもよい。
【００６８】
なお、本実施形態においては上述のように柱状スペーサ１５が画素間領域Ｈ内に設けられているが、柱状スペーサ１５が画素間領域Ｈ内に設けられず、画素Ｇ内に設けられている場合であっても、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内においては柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積が小さいことにより、表示ムラの低減を図ることができる。すなわち、この場合には、上記先端部１５ａが位置ずれを起こした時の移動範囲が画素Ｇ内の基板表面の損傷範囲と一致することになるが、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは先端部１５ａの断面積が小さいことにより、上記損傷範囲そのものの面積を小さくすることができるので、表示ムラを完全になくすことはできないものの、表示ムラの程度を改善することが可能である。
【００６９】
［第２実施形態］
次に、図６及び図７を参照して本発明に係る第２実施形態について説明する。なお、本実施形態において第１実施形態と対応する部分には同一符号を付し、図示しない部分及び説明しない事項は第１実施形態と同様に構成できる。図６は第２実施形態の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部の断面形状の分布を模式的に示す概略平面図、図７（ａ）は中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄ内の拡大部分平面図、図７（ｂ）は中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の拡大部分平面図である。
【００７０】
図６に模式的に示す柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状の分布も、上述の第１実施形態の断面形状の分布と同様の基本構成を有し、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔの方が柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積若しくはその平均値が小さく、また、収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向の幅Ｗｏが小さい。さらには、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔの方が、収容部１０Ｐの中心から周縁に向かう向きＦｘに測った、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの外縁から画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置までの距離Ｌｘの平均値が大きい。
【００７１】
しかしながら、前述のように、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積若しくはその平均値が小さいことで支持剛性が低下するので、本実施形態ではこの支持剛性の低下を補償するために、中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおける柱状スペーサ１５の形成密度を中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも高くしている。
【００７２】
図７は図６に模式的に示す柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状の分布の一つの具体例を示すものである。中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは、図７（ａ）に示すように、画素間領域Ｈにおいて、第１の画素間領域部Ｈ１と第２の画素間領域部Ｈ２が交差する交差部のうち、第１の画素間領域部Ｈ１の延在方向（図示左右方向）と、第２の画素間領域部Ｈ２の延在方向（図示上下方向）のいずれの方向についても一つ置きに柱状スペーサ１５が配置される。一方、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは、図７（ｂ）に示すように、第１の画素間領域部Ｈ１と第２の画素間領域部Ｈ２が交差する交差部の全てに柱状スペーサ１５が配置される。これによって、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄに比べて柱状スペーサ１５の形成密度（単位面積当たりの柱状スペーサの数）が２倍となっている。
【００７３】
特に、図示例では、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記形成密度が一様であり、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでも全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記形成密度が一様である。さらに、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ以外の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記形成密度が全て中間領域の形成密度より小さく、かつ、一様となっている。
【００７４】
上記のように構成することにより、本実施形態では中間領域１０Ｓ、１０Ｔの支持剛性の低下を抑制することができ、したがって、パネル全体の剛性の低下を防止でき、また、上記支持剛性の低下に起因する表示ムラの発生も防止できる。
【００７５】
［第３実施形態］
次に、図８及び図９を参照して本発明に係る第３実施形態について説明する。なお、本実施形態においても第１実施形態と対応する部分には同一符号を付し、図示しない部分及び説明しない事項は第１実施形態と同様に構成できる。図８は第３実施形態の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部の断面形状の分布を模式的に示す概略平面図、図９（ａ）は中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の一例の拡大部分平面図、図９（ｂ）は中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の他の例の拡大部分平面図である。
【００７６】
図８に模式的に示す柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状の分布も、上述の第１実施形態の断面形状の分布と同様の基本構成を有し、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔの方が柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積若しくはその平均値が小さく、また、収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向の幅Ｗｏが小さい。さらには、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔの方が、収容部１０Ｐの中心から周縁に向かう向きＦｘに測った、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの外縁から画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置までの距離Ｌｘの平均値が大きい。
【００７７】
本実施形態では、図９（ａ）又は（ｂ）に示すように、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状が扁平形状とされ、この扁平形状の長手方向が収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう向き（方向）Ｆｘと実質的に直交した方向とされる。上記向きＦｘは、上記と同様に、収容部１０Ｐの中心点Ｏｘ（上記対角線Ｌｔ１とＬｔ２の交差点）と柱状スペーサ１５の先端部１５ａの中心点（重心点）とを結ぶ線に沿った方向を有する。
【００７８】
上記のように構成すると、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積をある程度確保しつつ、上記向きＦｘに沿った柱状スペーサ１５の先端部１５ａの幅Ｗｏを小さくすることができ、また、上記向きＦｘに沿った上記距離Ｌｘも大きくすることができるので、上記と同様に表示ムラを低減できる。
【００７９】
なお、図９（ａ）は、第１実施形態と同様に中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の柱状スペーサ１５の形成密度を中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄと同様とした場合について示し、図９（ｂ）は、第２実施形態と同様に中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の柱状スペーサ１５の形成密度を中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄより大きくした場合について示してある。また、図９（ａ）は、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の柱状スペーサ１５の上記幅Ｗｏを短軸とし、これと直交する方向の幅を長軸とし、当該長軸を中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄの幅と同様とした場合について示し、図９（ｂ）は、上記直交する方向の幅（長軸）についても中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄの幅より小さくした場合について示してある。
【００８０】
なお、上記の各実施形態では、いずれも複数の画素Ｇが画素間領域Ｈを挟んで縦横に格子状に配列されたマトリクス状（格子状）の配列パターンを有するものとして説明したが、例えば、複数の画素Ｇが横方向に一列に並ぶ配列が、横方向の１画素周期より小さいずれを有して縦方向に並ぶ、例えばデルタ状の配列パターンを有するものであっても構わない。
【００８１】
［電子機器］
最後に、図１３及び図１４を参照して上記各種の電気光学装置を搭載した電子機器の実施形態について説明する。図１３は本発明に係る電子機器の一例の外観を示す概略斜視図である。図示例の電子機器２００は携帯電話機であり、本体２０１と、この本体２０１に接続された表示部２０２とを備えている。本体２０１には操作ボタン等を配設した操作面が設けられる。一方、表示部２０２の内部には上記の液晶装置１０を用いた液晶表示体１００が格納され、液晶装置１０の表示領域１０Ａに形成される画像が表示部２０２の表示画面２０２ａにて視認できるように構成されている。
【００８２】
図１４は電子機器２００における液晶表示体１００に対する制御系（表示制御系）の全体構成を示す概略構成図である。電子機器２００は、表示情報出力源２９１と、表示情報処理回路２９２と、電源回路２９３と、タイミングジェネレータ２９４と、後述するバックライト１０２への電力供給を行う光源制御回路２９５とを含む表示制御回路２９０を有する。
【００８３】
また、液晶表示体１００には、上述の第１実施形態又は第２実施形態で説明した構成を有する液晶装置１０と、この液晶装置１０を駆動する駆動回路１０９と、液晶装置１０を照明し、表示を視認可能とするためのバックライト１０２とが設けられている。この駆動回路１０９は、液晶装置１０に直接実装されている上記のＩＣチップで構成されてもよく、液晶装置１０の基板表面上に形成された電子部品や回路パターン、或いは、液晶装置１０に導電接続された回路基板に実装されたＩＣチップ若しくは回路パターンなどによっても構成することができる。
【００８４】
表示情報出力源２９１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路２９２に供給するように構成されている。
【００８５】
表示情報処理回路２９２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０９へ供給する。駆動回路１０９は、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路２９３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００８６】
光源制御回路２９５は、電源回路２９３から供給される電圧に基づいてバックライト１０２の光源に電力を供給し、所定の制御信号に基づいて光源の点灯の有無及びその輝度等を制御するようになっている。
【００８７】
また、本発明に係る電子機器としては、図１３に示す携帯電話機の他に、液晶テレビ、携帯電話機、電子時計、電子手帳、電卓、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末機などが挙げられる。ただし、上記携帯電話機のような携帯型電子機器においては、持ち運び等に際して液晶装置１０に上述の状況において押圧力や折り曲げ力が加わりやすいので、本発明の構成は極めて有効である。
【００８８】
尚、本発明の液晶装置及び電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記実施形態では第２の基板１２に柱状スペーサ１５を形成し、この柱状スペーサ１５の先端部１５ａで第１の基板１１を支持するように構成しているが、例えば、上記柱状スペーサ１５の代わりに、或いは、上記の柱状スペーサ１５とともに、第１の基板１１に別の柱状スペーサを形成し、その先端部で第２の基板１２を支持するように構成してもよい。この場合、この第１の基板１１に形成された別の柱状スペーサについても、上記の柱状スペーサ１５と同様に構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】第１実施形態の第１の基板１１の構造を示す平面図。
【図２】第１実施形態の画素構造を示す縦断面図。
【図３】第１実施形態の第２の基板１２の構造を示す平面図。
【図４】第１実施形態の柱状スペーサの断面形状の分布を模式的に示す概略平面図。
【図５】第１実施形態の中央領域及び周縁領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状を示す拡大部分平面図（ａ）及び当該柱状スペーサの中間領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状を説明するための説明図（ｂ）。
【図６】第２実施形態の柱状スペーサの断面形状の分布を模式的に示す概略平面図。
【図７】第２実施形態の中央領域及び周縁領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状を示す拡大部分平面図（ａ）及び当該柱状スペーサの中間領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状を説明するための説明図（ｂ）。
【図８】第３実施形態の柱状スペーサの断面形状の分布を模式的に示す概略平面図。
【図９】第３実施形態の中間領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状の一例を示す拡大部分平面図（ａ）及び中間領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状の他の例を示す拡大部分平面図（ｂ）。
【図１０】従来の液晶装置の収容部の中央を押圧した後の表示ムラの分布を示す平面図。
【図１１】図１０の液晶装置の押圧時の長手方向に沿った断面形状を示す概略縦断面図。
【図１２】図１０の液晶装置の押圧時の長手方向と直交する方向に沿った断面形状を示す概略縦断面図。
【図１３】液晶装置を搭載した電子機器の概略斜視図。
【図１４】電子機器の表示制御系を示す概略構成ブロック図。
【符号の説明】
【００９０】
１０…液晶装置、１０Ｐ…収容部、１０Ｃ…中央領域、１０Ｄ…周縁領域、１０Ｓ、１０Ｔ…中間領域、１０Ａ…表示領域、１１…第１の基板、１２…第２の基板、１３…液晶、１４…シール材、１５…柱状スペーサ、１５ａ…先端部、１６…配向膜、１７、１８…偏光板、Ｇ（Ｇｒ、Ｇｇ、Ｇｂ）…画素、Ｈ…画素間領域、Ｈ１…第１の画素間領域部、Ｈ２…第２の画素間領域部、Ｌｔ１、Ｌｔ２…対角線、Ｏｘ…中心点、Ｆｘ…向き、Ｗｏ…幅、Ｌｘ…距離
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶装置及び電子機器に係り、特に、液晶を収容する収容部の厚みを規定するための柱状スペーサを備えた液晶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、図１１及び図１２に示すように、液晶装置１０は第１の基板１１と第２の基板１２とがシール材１４により貼り合わされ、これらの基板間にシール材１４によって囲まれた収容部１０Ｐが設けられ、この収容部１０Ｐの内部に液晶１３が配置される。通常、この液晶装置１０には液晶１３に独立して電界が与えられる領域である画素Ｇを構成するための画素構造が設けられ、この画素構造によって複数の画素Ｇが独立して光学的に制御可能に構成される。複数の画素Ｇの間には遮光膜１９により画素間領域Ｈが形成されるが、この画素間領域Ｈは複数の画素Ｇの配列態様に応じて複数の画素Ｇの間を所定の方向に伸びるように構成される。典型的な画素間領域Ｈの構造としては縦横に配列された画素Ｇの間に格子状に構成されたものが知られている。
【０００３】
第１の基板１１の第２の基板１２と対向する面には配向膜１６が形成される。この配向膜１６は液晶１３に所定の初期配向状態（例えば、電界が印加されていないときの配向状態）を与えるための配向機能を備えている。なお、第１の基板１１と第２の基板１２のそれぞれの外面（他方の基板と対向する面とは反対側の面）上には偏光板１７，１８が配置される場合もある。
【０００４】
一方、第１の基板１１と第２の基板１２との間隔（基板間ギャップ若しくはセルギャップ）を保持するために、第２の基板１２の第１の基板１１と対向する面上に柱状スペーサ１５が形成される場合がある。この柱状スペーサ１５は、光学的な影響を低減するために多くの場合上記画素間領域Ｈ内に形成される。この柱状スペーサ１５の構造や分布密度は第１の基板１１と第２の基板１２の基板間ギャップに影響を与えるので、液晶１３の厚みのばらつき等に起因する輝度ムラや色ムラなどといった表示ムラを防止するために柱状スペーサ１５の構造や分布に関して多くの提案がなされている。
【０００５】
例えば、以下の特許文献１及び２には、柱状スペーサの面積密度をパネル構造の周縁から中央に向かうに従って大きく構成することにより、外力に起因する基板間ギャップの変化による表示ムラ、気泡の発生等の不具合を防止することのできる構造が開示されている。また、以下の特許文献３及び４には、高さの異なる柱状スペーサを組み合わせることで、基板間ギャップの精度向上や耐圧の確保を可能とした構造が開示されている。
【特許文献１】国際公開パンフレットＷＯ２００５／０３８５１８Ａ１
【特許文献２】特開２００５−２４１８８０号公報
【特許文献３】特開２０００−３３８５０３号公報
【特許文献４】特開２００４−２３３９８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述の柱状スペーサを備えた液晶装置においては、柱状スペーサの面積密度を場所に応じて変えたり高さの異なる柱状スペーサを併用したりすることで、基板間ギャップの変化を抑制し、表示品位を確保するようにしている。しかしながら、発明者が種々実験を行い検討した結果、上記従来の柱状スペーサの改良技術では、外力等の変形応力が液晶装置に加わった後に残存する表示ムラを十分に改善することができないことが判明した。
【０００７】
そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、変形応力が液晶装置に加わった後に残存する表示ムラを低減することのできる新規の構成を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
斯かる実情に鑑み、本願発明者がさらに検討したところによると、図１１及び図１２に示すように、柱状スペーサ１５を備えた液晶装置１０の場合には、表示パネルの表面が押圧されたり表示パネルが屈曲されたりするなど外力（変形応力）が与えられると、基板１１，１２の変形に伴って柱状スペーサ１５の突出方向が変化し、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの第１の基板１１に対する当接位置がずれることで、柱状スペーサ１５の先端部１５ａが画素間領域Ｈに隣接する画素Ｇの構造に損傷を与えて液晶１３の配向状態が乱れ、これによって表示ムラが発生することが判明した。特に、第１の基板１１の表面に配向膜１６が形成されている場合には、変形応力による基板の撓みによって柱状スペーサ１５の先端部１５ａが配向膜１６の表面に損傷を与えるので、配向膜１６の表面の損傷によって液晶の配向に乱れが生じ、表示ムラが顕著になる。
【０００９】
例えば、図１１及び図１２に示すように、第２の基板１２を指などで押圧した場合には、押圧部の直下にある柱状スペーサ１５は単に圧縮されるだけであるが、当該押圧部の周囲にある柱状スペーサ１５は第２の基板１２の撓みによりその突出方向が変化する。また、状況によっては第２の基板１２のみが撓むのではなく、多くの場合には図示のように第１の基板１１も第２の基板１２の撓みに応じて撓むので、この第１の基板１１の撓みによって柱状スペーサ１５の先端部１５ａの第１の基板１１に対する当接位置のずれが生じやすくなる。
【００１０】
このような柱状スペーサ１５に起因する画素構造の損傷による表示ムラの発生は、原理的にみて上記従来の柱状スペーサの面積密度の変化や高さの異なる柱状スペーサの組み合わせでは全く改善できないことが予想された。そこで、本願発明者は、鋭意検討した結果、押圧力が液晶装置１０に加わると特定の領域に表示ムラが発生しやすくなることを見出した。
【００１１】
図１０には、上記の液晶装置１０の第２基板１２の中央領域１０ｃを押圧した後に生じた表示ムラ（色ムラ）の程度の分布を示す。この液晶装置１０では、シール材１４が矩形枠状に形成されることで、その内側に矩形状の収容部１０Ｐが構成されている。そして、この収容部１０Ｐ内には上記画素Ｇが配列されてなる表示領域１０Ａが形成される。図１０は、この表示領域１０Ａの表示ムラの程度を五段階で五種類の記号により示したものである。
【００１２】
図１０に示すように、収容部１０Ｐのうち、中央領域１０ｃと周縁領域１０ｄの間に表示ムラが大きい中間領域１０ｓ、１０ｔが形成される。中間領域１０ｓ、１０ｔは、上記矩形状の収容部１０Ｐの二本の対角線Ｌｔ１とＬｔ２（図示二点鎖線で示す。）の交点近傍を上記中心領域１０ｃとし、シール材１４の近傍内側を上記周縁領域１０ｄとしたとき、中心領域１０ｃの周囲において周縁領域１０ｄとの間に上記対角線Ｌｔ１とＬｔ２によって区画される四つの三角形状の平面範囲ごとにそれぞれ設けられる。図示例の場合、中間領域１０ｓ、１０ｔは、中央領域１０ｃに向けて幅が小さくなる形状、より具体的には、上記平面範囲の形状と同じ姿勢の、すなわち、一つの頂点が中心領域１０ｃを向き、他の二つの頂点がそれぞれ収容部１０Ｐの角部に向いた、略三角形状を備えている。
【００１３】
図示例の場合、収容部１０Ｐは図示左右方向に長く、図示上下方向に短い矩形状に構成されているので、上記対角線Ｌｔ１、Ｌｔ２で区画される平面範囲のうち図示上下方向にそれぞれ配置される平面範囲の形状と、図示左右方向にそれぞれ配置される平面範囲の形状とが異なるものとなっている。そして、この平面範囲の形状の相違に伴って、異なる形状の平面範囲にそれぞれ形成された上記中間領域１０ｓと１０ｔも相互に異なる平面形状を有するものとなっている。すなわち、相対的に見て、中間領域１０ｓは広くかつ表示ムラが大きく、中間領域１０ｔは狭くかつ表示ムラが小さくなっている。
【００１４】
上記のように中間領域１０ｓと１０ｔの平面範囲や表示ムラの程度が異なる理由は以下のように考えられる。すなわち、図１０の左右方向に沿った断面では、図１１に示すように、収容部１０Ｐの中央から基板１１，１２を拘束しているシール材１４の形成位置までの距離が相対的に長いことから、中間領域１０ｓでの柱状スペーサ１５の傾斜角度が小さくなり、したがって、柱状スペーサ１５の先端部１５ａによる配向膜１６の損傷範囲も狭くなるため、表示ムラの出現範囲が狭く、表示ムラの程度も小さくなっているものと考えられる。一方、図１０の上下方向に沿った断面では、図１２に示すように、収容部１０Ｐの中央から基板１１，１２を拘束しているシール材１４の形成位置までの距離が相対的に短いことから、中間領域１０ｔでの柱状スペーサ１５の傾斜角度が大きくなり、したがって、柱状スペーサ１５の先端部１５ａによる配向膜１６の損傷範囲も広くなるため、表示ムラの出現範囲が広く、表示ムラの程度も大きくなっているものと考えられる。そして、本発明の液晶装置は以上のような知見に基づいてなされたものである。
【００１５】
すなわち、第１発明の液晶装置は、互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、を有し、前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値より小さく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする。
【００１６】
この第１発明によれば、外部からの押圧力や折り曲げ力等により二枚の基板のうち少なくとも片方の基板がシール材によって画成された収容部の中央領域を中心に撓むと、この中央領域と周縁領域との間の中間位置で二枚の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状スペーサの先端部が他方の基板に対して収容部の中央から周縁に向けて位置ずれを起こす。しかしながら、本発明では、収容部の中央領域と周縁領域の間の中間位置に設けられた中間領域に配置された複数の柱状スペーサの先端部の断面積若しくはその平均値が、中央領域と周縁領域に配置された柱状スペーサの先端部の断面積若しくはその平均値より小さく構成されるので、柱状スペーサの先端部による他方の基板の液晶側の表面に対する損傷範囲を低減させることができる。すなわち、中間領域における柱状スペーサの先端部の断面積が小さいことにより、画素内における上記表面に対する損傷範囲も小さくすることができる。したがって、表示ムラの発生領域を狭くすることができるとともに表示ムラの程度も小さくすることができる。また、収容部の中央領域及び周縁領域では柱状スペーサの先端部の断面積を小さくする必要がないので、パネル剛性を確保することができる。すなわち、表示ムラの発生しやすい中間領域において柱状スペーサの先端部の断面積を低減して表示ムラを低減するとともに、表示ムラの発生しにくい中央領域及び周縁領域では柱状スペーサの先端部の断面積を確保することで支持剛性を確保できるから、表示ムラの低減とパネル剛性の確保を両立することができる。
【００１７】
この場合に、前記中央領域と前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサは第１の前記断面積を備え、前記中間領域に配置された前記複数の柱状スペーサは前記第１の断面積より小さい第２の前記断面積を備えていることが好ましい。上記のように本発明では中央領域と周縁領域の上記断面積若しくはその平均値よりも中間領域の上記断面積若しくはその平均値が小さくなっていればよいが、特に、中央領域及び周縁領域の第１の断面積より中間領域の第２の断面積が全ての柱状スペーサについて小さくなっていることにより、上述の作用効果をさらに高めることができる。ここで、上記の第１の断面積及び第２の断面積はそれぞれ後述する実施形態のように全て同一である必要はない。
【００１８】
また、第２発明の液晶装置は、互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、を有し、前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう方向の幅若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう方向の幅若しくはその平均値より小さく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする。
【００１９】
この第２発明によれば、外部からの押圧力や折り曲げ力等により二枚の基板のうち少なくとも片方の基板がシール材によって画成された収容部の中央領域を中心に撓むと、この中央領域と周縁領域との間の中間位置で二枚の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状スペーサの先端部が他方の基板に対して収容部の中央から周縁に向けて位置ずれを起こす。しかしながら、本発明では、収容部の中央領域と周縁領域の間の中間位置に設けられた中間領域に配置された複数の柱状スペーサの先端部の収容部の中央から周縁に向かう方向（つまり、上記の柱状スペーサの先端部の位置ずれ方向）の幅若しくはその平均値が、中央領域と周縁領域に配置された柱状スペーサの先端部の収容部の中央から周縁に向かう方向の幅より小さく構成されるので、柱状スペーサの先端部による他方の基板の液晶側の表面に対する損傷範囲を低減させることができる。すなわち、中間領域における柱状スペーサの先端部の上記方向の幅が小さいことにより、柱状スペーサの先端部が同方向に位置ずれを起こしても、画素内の上記表面に対する損傷範囲を小さくすることができる。したがって、表示ムラの発生領域を狭くすることができるとともに表示ムラの程度も小さくすることができる。また、表示ムラの発生しやすい中間領域において柱状スペーサの先端部の上記幅を低減して表示ムラを低減するとともに、表示ムラの発生しにくい中央領域及び周縁領域では柱状スペーサの先端部の上記幅を確保することで支持剛性を確保できるから、表示ムラの低減とパネル剛性の確保を両立することができる。
【００２０】
この場合に、前記中央領域と前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサは第１の前記幅を備え、前記中間領域に配置された前記複数の柱状スペーサは前記第１の幅より小さい第２の前記幅を備えていることが好ましい。上記のように本発明では中央領域と周縁領域の上記幅若しくはその平均値よりも中間領域の上記幅若しくはその平均値が小さくなっていればよいが、特に、中央領域及び周縁領域の第１の幅より中間領域の第２の幅が全ての柱状スペーサについて小さくなっていることにより、上述の作用効果をさらに高めることができる。ここで、上記の第１の幅及び第２の幅はそれぞれ後述する実施形態のように全て同一である必要はない。
【００２１】
本発明の一の態様においては、前記収容部には前記液晶に対し独立して電界を印加可能に構成された複数の画素が画素間領域を介して配列され、前記柱状スペーサが前記画素間領域に設けられている。これによれば、柱状スペーサが画素間領域に設けられていることにより、柱状スペーサによる光学的影響を低減できるために全般的に表示品位の向上を図ることができるとともに、柱状スペーサの先端部の位置ずれ量が小さい領域では、中間領域における当該先端部の断面積や上記幅が小さいことにより当該先端部が画素内に入り込まない場合も生じうるので、他方の基板の液晶側の表面に対する損傷領域を狭くし、表示ムラの発生領域を狭くすることができ、また、表示ムラが生じた領域にあっても、その表示ムラの程度を軽減することができる。
【００２２】
さらに、第３発明の液晶装置は、互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、を有し、前記収容部には前記液晶に対し独立して電界を印加可能に構成された複数の画素が画素間領域を介して配列され、前記柱状スペーサが前記画素間領域に設けられ、前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう向きに測った、前記柱状スペーサの外縁から前記画素間領域と前記画素の境界位置までの距離の平均値が、前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう向きに測った、前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの外縁から前記画素間領域と前記画素の境界位置までの距離の平均値より大きく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする。なお、上記距離は、二枚の基板が撓んでいないとき、すなわち、柱状スペーサの先端部が位置ずれを起こしていないときに計測した値とする。
【００２３】
この第３発明によれば、外部からの押圧力や折り曲げ力等により二枚の基板のうち少なくとも片方の基板がシール材によって画成された収容部の中央領域を中心に撓むと、この中央領域と周縁領域との間の中間位置で二枚の基板のうち少なくとも一方の基板に設けられた柱状スペーサの先端部が他方の基板に対して収容部の中央から周縁に向けて位置ずれを起こす。しかしながら、本発明では、収容部の中央から周縁に向かう向き（つまり、上記の柱状スペーサの先端部の位置ずれの向き）に測った、中間領域に配置された柱状スペーサの先端部の外縁から画素間領域と画素の境界位置までの距離の平均値が、中央領域と周縁領域に配置された柱状スペーサの先端部の上記と同じ向きに測った上記距離の平均値より大きく構成されるので、柱状スペーサの先端部による他方の基板の液晶側の表面に対する損傷範囲を低減させることができる。すなわち、中間領域における柱状スペーサの先端部の上記方向の距離が大きいことにより、柱状スペーサの先端部が同方向に位置ずれを起こしても、画素内の上記表面に対する損傷範囲を小さくすることができる。したがって、表示ムラの発生領域を狭くすることができるとともに表示ムラの程度も小さくすることができる。また、表示ムラの発生しやすい中間領域において柱状スペーサの先端部の上記距離を増大させて表示ムラを低減するとともに、表示ムラの発生しにくい中央領域及び周縁領域では柱状スペーサの先端部の上記距離を低減することで支持剛性を確保できるから、表示ムラの低減とパネル剛性の確保を両立することができる。
【００２４】
上記各発明において、前記中間領域は、前記収容部内の周囲の領域に囲まれた島状に形成されている場合がある。押圧力や折り曲げ力が加わる場合には、表示ムラはこれらの力が加わった場所の周囲に島状に形成されるので、本発明の中間領域もまた島状に構成することで、パネル剛性を確保しつつ、表示ムラの低減を図ることができる。たとえば、後述する実施形態では表示ムラの分布と対応して矩形状の収容部内に四つの中間領域が島状に構成される。また、たとえば、円形の収容部が設けられたとするならば、表示ムラは中央と周縁の間にリング状に形成されるものと思われるので、やはりリング状の島状に形成されることが好ましい。いずれにしても、中央領域と周縁領域の間に中間領域が島状に構成されることが望ましい。
【００２５】
上記各発明の他の態様においては、前記画素間領域は前記複数の画素の間を互いに交差する二方向にそれぞれ伸びるように設けられ、前記柱状スペーサは、前記画素間領域の前記二方向に伸びる部分の交差部に設けられている。これによれば、二方向に伸びる画素間領域の交差部に柱状スペーサが設けられていることにより、柱状スペーサの位置ずれ方向が当該二方向のいずれかであれば他方の基板の液晶側の表面に損傷を与えることがなくなり表示ムラも生じないので、表示ムラの生ずる領域を狭くすることができる。
【００２６】
本発明の別の態様においては、前記収容部が矩形状に構成され、前記収容部には、前記矩形状の二本の対角線によって分割された四つの平面範囲ごとに前記中間領域が設けられる。これによれば、矩形状の収容部が構成される場合、二本の対角線に沿った領域には表示ムラが生じにくくなり、対角線の中間位置には表示ムラが生じやすいので、中間領域を二本の対角線で区画された四つの平面範囲ごとに設けることで、表示ムラを低減しつつ、上記対角線に沿った領域において柱状スペーサによる支持面積を確保することで、柱状スペーサによるパネル構造の支持剛性をより高いレベルで確保できる。
【００２７】
この場合に、前記平面範囲内に形成される前記中間領域は、前記平面範囲の三角形状に対応して前記中央領域に向けて幅が小さくなる形状に形成されていることが好ましい。これによれば、四つの上記平面範囲は三角形状に構成されるが、各平面領域内において表示ムラの程度は各平面範囲の形状に対応して分布するので、各平面範囲の平面形状に合わせて上記中間領域を設けることで、効率的に表示ムラを低減でき、しかも支持剛性の低下を抑制できる。
【００２８】
本発明の異なる態様においては、前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの形成密度は、前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの形成密度より大きい。これによれば、中間領域に配置された柱状スペーサについては先端部の断面積が小さいか、或いは、先端部の収容部の中央から周縁に向かう方向の幅が小さい場合があるので、一般的には中間領域における柱状スペーサによる支持剛性は低下するが、上記のように柱状スペーサの形成密度、すなわち、単位面積当たりの柱状スペーサの数を大きくすることにより、当該支持剛性の低下を抑制することができる。
【００２９】
本発明のさらに別の態様においては、前記他方の基板の前記液晶側の表面は配向膜で構成される。この配向膜を有する場合には、柱状スペーサの先端部が配向膜に損傷を与えることで液晶の配向が大きく乱れる虞があるが、本発明では画素内の配向膜の損傷を低減できるため、特に効果的である。
【００３０】
上記各発明において柱状スペーサの先端部の断面形状は特に限定されないが、一つの態様としては、前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状は円形であり、前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面の直径が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面の直径より小さい場合がある。上記断面形状が円形であることにより、いずれの方向への位置ずれにおいても等方的な効果が得られる。
【００３１】
また、上記各発明の他の態様としては、前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状は扁平形状であり、前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状の長手方向が前記収容部の中央から周縁へ向かう方向と実質的に直交する方向である場合がある。この場合には、上記の扁平形状とすることにより、上記各発明において、中間領域における柱状スペーサの先端部の断面積の低減量を抑制しつつ、或いは、当該断面積を低減しなくても、表示ムラの低減を図ることが可能になるので、表示ムラの低減とパネル剛性の確保とをより高いレベルで両立できる。
【００３２】
なお、上記の第３発明の態様としては、上記断面形状の上記断面積や上記幅を変更するか否かに拘わらず、先端部１５ａを画素間領域Ｈ内において収容部の中心側へ並行移動させ、これによって上記距離を大きくする構成も考えられる。このようにすることでも、先端部１５ａの周縁側への位置ずれに起因する表示ムラを低減することができる。
【００３３】
本発明の異なる態様においては、前記他方の基板は前記画素毎に設けられたスイッチング素子を含み、前記一方の基板は前記画素に対応してフィルタ層を備えるカラーフィルタを有する。この態様では、スイッチング素子を含む他方の基板には柱状スペーサを設けず、カラーフィルタを有する一方の基板に柱状スペーサを設けることにより、両基板の製造工程のバランスを図ることができる。特に、柱状スペーサをフォトリソグラフィ技術を用いて形成する場合には、構造が簡易で下地面の平坦性に優れた一方の基板に柱状スペーサを形成することが製造上有利である。
【００３４】
本発明においては、前記他方の基板において前記複数の画素を構成する画素構造は、前記他方の基板の前記液晶側の表面に沿った横電界を形成可能に構成されることが好ましい。この横電界モードの画素構造は他方の基板の一方の基板と対向する面に沿った電界により液晶を配向させるものであり、この場合には画素の透過率を高めることが困難であるために、表示の明るさを確保するには画素の開口率を高める必要があるが、当該開口率を高めるためには画素間領域を狭小化する必要がある。このように画素間領域を狭小化すると、柱状スペーサの先端部がずれることによる他方の基板の一方の基板と対向する面の損傷に起因する表示ムラの発生も顕著となるため、上記本発明は特に効果的である。
【００３５】
上記の横電界モードのより具体的な構成としては、前記他方の基板は前記画素毎に電界を付与するための第１の電極と第２の電極を含み、前記一方の基板は前記画素に対応してフィルタ層を備えるカラーフィルタを有する。この態様では、他方の基板に第１の電極と第２の電極を設けることで、他方の基板の液晶側の表面に沿った横電界を形成することができる。
【００３６】
次に、本発明の電子機器は、上記のいずれかに記載の液晶装置と、該液晶装置を制御する制御手段とを具備する。このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、電子時計、表示モニタ、テレビジョン受像機などが挙げられる。特に、携帯電話機等といった携帯型電子機器においては、ポケットやスーツケースなどに当該携帯型電子機器を収納する場合に、液晶装置に対して折り曲げ力が加わる虞が高いので、上記表示ムラを低減するための手段を有する本発明の構成はきわめて有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
［第１実施形態］
次に、添付図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。図１は本実施形態の第１の基板の表面構造を示す平面図、図２は本実施形態の拡大部分断面図（図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図）、図３は本実施形態の第２の基板の表面構造を示す平面図である。なお、これらの図示以外の構造は基本的に図１１及び図１２に示す構成と同様であるので、対応する部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。
【００３８】
本実施形態の液晶装置１０は、いわゆる横電界モードの液晶装置であり、より具体的にはＦＦＳ（Fring Field Switching）モードと呼ばれるタイプの液晶装置である。ただし、本発明の液晶装置はこの種の液晶装置に限定されるものではない。
【００３９】
しかしながら、特に、ＦＦＳやＩＰＳ（In Plane Switching）などといった横電界モードの液晶装置では、縦電界モードの液晶装置、例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）モードなどといった液晶装置に比べると、画素の透過率を高めることが難しいため、表示の明るさを確保するためには開口率を高める必要があり、開口率を高めると画素間領域Ｈの幅が狭くなるために、上述した柱状スペーサによる画素構造の損傷による光学的不具合が大きくなりやすい。したがって、本発明は、特にＦＦＳやＩＰＳなどといった横電界モードの液晶装置に用いることが効果的であるので、本実施形態では横電界モードの液晶装置の一例としてＦＦＳモードの構成について以下に説明する。
【００４０】
本実施形態の液晶装置１０は、図２に示すように、第１の基板１１の第２の基板１２と対向する面に第１の画素構造１１０が形成され、第２の基板１２の第１の基板１１と対向する面に第２の画素構造１２０が形成される。そして、第１の画素構造１１０と第２の画素構造１２０により、上記の各画素Ｇが画成されるとともに各画素Ｇにおいてそれぞれ独立した電界が液晶１３に付与可能とされる。これらの複数の画素Ｇは平面上において縦横にマトリクス状に配列されている。
【００４１】
図１及び図２に示すように、第１の画素構造１１０は、第１の基板１１上に下地絶縁層１１１を介して形成されたゲート線１１２及びコモン線１１３と、このコモン線１１３に導電接続された共通電極１１４と、ゲート線１１２に対しゲート絶縁膜１１２ａを介して上方に対向配置されるシリコン等の半導体層１１５と、上記ゲート線１１２及びコモン線１１３とは交差する方向に伸びるデータ線１１６と、データ線１１６に導電接続され、半導体層１１５に導電接続されたソース電極１１６ａと、当該ソース電極１１６ａに対し半導体層１１５のチャネル領域（ゲート線１１２の一部のゲート電極となる部分と対向する活性領域）を挟んで半導体層１１５に導電接続されるドレイン電極１１６ｂと、このドレイン電極１１６ｂに導電接続されるとともに、上記共通電極１１４と絶縁層１１９を介して平面的に重ねて配置され、共通電極１１４と平面的に重なる範囲に開口部１１７ａを備えた画素電極１１７とを有する。なお、この第１の画素構造１１０には上述の配向膜１６も含まれる。
【００４２】
上記ゲート線１１２のゲート電極部分、ゲート絶縁膜１１２ａ、半導体層１１５、ソース電極１１６及びドレイン電極１１６ｂは画素Ｇ毎に設けられるスイッチング素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を構成し、このゲート線１１２の電位によってオンオフ制御される当該ＴＦＴを介してデータ線１１６の電位が画素電極１１７に供給される。そして、上記の第１の電極である共通電極１１４と、上記第２の電極である画素電極１１７との間に電位差が与えられると、画素電極１１７の開口部１１７ａを通して第１の画素構造１１０の表面に沿った横電界が形成され、これが液晶１３に付与される。
【００４３】
一方、図２及び図３に示すように、第２の画素構造１２０には、第２の基板１２上にＣｒやＣｒ合金等よりなる遮光膜１２１が形成され、この遮光膜１２１の非形成領域が画素Ｇを画成するとともに、遮光膜１２１の形成領域が画素間領域Ｈを構成する。また、その上にはカラーフィルタ１２２が形成される。このカラーフィルタ１２２は、画素Ｇ毎に対応する色を備えたフィルタ層が配列されたものである。図１及び図３には、赤色のフィルタ層を備えた画素Ｇｒ、緑色のフィルタ層を備えた画素Ｇｇ、青色のフィルタ層を備えた画素Ｇｂが順番に配列されている様子を示してある。これらのフィルタ層の配列パターンとしては、本実施形態の場合にはストライプ配列、斜めモザイク配列などが例示される。各色のフィルタ層の境界は上記遮光膜１２１の設けられた画素間領域Ｈに配置される。なお、この第２の画素構造１２０にも配向膜１２３が含まれる。
【００４４】
本実施形態の場合には上述のように複数の画素Ｇが縦横にマトリクス状に配列されているので、画素Ｇ間に設けられる画素間領域Ｈには、図３に示すように、平面方向のうち第１の方向Ｆ１に直線状に延在する第１の画素間領域部Ｈ１が画素Ｇ間において平行に複数形成されるとともに、上記第１の方向Ｆ１と交差する（図示例では直交する）第２の方向Ｆ２に直線状に延在する第２の画素間領域部Ｈ２が画素Ｇ間において平行に複数形成される。ここで、第１の画素間領域部Ｈ１は主としてゲート線１１２及びコモン線１１３の形成領域を遮光する部分であり、第２の画素間領域部Ｈ２は主としてデータ線１１６の形成領域を遮光する部分である。そして、第１の画素間領域部Ｈ１と第２の画素間領域部Ｈ２は画素Ｇの配列周期ごとに交差し、画素間領域Ｈは、両画素間領域部Ｈ１とＨ２が交差してなる交点状の複数の交差部を有するものとされ、全体として格子状に構成される。
【００４５】
本実施形態では、第２の基板１２の第１の基板１１と対向する面上に柱状スペーサ１５が形成される。柱状スペーサ１５は絶縁材料で構成され、好ましくはフォトレジストを露光してパターニングするフォトリソグラフィ技術によって形成される。第２の基板１２に設けられた柱状スペーサ１５の先端部１５ａは、第１の基板１１の第２の基板１２と対向する面に当接して基板間ギャップを保つように第１の基板１１を支持する。
【００４６】
ここで、図１及び図３において示す円形は本実施形態の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状の一例を示す。ただし、当該断面形状は、円に限らず、三角形、四角形などの多角形状であってもよく、楕円などのような所定方向に延長された形状（後述する扁平形状など）であってもよい。
【００４７】
柱状スペーサ１５は上記画素間領域Ｈ内の、第１の画素間領域Ｈ１と第２の画素間領域Ｈ２が交差する交差部に配置される。図示例の場合には、柱状スペーサ１５は、第１の画素間領域Ｈ１の軸線Ｌ１と第２の画素間領域Ｈ２の軸線Ｌ２の交点が断面形状の中心（一般的には重心、以下同様。）Ｃｘと重なるように配置される。ここで、軸線Ｌ１はその両側にある第１の画素間領域Ｈ１（第２の画素間領域Ｈ２との間の交差部も含む）の面積が等しくなる直線であり、軸線Ｌ２はその両側にある第２の画素間領域Ｈ２（第１の画素間領域Ｈ１との間の交差部を含む）の面積が等しくなる直線である。
【００４８】
ただし、柱状スペーサ１５は、図示例のように軸線Ｌ１とＬ２の交点に断面形状の中心Ｃｘが厳密に一致する必要はなく、第１の画素間領域Ｈ１と第２の画素間領域Ｈ２の交差部内に配置されていればよい。また、本発明においては、上記柱状スペーサ１５が上記交差部内に配置されず、たとえば、交差部以外の第１の画素間領域Ｈ１又は第２の画素間領域Ｈ２内に配置されていてもよく、さらには、上記柱状スペーサ１５が画素間領域Ｈ内に配置されていない場合でも、本実施形態（第１の発明）は後述する一定の効果を得ることができる。
【００４９】
図４は、本実施形態における、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積（第１の基板１１及び第２の基板１２の対向面に沿った断面形状、すなわち横断面形状）と収容部１０Ｐ内の平面上の位置との関係を模式的に示す概略分布図、図５(ａ)は中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄにおける柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状を示す拡大部分断面図、図５（ｂ）は中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおける柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状を示す拡大部分断面図である。ここで、図４はあくまでも先端部１５ａの断面積の大きさの収容部１０Ｐ内の平面分布を模式的に示すものであり、図示中に円で示す断面形状は実際の収容部１０Ｐ内における絶対的な断面積の値及び断面形状を反映するものではなく、実際の断面積及び断面形状を簡略化し、かつ、強調して描いてある。
【００５０】
図４に示すように、本実施形態では、シール材１４が矩形枠状の閉じた形状に配置され、このシール材１４によって第１の基板１１と第２の基板１２が貼り合わされている。シール材１４の内側には両基板１１と１２の間に矩形状の収容部１０Ｐが構成され、この収容部１０Ｐ内に上記液晶１３が封入される。収容部１０Ｐ内には上記画素が配列されてなる矩形状の表示領域１０Ａが設けられている。収容部１０Ｐ内には第１の基板１１と第２の基板１２の間隔、すなわち、液晶１３の厚みを所定値（通常、３〜１０μｍ程度の範囲内の値）に規定するためのセルギャップを設定するために、複数の柱状スペーサ１５が分散して形成される。
【００５１】
本実施形態において、複数の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積若しくはその平均値は、収容部１０Ｐ内の中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて小さく形成される。上記中央領域１０Ｃは、矩形状の収容部１０Ｐの対向する角部同士を結ぶ二本の対角線Ｌｔ１とＬｔ２の交点である中心点Ｏｘを含みその近傍を包含する領域であり、上記周縁領域１０Ｄは、シール材１４の内縁で構成される矩形状の各辺に沿ってその内側に設けられる矩形枠状の領域である。また、中間領域１０Ｓ、１０Ｔは、上記中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄとの間の中間位置において複数の前記柱状スペーサ１５が配置される領域である。
【００５２】
なお、図４（後述する図６、図８も同様）においては、表示領域１０Ａ内にのみ柱状スペーサ１５が配置されるように描いてあるが、実際には表示領域１０Ａの周囲とシール材１４の間にも柱状スペーサ１５が配置されていることが好ましい。また、本実施形態の中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄは表示領域１０Ａの範囲とは直接関係がないが、中間領域１０Ｓ、１０Ｔは通常は表示領域１０Ａ内に構成される。
【００５３】
図４に模式的に示す態様では、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積が同じ値の第１の断面積とされ、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積が同じ値の第２の断面積とされる。そして、第１の断面積よりも第２の断面積は小さく設定される。また、単に断面積だけでなく、図示例では中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状が同一であり、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでも全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状が同一である。なお、上記中間領域１０Ｓ、１０Ｔは常に中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄの間の中間位置に配置されるが、図示例の場合には、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ以外の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部１５ａが全て上記第１の断面積を備えた同一の断面形状とされている。
【００５４】
本実施形態では、また、図５に示すように、複数の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの収容部１０Ｐの中心（上記中心点Ｏｘ）から周縁に向かう方向の幅Ｗｏ若しくはその平均値は、収容部１０Ｐ内の中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄに対して中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて小さく形成される。特に、図示例では中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記幅Ｗｏが同一の第１の幅であり、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでも全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記幅Ｗｏが同一の第２の幅となっている。さらに、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ以外の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記幅Ｗｏが全て上記第１の幅を備えている。
【００５５】
なお、上記のように、図示例では上記中間領域１０Ｓ及び１０Ｔの内部に配置された複数の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積及び上記幅Ｗｏ並びに断面形状は全て同一であり、上記中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄの内部に配置された複数の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積及び上記幅Ｗｏ並びに断面形状は全て同一である。ただし、本実施形態において、上記各領域内の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積及び上記幅Ｗｏ並びに断面形状が全て同一である必要はなく、各領域において断面積又は上記幅Ｗｏが相互に異なる柱状スペーサ１５が存在しても良い。この場合には、上記断面積又は上記幅Ｗｏの平均値で比較したときに、中間領域１０Ｓ及び１０Ｔが中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄより小さくなっていればよい。
【００５６】
また、本実施形態では柱状スペーサ１５の少なくとも先端部１５ａが上記の断面形状となっていればよく、第１の基板１１の第２の基板と対向する面と接触する可能性のない先端部以外の部分（基端部）の断面形状は任意である。したがって、柱状スペーサ１５としては、高さ方向の全範囲において上記の断面形状の構成を有するものであってもよく、先端部のみが上記の断面形状の構成を有するものであってもよい。後者の場合には、例えば、柱状スペーサ１５の基部側の断面形状から先端部１５ａの上記の断面形状の構成に向けて高さ方向に徐々に変化した形状を有するものであってもよく、或いは、柱状スペーサ１５の基端部の断面形状と先端部１５ａの上記断面形状の構成とが或る高さ位置において段差状に不連続に変化するものでもよい。
【００５７】
以上説明した本実施形態によれば、上記中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて柱状スペーサ１５の先端部１５ａは上記中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも断面積若しくはその平均値が小さいので、基板１１、１２が撓むことで当該先端部１５ａが位置ずれを起こしても、図５に示すように、収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう向きＦｘに測った、画素間領域Ｈ内の柱状スペーサ１５の外縁から画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置までの距離Ｌｘを大きく設定することが可能になるため、位置ずれ量が少ない場合には画素間領域Ｈからはみ出しにくくなるから画素Ｇ内の表面に影響を与えにくくなり、位置ずれ量が多い場合でも先端部１５ａの断面積が小さいことで画素Ｇ内の配向膜１６等の表面に損傷を与える範囲が低減される。
【００５８】
また、見方を変えると、基板１１、１２が撓むことで当該先端部１５ａは収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向に位置ずれを起こすが、本実施形態によれば、上記中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて柱状スペーサ１５の先端部１５ａは上記中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向の幅Ｗｏ若しくはその平均値が小さいので、収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう向きＦｘに測った、画素間領域Ｈ内の柱状スペーサ１５の外縁から画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置までの距離Ｌｘを大きく設定することが可能になるため、位置ずれ量が少ない場合には画素間領域Ｈからはみ出しにくくなるから画素Ｇ内の表面に影響を与えにくくなり、位置ずれ量が多い場合でも先端部１５ａの位置ずれ方向の幅が小さいことで画素Ｇ内への侵入範囲が低減されるため配向膜１６等の表面に損傷を与える範囲も低減される。したがって、いずれの観点から見ても、基板の撓みに起因する柱状スペーサ１５の先端部１５ａの位置ずれによる表示ムラの発生を抑制することが可能になる。
【００５９】
以上のように上記断面積又は幅Ｗｏの低減により、図５に示す上記距離Ｌｘを大きく設定することが可能になるが、本実施形態の構成を変更し、上記断面積や幅Ｗｏとは別に、すなわち、上記断面積や幅Ｗｏの大小関係の有無に拘らず、上記距離Ｌｘの平均値を中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄのそれよりも大きくすることでも、上記と同様の効果を得ることができる。なお、上記距離Ｌｘとは、二枚の基板が撓んでいないとき、すなわち、柱状スペーサの先端部が位置ずれを起こしていないときに計測した値である。また、上記向きＦｘは、収容部１０Ｐの中心点Ｏｘ（上記対角線Ｌｔ１とＬｔ２の交差点）と柱状スペーサ１５の先端部１５ａの中心点（重心点）とを結ぶ線に沿った方向を有し、中心点Ｏｘとは反対側、すなわち周縁の側に向けた向きである。したがって、上記距離Ｌｘは常に先端部１５ａの周縁側に存在する画素間領域Ｈの幅となる。
【００６０】
なお、上記距離Ｌｘは上記向きＦｘと画素間領域Ｈの延在する第１の方向Ｆ１、第２の方向Ｆ２との関係により変化し、上記向きＦｘは柱状スペーサ１５の形成場所によって変わるので、各領域１０Ｃ、１０Ｄ、１０Ｓ、１０Ｔの内部においても種々変化するが、上記距離Ｌｘの平均値が中央領域１０Ｃや周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔで大きくなっていればよい。また、上記向きＦｘが第１の方向Ｆ１又は第２の方向Ｆ２に近く、上記距離Ｌｘが規定できない場合（画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置が存在しない場合）には上記平均値の計算から除外される。
【００６１】
また、本実施形態では上記のように中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積及び上記幅Ｗｏが小さいので、当該部分の柱状スペーサ１５によるセルギャップに対する支持剛性が低下するが、中間領域以外の他の領域、特に中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは上記断面積及び幅Ｗｏが大きいので、これらの領域での支持剛性を確保することができるため、パネル全体の剛性の低下を抑制できる。すなわち、表示ムラの低減とパネル剛性の確保とを両立できる。さらに、これと同様に、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは上記距離Ｌｘが小さくてよいので、結果的に柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積や上記幅Ｗｏを大きくすることができ、これによってパネル全体の剛性を確保することができる。
【００６２】
図示例の場合には、中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおいて他の領域に対して柱状スペーサ１５の先端部１５ａの中心Ｃｘの位置を変えずに、断面積を小さくすることで上記幅Ｗｏを小さくするとともに上記距離Ｌｘを大きくしているが、たとえば、図５（ａ）に点線で示す先端部１５ａ′のように、断面形状を変えずに中心Ｃｘを中心点Ｏｘの側に並行移動させることで、上記距離Ｌｘを大きくするようにしてもよい。また、このような柱状スペーサ１５の位置の変更を、本実施形態で行った断面積や上記幅Ｗｏの低減と併用することも可能である。なお、このような位置の変更は、以下に示す他の実施形態においても同様に実施することが可能である。
【００６３】
中間領域１０Ｓ、１０Ｔは一般に収容部１０Ｐ内において周囲を囲まれた島状に構成される。これは、収容部１０Ｐにおいて中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄでは、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの位置ずれが少なく、したがって、断面積、上記幅Ｗｏ、上記距離Ｌｘを変更する必要がなく、また、これらの領域では支持剛性を確保する必要があるからである。本実施形態では収容部１０Ｐが矩形状であるので以下に説明するように特殊な状況となるが、一般的にはこのような島状の構成とされる。たとえば、収容部１０Ｐが円形である場合を想定すると、中間領域は中央領域と周縁領域に挟まれたリング状の領域となる。
【００６４】
本実施形態では、矩形状の収容部１０Ｐの二本の対角線Ｌｔ１とＬｔ２によって分割される四つの三角形状の平面範囲内にそれぞれ一つずつ上記中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられる。これによって、二本の対角線Ｌｔ１,Ｌｔ２に沿った領域では上記断面積及び幅Ｗｏを大きくすることができるため、当該対角線Ｌｔ１、Ｌｔ２に沿った領域の支持剛性を確保できるため、パネル全体の剛性の低下をさらに効率的に抑制できる。
【００６５】
さらに、本実施形態では、上記三角形状の四つの平面範囲のそれぞれに当該平面範囲の三角形状に対応させて、中央領域１０Ｃに向けて幅が小さくなる形状（三角形状、台形状、その他の多角形状、或いは、これらの多角形状の角部を丸めた形状など）の中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられているので、各平面範囲において支持剛性の低下を抑制しつつ効率的に表示ムラを低減できる。すなわち、図１０に示すように、各平面範囲には中央領域１０ｃに向けて幅が小さくなる形状の表示ムラが生じやすいので、中間領域１０Ｓ、１０Ｔの平面形状を上記平面範囲の形状に対応した形状とすることで、表示ムラの生じやすい領域を効率的にカバーできる。
【００６６】
本実施形態では、液晶装置１０の表示領域１０Ａの中央を指やペン先などで押圧した場合にはもちろんのこと、液晶装置１０を搭載した電子機器をポケット（特にズボンの臀部に設けられたポケット）に入れたときやスーツケースなどの狭い空間に収容したときなど、液晶装置１０の表示領域１０Ａに折り曲げ力が加えられた場合でも、第１の基板１１及び第２の基板１２に撓みが生ずるので、この撓みによって柱状スペーサ１５の先端部１５ａに収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向の位置ずれが発生する。そして、これらの場合には、以上のように構成されていることにより、パネル剛性をある程度確保しつつ、表示ムラの低減を図ることができる。
【００６７】
以上説明した本実施形態において、中央領域１０Ｃと周縁領域１０Ｄの間の中間位置に中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられる態様としては、例えば、上記断面積又は上記幅Ｗｏが収容部１０Ｐ内の中央から中間位置へ向けて徐々に低下し、中間位置から周縁へ向けて徐々に増大する態様、或いは、上記距離Ｌｘが収容部１０Ｐ内の中央から中間位置へ向けて徐々に増大し、中間位置から周縁へ向けて徐々に減少する態様も含まれる。また、本実施形態の図示例のように、中央領域１０Ｃの周囲の一部の方位にのみ中間領域１０Ｓ、１０Ｔが設けられる場合に限らず、中央領域１０Ｃの周囲の全方位に亘り一体の中間領域（例えば、リング状、枠状の領域）が設けられていてもよい。
【００６８】
なお、本実施形態においては上述のように柱状スペーサ１５が画素間領域Ｈ内に設けられているが、柱状スペーサ１５が画素間領域Ｈ内に設けられず、画素Ｇ内に設けられている場合であっても、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内においては柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積が小さいことにより、表示ムラの低減を図ることができる。すなわち、この場合には、上記先端部１５ａが位置ずれを起こした時の移動範囲が画素Ｇ内の基板表面の損傷範囲と一致することになるが、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは先端部１５ａの断面積が小さいことにより、上記損傷範囲そのものの面積を小さくすることができるので、表示ムラを完全になくすことはできないものの、表示ムラの程度を改善することが可能である。
【００６９】
［第２実施形態］
次に、図６及び図７を参照して本発明に係る第２実施形態について説明する。なお、本実施形態において第１実施形態と対応する部分には同一符号を付し、図示しない部分及び説明しない事項は第１実施形態と同様に構成できる。図６は第２実施形態の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部の断面形状の分布を模式的に示す概略平面図、図７（ａ）は中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄ内の拡大部分平面図、図７（ｂ）は中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の拡大部分平面図である。
【００７０】
図６に模式的に示す柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状の分布も、上述の第１実施形態の断面形状の分布と同様の基本構成を有し、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔの方が柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積若しくはその平均値が小さく、また、収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向の幅Ｗｏが小さい。さらには、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔの方が、収容部１０Ｐの中心から周縁に向かう向きＦｘに測った、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの外縁から画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置までの距離Ｌｘの平均値が大きい。
【００７１】
しかしながら、前述のように、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積若しくはその平均値が小さいことで支持剛性が低下するので、本実施形態ではこの支持剛性の低下を補償するために、中間領域１０Ｓ、１０Ｔにおける柱状スペーサ１５の形成密度を中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも高くしている。
【００７２】
図７は図６に模式的に示す柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状の分布の一つの具体例を示すものである。中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは、図７（ａ）に示すように、画素間領域Ｈにおいて、第１の画素間領域部Ｈ１と第２の画素間領域部Ｈ２が交差する交差部のうち、第１の画素間領域部Ｈ１の延在方向（図示左右方向）と、第２の画素間領域部Ｈ２の延在方向（図示上下方向）のいずれの方向についても一つ置きに柱状スペーサ１５が配置される。一方、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは、図７（ｂ）に示すように、第１の画素間領域部Ｈ１と第２の画素間領域部Ｈ２が交差する交差部の全てに柱状スペーサ１５が配置される。これによって、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでは中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄに比べて柱状スペーサ１５の形成密度（単位面積当たりの柱状スペーサの数）が２倍となっている。
【００７３】
特に、図示例では、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄでは柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記形成密度が一様であり、中間領域１０Ｓ、１０Ｔでも全ての柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記形成密度が一様である。さらに、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ以外の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部１５ａの上記形成密度が全て中間領域の形成密度より小さく、かつ、一様となっている。
【００７４】
上記のように構成することにより、本実施形態では中間領域１０Ｓ、１０Ｔの支持剛性の低下を抑制することができ、したがって、パネル全体の剛性の低下を防止でき、また、上記支持剛性の低下に起因する表示ムラの発生も防止できる。
【００７５】
［第３実施形態］
次に、図８及び図９を参照して本発明に係る第３実施形態について説明する。なお、本実施形態においても第１実施形態と対応する部分には同一符号を付し、図示しない部分及び説明しない事項は第１実施形態と同様に構成できる。図８は第３実施形態の収容部１０Ｐ内の柱状スペーサ１５の先端部の断面形状の分布を模式的に示す概略平面図、図９（ａ）は中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の一例の拡大部分平面図、図９（ｂ）は中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の他の例の拡大部分平面図である。
【００７６】
図８に模式的に示す柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状の分布も、上述の第１実施形態の断面形状の分布と同様の基本構成を有し、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔの方が柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積若しくはその平均値が小さく、また、収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう方向の幅Ｗｏが小さい。さらには、中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄよりも中間領域１０Ｓ、１０Ｔの方が、収容部１０Ｐの中心から周縁に向かう向きＦｘに測った、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの外縁から画素間領域Ｈと画素Ｇの境界位置までの距離Ｌｘの平均値が大きい。
【００７７】
本実施形態では、図９（ａ）又は（ｂ）に示すように、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面形状が扁平形状とされ、この扁平形状の長手方向が収容部１０Ｐの中央から周縁に向かう向き（方向）Ｆｘと実質的に直交した方向とされる。上記向きＦｘは、上記と同様に、収容部１０Ｐの中心点Ｏｘ（上記対角線Ｌｔ１とＬｔ２の交差点）と柱状スペーサ１５の先端部１５ａの中心点（重心点）とを結ぶ線に沿った方向を有する。
【００７８】
上記のように構成すると、柱状スペーサ１５の先端部１５ａの断面積をある程度確保しつつ、上記向きＦｘに沿った柱状スペーサ１５の先端部１５ａの幅Ｗｏを小さくすることができ、また、上記向きＦｘに沿った上記距離Ｌｘも大きくすることができるので、上記と同様に表示ムラを低減できる。
【００７９】
なお、図９（ａ）は、第１実施形態と同様に中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の柱状スペーサ１５の形成密度を中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄと同様とした場合について示し、図９（ｂ）は、第２実施形態と同様に中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の柱状スペーサ１５の形成密度を中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄより大きくした場合について示してある。また、図９（ａ）は、中間領域１０Ｓ、１０Ｔ内の柱状スペーサ１５の上記幅Ｗｏを短軸とし、これと直交する方向の幅を長軸とし、当該長軸を中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄの幅と同様とした場合について示し、図９（ｂ）は、上記直交する方向の幅（長軸）についても中央領域１０Ｃ及び周縁領域１０Ｄの幅より小さくした場合について示してある。
【００８０】
なお、上記の各実施形態では、いずれも複数の画素Ｇが画素間領域Ｈを挟んで縦横に格子状に配列されたマトリクス状（格子状）の配列パターンを有するものとして説明したが、例えば、複数の画素Ｇが横方向に一列に並ぶ配列が、横方向の１画素周期より小さいずれを有して縦方向に並ぶ、例えばデルタ状の配列パターンを有するものであっても構わない。
【００８１】
［電子機器］
最後に、図１３及び図１４を参照して上記各種の電気光学装置を搭載した電子機器の実施形態について説明する。図１３は本発明に係る電子機器の一例の外観を示す概略斜視図である。図示例の電子機器２００は携帯電話機であり、本体２０１と、この本体２０１に接続された表示部２０２とを備えている。本体２０１には操作ボタン等を配設した操作面が設けられる。一方、表示部２０２の内部には上記の液晶装置１０を用いた液晶表示体１００が格納され、液晶装置１０の表示領域１０Ａに形成される画像が表示部２０２の表示画面２０２ａにて視認できるように構成されている。
【００８２】
図１４は電子機器２００における液晶表示体１００に対する制御系（表示制御系）の全体構成を示す概略構成図である。電子機器２００は、表示情報出力源２９１と、表示情報処理回路２９２と、電源回路２９３と、タイミングジェネレータ２９４と、後述するバックライト１０２への電力供給を行う光源制御回路２９５とを含む表示制御回路２９０を有する。
【００８３】
また、液晶表示体１００には、上述の第１実施形態又は第２実施形態で説明した構成を有する液晶装置１０と、この液晶装置１０を駆動する駆動回路１０９と、液晶装置１０を照明し、表示を視認可能とするためのバックライト１０２とが設けられている。この駆動回路１０９は、液晶装置１０に直接実装されている上記のＩＣチップで構成されてもよく、液晶装置１０の基板表面上に形成された電子部品や回路パターン、或いは、液晶装置１０に導電接続された回路基板に実装されたＩＣチップ若しくは回路パターンなどによっても構成することができる。
【００８４】
表示情報出力源２９１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路２９２に供給するように構成されている。
【００８５】
表示情報処理回路２９２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０９へ供給する。駆動回路１０９は、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路２９３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００８６】
光源制御回路２９５は、電源回路２９３から供給される電圧に基づいてバックライト１０２の光源に電力を供給し、所定の制御信号に基づいて光源の点灯の有無及びその輝度等を制御するようになっている。
【００８７】
また、本発明に係る電子機器としては、図１３に示す携帯電話機の他に、液晶テレビ、携帯電話機、電子時計、電子手帳、電卓、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末機などが挙げられる。ただし、上記携帯電話機のような携帯型電子機器においては、持ち運び等に際して液晶装置１０に上述の状況において押圧力や折り曲げ力が加わりやすいので、本発明の構成は極めて有効である。
【００８８】
尚、本発明の液晶装置及び電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記実施形態では第２の基板１２に柱状スペーサ１５を形成し、この柱状スペーサ１５の先端部１５ａで第１の基板１１を支持するように構成しているが、例えば、上記柱状スペーサ１５の代わりに、或いは、上記の柱状スペーサ１５とともに、第１の基板１１に別の柱状スペーサを形成し、その先端部で第２の基板１２を支持するように構成してもよい。この場合、この第１の基板１１に形成された別の柱状スペーサについても、上記の柱状スペーサ１５と同様に構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】第１実施形態の第１の基板１１の構造を示す平面図。
【図２】第１実施形態の画素構造を示す縦断面図。
【図３】第１実施形態の第２の基板１２の構造を示す平面図。
【図４】第１実施形態の柱状スペーサの断面形状の分布を模式的に示す概略平面図。
【図５】第１実施形態の中央領域及び周縁領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状を示す拡大部分平面図（ａ）及び当該柱状スペーサの中間領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状を説明するための説明図（ｂ）。
【図６】第２実施形態の柱状スペーサの断面形状の分布を模式的に示す概略平面図。
【図７】第２実施形態の中央領域及び周縁領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状を示す拡大部分平面図（ａ）及び当該柱状スペーサの中間領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状を説明するための説明図（ｂ）。
【図８】第３実施形態の柱状スペーサの断面形状の分布を模式的に示す概略平面図。
【図９】第３実施形態の中間領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状の一例を示す拡大部分平面図（ａ）及び中間領域に配置された柱状スペーサの配置及び断面形状の他の例を示す拡大部分平面図（ｂ）。
【図１０】従来の液晶装置の収容部の中央を押圧した後の表示ムラの分布を示す平面図。
【図１１】図１０の液晶装置の押圧時の長手方向に沿った断面形状を示す概略縦断面図。
【図１２】図１０の液晶装置の押圧時の長手方向と直交する方向に沿った断面形状を示す概略縦断面図。
【図１３】液晶装置を搭載した電子機器の概略斜視図。
【図１４】電子機器の表示制御系を示す概略構成ブロック図。
【符号の説明】
【００９０】
１０…液晶装置、１０Ｐ…収容部、１０Ｃ…中央領域、１０Ｄ…周縁領域、１０Ｓ、１０Ｔ…中間領域、１０Ａ…表示領域、１１…第１の基板、１２…第２の基板、１３…液晶、１４…シール材、１５…柱状スペーサ、１５ａ…先端部、１６…配向膜、１７、１８…偏光板、Ｇ（Ｇｒ、Ｇｇ、Ｇｂ）…画素、Ｈ…画素間領域、Ｈ１…第１の画素間領域部、Ｈ２…第２の画素間領域部、Ｌｔ１、Ｌｔ２…対角線、Ｏｘ…中心点、Ｆｘ…向き、Ｗｏ…幅、Ｌｘ…距離
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、
前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、
前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、
を有し、
前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値より小さく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記中央領域と前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサは第１の前記断面積を備え、前記中間領域に配置された前記複数の柱状スペーサは前記第１の断面積より小さい第２の前記断面積を備えていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、
前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、
前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、
を有し、
前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう方向の幅若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう方向の幅若しくはその平均値より小さく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
前記中央領域と前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサは第１の前記幅を備え、前記中間領域に配置された前記複数の柱状スペーサは前記第１の幅より小さい第２の前記幅を備えていることを特徴とする請求項３に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記収容部には前記液晶に対し独立して電界を印加可能に構成された複数の画素が画素間領域を介して配列され、前記柱状スペーサが前記画素間領域に設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、
前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、
前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、
を有し、
前記収容部には前記液晶に対し独立して電界を印加可能に構成された複数の画素が画素間領域を介して配列され、前記柱状スペーサが前記画素間領域に設けられ、
前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう向きに測った、前記柱状スペーサの外縁から前記画素間領域と前記画素の境界位置までの距離の平均値が、前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう向きに測った、前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの外縁から前記画素間領域と前記画素の境界位置までの距離の平均値より大きく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項７】
前記中間領域は、前記収容部内の周囲の領域に囲まれた島状に形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
前記画素間領域は前記複数の画素の間を互いに交差する二方向にそれぞれ伸びるように設けられ、
前記柱状スペーサは、前記画素間領域の前記二方向に伸びる部分の交差部に設けられていることを特徴とする請求項５乃至７のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項９】
前記収容部が矩形状に構成され、
前記収容部には、前記矩形状の二本の対角線によって分割された四つの平面範囲ごとに前記中間領域が設けられることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１０】
前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの形成密度は、前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの形成密度より大きいことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１１】
前記他方の基板の前記液晶側の表面は配向膜で構成されることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１２】
前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状は円形であり、
前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面の直径が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面の直径より小さいことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１３】
前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状は扁平形状であり、
前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状の長手方向が前記収容部の中央から周縁へ向かう方向と実質的に直交する方向であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１４】
前記他方の基板において前記複数の画素を構成する画素構造は、前記他方の基板の前記液晶側の表面に沿った横電界を形成可能に構成されていることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の液晶装置と、該液晶装置を制御する制御手段とを具備することを特徴とする液晶装置。
【請求項１】
互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、
前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、
前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、
を有し、
前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面積若しくはその平均値より小さく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記中央領域と前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサは第１の前記断面積を備え、前記中間領域に配置された前記複数の柱状スペーサは前記第１の断面積より小さい第２の前記断面積を備えていることを特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、
前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、
前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、
を有し、
前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記柱状スペーサの前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう方向の幅若しくはその平均値が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう方向の幅若しくはその平均値より小さく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項４】
前記中央領域と前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサは第１の前記幅を備え、前記中間領域に配置された前記複数の柱状スペーサは前記第１の幅より小さい第２の前記幅を備えていることを特徴とする請求項３に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記収容部には前記液晶に対し独立して電界を印加可能に構成された複数の画素が画素間領域を介して配列され、前記柱状スペーサが前記画素間領域に設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
互いに対向し、閉じた平面形状を備えたシール材によって貼り合わされた二枚の基板と、
前記二枚の基板及び前記シール材によって画成された収容部内に配置された液晶と、
前記二枚の基板のうち少なくとも一方の前記基板上に形成され、先端部が他方の前記基板を支持する、前記収容部内に分散配置された複数の柱状スペーサと、
を有し、
前記収容部には前記液晶に対し独立して電界を印加可能に構成された複数の画素が画素間領域を介して配列され、前記柱状スペーサが前記画素間領域に設けられ、
前記収容部の中央領域と周縁領域との間の中間位置に、複数の前記柱状スペーサが配置され、前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう向きに測った、前記柱状スペーサの外縁から前記画素間領域と前記画素の境界位置までの距離の平均値が、前記先端部の前記収容部の中央から周縁に向かう向きに測った、前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの外縁から前記画素間領域と前記画素の境界位置までの距離の平均値より大きく構成された中間領域が設けられていることを特徴とする液晶装置。
【請求項７】
前記中間領域は、前記収容部内の周囲の領域に囲まれた島状に形成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
前記画素間領域は前記複数の画素の間を互いに交差する二方向にそれぞれ伸びるように設けられ、
前記柱状スペーサは、前記画素間領域の前記二方向に伸びる部分の交差部に設けられていることを特徴とする請求項５乃至７のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項９】
前記収容部が矩形状に構成され、
前記収容部には、前記矩形状の二本の対角線によって分割された四つの平面範囲ごとに前記中間領域が設けられることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１０】
前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの形成密度は、前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの形成密度より大きいことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１１】
前記他方の基板の前記液晶側の表面は配向膜で構成されることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１２】
前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状は円形であり、
前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面の直径が前記中央領域及び前記周縁領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面の直径より小さいことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１３】
前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状は扁平形状であり、
前記中間領域に配置された前記柱状スペーサの前記先端部の断面形状の長手方向が前記収容部の中央から周縁へ向かう方向と実質的に直交する方向であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１４】
前記他方の基板において前記複数の画素を構成する画素構造は、前記他方の基板の前記液晶側の表面に沿った横電界を形成可能に構成されていることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の液晶装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の液晶装置と、該液晶装置を制御する制御手段とを具備することを特徴とする液晶装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【公開番号】特開２０１０−１３４０６７（Ｐ２０１０−１３４０６７Ａ）
【公開日】平成２２年６月１７日（２０１０．６．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３０８２４７（Ｐ２００８−３０８２４７）
【出願日】平成２０年１２月３日（２００８．１２．３）
【出願人】（３０４０５３８５４）エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年６月１７日（２０１０．６．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月３日（２００８．１２．３）
【出願人】（３０４０５３８５４）エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
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