磁気記録媒体、磁気記録再生装置および磁気記録再生装置の信号処理方法
【課題】トラッキングサーボ情報としてトラッキングサーボパターンを高密度で形成することができ、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるものとなるとともに、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを高精度で形成することができ、歩留まりよく製造できる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターン５１ａが備えられ、磁気記録パターン５１ａの一部に、前記磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターン３３がトラッキングサーボ情報として形成されている磁気記録媒体５０とする。
【解決手段】非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターン５１ａが備えられ、磁気記録パターン５１ａの一部に、前記磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターン３３がトラッキングサーボ情報として形成されている磁気記録媒体５０とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体、磁気記録再生装置および磁気記録再生装置の信号処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスク装置等の磁気記録装置の適用範囲は著しく増大され、その重要性が増すと共に、これらの装置に用いられる磁気記録媒体について、その記録密度の著しい向上が図られつつある。特に、ＭＲ(magnet resistive)ヘッドおよびＰＲＭＬ技術の導入以来、面記録密度の上昇はさらに激しさを増し、近年ではさらにＧＭＲ（giant magnet resistive）ヘッド、ＴＭＲ(tunneling magnet resistive）ヘッドなども導入され、１年に約５０％ものペースで増加を続けている。これらの磁気記録媒体については、今後更に高記録密度を達成することが要求されており、そのために磁性層の高保磁力化と高信号対雑音比（ＳＮＲ）、高分解能を達成することが要求されている。また、近年では線記録密度の向上と同時にトラック密度の増加によって面記録密度を上昇させようとする努力も続けられている。
【０００３】
最新の磁気記録装置において、トラック密度は１１０ｋＴＰＩにも達している。しかし、トラック密度を上げていくと、隣接するトラック間の磁気記録情報が互いに干渉し合い、その境界領域の磁化遷移領域がノイズ源となりＳＮＲを損なうという問題が生じやすくなる。このことはそのままＢｉｔ Ｅｒｒｏｒ ｒａｔｅの低下につながるため記録密度の向上に対して障害となっている。
面記録密度を上昇させるためには、磁気記録媒体上の各記録ビットのサイズをより微細なものとし、各記録ビットに可能な限り大きな飽和磁化と磁性膜厚を確保する必要がある。しかし、記録ビットを微細化していくと、１ビット当たりの磁化最小体積が小さくなり、熱揺らぎによる磁化反転で記録データが消失するという問題が生じる。
【０００４】
また、トラック密度を上げていくと、トラック間距離が近づくため、磁気記録装置には極めて高精度のトラックサーボ技術が要求されている。また、隣接トラックからの影響をできるだけ排除するため、記録を幅広く実行し、再生を記録時よりも狭く実行する方法が一般的に用いられている。この方法では、トラック間の影響を最小限に抑えることができる反面、再生出力を十分得ることが困難である。そのため、十分なＳＮ比（ＳＮＲ）を確保することが難しいという問題がある。
【０００５】
上述した熱揺らぎの問題を解決し、十分なＳＮ比の確保、あるいは十分な出力の確保を達成する方法の一つとして、記録媒体表面にトラックに沿った凹凸を形成し、記録トラック同士を物理的または磁気的に分離することによってトラック密度を上げようとする試みがなされている。このような技術を以下にディスクリートトラック法、それによって製造された磁気記録媒体をディスクリートトラック媒体と呼ぶ。
【０００６】
ディスクリートトラック媒体の一例として、複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板上に、軟磁性層と強磁性層を積層し、非磁性基板の形状を反映した凹凸が軟磁性層および強磁性層に形成され、磁気的に分断された強磁性層の凸部のみを記録領域とする磁気記録媒体が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この磁気記録媒体によれば、軟磁性層での磁壁発生を抑制できるため、熱揺らぎの影響が出にくく、隣接する信号間の干渉もないので、ノイズの少ない高密度磁気記録媒体を形成できるとされている。
【０００７】
ディスクリートトラック媒体は、一般に、非磁性基板上に連続した磁性層を形成し、磁性層の上にパターニングしたレジスト層を形成し、これを用いて磁性層を磁気的に分離する方法を用いて形成されている。また、レジスト層をパターニングする方法としては、フォトリソグラフィー法や、液状のレジストにスタンプを用いてパターン転写するナノインプリント法がなど用いられている。
【０００８】
また、ディスクリートトラック媒体の製造方法としては、何層かの薄膜からなる磁気記録媒体を形成した後にトラックを形成する方法や、あらかじめ基板表面に直接、あるいはトラック形成のための薄膜層に凹凸パターンを形成した後に、磁気記録媒体の薄膜形成を行う方法がある（例えば、特許文献２，特許文献３参照）。
【０００９】
また、ディスクリート方式の磁気記録媒体の製造方法として、外部からのイオン注入あるいはレーザ照射などを行うことにより、非磁性基体上の連続した磁性層の所望の箇所の磁気的特性を局所的に変えて記録トラックを形成する方法もある（例えば、特許文献４参照）。
また、例えば、特許文献５には、磁性層に、ランド間のギャップ代わりに、イオン注入によって磁化されない領域のあるものが開示されている。
また、例えば、特許文献６には、基板上に、磁性層、イオンバッファ層をこの順に形成して、イオンバッファ層を介在させた状態で磁性層に対してイオンを注入し、熱処理することで、イオンの注入領域の磁気特性を改質する磁性パターン形成方法が開示されている。
【００１０】
また、例えば、特許文献７には、第１、第２のサーボバースト群が２列に配列された第１サーボバーストエリアと、第３、第４のサーボバースト群が２列に配列された第２サーボバーストエリアとがデータエリアを挟んで交互に配置されている情報記録媒体が記載されている。
【特許文献１】特開２００４−１６４６９２号公報
【特許文献２】特開２００４−１７８７９３号公報
【特許文献３】特開２００４−１７８７９４号公報
【特許文献４】特開平５−２０５２５７号公報
【特許文献５】特開２００６−２０９９５２号公報
【特許文献６】特開２００６−３０９８４１号公報
【特許文献７】特開２０００−０９０６０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、従来のディスクリートトラック媒体の製造方法では、磁気的に分離された磁性層からなるパターン形状の精度が不十分で歩留まりが低いため、磁性層のパターン形状を精度よく形成することにより、歩留まりを向上させることが要求されていた。磁性層のパターン形状の精度を低下させる主な原因としては、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンの厚さのバラツキやエッジダレなどレジストパターンの形状不良が挙げられる。
【００１２】
ここで従来の磁気記録媒体の課題について、図４を用いて説明する。図４は、従来のディスクリート型の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、図４（ａ）はディスクリート型の磁気記録媒体の全体を示した模式図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）において矩形で示したディスクリート型の磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。
【００１３】
図４に示す磁気記録媒体４０は、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように、円盤状の基板の一方の表面に、データ領域４１とサーボ情報領域４２とが備えられたものである。なお、図４（ａ）においては、中心から放射状に延びる線で示された領域がサーボ情報領域４２に該当し、放射状の線と線との間の領域がデータ領域４１に該当する。
データ領域４１を構成する磁性層からなるデータ記録パターン４１ａは、磁気記録トラックを構成するものであり、図４（ｂ）に示すように、円環状の規則的な形状とされている。
【００１４】
また、図４（ｂ）に示すように、サーボ情報領域４２には、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けさせるためのバースト情報として、バーストパターン４３ａが形成されている。バーストパターン４３ａは、サーボ情報領域４２を構成する磁性層からなるものであり、隣接する磁気記録トラック間に設けられた細かなドット状の形状とされている。バーストパターン４３ａは、磁気記録媒体４０の半径方向に、データ領域４１を分割するように、通常２５５箇所設けられている。
そして、図４（ａ）に示す磁気記録媒体４０では、磁気ヘッド（不図示）によりデータ記録パターン４１ａにデータを読み書きする際に、表面上を円周方向に移動する磁気ヘッドが、サーボ情報領域４２においてバースト情報を読み込んでトラック位置の微調整を行うものとされている。
【００１５】
しかしながら、図４に示す磁気記録媒体４０では、磁気記録媒体４０の回転に伴う振動や熱膨張によって、磁気ヘッドによりデータ記録パターン４１ａにデータを読み書きする際における磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置が狂ってしまい、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けされない場合があった。このため、図４に示す磁気記録媒体４０では、磁気ヘッドによる磁気記録媒体４０の読み込み不良や書き込み不良が生じる恐れがあった。特に、磁気記録トラックの半径方向の密度が高い磁気記録媒体では、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置が狂いやすいため、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるようにすることが要求されていた。
【００１６】
また、図４に示す磁気記録媒体４０では、図４（ｂ）に示すように、データ記録パターン４１ａとバーストパターン４３ａとの形状が異なっているため、磁性層の形状が、ピッチやパターン幅等の相違する複数のパターン形状が混在してなる複雑な形状とされている。このため、図４に示す磁気記録媒体４０においては、以下に示すように、磁性層からなるパターン形状の全てを高精度で形成することは困難であった。
【００１７】
図４に示す磁気記録媒体４０の製造工程において、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンの形状不良の原因としては、レジストの粘度、レジストの硬化温度、硬化時間、湿度、露光時間、露光強度等のさまざまなパターニング条件が挙げられる。これらのパターニング条件は、磁性層のパターン形状に応じて適宜決定される。
【００１８】
しかしながら、図４に示す磁気記録媒体４０のように、磁性層が複数のパターン形状の混在している複雑な形状を有するものである場合、レジストパターンを形成するための最適なパターニング条件を、パターン形状が異なることに起因する精度のバラツキが生じないように最適化することは困難であった。
具体的には例えば、レジストパターンを形成するためのパターニング条件を、データ記録パターン４１ａのパターン形状に対応するように決定すると、バーストパターン４３ａのパターン形状が不完全となってしまう。また、レジストパターンを形成するためのパターニング条件を、バーストパターン４３ａのパターン形状に対応するように決定すると、データ記録パターン４１ａのパターン形状が不完全となってしまう。
【００１９】
このように、磁性層が複雑な形状を有している場合には、レジストパターンを形成するためのパターニング条件を十分に最適化することができず、磁気記録媒体上に形成される磁性層からなるパターン形状の全てを十分に高い精度で形成しうる高精度のレジストパターンを形成することは困難である。したがって、図４に示す従来の磁気記録媒体４０においては、磁性層からなるパターン形状の全てを高精度で形成することは困難であった。
【００２０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるとともに、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを高精度で形成することができ、高精度のレジストパターンを用いて磁性層からなるパターン形状の全てを高精度で形成できるものとすることにより歩留まりよく製造できる磁気記録媒体を提供することを課題とする。
また、本発明は、本発明の磁気記録媒体を備え、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるとともに、歩留まりよく製造できる磁気記録再生装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできる磁気記録再生装置の信号処理方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明者は、レジストパターンの形状不良を改善して、磁性層のパターン形状を精度よく形成するために、以下に示すように、鋭意研究した。
すなわち、本発明者は、磁気記録媒体の磁性層が複雑な形状を有していることが、レジストパターンの形状の精度を低下させる主な原因であることを考慮し、磁性層の形状に着目して検討を重ねた。その結果、本発明者は、情報の読み書きされる磁気的に分離された環状の磁気記録パターンの一部に、トラッキングサーボ情報として、磁気記録パターンの半径方向の幅を部分的に異ならせてなるトラッキングサーボパターンを形成することで、磁性層の形状を単純化すれば、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを高精度で形成することができるとともに、トラッキングサーボパターンを高密度で形成でき、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできることを見出し、本発明を想到した。
【００２２】
すなわち本発明は次の構成を採用する。
（１）非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターンが備えられ、前記磁気記録パターンの一部に、前記磁気記録パターンの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターンがトラッキングサーボ情報として形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
（２）前記トラッキングサーボ情報が、バースト情報を含むことを特徴とする（１）に記載の磁気記録媒体。
（３）前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と内側部との距離を異ならせてなる内側パターンと、前記磁気記録パターンの中央と外側部との距離を異ならせてなる外側パターンとを含むものであることを特徴とする（１）または（２）に記載の磁気記録媒体。
【００２３】
（４）前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と内側部との距離を異ならせてなる複数の内側パターンを有するものであり、隣接する前記内側パターンが、前記磁気記録パターンにおける１データビット長の１００倍以上の間隔を空けて配置されていることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（５）前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と外側部との距離を異ならせてなる複数の外側パターンを有するものであり、隣接する前記外側パターンが、前記磁気記録パターンにおける１データビット長の１００倍以上の間隔を空けて配置されていることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【００２４】
（６）磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気記録媒体が（１）〜（５）の何れかに記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【００２５】
（７）（５）に記載の磁気記録再生装置における信号処理方法であって、磁気ヘッドに、磁気記録媒体の磁気記録パターンから信号を読み出させる工程と、前記信号を周波数の差を用いて分離する工程と、前記信号を分離することにより前記信号からトラッキングサーボ情報が得られた場合、前記トラッキングサーボ情報の周波数に応じて、前記磁気ヘッドを前記磁気記録パターンの半径方向の中央に位置づけさせる工程とを備えることを特徴とする磁気記録再生装置の信号処理方法。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターンが備えられ、前記磁気記録パターンの一部に、前記磁気記録パターンの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターンがトラッキングサーボ情報として形成されているものであるので、サーボ情報領域にサーボ情報として磁性層からなるパターンを形成する場合のように、複雑な形状の磁性層を形成する必要がなく、磁性層の形状が単純なものとなる。したがって、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを形成するためのパターニング条件を最適化して、高精度のレジストパターンを形成することができる。よって、本発明の磁気記録媒体においては、非磁性基板上に形成される磁性層からなるパターン形状の全てを、高精度のレジストパターンを用いて十分に高い精度で形成できる。その結果、本発明の磁気記録媒体は、歩留まりよく形成できる。
【００２７】
また、本発明の磁気記録媒体では、磁気記録パターンの一部に、前記磁気記録パターンの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターンがトラッキングサーボ情報として形成されているものであるので、トラッキングサーボパターンを高密度で形成することにより高密度でトラッキングサーボ情報を書き込むことができる。したがって、例えば、磁気記録媒体の半径方向に２５５箇所バーストパターンが設けられている従来の磁気記録媒体と比較して、トラッキングサーボ情報の情報量を増やすことができる。その結果、磁気ヘッドにより磁気記録パターンに情報を読み書きする際に、磁気ヘッドにトラッキングサーボ情報を読み込ませて、磁気記録再生装置のヘッド駆動部などに磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置の微調整を行わせることにより、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるものとなる。
【００２８】
また、本発明の磁気記録再生装置は、本発明の磁気記録媒体を備えたものであるので、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるとともに、歩留まりよく製造できるものとなる。
また、本発明の磁気記録再生装置の信号処理方法によれば、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
次に、本発明の磁気記録媒体およびその製造方法、磁気記録再生装置について、図面を参照して詳細に説明する。尚、以下の説明において参照する図面において、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の磁気記録媒体および磁気記録再生装置の寸法関係とは異なっている場合がある。
【００３０】
＜磁気記録媒体＞
まず、本発明の磁気記録媒体について例を挙げて説明する。
図１は、本発明の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。なお、図１においては、上側が磁気記録媒体の外側であり、下側が磁気記録媒体の中心側（内側）である。
また、図２（ｉ）は、図１に示す磁気記録媒体の断面構造を説明するための断面図であり、磁気記録媒体の一部を半径方向から見た拡大模式図である。なお、図２（ｉ）においては、説明を容易にするために基板と磁性層と保護膜層のみを示す。また、図２（ａ）〜図２（ｈ）は、図１に示す磁気記録媒体の製造工程の一部を説明するための工程図であり、図２（ｉ）に示された領域と同じ領域のみを拡大して示した拡大断面図である。
【００３１】
図１および図２（ｉ）に示す磁気記録媒体５０においては、円盤状の非磁性基板１上に、磁気的に分離された磁性層２からなる環状の複数の磁気記録パターン５１ａが備えられている。磁気記録パターン５１ａは、円盤状の磁気記録媒体５０の回転中心に対して同心円状に規則的に複数形成されているものであり、５０ｎｍ程度の幅の磁気記録トラックを構成するものである（図１においては、磁気記録媒体の一部を拡大して示しているため、磁気記録パターン５１ａが直線状に見える）。
【００３２】
図２（ｉ）に示すように、磁性層２には、凹部５１ｃおよび凸部５１ｂが形成されており、凹部５１ｃを構成する磁性層２の磁気特性が改質されて非磁性化されていることにより、隣接する凸部５１ｂ間が磁気的に分離されている。凹部５１ｃの幅は１０ｎｍ〜１００ｎｍ程度であることが好ましく、凸部５１ｂの幅は２０ｎｍ〜２００ｎｍ程度であることが好ましい。なお、本実施形態において、磁気記録パターン５１ａの幅である凸部５１ｂの幅は、磁気記録トラックの幅である。
ここで、磁性層２が「磁気的に分離されている」とは、少なくとも磁性層２の表面において磁気的に分離されていればよく、磁性層２の底部においては分離されていなくてもよい。
【００３３】
図１に示すように、磁気記録パターン５１ａの一部には、トラッキングサーボ情報としてトラッキングサーボパターン３３が設けられている。本実施形態におけるトラッキングサーボ情報は、バースト情報を含むものである。バースト情報とは、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央（磁気記録パターン５１ａの幅の中央）に位置付けさせるための情報である。
【００３４】
トラッキングサーボパターン３３は、図１に示すように、凸部３３ａが設けられていることによって、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との磁気記録媒体５０の半径方向の距離を片側のみ異ならせてなるものである。凸部３３ａは、磁気記録媒体５０の半径方向を短軸、磁気記録媒体５０の円周方向を長軸とする平面視半楕円状のものである。
なお、トラッキングサーボパターン３３は、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるものであればよく、図１に示す例に限定されるものではない。具体的には、トラッキングサーボパターン３３は、図１に示す例のように、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を広げるものであってもよいし、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を縮めるものであってもよい。また、トラッキングサーボパターン３３を構成する凸部３３ａの形状は、例えば、平面視半円状や平面視多角形状であってもよい。
【００３５】
また、トラッキングサーボパターン３３は、図１に示すように、内側パターン３３ｂと外側パターン３３ｃとを含むものである。
内側パターン３３ｂは、磁気記録パターン５１ａの内側に、磁気記録パターン５１ａの延在方向に沿って等間隔で設けられた複数の凸部３３ａを有するものであり、磁気記録パターン５１ａの中央と内側部との磁気記録媒体５０の半径方向の距離を広げてなるものである。
また、外側パターン３３ｃは、磁気記録パターン５１ａの外側に磁気記録パターン５１ａの延在方向に沿って等間隔で設けられた複数の凸部３３ａを有するものであり、磁気記録パターン５１ａの中央と外側部との磁気記録媒体５０の半径方向の距離を広げてなるものである。
【００３６】
本実施形態においては、図１に示すように、磁気記録パターン５１ａの一部にトラッキングサーボパターン３３が形成されているので、磁気ヘッド（不図示）が磁気記録トラックの中央（磁気記録パターン５１ａの幅の中央）に位置付けされていない場合には、磁気ヘッドにより磁気記録トラック（磁気記録パターン５１ａ）から信号を読み出させると、磁気ヘッドと磁気記録トラックとのずれ量に対応する周波数を有するトラッキングサーボ情報を含む信号が出力される。また、本実施形態においては、トラッキングサーボパターン３３が、磁気記録パターン５１ａの円周方向に設けられた内側パターン３３ｂと、磁気記録パターン５１ａの円周方向に設けられた外側パターン３３ｃとを含むものであるので、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置が磁気記録トラックの内側にずれている場合でも外側にずれている場合でも、磁気ヘッドと磁気記録トラックとのずれ量に対応する周波数を有するトラッキングサーボ情報を含む信号が出力される。
しかし、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされている場合には、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａから信号を読み出させても、トラッキングサーボ情報を含む信号が出力されない。
【００３７】
したがって、本実施形態の磁気記録媒体５０においては、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａから信号を読み込ませてトラッキングサーボ情報が出力されるか否かによって、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされているかどうかが検出されるようになっている。さらに、本実施形態の磁気記録媒体５０においては、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａから信号を読み込ませて、トラッキングサーボ情報が出力された場合には、トラッキングサーボ情報の周波数の大きさによって、磁気ヘッドと磁気記録トラックとのずれ量を検出できるようになっている。
よって、本実施形態の磁気記録媒体５０は、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａに情報を読み書きする際に、磁気ヘッドにトラッキングサーボ情報を読み込ませ、得られたトラッキングサーボ情報に基づいて、磁気記録再生装置のヘッド駆動部（図示略）に磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置の微調整を行わせることにより、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けできるものとされている。
【００３８】
また、磁気記録パターン５１ａの延在方向において隣接する内側パターン３３ｂおよび磁気記録パターン５１ａの延在方向に隣接する外側パターン３３ｃは、それぞれ、以下に示すように、磁気記録パターン５１ａにおける１データビット長の１００倍以上１０００倍以下の間隔３６、３７（ピッチ）を空けて配置されていることが好ましい。
すなわち、本実施形態においては、磁気記録パターン５１ａの一部にトラッキングサーボパターン３３が形成されているので、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされていない場合に、磁気ヘッドにより情報の書き込まれた磁気記録パターン５１ａから信号を読み出させると、出力された信号には、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報とが含まれることになる。
【００３９】
例えば、磁気ヘッドにより磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに１００ＭＨｚの周波数で情報が書き込まれていて、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされていない場合、その磁気記録パターン５１ａから磁気ヘッドにより信号を読み出させると、１００ＭＨｚの周波数で出力される書き込みデータ信号にトラッキングサーボ情報が混合されて混合信号として出力される。このとき、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６が、１データビット長の１００倍以上であると、トラッキングサーボパターン３３から出力されるトラッキングサーボ情報が、トラッキングサーボ情報の書き込まれている間隔（言い換えると、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６）によって１ＭＨｚ以下の周波数（最大で書き込みデータ信号の１/１００の周波数）で出力されるものとなる。
【００４０】
このように、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６が１データビット長の１００倍以上である場合、書き込みデータ信号の周波数と、内側パターン３３ｂおよび外側パターン３３ｃから得られるトラッキングサーボ情報との周波数との間に、１００倍以上の大きな差が生じることになる。したがって、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａから読み出された信号に、トラッキングサーボ情報が含まれている場合に、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との周波数の差を用いて、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号を分離することにより、容易にトラッキングサーボ情報が得られるものとなる。
【００４１】
これに対し、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６が１データビット長の１００倍未満である場合、書き込みデータ信号の周波数とトラッキングサーボ情報の周波数との差が小さくなるので、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号からトラッキングサーボ情報を分離しにくくなる恐れや、トラッキングサーボ情報が書き込みデータ信号によって打ち消されてしまう恐れがある。
【００４２】
また、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６が１データビット長の１０００倍を超える場合、書き込みデータ信号の周波数とトラッキングサーボ情報の周波数との差は大きくなるが、トラッキングサーボ情報の周波数が小さくなりすぎて、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号からトラッキングサーボ情報を取り出しにくくなる恐れがある。また、トラッキングサーボ情報に基づく磁気ヘッドの追従性が低下する恐れがある。
【００４３】
ここで、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号を分離する方法としては、ローパスフィルターおよび／またはバンドパスフィルターを用いる方法などが挙げられる。ローパスフィルターおよび／またはバンドパスフィルターを用いる方法によれば、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号からトラッキングサーボ情報のみを容易に取り出すことができる。
【００４４】
また、本実施形態においては、トラッキングサーボパターン３３を構成する凸部３３ａ間の距離が、図１に示すように、磁気記録パターン５１ａの外側（図１における上側）と内側（図１における下側）とで異なっており、内側パターン３３ｂ間の間隔３７と外側パターン３３ｃ間の間隔３６とが異なっている。このため、本実施形態においては、磁気記録パターン５１ａの外側のトラッキングサーボパターン３３（外側パターン３３ｃ）の密度と、磁気記録パターン５１ａの内側のトラッキングサーボパターン３３（内側パターン３３ｂ）の密度とが異なるものとなっている。
【００４５】
また、本実施形態においては、外側パターン３３ｃ間の間隔３６が、内側パターン３３ｂ間の間隔３７よりも近くなっており、外側パターン３３ｃの密度が、内側パターン３３ｂの密度よりも高密度となっている。このように、トラッキングサーボパターン３３の密度を、磁気記録パターン５１ａの外側と内側とで異ならせることで、磁気ヘッドから出力されたトラッキングサーボ情報により、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置が磁気記録トラックの内側にずれているか外側にずれているかを容易に検知できるものとなる。
【００４６】
例えば、図１に示すトラッキングサーボパターン３３において、外側パターン３３ｃの密度を内側パターン３３ｂの密度の２倍にすると、磁気ヘッドが磁気記録パターン５１ａの外側にずれている場合に、磁気ヘッドが磁気記録パターン５１ａの内側にずれている場合の２倍の周波数のトラッキングサーボ情報が出力されることになる。
具体的には、例えば、外側パターン３３ｃ間の間隔３６が１データビット長の１００倍であり、内側パターン３３ｂ間の間隔３７が１データビット長の２００倍である場合に、磁気ヘッドが磁気記録パターン５１ａの外側にずれていることにより、１ＭＨｚの周波数でトラッキングサーボ情報が出力された場合、磁気ヘッドと磁気記録トラックとのずれ量が同じで、磁気ヘッドが磁気記録パターン５１ａの内側にずれていると、０．５ＭＨｚの周波数のトラッキングサーボ情報が出力されることになる。
【００４７】
また、図１に示す磁気記録媒体５０は、図２（ｉ）に示すように、非磁性基板１上に磁性層２が形成され、磁性層２の上に保護膜層９が形成され、保護膜層９上に潤滑層（図２においては図示略）が形成されているものである。なお、本実施形態においては、保護膜層および潤滑層が設けられている磁気記録媒体を例に挙げて説明するが、保護膜層および潤滑層は設けられていなくてもよい。
【００４８】
非磁性基板１としては、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂からなる基板など任意のものを用いることができる。これらの中でも、非磁性基板１として、Ａｌ合金基板や結晶化ガラス等のガラス製基板またはシリコン基板を用いることが好ましい。また、非磁性基板１の平均表面粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ以下、さらには０．５ｎｍ以下であることが好ましく、０．１ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００４９】
磁性層２は、Ｃｏを主成分とする合金から形成することが好ましい。また、磁性層２は、面内磁性層であっても垂直磁性層であってもかまわないが、より高い記録密度を実現するためには垂直磁性層であることが好ましい。
例えば、面内磁性層用の磁性層２としては、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層とからなる積層構造などを用いることができる。
また、例えば、垂直磁性層用の磁性層２としては、軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕなど）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣなど）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢなど）等からなる裏打ち層と、必要に応じて設けられるＰｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒなどの配向制御膜と、必要に応じて設けられるＲｕ等の中間膜と、６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ2合金などからなる磁性膜とからなる積層構造の磁性層などを用いることができる。
【００５０】
磁性層２の膜厚は、磁性層２に用いられる磁性材料の種類や積層構造などに応じて、十分なヘッド出入力が得られる厚みとなるように決定される。磁性層２は、磁気記録媒体５０から情報を再生する際に一定以上の出力を得るために、ある程度以上の膜厚が必要である。しかし、磁気記録再生装置の記録再生特性を表す諸パラメーターは、出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、磁性層２の膜厚を最適に設定する必要がある。具体的には、磁性層２の膜厚は、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下とされることが好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下とすることがより好ましい。
【００５１】
保護膜層９としては、Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎなどの炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨxＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アルモファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層やＳｉＯ2、Ｚｒ2Ｏ3、ＴｉＮなど、通常用いられる保護膜層材料を用いることができる。また、保護膜層９は、２層以上の層から構成されていてもよい。
保護膜層９の膜厚は１０ｎｍ以下とすることが好ましい。保護膜層９の膜厚が１０ｎｍを越えると磁気ヘッドと磁性層２との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなる恐れがある。
【００５２】
また、保護膜層９の上には潤滑層（図示略）を形成することが好ましい。潤滑層に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられる。潤滑層の厚みは、通常１〜４ｎｍとされる。
【００５３】
＜磁気記録媒体の製造方法＞
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法として、図１（ａ）および図２（ｉ）に示す本実施形態の磁気記録媒体の製造方法を例に挙げて詳細に説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、円盤状の非磁性基板１上に、スパッタ法などにより磁性層２を形成する。
次いで、図２（ｂ）に示すように、磁性層２上にマスク層３を形成する。マスク層３は、スパッタリング法やＣＶＤ法などにより成膜することができる。
【００５４】
マスク層３は、Ｔａ、Ｗ、Ｔａ窒化物、Ｗ窒化物、Ｓｉ、ＳｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｎｉからなる群から選ばれた何れか一種以上を含む材料で形成することが好ましい。マスク層３の材料としては、上記の材料の中でも、Ａｓ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａを用いることが好ましく、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂを用いることがより好ましく、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｃを用いることが最も好ましい。
マスク層３として、上記の材料からなるものを用いることにより、磁性層２の一部をイオンミリングなどによって除去する工程における磁性層２の遮蔽性に優れたものとなるとともに、マスク層３による磁気記録パターン５１ａの形成精度を向上させることができる。さらに、上記の材料は、酸素ガスなどの反応性ガスを用いたドライエッチング（反応性イオンエッチングまたは反応性イオンミリング）を容易に行うことができるものであるため、磁性層２上にマスク層３を設けることにより、後述するレジスト層を除去する工程における磁性層２上の残留物を減らすことができ、磁性層２の表面の汚染を減少させることができる。
【００５５】
次に、図２（ｃ）に示すように、マスク層３の上にレジスト層４を形成する。レジスト層４は、スピンコート法によりマスク層３上にレジストを塗布する方法などにより形成できる。
レジスト層４は、放射線照射により硬化するレジストからなるものであることが好ましい。なお、ここでの放射線とは、熱線、可視光線、紫外線、Ｘ線、ガンマ線等の広い概念の電磁波である。また、放射線照射により硬化するレジストとしては、例えば、熱線により硬化する熱硬化樹脂、紫外線により効果する紫外線硬化樹脂などが挙げられる。紫外線硬化樹脂としては、例えば、ノボラック系樹脂、アクリル酸エステル類、脂環式エポキシ類等が挙げられる。
【００５６】
次に、マスク層３およびレジスト層４のパターニングを行う。マスク層３およびレジスト層４をパターニングするには、まず、図２（ｄ）に示すように、非磁性基板１上に形成される磁性層２からなる磁気記録パターン５１ａのネガパターンを、レジスト層４に形成する。ここで形成するネガパターンとは、磁気記録パターン５１ａ間に配置される分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のレジスト層４に凹部を形成したものである。
【００５７】
レジスト層４にネガパターンを形成する方法としては、通常のフォトリソグラフィー技術を用いてもよいが、レジスト層４にスタンプ５を用いて、パターンの形状を転写する方法を用いることが作業効率の点から好ましい。スタンプ５を用いてレジスト層４にパターンの形状を転写する方法としては、例えば、図２（ｄ）における矢印で示すように、レジスト層４にスタンプ５を所定の圧力で押圧することによりパターンを転写した後、レジスト層４からスタンプ５を分離する方法が挙げられる。
【００５８】
スタンプ５としては、中心に対して同心円状（複数の円環状）のパターンであって、磁気記録パターン５１ａに対応する形状を有するパターンの形成されたものが用いられる。スタンプ５の材料としては、パターンの形状を転写するために必要な硬度および耐久性を有するものであればよく、特に限定されないが、例えばガラスやＮｉ、樹脂などを好ましく使用できる。具体的には、例えば、スタンプ５として、金属プレートに電子線描画などの方法を用いてパターンが形成されたものなどを使用できる。
【００５９】
なお、本実施形態においては、レジスト層４に用いる材料を、放射線照射により硬化する材料とし、レジスト層４にスタンプ５を用いてパターンを転写する工程に際して、または、レジスト層４にパターンを転写する工程の後に、レジスト層４に放射線を照射して、レジスト層４を硬化させることが好ましい。
このような製造方法を用いることにより、レジスト層４に、スタンプ５の形状を精度良く転写することができる。また、後述するマスク層３の一部を除去する工程において、マスク層３のエッジの部分にダレが発生することを防止でき、図２（ｆ）に示す磁性層２の一部を除去する工程や磁性層２の磁気特性を改質する工程におけるマスク層３の遮蔽性を向上させるとともに、磁気記録パターン５１ａの形成精度を向上させることができる。
【００６０】
また、本実施形態の製造方法におけるレジスト層４にスタンプ５を用いてパターンを転写する工程においては、レジスト層４の流動性が高い状態で、レジスト層４にスタンプ５を押圧し、レジスト層４にスタンプ５を押圧した状態でレジスト層４に放射線を照射することによりレジスト層４を硬化させ、その後、スタンプ５をレジスト層４から分離する方法を用いてもよい。このような製造方法とした場合、スタンプ５の形状をより一層精度良く、レジスト層４に転写することができ、好ましい。
また、このような製造方法を用いた場合、スタンプ５の形状を精度良くレジスト層４に転写でき、高精度のレジストパターンを形成することができるので、後述する磁性層２の磁気特性を改質する工程において、磁性層２の保磁力、残留磁化を極限まで低減させることが可能となり、磁気記録の際の書きにじみがなく、高い面記録密度を有する磁気記録媒体を提供することが可能となる。
【００６１】
レジスト層４にスタンプ５を押圧した状態で、レジスト層４に放射線を照射する方法としては、例えば、スタンプ５の反対側、すなわち非磁性基板１側から放射線を照射する方法や、スタンプ５の材料として放射線を透過できる物質を選択し、スタンプ５側から放射線を照射する方法、スタンプ５の側面から放射線を照射する方法、熱線のように固体に対して伝導性の高い放射線を用いて、スタンプ材料または非磁性基板１からの熱伝導により放射線を照射する方法などを用いることができる。
中でも特に、レジスト材料として紫外線硬化樹脂を用いるとともに、スタンプ材料として紫外線の透過性に優れたガラスや樹脂を用い、レジスト層４にスタンプ５を押圧した状態で、スタンプ５側から紫外線を照射することにより、レジスト層４を硬化させることが好ましい。
【００６２】
次に、図２（ｄ）に示すネガパターンを形成した後に残ったレジスト層８と、磁気記録パターン５１ａ間に配置される凹状の分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のマスク層３とを除去する。このことにより、図２（ｅ）に示すように、磁性層２上の凸部５１ｂとなる領域に残存するマスク層３と、パターニングされたレジスト層４であるレジストパターン４ａとからなるマスクが形成される。
【００６３】
スタンプ５を用いてネガパターンを形成した後に残ったレジスト層８は、反応性イオンエッチング、イオンミリングなどのドライエッチングにより除去できる。
ネガパターンを形成した後に残ったレジスト層８の厚みは０〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。レジスト層８の厚みを上記範囲とすることで、磁気記録パターン５１ａの凹状の分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のマスク層３を除去する工程において、マスク層３のエッジの部分にダレが発生することを防止でき、図２（ｆ）に示す磁性層２の一部を除去する工程におけるマスク層３の遮蔽性を向上させるとともに、磁気記録パターン５１ａの形成精度を向上させることができる。
また、磁気記録パターン５１ａ間に配置される凹状の分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のマスク層３は、例えば、反応性イオンエッチング、イオンミリングなどのドライエッチングにより除去できる。
【００６４】
次に、図２（ｆ）に示すように、マスク層３が除去されて露出した磁気記録パターン５１ａ間に配置される凹状の分離領域（凹部５１ｃ）となる領域の磁性層２の表層部を０．１ｎｍ〜１５ｎｍの範囲内の深さｄで、例えばイオンミリングのミリングイオン６などによって除去する。ここで、磁性層２の表層の一部を除去する深さｄは、０．１ｎｍ〜１５ｎｍの範囲内とすることが好ましく、１〜１０ｎｍの範囲内とすることがより好ましい。磁性層２の表層を除去する深さｄが０．１ｎｍより小さいと、磁性層２を除去する効果が十分に得られない恐れがある。また、磁性層２の表層を除去する深さｄが１５ｎｍより大きいと、磁気記録媒体５０の表面の平滑性が悪化して、磁気記録媒体５０を用いた磁気記録再生装置における磁気ヘッドの浮上特性を低下させてしまう恐れがある。
【００６５】
本実施形態のように、マスク層３が除去されて露出した磁性層２の磁気特性を改質する工程の前に、磁性層２の表層の一部を除去した場合、磁性層２の表層の一部を除去しないで磁性層２の磁気特性を改質した場合と比較して、磁気記録パターン５１ａのコントラストがより鮮明になるとともに、磁気記録媒体５０のＳ／Ｎを向上させることができる。この理由は、磁性層２の表層の一部を除去することにより、マスク層３が除去されて露出した磁性層２の表面の清浄化・活性化が図られて、磁性層２の磁気特性を改質する際における反応性プラズマや反応性イオンと磁性層２との反応性が高められるとともに、磁性層２の表層に空孔等の欠陥が導入されて、磁性層２の磁気特性を改質する際に表層の欠陥を通じて磁性層２に反応性イオンが侵入しやすくなったためと考えられる。
【００６６】
次に、図２（ｆ）に示すように、表層部の除去された領域７の磁性層２を反応性プラズマや反応性イオンにさらして、磁性層２の磁気特性を改質する。磁性層２の磁気特性の改質された領域は、磁気記録パターン５１ａからなる複数の磁気記録トラックをそれぞれ磁気的に分離する領域となる。
ここで、磁気記録パターン５１ａを形成するための磁性層２の改質とは、磁性層２をパターン化するために、磁性層２の保磁力や残留磁化等の磁気特性を部分的に変化させることを意味する。本実施形態においては、磁性層２を改質することにより、磁性層２の保磁力を低下させるととともに、残留磁化を低下させる。
【００６７】
磁性層２の磁気特性を改質する際に用いられる反応性プラズマとしては、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）や反応性イオンプラズマ（ＲＩＥ；Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｉｏｎ Ｐｌａｓｍａ）などが例示できる。
誘導結合プラズマは、気体に高電圧をかけることによってプラズマ化し、そのプラズマ内部に高周波数の変動磁場によって渦電流によるジュール熱を発生させることによって得られる高温のプラズマである。誘導結合プラズマは電子密度が高く、従来のイオンビームを用いる場合と比較して、広い面積の磁性膜の磁気特性の改質を高い効率で実現できる。
【００６８】
反応性イオンプラズマは、プラズマ中にＯ2、ＳＦ6、ＣＨＦ3、ＣＦ4、ＣＣｌ4等の反応性ガスを加えた反応性の高いプラズマである。反応性イオンプラズマを用いることにより、磁性膜２の磁気特性の改質をより高い効率で実現することができる。
また、磁性層２の磁気特性を改質する反応性イオンとしては、前述の誘導結合プラズマや反応性イオンプラズマ内に存在する反応性のイオンなどが挙げられる。
【００６９】
なお、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態においては、磁性層２の表層の一部を改質することにより磁気的に分離された磁性層を形成したが、磁性層を物理的に加工して磁性層に凹部を形成し、凹部内を非磁性材料で埋めた後、磁気記録媒体の表面を平滑化する方法によって磁気的に分離された磁性層を形成してもよい。
【００７０】
このようにして磁性層２の一部の磁気特性を改質した後、図２（ｇ）に示すように、磁性層２の上に設けられているレジストパターン４ａおよびマスク層３を除去する。レジストパターン４ａおよびマスク層３は、ドライエッチング、反応性イオンエッチング、イオンミリング、湿式エッチングなどの手法を用いて除去することが好ましい。
【００７１】
レジストパターン４ａおよびマスク層３を除去した後、図２（ｈ）に示すように、磁性層２にＡｒなどの不活性ガス１１を照射して、磁性層２の表層部を１〜２ｎｍの範囲内でエッチング除去することが好ましい。このことにより、磁性層２の一部の磁気特性を改質することによって磁性層２の表面が粗面化されている場合であっても、粗面化された磁性層２の表面を除去することができる。
【００７２】
次いで、図２（ｉ）に示すように、磁性層２上に保護膜層９を形成することが好ましい。通常、保護膜層９はスパッタ法もしくはＣＶＤ法により形成される。
さらに、保護膜層９の上には潤滑層（図示略）を形成することが好ましい。
以上のようにして、図１〜図３に示すディスクリート型磁気記録媒体４０が製造される。
【００７３】
本実施形態の磁気記録媒体５０は、非磁性基板１上に磁気的に分離された磁性層２からなる環状の磁気記録パターン５１ａが備えられ、磁気記録パターン５１ａの一部に、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターン３３がトラッキングサーボ情報として形成されているものであるので、サーボ情報領域にサーボ情報として磁性層からなるパターンが形成されている場合のように、複雑な形状の磁性層を形成する必要がなく、磁性層２の形状を単純なものとすることができる。
したがって、磁性層２からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターン４ａを形成するためのパターニング条件を最適化して、高精度のレジストパターン４ａを形成することができる。よって、本実施形態の磁気記録媒体５０においては、非磁性基板１上に形成される磁性層２からなるパターン形状の全てを、高精度のレジストパターン４ａを用いて十分に高い精度で形成でき、歩留まりよく形成できる。
【００７４】
また、本実施形態の磁気記録媒体５０では、磁気記録パターン５１ａの一部に、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターン３３がトラッキングサーボ情報として形成されているものであるので、磁気記録媒体５０上の情報の読み書きされる領域を減少させることなく、トラッキングサーボパターン３３を高密度で形成することにより高密度でトラッキングサーボ情報を書き込むことができる。したがって、例えば、磁気記録媒体の半径方向に２５５箇所バーストパターンが設けられている従来の磁気記録媒体と比較して、トラッキングサーボ情報の情報量を増やすことができ、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるものとなる。
【００７５】
＜磁気記録再生装置＞
次に、本発明の磁気記録再生装置について例を挙げて説明する。
図３は、本発明の磁気記録再生装置の一例であるハードディスクドライブを示した概略斜視図である。図３に示すハードディスクドライブは、図１に示すディスクリート型の磁気記録媒体５０と、磁気記録媒体５０を記録方向に駆動する媒体駆動部３４と、記録部と再生部とを備える磁気ヘッド２７と、磁気ヘッド２７を磁気記録媒体５０に対して相対運動させるヘッド駆動部２８と、磁気ヘッド２７への信号入力と磁気ヘッド２７からの出力信号再生を行うための記録再生信号系２９（記録再生信号処理手段）とを具備するものである。
【００７６】
図３に示すハードディスクドライブでは、磁気ヘッドにより磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに情報を読み書きする際に、磁気ヘッド２７にトラッキングサーボ情報を読み込ませ、得られたトラッキングサーボ情報を用いて、随時、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置の微調整を行いながら、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けさせている。
【００７７】
次に、図３に示すハードディスクドライブにおける信号処理方法として、磁気ヘッド２７を磁気記録パターン５１ａの半径方向の中央に位置づけさせる際における信号処理方法について説明する。
まず、磁気ヘッド２７に、磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａから信号を読み出させる。次いで、磁気ヘッド２７により磁気記録パターン５１ａから読み出された信号を、ローパスフィルターおよび/またはバンドパスフィルターなどにより周波数の差を用いて分離する。そして、磁気記録パターン５１ａから読み出された信号を分離することにより信号からトラッキングサーボ情報が得られた場合（すなわち、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされていない場合）、トラッキングサーボ情報の周波数に応じて、磁気ヘッド２７と磁気記録トラックとのずれ量を検出させ、検出されたずれ量に基づいてヘッド駆動部２８により磁気ヘッド２７を磁気記録媒体５０に対して相対移動させ、磁気ヘッド２７を磁気記録パターン５１ａの半径方向の中央に位置づけさせる。
【００７８】
図３に示すハードディスクドライブは、図１に示すディスクリート型の磁気記録媒体５０を備えたものであるので、磁気ヘッド２７を磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるとともに、歩留まりよく製造できるものとなる。
また、本実施形態のハードディスクドライブの信号処理方法によれば、磁気ヘッド２７を磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできる。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明する。
（実施例）
まず、真空チャンバ内に、円盤状のハードディスク（ＨＤ）用のガラス基板を設置して、１．０×１０―５Ｐａ以下に真空排気した。なお、ガラス基板としては、Ｌｉ2Ｓｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ、Ａｌ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ、ＭｇＯ−Ｐ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3−ＺｎＯを構成成分とする結晶化ガラスからなり、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、平均表面粗さ（Ｒａ）２オングストロームのものを用いた。
【００８０】
該ガラス基板にＤＣスパッタリング法を用いて、ＦｅＣｏＢ軟磁性膜からなる裏打ち層と、Ｒｕからなる中間層と、７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ2合金からなる磁性膜とをこの順で積層してなる磁性層を形成した。続いて、スパッタ法を用いて、磁性層上にＴａからなるマスク層を積層し、マスク層の上にスピンコート法によりレジストを塗布し、紫外線硬化樹脂であるノボラック系樹脂からなるレジスト層を形成した。
それぞれの層の膜厚は、裏打ち層６０ｎｍ、中間層１０ｎｍ、磁性膜１５ｎｍ、マスク層６０ｎｍ、レジスト層１００ｎｍとした。
【００８１】
次いで、磁気記録媒体の磁気記録パターンに対応するパターンの形成された紫外線透過率９５％以上のガラスからなるスタンプを、レジスト層に１ＭＰａ（約８．８ｋｇｆ／ｃｍ2）の圧力で押圧することによりパターンを転写した。続いて、波長２５０ｎｍの紫外線をスタンプの上部から１０秒間照射して、レジスト層を硬化させた。その後、レジスト層からスタンプを分離した。
【００８２】
次に、ネガパターンを形成した後に凹部に残っていたレジスト層をドライエッチングにより除去した。ドライエッチング条件は、Ｏ2ガスを４０ｓｃｃｍ、圧力０．３Ｐａで高周波プラズマ電力３００Ｗ、ＤＣバイアス３０Ｗ、エッチング時間１０秒とした。
その後、レジスト層を除去して露出した磁気記録パターン間に配置される凹状の分離領域に対応する領域のマスク層をドライエッチングにより除去した。ドライエッチング条件は、ＣＦ4ガスを５０ｓｃｃｍ、圧力０．６Ｐａ、高周波プラズマ電力５００Ｗ、ＤＣバイアス６０Ｗ、エッチング時間３０秒とした。このことにより、磁性層上の凸部となる領域に残存するマスク層と、パターニングされたレジスト層であるレジストパターンとからなるマスクを形成した。
【００８３】
その後、マスク層が除去されて露出した磁性層の表層部をイオンミリングにより除去した。イオンミリングにはＡｒイオンを用いた。イオンミリングにおけるイオンの量は５×１０１６原子／ｃｍ2、加速電圧は２０ｋｅＶとした。また、イオンミリングにより除去された磁性層の表層の深さは０．１ｎｍであった。
【００８４】
次に、表層部の除去された領域の磁性層を反応性プラズマにさらして磁性層の磁気特性を改質した。ここでの反応性プラズマ処理には、アルバック社の誘導結合プラズマ装置ＮＥ５５０を用いた。また、プラズマの発生に用いるガスおよび条件としては、Ｏ2を９０ｃｃ／分を用い、プラズマ発生のための投入電力は２００Ｗ、装置内の圧力は０．５Ｐａとし、磁性層を３００秒間処理した。
【００８５】
磁性層の磁気特性を改質した後、磁性層の上に設けられているレジストパターンおよびマスク層をドライエッチングにより除去し、磁気記録パターンを露出させた。
このようにして得られた磁気記録パターンは、凸部の幅（磁気記録トラックの幅）が１２０ｎｍ、凹部の幅が６０ｎｍの円環状であり、磁気記録パターンの一部には、トラッキングサーボ情報として、磁気記録媒体の半径方向を短軸、磁気記録媒体の円周方向を長軸とし、短軸２０ｎｍ、長軸３０ｎｍの平面視半楕円状の凸部を有するトラッキングサーボパターンが形成されていた。また、磁気記録媒体の平均のビット長は１００ｎｍであり、磁気記録パターンの中央と側部との距離を外側に向かって広げる外側パターン間の間隔（ピッチ）は１データビット長の２００倍、磁気記録パターンの中央と側部との距離を内側に向かって広げる内側パターン間の間隔（ピッチ）は１データビット長の３００倍であった。
【００８６】
なお、本実施例の磁気記録媒体は約５０００ｒｐｍの回転数で使用されるものであり、磁気ヘッドによる磁気記録媒体への情報の読み書きは約１００ＭＨｚで行われるものである。したがって、外側パターンから得られるトラッキングサーボ情報は最大約０．５ＭＨｚで出力され、内側パターンから得られるトラッキングサーボ情報は最大約０．３ＭＨｚで出力される。
【００８７】
その後、磁気記録パターンの露出された表面上に、ＣＶＤ法によりカーボンからなる厚み５ｎｍの保護膜層を形成した。続いて、保護膜層の上に、潤滑材を塗布して潤滑層を形成した。
【００８８】
その後、磁気記録媒体をサーボライターに設置し、サーボライターの磁気ヘッドにトラッキングサーボ情報を読み込ませ、得られたトラッキングサーボ情報を用いて、随時、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置の微調整を行いながら、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けさせ、磁気記録パターンに磁気的に、プリアンブル情報（幅約０．５μｍ）、およびアドレス情報（幅約１μｍ）をこの順で書き込んだ。
【００８９】
以上の方法で製造した磁気記録媒体について、電磁変換特性（ＳＮＲおよび３Ｔ−ｓｑｕａｓｈ）を測定した。
電磁変換特性の評価はスピンスタンドを用いて実施した。なお、評価用の磁気ヘッドには、記録用として垂直記録ヘッド、読み込み用としてＴｕＭＲヘッド（Tunneling Magneto Resistive head）を用い、７５０ｋＦＣＩの信号を記録したときのＳＮＲ値および３Ｔ−ｓｑｕａｓｈを測定した。ここで、３Ｔ−ｓｑｕａｓｈ（３トラックスカッシュ）とは、センタートラックに信号を記録した後、センターの両隣に信号を記録し、両隣に信号を記録する前と後とにおけるセンタートラックの信号強度（割合（％））である。
【００９０】
その結果、上記の方法により製造された磁気記録媒体は、ＳＮＲが１３．６ｄＢ、３Ｔ−ｓｑｕａｓｈが８７％であり、電磁変換特性に優れていた。
【産業上の利用可能性】
【００９１】
本発明によれば、高い製造歩留まりで磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】図１は、本発明の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。
【図２】図２（ｉ）は、図１に示す磁気記録媒体の断面構造を説明するための断面図であり、磁気記録媒体の一部を半径方向から見た拡大模式図である。また、図２（ａ）〜図２（ｈ）は、図１に示す磁気記録媒体の製造工程の一部を説明するための工程図であり、図２（ｉ）に示された領域と同じ領域のみを拡大して示した拡大断面図である。
【図３】図３は、本発明の磁気記録再生装置の一例であるハードディスクドライブを示した概略斜視図である。
【図４】図４は、従来のディスクリート型の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、図４（ａ）はディスクリート型の磁気記録媒体の全体を示した模式図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）において矩形で示したディスクリート型の磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。
【符号の説明】
【００９３】
１…非磁性基板、２…磁性層、３…マスク層、４…レジスト層、４ａ…レジストパターン、５…スタンプ、６…ミリングイオン、８…レジスト層、９…保護膜層、１１…不活性ガス、２７…磁気ヘッド、２８…ヘッド駆動部、２９…記録再生信号系、３４…媒体駆動部、３３…トラッキングサーボパターン、３３ａ…凸部、４０、５０…磁気記録媒体、４１…データ領域、４１ａ…データ記録パターン、４２…サーボ情報領域、４３ａ…バーストパターン、５１ａ…磁気記録パターン、５１ｂ…凸部、５１ｃ…凹部。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体、磁気記録再生装置および磁気記録再生装置の信号処理方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスク装置等の磁気記録装置の適用範囲は著しく増大され、その重要性が増すと共に、これらの装置に用いられる磁気記録媒体について、その記録密度の著しい向上が図られつつある。特に、ＭＲ(magnet resistive)ヘッドおよびＰＲＭＬ技術の導入以来、面記録密度の上昇はさらに激しさを増し、近年ではさらにＧＭＲ（giant magnet resistive）ヘッド、ＴＭＲ(tunneling magnet resistive）ヘッドなども導入され、１年に約５０％ものペースで増加を続けている。これらの磁気記録媒体については、今後更に高記録密度を達成することが要求されており、そのために磁性層の高保磁力化と高信号対雑音比（ＳＮＲ）、高分解能を達成することが要求されている。また、近年では線記録密度の向上と同時にトラック密度の増加によって面記録密度を上昇させようとする努力も続けられている。
【０００３】
最新の磁気記録装置において、トラック密度は１１０ｋＴＰＩにも達している。しかし、トラック密度を上げていくと、隣接するトラック間の磁気記録情報が互いに干渉し合い、その境界領域の磁化遷移領域がノイズ源となりＳＮＲを損なうという問題が生じやすくなる。このことはそのままＢｉｔ Ｅｒｒｏｒ ｒａｔｅの低下につながるため記録密度の向上に対して障害となっている。
面記録密度を上昇させるためには、磁気記録媒体上の各記録ビットのサイズをより微細なものとし、各記録ビットに可能な限り大きな飽和磁化と磁性膜厚を確保する必要がある。しかし、記録ビットを微細化していくと、１ビット当たりの磁化最小体積が小さくなり、熱揺らぎによる磁化反転で記録データが消失するという問題が生じる。
【０００４】
また、トラック密度を上げていくと、トラック間距離が近づくため、磁気記録装置には極めて高精度のトラックサーボ技術が要求されている。また、隣接トラックからの影響をできるだけ排除するため、記録を幅広く実行し、再生を記録時よりも狭く実行する方法が一般的に用いられている。この方法では、トラック間の影響を最小限に抑えることができる反面、再生出力を十分得ることが困難である。そのため、十分なＳＮ比（ＳＮＲ）を確保することが難しいという問題がある。
【０００５】
上述した熱揺らぎの問題を解決し、十分なＳＮ比の確保、あるいは十分な出力の確保を達成する方法の一つとして、記録媒体表面にトラックに沿った凹凸を形成し、記録トラック同士を物理的または磁気的に分離することによってトラック密度を上げようとする試みがなされている。このような技術を以下にディスクリートトラック法、それによって製造された磁気記録媒体をディスクリートトラック媒体と呼ぶ。
【０００６】
ディスクリートトラック媒体の一例として、複数の凸部と各凸部を囲む凹部とを有する非磁性基板上に、軟磁性層と強磁性層を積層し、非磁性基板の形状を反映した凹凸が軟磁性層および強磁性層に形成され、磁気的に分断された強磁性層の凸部のみを記録領域とする磁気記録媒体が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この磁気記録媒体によれば、軟磁性層での磁壁発生を抑制できるため、熱揺らぎの影響が出にくく、隣接する信号間の干渉もないので、ノイズの少ない高密度磁気記録媒体を形成できるとされている。
【０００７】
ディスクリートトラック媒体は、一般に、非磁性基板上に連続した磁性層を形成し、磁性層の上にパターニングしたレジスト層を形成し、これを用いて磁性層を磁気的に分離する方法を用いて形成されている。また、レジスト層をパターニングする方法としては、フォトリソグラフィー法や、液状のレジストにスタンプを用いてパターン転写するナノインプリント法がなど用いられている。
【０００８】
また、ディスクリートトラック媒体の製造方法としては、何層かの薄膜からなる磁気記録媒体を形成した後にトラックを形成する方法や、あらかじめ基板表面に直接、あるいはトラック形成のための薄膜層に凹凸パターンを形成した後に、磁気記録媒体の薄膜形成を行う方法がある（例えば、特許文献２，特許文献３参照）。
【０００９】
また、ディスクリート方式の磁気記録媒体の製造方法として、外部からのイオン注入あるいはレーザ照射などを行うことにより、非磁性基体上の連続した磁性層の所望の箇所の磁気的特性を局所的に変えて記録トラックを形成する方法もある（例えば、特許文献４参照）。
また、例えば、特許文献５には、磁性層に、ランド間のギャップ代わりに、イオン注入によって磁化されない領域のあるものが開示されている。
また、例えば、特許文献６には、基板上に、磁性層、イオンバッファ層をこの順に形成して、イオンバッファ層を介在させた状態で磁性層に対してイオンを注入し、熱処理することで、イオンの注入領域の磁気特性を改質する磁性パターン形成方法が開示されている。
【００１０】
また、例えば、特許文献７には、第１、第２のサーボバースト群が２列に配列された第１サーボバーストエリアと、第３、第４のサーボバースト群が２列に配列された第２サーボバーストエリアとがデータエリアを挟んで交互に配置されている情報記録媒体が記載されている。
【特許文献１】特開２００４−１６４６９２号公報
【特許文献２】特開２００４−１７８７９３号公報
【特許文献３】特開２００４−１７８７９４号公報
【特許文献４】特開平５−２０５２５７号公報
【特許文献５】特開２００６−２０９９５２号公報
【特許文献６】特開２００６−３０９８４１号公報
【特許文献７】特開２０００−０９０６０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、従来のディスクリートトラック媒体の製造方法では、磁気的に分離された磁性層からなるパターン形状の精度が不十分で歩留まりが低いため、磁性層のパターン形状を精度よく形成することにより、歩留まりを向上させることが要求されていた。磁性層のパターン形状の精度を低下させる主な原因としては、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンの厚さのバラツキやエッジダレなどレジストパターンの形状不良が挙げられる。
【００１２】
ここで従来の磁気記録媒体の課題について、図４を用いて説明する。図４は、従来のディスクリート型の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、図４（ａ）はディスクリート型の磁気記録媒体の全体を示した模式図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）において矩形で示したディスクリート型の磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。
【００１３】
図４に示す磁気記録媒体４０は、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように、円盤状の基板の一方の表面に、データ領域４１とサーボ情報領域４２とが備えられたものである。なお、図４（ａ）においては、中心から放射状に延びる線で示された領域がサーボ情報領域４２に該当し、放射状の線と線との間の領域がデータ領域４１に該当する。
データ領域４１を構成する磁性層からなるデータ記録パターン４１ａは、磁気記録トラックを構成するものであり、図４（ｂ）に示すように、円環状の規則的な形状とされている。
【００１４】
また、図４（ｂ）に示すように、サーボ情報領域４２には、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けさせるためのバースト情報として、バーストパターン４３ａが形成されている。バーストパターン４３ａは、サーボ情報領域４２を構成する磁性層からなるものであり、隣接する磁気記録トラック間に設けられた細かなドット状の形状とされている。バーストパターン４３ａは、磁気記録媒体４０の半径方向に、データ領域４１を分割するように、通常２５５箇所設けられている。
そして、図４（ａ）に示す磁気記録媒体４０では、磁気ヘッド（不図示）によりデータ記録パターン４１ａにデータを読み書きする際に、表面上を円周方向に移動する磁気ヘッドが、サーボ情報領域４２においてバースト情報を読み込んでトラック位置の微調整を行うものとされている。
【００１５】
しかしながら、図４に示す磁気記録媒体４０では、磁気記録媒体４０の回転に伴う振動や熱膨張によって、磁気ヘッドによりデータ記録パターン４１ａにデータを読み書きする際における磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置が狂ってしまい、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けされない場合があった。このため、図４に示す磁気記録媒体４０では、磁気ヘッドによる磁気記録媒体４０の読み込み不良や書き込み不良が生じる恐れがあった。特に、磁気記録トラックの半径方向の密度が高い磁気記録媒体では、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置が狂いやすいため、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるようにすることが要求されていた。
【００１６】
また、図４に示す磁気記録媒体４０では、図４（ｂ）に示すように、データ記録パターン４１ａとバーストパターン４３ａとの形状が異なっているため、磁性層の形状が、ピッチやパターン幅等の相違する複数のパターン形状が混在してなる複雑な形状とされている。このため、図４に示す磁気記録媒体４０においては、以下に示すように、磁性層からなるパターン形状の全てを高精度で形成することは困難であった。
【００１７】
図４に示す磁気記録媒体４０の製造工程において、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンの形状不良の原因としては、レジストの粘度、レジストの硬化温度、硬化時間、湿度、露光時間、露光強度等のさまざまなパターニング条件が挙げられる。これらのパターニング条件は、磁性層のパターン形状に応じて適宜決定される。
【００１８】
しかしながら、図４に示す磁気記録媒体４０のように、磁性層が複数のパターン形状の混在している複雑な形状を有するものである場合、レジストパターンを形成するための最適なパターニング条件を、パターン形状が異なることに起因する精度のバラツキが生じないように最適化することは困難であった。
具体的には例えば、レジストパターンを形成するためのパターニング条件を、データ記録パターン４１ａのパターン形状に対応するように決定すると、バーストパターン４３ａのパターン形状が不完全となってしまう。また、レジストパターンを形成するためのパターニング条件を、バーストパターン４３ａのパターン形状に対応するように決定すると、データ記録パターン４１ａのパターン形状が不完全となってしまう。
【００１９】
このように、磁性層が複雑な形状を有している場合には、レジストパターンを形成するためのパターニング条件を十分に最適化することができず、磁気記録媒体上に形成される磁性層からなるパターン形状の全てを十分に高い精度で形成しうる高精度のレジストパターンを形成することは困難である。したがって、図４に示す従来の磁気記録媒体４０においては、磁性層からなるパターン形状の全てを高精度で形成することは困難であった。
【００２０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるとともに、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを高精度で形成することができ、高精度のレジストパターンを用いて磁性層からなるパターン形状の全てを高精度で形成できるものとすることにより歩留まりよく製造できる磁気記録媒体を提供することを課題とする。
また、本発明は、本発明の磁気記録媒体を備え、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるとともに、歩留まりよく製造できる磁気記録再生装置を提供することを課題とする。
また、本発明は、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできる磁気記録再生装置の信号処理方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明者は、レジストパターンの形状不良を改善して、磁性層のパターン形状を精度よく形成するために、以下に示すように、鋭意研究した。
すなわち、本発明者は、磁気記録媒体の磁性層が複雑な形状を有していることが、レジストパターンの形状の精度を低下させる主な原因であることを考慮し、磁性層の形状に着目して検討を重ねた。その結果、本発明者は、情報の読み書きされる磁気的に分離された環状の磁気記録パターンの一部に、トラッキングサーボ情報として、磁気記録パターンの半径方向の幅を部分的に異ならせてなるトラッキングサーボパターンを形成することで、磁性層の形状を単純化すれば、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを高精度で形成することができるとともに、トラッキングサーボパターンを高密度で形成でき、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできることを見出し、本発明を想到した。
【００２２】
すなわち本発明は次の構成を採用する。
（１）非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターンが備えられ、前記磁気記録パターンの一部に、前記磁気記録パターンの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターンがトラッキングサーボ情報として形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
（２）前記トラッキングサーボ情報が、バースト情報を含むことを特徴とする（１）に記載の磁気記録媒体。
（３）前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と内側部との距離を異ならせてなる内側パターンと、前記磁気記録パターンの中央と外側部との距離を異ならせてなる外側パターンとを含むものであることを特徴とする（１）または（２）に記載の磁気記録媒体。
【００２３】
（４）前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と内側部との距離を異ならせてなる複数の内側パターンを有するものであり、隣接する前記内側パターンが、前記磁気記録パターンにおける１データビット長の１００倍以上の間隔を空けて配置されていることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
（５）前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と外側部との距離を異ならせてなる複数の外側パターンを有するものであり、隣接する前記外側パターンが、前記磁気記録パターンにおける１データビット長の１００倍以上の間隔を空けて配置されていることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【００２４】
（６）磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、前記磁気記録媒体が（１）〜（５）の何れかに記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【００２５】
（７）（５）に記載の磁気記録再生装置における信号処理方法であって、磁気ヘッドに、磁気記録媒体の磁気記録パターンから信号を読み出させる工程と、前記信号を周波数の差を用いて分離する工程と、前記信号を分離することにより前記信号からトラッキングサーボ情報が得られた場合、前記トラッキングサーボ情報の周波数に応じて、前記磁気ヘッドを前記磁気記録パターンの半径方向の中央に位置づけさせる工程とを備えることを特徴とする磁気記録再生装置の信号処理方法。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターンが備えられ、前記磁気記録パターンの一部に、前記磁気記録パターンの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターンがトラッキングサーボ情報として形成されているものであるので、サーボ情報領域にサーボ情報として磁性層からなるパターンを形成する場合のように、複雑な形状の磁性層を形成する必要がなく、磁性層の形状が単純なものとなる。したがって、磁性層からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターンを形成するためのパターニング条件を最適化して、高精度のレジストパターンを形成することができる。よって、本発明の磁気記録媒体においては、非磁性基板上に形成される磁性層からなるパターン形状の全てを、高精度のレジストパターンを用いて十分に高い精度で形成できる。その結果、本発明の磁気記録媒体は、歩留まりよく形成できる。
【００２７】
また、本発明の磁気記録媒体では、磁気記録パターンの一部に、前記磁気記録パターンの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターンがトラッキングサーボ情報として形成されているものであるので、トラッキングサーボパターンを高密度で形成することにより高密度でトラッキングサーボ情報を書き込むことができる。したがって、例えば、磁気記録媒体の半径方向に２５５箇所バーストパターンが設けられている従来の磁気記録媒体と比較して、トラッキングサーボ情報の情報量を増やすことができる。その結果、磁気ヘッドにより磁気記録パターンに情報を読み書きする際に、磁気ヘッドにトラッキングサーボ情報を読み込ませて、磁気記録再生装置のヘッド駆動部などに磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置の微調整を行わせることにより、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるものとなる。
【００２８】
また、本発明の磁気記録再生装置は、本発明の磁気記録媒体を備えたものであるので、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるとともに、歩留まりよく製造できるものとなる。
また、本発明の磁気記録再生装置の信号処理方法によれば、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
次に、本発明の磁気記録媒体およびその製造方法、磁気記録再生装置について、図面を参照して詳細に説明する。尚、以下の説明において参照する図面において、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の磁気記録媒体および磁気記録再生装置の寸法関係とは異なっている場合がある。
【００３０】
＜磁気記録媒体＞
まず、本発明の磁気記録媒体について例を挙げて説明する。
図１は、本発明の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。なお、図１においては、上側が磁気記録媒体の外側であり、下側が磁気記録媒体の中心側（内側）である。
また、図２（ｉ）は、図１に示す磁気記録媒体の断面構造を説明するための断面図であり、磁気記録媒体の一部を半径方向から見た拡大模式図である。なお、図２（ｉ）においては、説明を容易にするために基板と磁性層と保護膜層のみを示す。また、図２（ａ）〜図２（ｈ）は、図１に示す磁気記録媒体の製造工程の一部を説明するための工程図であり、図２（ｉ）に示された領域と同じ領域のみを拡大して示した拡大断面図である。
【００３１】
図１および図２（ｉ）に示す磁気記録媒体５０においては、円盤状の非磁性基板１上に、磁気的に分離された磁性層２からなる環状の複数の磁気記録パターン５１ａが備えられている。磁気記録パターン５１ａは、円盤状の磁気記録媒体５０の回転中心に対して同心円状に規則的に複数形成されているものであり、５０ｎｍ程度の幅の磁気記録トラックを構成するものである（図１においては、磁気記録媒体の一部を拡大して示しているため、磁気記録パターン５１ａが直線状に見える）。
【００３２】
図２（ｉ）に示すように、磁性層２には、凹部５１ｃおよび凸部５１ｂが形成されており、凹部５１ｃを構成する磁性層２の磁気特性が改質されて非磁性化されていることにより、隣接する凸部５１ｂ間が磁気的に分離されている。凹部５１ｃの幅は１０ｎｍ〜１００ｎｍ程度であることが好ましく、凸部５１ｂの幅は２０ｎｍ〜２００ｎｍ程度であることが好ましい。なお、本実施形態において、磁気記録パターン５１ａの幅である凸部５１ｂの幅は、磁気記録トラックの幅である。
ここで、磁性層２が「磁気的に分離されている」とは、少なくとも磁性層２の表面において磁気的に分離されていればよく、磁性層２の底部においては分離されていなくてもよい。
【００３３】
図１に示すように、磁気記録パターン５１ａの一部には、トラッキングサーボ情報としてトラッキングサーボパターン３３が設けられている。本実施形態におけるトラッキングサーボ情報は、バースト情報を含むものである。バースト情報とは、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央（磁気記録パターン５１ａの幅の中央）に位置付けさせるための情報である。
【００３４】
トラッキングサーボパターン３３は、図１に示すように、凸部３３ａが設けられていることによって、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との磁気記録媒体５０の半径方向の距離を片側のみ異ならせてなるものである。凸部３３ａは、磁気記録媒体５０の半径方向を短軸、磁気記録媒体５０の円周方向を長軸とする平面視半楕円状のものである。
なお、トラッキングサーボパターン３３は、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるものであればよく、図１に示す例に限定されるものではない。具体的には、トラッキングサーボパターン３３は、図１に示す例のように、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を広げるものであってもよいし、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を縮めるものであってもよい。また、トラッキングサーボパターン３３を構成する凸部３３ａの形状は、例えば、平面視半円状や平面視多角形状であってもよい。
【００３５】
また、トラッキングサーボパターン３３は、図１に示すように、内側パターン３３ｂと外側パターン３３ｃとを含むものである。
内側パターン３３ｂは、磁気記録パターン５１ａの内側に、磁気記録パターン５１ａの延在方向に沿って等間隔で設けられた複数の凸部３３ａを有するものであり、磁気記録パターン５１ａの中央と内側部との磁気記録媒体５０の半径方向の距離を広げてなるものである。
また、外側パターン３３ｃは、磁気記録パターン５１ａの外側に磁気記録パターン５１ａの延在方向に沿って等間隔で設けられた複数の凸部３３ａを有するものであり、磁気記録パターン５１ａの中央と外側部との磁気記録媒体５０の半径方向の距離を広げてなるものである。
【００３６】
本実施形態においては、図１に示すように、磁気記録パターン５１ａの一部にトラッキングサーボパターン３３が形成されているので、磁気ヘッド（不図示）が磁気記録トラックの中央（磁気記録パターン５１ａの幅の中央）に位置付けされていない場合には、磁気ヘッドにより磁気記録トラック（磁気記録パターン５１ａ）から信号を読み出させると、磁気ヘッドと磁気記録トラックとのずれ量に対応する周波数を有するトラッキングサーボ情報を含む信号が出力される。また、本実施形態においては、トラッキングサーボパターン３３が、磁気記録パターン５１ａの円周方向に設けられた内側パターン３３ｂと、磁気記録パターン５１ａの円周方向に設けられた外側パターン３３ｃとを含むものであるので、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置が磁気記録トラックの内側にずれている場合でも外側にずれている場合でも、磁気ヘッドと磁気記録トラックとのずれ量に対応する周波数を有するトラッキングサーボ情報を含む信号が出力される。
しかし、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされている場合には、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａから信号を読み出させても、トラッキングサーボ情報を含む信号が出力されない。
【００３７】
したがって、本実施形態の磁気記録媒体５０においては、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａから信号を読み込ませてトラッキングサーボ情報が出力されるか否かによって、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされているかどうかが検出されるようになっている。さらに、本実施形態の磁気記録媒体５０においては、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａから信号を読み込ませて、トラッキングサーボ情報が出力された場合には、トラッキングサーボ情報の周波数の大きさによって、磁気ヘッドと磁気記録トラックとのずれ量を検出できるようになっている。
よって、本実施形態の磁気記録媒体５０は、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａに情報を読み書きする際に、磁気ヘッドにトラッキングサーボ情報を読み込ませ、得られたトラッキングサーボ情報に基づいて、磁気記録再生装置のヘッド駆動部（図示略）に磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置の微調整を行わせることにより、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けできるものとされている。
【００３８】
また、磁気記録パターン５１ａの延在方向において隣接する内側パターン３３ｂおよび磁気記録パターン５１ａの延在方向に隣接する外側パターン３３ｃは、それぞれ、以下に示すように、磁気記録パターン５１ａにおける１データビット長の１００倍以上１０００倍以下の間隔３６、３７（ピッチ）を空けて配置されていることが好ましい。
すなわち、本実施形態においては、磁気記録パターン５１ａの一部にトラッキングサーボパターン３３が形成されているので、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされていない場合に、磁気ヘッドにより情報の書き込まれた磁気記録パターン５１ａから信号を読み出させると、出力された信号には、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報とが含まれることになる。
【００３９】
例えば、磁気ヘッドにより磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに１００ＭＨｚの周波数で情報が書き込まれていて、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされていない場合、その磁気記録パターン５１ａから磁気ヘッドにより信号を読み出させると、１００ＭＨｚの周波数で出力される書き込みデータ信号にトラッキングサーボ情報が混合されて混合信号として出力される。このとき、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６が、１データビット長の１００倍以上であると、トラッキングサーボパターン３３から出力されるトラッキングサーボ情報が、トラッキングサーボ情報の書き込まれている間隔（言い換えると、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６）によって１ＭＨｚ以下の周波数（最大で書き込みデータ信号の１/１００の周波数）で出力されるものとなる。
【００４０】
このように、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６が１データビット長の１００倍以上である場合、書き込みデータ信号の周波数と、内側パターン３３ｂおよび外側パターン３３ｃから得られるトラッキングサーボ情報との周波数との間に、１００倍以上の大きな差が生じることになる。したがって、磁気ヘッドにより磁気記録パターン５１ａから読み出された信号に、トラッキングサーボ情報が含まれている場合に、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との周波数の差を用いて、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号を分離することにより、容易にトラッキングサーボ情報が得られるものとなる。
【００４１】
これに対し、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６が１データビット長の１００倍未満である場合、書き込みデータ信号の周波数とトラッキングサーボ情報の周波数との差が小さくなるので、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号からトラッキングサーボ情報を分離しにくくなる恐れや、トラッキングサーボ情報が書き込みデータ信号によって打ち消されてしまう恐れがある。
【００４２】
また、内側パターン３３ｂ間の間隔３７および外側パターン３３ｃ間の間隔３６が１データビット長の１０００倍を超える場合、書き込みデータ信号の周波数とトラッキングサーボ情報の周波数との差は大きくなるが、トラッキングサーボ情報の周波数が小さくなりすぎて、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号からトラッキングサーボ情報を取り出しにくくなる恐れがある。また、トラッキングサーボ情報に基づく磁気ヘッドの追従性が低下する恐れがある。
【００４３】
ここで、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号を分離する方法としては、ローパスフィルターおよび／またはバンドパスフィルターを用いる方法などが挙げられる。ローパスフィルターおよび／またはバンドパスフィルターを用いる方法によれば、書き込みデータ信号とトラッキングサーボ情報との混合信号からトラッキングサーボ情報のみを容易に取り出すことができる。
【００４４】
また、本実施形態においては、トラッキングサーボパターン３３を構成する凸部３３ａ間の距離が、図１に示すように、磁気記録パターン５１ａの外側（図１における上側）と内側（図１における下側）とで異なっており、内側パターン３３ｂ間の間隔３７と外側パターン３３ｃ間の間隔３６とが異なっている。このため、本実施形態においては、磁気記録パターン５１ａの外側のトラッキングサーボパターン３３（外側パターン３３ｃ）の密度と、磁気記録パターン５１ａの内側のトラッキングサーボパターン３３（内側パターン３３ｂ）の密度とが異なるものとなっている。
【００４５】
また、本実施形態においては、外側パターン３３ｃ間の間隔３６が、内側パターン３３ｂ間の間隔３７よりも近くなっており、外側パターン３３ｃの密度が、内側パターン３３ｂの密度よりも高密度となっている。このように、トラッキングサーボパターン３３の密度を、磁気記録パターン５１ａの外側と内側とで異ならせることで、磁気ヘッドから出力されたトラッキングサーボ情報により、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置が磁気記録トラックの内側にずれているか外側にずれているかを容易に検知できるものとなる。
【００４６】
例えば、図１に示すトラッキングサーボパターン３３において、外側パターン３３ｃの密度を内側パターン３３ｂの密度の２倍にすると、磁気ヘッドが磁気記録パターン５１ａの外側にずれている場合に、磁気ヘッドが磁気記録パターン５１ａの内側にずれている場合の２倍の周波数のトラッキングサーボ情報が出力されることになる。
具体的には、例えば、外側パターン３３ｃ間の間隔３６が１データビット長の１００倍であり、内側パターン３３ｂ間の間隔３７が１データビット長の２００倍である場合に、磁気ヘッドが磁気記録パターン５１ａの外側にずれていることにより、１ＭＨｚの周波数でトラッキングサーボ情報が出力された場合、磁気ヘッドと磁気記録トラックとのずれ量が同じで、磁気ヘッドが磁気記録パターン５１ａの内側にずれていると、０．５ＭＨｚの周波数のトラッキングサーボ情報が出力されることになる。
【００４７】
また、図１に示す磁気記録媒体５０は、図２（ｉ）に示すように、非磁性基板１上に磁性層２が形成され、磁性層２の上に保護膜層９が形成され、保護膜層９上に潤滑層（図２においては図示略）が形成されているものである。なお、本実施形態においては、保護膜層および潤滑層が設けられている磁気記録媒体を例に挙げて説明するが、保護膜層および潤滑層は設けられていなくてもよい。
【００４８】
非磁性基板１としては、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂からなる基板など任意のものを用いることができる。これらの中でも、非磁性基板１として、Ａｌ合金基板や結晶化ガラス等のガラス製基板またはシリコン基板を用いることが好ましい。また、非磁性基板１の平均表面粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ以下、さらには０．５ｎｍ以下であることが好ましく、０．１ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００４９】
磁性層２は、Ｃｏを主成分とする合金から形成することが好ましい。また、磁性層２は、面内磁性層であっても垂直磁性層であってもかまわないが、より高い記録密度を実現するためには垂直磁性層であることが好ましい。
例えば、面内磁性層用の磁性層２としては、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層とからなる積層構造などを用いることができる。
また、例えば、垂直磁性層用の磁性層２としては、軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕなど）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣなど）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢなど）等からなる裏打ち層と、必要に応じて設けられるＰｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒなどの配向制御膜と、必要に応じて設けられるＲｕ等の中間膜と、６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ2合金などからなる磁性膜とからなる積層構造の磁性層などを用いることができる。
【００５０】
磁性層２の膜厚は、磁性層２に用いられる磁性材料の種類や積層構造などに応じて、十分なヘッド出入力が得られる厚みとなるように決定される。磁性層２は、磁気記録媒体５０から情報を再生する際に一定以上の出力を得るために、ある程度以上の膜厚が必要である。しかし、磁気記録再生装置の記録再生特性を表す諸パラメーターは、出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、磁性層２の膜厚を最適に設定する必要がある。具体的には、磁性層２の膜厚は、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下とされることが好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下とすることがより好ましい。
【００５１】
保護膜層９としては、Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎなどの炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨxＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アルモファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層やＳｉＯ2、Ｚｒ2Ｏ3、ＴｉＮなど、通常用いられる保護膜層材料を用いることができる。また、保護膜層９は、２層以上の層から構成されていてもよい。
保護膜層９の膜厚は１０ｎｍ以下とすることが好ましい。保護膜層９の膜厚が１０ｎｍを越えると磁気ヘッドと磁性層２との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなる恐れがある。
【００５２】
また、保護膜層９の上には潤滑層（図示略）を形成することが好ましい。潤滑層に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられる。潤滑層の厚みは、通常１〜４ｎｍとされる。
【００５３】
＜磁気記録媒体の製造方法＞
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法として、図１（ａ）および図２（ｉ）に示す本実施形態の磁気記録媒体の製造方法を例に挙げて詳細に説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、円盤状の非磁性基板１上に、スパッタ法などにより磁性層２を形成する。
次いで、図２（ｂ）に示すように、磁性層２上にマスク層３を形成する。マスク層３は、スパッタリング法やＣＶＤ法などにより成膜することができる。
【００５４】
マスク層３は、Ｔａ、Ｗ、Ｔａ窒化物、Ｗ窒化物、Ｓｉ、ＳｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｎｉからなる群から選ばれた何れか一種以上を含む材料で形成することが好ましい。マスク層３の材料としては、上記の材料の中でも、Ａｓ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａを用いることが好ましく、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂを用いることがより好ましく、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｃを用いることが最も好ましい。
マスク層３として、上記の材料からなるものを用いることにより、磁性層２の一部をイオンミリングなどによって除去する工程における磁性層２の遮蔽性に優れたものとなるとともに、マスク層３による磁気記録パターン５１ａの形成精度を向上させることができる。さらに、上記の材料は、酸素ガスなどの反応性ガスを用いたドライエッチング（反応性イオンエッチングまたは反応性イオンミリング）を容易に行うことができるものであるため、磁性層２上にマスク層３を設けることにより、後述するレジスト層を除去する工程における磁性層２上の残留物を減らすことができ、磁性層２の表面の汚染を減少させることができる。
【００５５】
次に、図２（ｃ）に示すように、マスク層３の上にレジスト層４を形成する。レジスト層４は、スピンコート法によりマスク層３上にレジストを塗布する方法などにより形成できる。
レジスト層４は、放射線照射により硬化するレジストからなるものであることが好ましい。なお、ここでの放射線とは、熱線、可視光線、紫外線、Ｘ線、ガンマ線等の広い概念の電磁波である。また、放射線照射により硬化するレジストとしては、例えば、熱線により硬化する熱硬化樹脂、紫外線により効果する紫外線硬化樹脂などが挙げられる。紫外線硬化樹脂としては、例えば、ノボラック系樹脂、アクリル酸エステル類、脂環式エポキシ類等が挙げられる。
【００５６】
次に、マスク層３およびレジスト層４のパターニングを行う。マスク層３およびレジスト層４をパターニングするには、まず、図２（ｄ）に示すように、非磁性基板１上に形成される磁性層２からなる磁気記録パターン５１ａのネガパターンを、レジスト層４に形成する。ここで形成するネガパターンとは、磁気記録パターン５１ａ間に配置される分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のレジスト層４に凹部を形成したものである。
【００５７】
レジスト層４にネガパターンを形成する方法としては、通常のフォトリソグラフィー技術を用いてもよいが、レジスト層４にスタンプ５を用いて、パターンの形状を転写する方法を用いることが作業効率の点から好ましい。スタンプ５を用いてレジスト層４にパターンの形状を転写する方法としては、例えば、図２（ｄ）における矢印で示すように、レジスト層４にスタンプ５を所定の圧力で押圧することによりパターンを転写した後、レジスト層４からスタンプ５を分離する方法が挙げられる。
【００５８】
スタンプ５としては、中心に対して同心円状（複数の円環状）のパターンであって、磁気記録パターン５１ａに対応する形状を有するパターンの形成されたものが用いられる。スタンプ５の材料としては、パターンの形状を転写するために必要な硬度および耐久性を有するものであればよく、特に限定されないが、例えばガラスやＮｉ、樹脂などを好ましく使用できる。具体的には、例えば、スタンプ５として、金属プレートに電子線描画などの方法を用いてパターンが形成されたものなどを使用できる。
【００５９】
なお、本実施形態においては、レジスト層４に用いる材料を、放射線照射により硬化する材料とし、レジスト層４にスタンプ５を用いてパターンを転写する工程に際して、または、レジスト層４にパターンを転写する工程の後に、レジスト層４に放射線を照射して、レジスト層４を硬化させることが好ましい。
このような製造方法を用いることにより、レジスト層４に、スタンプ５の形状を精度良く転写することができる。また、後述するマスク層３の一部を除去する工程において、マスク層３のエッジの部分にダレが発生することを防止でき、図２（ｆ）に示す磁性層２の一部を除去する工程や磁性層２の磁気特性を改質する工程におけるマスク層３の遮蔽性を向上させるとともに、磁気記録パターン５１ａの形成精度を向上させることができる。
【００６０】
また、本実施形態の製造方法におけるレジスト層４にスタンプ５を用いてパターンを転写する工程においては、レジスト層４の流動性が高い状態で、レジスト層４にスタンプ５を押圧し、レジスト層４にスタンプ５を押圧した状態でレジスト層４に放射線を照射することによりレジスト層４を硬化させ、その後、スタンプ５をレジスト層４から分離する方法を用いてもよい。このような製造方法とした場合、スタンプ５の形状をより一層精度良く、レジスト層４に転写することができ、好ましい。
また、このような製造方法を用いた場合、スタンプ５の形状を精度良くレジスト層４に転写でき、高精度のレジストパターンを形成することができるので、後述する磁性層２の磁気特性を改質する工程において、磁性層２の保磁力、残留磁化を極限まで低減させることが可能となり、磁気記録の際の書きにじみがなく、高い面記録密度を有する磁気記録媒体を提供することが可能となる。
【００６１】
レジスト層４にスタンプ５を押圧した状態で、レジスト層４に放射線を照射する方法としては、例えば、スタンプ５の反対側、すなわち非磁性基板１側から放射線を照射する方法や、スタンプ５の材料として放射線を透過できる物質を選択し、スタンプ５側から放射線を照射する方法、スタンプ５の側面から放射線を照射する方法、熱線のように固体に対して伝導性の高い放射線を用いて、スタンプ材料または非磁性基板１からの熱伝導により放射線を照射する方法などを用いることができる。
中でも特に、レジスト材料として紫外線硬化樹脂を用いるとともに、スタンプ材料として紫外線の透過性に優れたガラスや樹脂を用い、レジスト層４にスタンプ５を押圧した状態で、スタンプ５側から紫外線を照射することにより、レジスト層４を硬化させることが好ましい。
【００６２】
次に、図２（ｄ）に示すネガパターンを形成した後に残ったレジスト層８と、磁気記録パターン５１ａ間に配置される凹状の分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のマスク層３とを除去する。このことにより、図２（ｅ）に示すように、磁性層２上の凸部５１ｂとなる領域に残存するマスク層３と、パターニングされたレジスト層４であるレジストパターン４ａとからなるマスクが形成される。
【００６３】
スタンプ５を用いてネガパターンを形成した後に残ったレジスト層８は、反応性イオンエッチング、イオンミリングなどのドライエッチングにより除去できる。
ネガパターンを形成した後に残ったレジスト層８の厚みは０〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましい。レジスト層８の厚みを上記範囲とすることで、磁気記録パターン５１ａの凹状の分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のマスク層３を除去する工程において、マスク層３のエッジの部分にダレが発生することを防止でき、図２（ｆ）に示す磁性層２の一部を除去する工程におけるマスク層３の遮蔽性を向上させるとともに、磁気記録パターン５１ａの形成精度を向上させることができる。
また、磁気記録パターン５１ａ間に配置される凹状の分離領域（凹部５１ｃ）に対応する領域のマスク層３は、例えば、反応性イオンエッチング、イオンミリングなどのドライエッチングにより除去できる。
【００６４】
次に、図２（ｆ）に示すように、マスク層３が除去されて露出した磁気記録パターン５１ａ間に配置される凹状の分離領域（凹部５１ｃ）となる領域の磁性層２の表層部を０．１ｎｍ〜１５ｎｍの範囲内の深さｄで、例えばイオンミリングのミリングイオン６などによって除去する。ここで、磁性層２の表層の一部を除去する深さｄは、０．１ｎｍ〜１５ｎｍの範囲内とすることが好ましく、１〜１０ｎｍの範囲内とすることがより好ましい。磁性層２の表層を除去する深さｄが０．１ｎｍより小さいと、磁性層２を除去する効果が十分に得られない恐れがある。また、磁性層２の表層を除去する深さｄが１５ｎｍより大きいと、磁気記録媒体５０の表面の平滑性が悪化して、磁気記録媒体５０を用いた磁気記録再生装置における磁気ヘッドの浮上特性を低下させてしまう恐れがある。
【００６５】
本実施形態のように、マスク層３が除去されて露出した磁性層２の磁気特性を改質する工程の前に、磁性層２の表層の一部を除去した場合、磁性層２の表層の一部を除去しないで磁性層２の磁気特性を改質した場合と比較して、磁気記録パターン５１ａのコントラストがより鮮明になるとともに、磁気記録媒体５０のＳ／Ｎを向上させることができる。この理由は、磁性層２の表層の一部を除去することにより、マスク層３が除去されて露出した磁性層２の表面の清浄化・活性化が図られて、磁性層２の磁気特性を改質する際における反応性プラズマや反応性イオンと磁性層２との反応性が高められるとともに、磁性層２の表層に空孔等の欠陥が導入されて、磁性層２の磁気特性を改質する際に表層の欠陥を通じて磁性層２に反応性イオンが侵入しやすくなったためと考えられる。
【００６６】
次に、図２（ｆ）に示すように、表層部の除去された領域７の磁性層２を反応性プラズマや反応性イオンにさらして、磁性層２の磁気特性を改質する。磁性層２の磁気特性の改質された領域は、磁気記録パターン５１ａからなる複数の磁気記録トラックをそれぞれ磁気的に分離する領域となる。
ここで、磁気記録パターン５１ａを形成するための磁性層２の改質とは、磁性層２をパターン化するために、磁性層２の保磁力や残留磁化等の磁気特性を部分的に変化させることを意味する。本実施形態においては、磁性層２を改質することにより、磁性層２の保磁力を低下させるととともに、残留磁化を低下させる。
【００６７】
磁性層２の磁気特性を改質する際に用いられる反応性プラズマとしては、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ）や反応性イオンプラズマ（ＲＩＥ；Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｉｏｎ Ｐｌａｓｍａ）などが例示できる。
誘導結合プラズマは、気体に高電圧をかけることによってプラズマ化し、そのプラズマ内部に高周波数の変動磁場によって渦電流によるジュール熱を発生させることによって得られる高温のプラズマである。誘導結合プラズマは電子密度が高く、従来のイオンビームを用いる場合と比較して、広い面積の磁性膜の磁気特性の改質を高い効率で実現できる。
【００６８】
反応性イオンプラズマは、プラズマ中にＯ2、ＳＦ6、ＣＨＦ3、ＣＦ4、ＣＣｌ4等の反応性ガスを加えた反応性の高いプラズマである。反応性イオンプラズマを用いることにより、磁性膜２の磁気特性の改質をより高い効率で実現することができる。
また、磁性層２の磁気特性を改質する反応性イオンとしては、前述の誘導結合プラズマや反応性イオンプラズマ内に存在する反応性のイオンなどが挙げられる。
【００６９】
なお、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態においては、磁性層２の表層の一部を改質することにより磁気的に分離された磁性層を形成したが、磁性層を物理的に加工して磁性層に凹部を形成し、凹部内を非磁性材料で埋めた後、磁気記録媒体の表面を平滑化する方法によって磁気的に分離された磁性層を形成してもよい。
【００７０】
このようにして磁性層２の一部の磁気特性を改質した後、図２（ｇ）に示すように、磁性層２の上に設けられているレジストパターン４ａおよびマスク層３を除去する。レジストパターン４ａおよびマスク層３は、ドライエッチング、反応性イオンエッチング、イオンミリング、湿式エッチングなどの手法を用いて除去することが好ましい。
【００７１】
レジストパターン４ａおよびマスク層３を除去した後、図２（ｈ）に示すように、磁性層２にＡｒなどの不活性ガス１１を照射して、磁性層２の表層部を１〜２ｎｍの範囲内でエッチング除去することが好ましい。このことにより、磁性層２の一部の磁気特性を改質することによって磁性層２の表面が粗面化されている場合であっても、粗面化された磁性層２の表面を除去することができる。
【００７２】
次いで、図２（ｉ）に示すように、磁性層２上に保護膜層９を形成することが好ましい。通常、保護膜層９はスパッタ法もしくはＣＶＤ法により形成される。
さらに、保護膜層９の上には潤滑層（図示略）を形成することが好ましい。
以上のようにして、図１〜図３に示すディスクリート型磁気記録媒体４０が製造される。
【００７３】
本実施形態の磁気記録媒体５０は、非磁性基板１上に磁気的に分離された磁性層２からなる環状の磁気記録パターン５１ａが備えられ、磁気記録パターン５１ａの一部に、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターン３３がトラッキングサーボ情報として形成されているものであるので、サーボ情報領域にサーボ情報として磁性層からなるパターンが形成されている場合のように、複雑な形状の磁性層を形成する必要がなく、磁性層２の形状を単純なものとすることができる。
したがって、磁性層２からなるパターン形状を形成する際に用いられるレジストパターン４ａを形成するためのパターニング条件を最適化して、高精度のレジストパターン４ａを形成することができる。よって、本実施形態の磁気記録媒体５０においては、非磁性基板１上に形成される磁性層２からなるパターン形状の全てを、高精度のレジストパターン４ａを用いて十分に高い精度で形成でき、歩留まりよく形成できる。
【００７４】
また、本実施形態の磁気記録媒体５０では、磁気記録パターン５１ａの一部に、磁気記録パターン５１ａの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターン３３がトラッキングサーボ情報として形成されているものであるので、磁気記録媒体５０上の情報の読み書きされる領域を減少させることなく、トラッキングサーボパターン３３を高密度で形成することにより高密度でトラッキングサーボ情報を書き込むことができる。したがって、例えば、磁気記録媒体の半径方向に２５５箇所バーストパターンが設けられている従来の磁気記録媒体と比較して、トラッキングサーボ情報の情報量を増やすことができ、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるものとなる。
【００７５】
＜磁気記録再生装置＞
次に、本発明の磁気記録再生装置について例を挙げて説明する。
図３は、本発明の磁気記録再生装置の一例であるハードディスクドライブを示した概略斜視図である。図３に示すハードディスクドライブは、図１に示すディスクリート型の磁気記録媒体５０と、磁気記録媒体５０を記録方向に駆動する媒体駆動部３４と、記録部と再生部とを備える磁気ヘッド２７と、磁気ヘッド２７を磁気記録媒体５０に対して相対運動させるヘッド駆動部２８と、磁気ヘッド２７への信号入力と磁気ヘッド２７からの出力信号再生を行うための記録再生信号系２９（記録再生信号処理手段）とを具備するものである。
【００７６】
図３に示すハードディスクドライブでは、磁気ヘッドにより磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａに情報を読み書きする際に、磁気ヘッド２７にトラッキングサーボ情報を読み込ませ、得られたトラッキングサーボ情報を用いて、随時、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置の微調整を行いながら、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けさせている。
【００７７】
次に、図３に示すハードディスクドライブにおける信号処理方法として、磁気ヘッド２７を磁気記録パターン５１ａの半径方向の中央に位置づけさせる際における信号処理方法について説明する。
まず、磁気ヘッド２７に、磁気記録媒体５０の磁気記録パターン５１ａから信号を読み出させる。次いで、磁気ヘッド２７により磁気記録パターン５１ａから読み出された信号を、ローパスフィルターおよび/またはバンドパスフィルターなどにより周波数の差を用いて分離する。そして、磁気記録パターン５１ａから読み出された信号を分離することにより信号からトラッキングサーボ情報が得られた場合（すなわち、磁気ヘッドが磁気記録トラックの中央に位置付けされていない場合）、トラッキングサーボ情報の周波数に応じて、磁気ヘッド２７と磁気記録トラックとのずれ量を検出させ、検出されたずれ量に基づいてヘッド駆動部２８により磁気ヘッド２７を磁気記録媒体５０に対して相対移動させ、磁気ヘッド２７を磁気記録パターン５１ａの半径方向の中央に位置づけさせる。
【００７８】
図３に示すハードディスクドライブは、図１に示すディスクリート型の磁気記録媒体５０を備えたものであるので、磁気ヘッド２７を磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできるとともに、歩留まりよく製造できるものとなる。
また、本実施形態のハードディスクドライブの信号処理方法によれば、磁気ヘッド２７を磁気記録トラックの中央に精度よく位置付けできる。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明する。
（実施例）
まず、真空チャンバ内に、円盤状のハードディスク（ＨＤ）用のガラス基板を設置して、１．０×１０―５Ｐａ以下に真空排気した。なお、ガラス基板としては、Ｌｉ2Ｓｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ、Ａｌ2Ｏ3−Ｋ2Ｏ、ＭｇＯ−Ｐ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3−ＺｎＯを構成成分とする結晶化ガラスからなり、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、平均表面粗さ（Ｒａ）２オングストロームのものを用いた。
【００８０】
該ガラス基板にＤＣスパッタリング法を用いて、ＦｅＣｏＢ軟磁性膜からなる裏打ち層と、Ｒｕからなる中間層と、７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ2合金からなる磁性膜とをこの順で積層してなる磁性層を形成した。続いて、スパッタ法を用いて、磁性層上にＴａからなるマスク層を積層し、マスク層の上にスピンコート法によりレジストを塗布し、紫外線硬化樹脂であるノボラック系樹脂からなるレジスト層を形成した。
それぞれの層の膜厚は、裏打ち層６０ｎｍ、中間層１０ｎｍ、磁性膜１５ｎｍ、マスク層６０ｎｍ、レジスト層１００ｎｍとした。
【００８１】
次いで、磁気記録媒体の磁気記録パターンに対応するパターンの形成された紫外線透過率９５％以上のガラスからなるスタンプを、レジスト層に１ＭＰａ（約８．８ｋｇｆ／ｃｍ2）の圧力で押圧することによりパターンを転写した。続いて、波長２５０ｎｍの紫外線をスタンプの上部から１０秒間照射して、レジスト層を硬化させた。その後、レジスト層からスタンプを分離した。
【００８２】
次に、ネガパターンを形成した後に凹部に残っていたレジスト層をドライエッチングにより除去した。ドライエッチング条件は、Ｏ2ガスを４０ｓｃｃｍ、圧力０．３Ｐａで高周波プラズマ電力３００Ｗ、ＤＣバイアス３０Ｗ、エッチング時間１０秒とした。
その後、レジスト層を除去して露出した磁気記録パターン間に配置される凹状の分離領域に対応する領域のマスク層をドライエッチングにより除去した。ドライエッチング条件は、ＣＦ4ガスを５０ｓｃｃｍ、圧力０．６Ｐａ、高周波プラズマ電力５００Ｗ、ＤＣバイアス６０Ｗ、エッチング時間３０秒とした。このことにより、磁性層上の凸部となる領域に残存するマスク層と、パターニングされたレジスト層であるレジストパターンとからなるマスクを形成した。
【００８３】
その後、マスク層が除去されて露出した磁性層の表層部をイオンミリングにより除去した。イオンミリングにはＡｒイオンを用いた。イオンミリングにおけるイオンの量は５×１０１６原子／ｃｍ2、加速電圧は２０ｋｅＶとした。また、イオンミリングにより除去された磁性層の表層の深さは０．１ｎｍであった。
【００８４】
次に、表層部の除去された領域の磁性層を反応性プラズマにさらして磁性層の磁気特性を改質した。ここでの反応性プラズマ処理には、アルバック社の誘導結合プラズマ装置ＮＥ５５０を用いた。また、プラズマの発生に用いるガスおよび条件としては、Ｏ2を９０ｃｃ／分を用い、プラズマ発生のための投入電力は２００Ｗ、装置内の圧力は０．５Ｐａとし、磁性層を３００秒間処理した。
【００８５】
磁性層の磁気特性を改質した後、磁性層の上に設けられているレジストパターンおよびマスク層をドライエッチングにより除去し、磁気記録パターンを露出させた。
このようにして得られた磁気記録パターンは、凸部の幅（磁気記録トラックの幅）が１２０ｎｍ、凹部の幅が６０ｎｍの円環状であり、磁気記録パターンの一部には、トラッキングサーボ情報として、磁気記録媒体の半径方向を短軸、磁気記録媒体の円周方向を長軸とし、短軸２０ｎｍ、長軸３０ｎｍの平面視半楕円状の凸部を有するトラッキングサーボパターンが形成されていた。また、磁気記録媒体の平均のビット長は１００ｎｍであり、磁気記録パターンの中央と側部との距離を外側に向かって広げる外側パターン間の間隔（ピッチ）は１データビット長の２００倍、磁気記録パターンの中央と側部との距離を内側に向かって広げる内側パターン間の間隔（ピッチ）は１データビット長の３００倍であった。
【００８６】
なお、本実施例の磁気記録媒体は約５０００ｒｐｍの回転数で使用されるものであり、磁気ヘッドによる磁気記録媒体への情報の読み書きは約１００ＭＨｚで行われるものである。したがって、外側パターンから得られるトラッキングサーボ情報は最大約０．５ＭＨｚで出力され、内側パターンから得られるトラッキングサーボ情報は最大約０．３ＭＨｚで出力される。
【００８７】
その後、磁気記録パターンの露出された表面上に、ＣＶＤ法によりカーボンからなる厚み５ｎｍの保護膜層を形成した。続いて、保護膜層の上に、潤滑材を塗布して潤滑層を形成した。
【００８８】
その後、磁気記録媒体をサーボライターに設置し、サーボライターの磁気ヘッドにトラッキングサーボ情報を読み込ませ、得られたトラッキングサーボ情報を用いて、随時、磁気記録トラックに対する磁気ヘッドの相対位置の微調整を行いながら、磁気ヘッドを磁気記録トラックの中央に位置付けさせ、磁気記録パターンに磁気的に、プリアンブル情報（幅約０．５μｍ）、およびアドレス情報（幅約１μｍ）をこの順で書き込んだ。
【００８９】
以上の方法で製造した磁気記録媒体について、電磁変換特性（ＳＮＲおよび３Ｔ−ｓｑｕａｓｈ）を測定した。
電磁変換特性の評価はスピンスタンドを用いて実施した。なお、評価用の磁気ヘッドには、記録用として垂直記録ヘッド、読み込み用としてＴｕＭＲヘッド（Tunneling Magneto Resistive head）を用い、７５０ｋＦＣＩの信号を記録したときのＳＮＲ値および３Ｔ−ｓｑｕａｓｈを測定した。ここで、３Ｔ−ｓｑｕａｓｈ（３トラックスカッシュ）とは、センタートラックに信号を記録した後、センターの両隣に信号を記録し、両隣に信号を記録する前と後とにおけるセンタートラックの信号強度（割合（％））である。
【００９０】
その結果、上記の方法により製造された磁気記録媒体は、ＳＮＲが１３．６ｄＢ、３Ｔ−ｓｑｕａｓｈが８７％であり、電磁変換特性に優れていた。
【産業上の利用可能性】
【００９１】
本発明によれば、高い製造歩留まりで磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】図１は、本発明の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。
【図２】図２（ｉ）は、図１に示す磁気記録媒体の断面構造を説明するための断面図であり、磁気記録媒体の一部を半径方向から見た拡大模式図である。また、図２（ａ）〜図２（ｈ）は、図１に示す磁気記録媒体の製造工程の一部を説明するための工程図であり、図２（ｉ）に示された領域と同じ領域のみを拡大して示した拡大断面図である。
【図３】図３は、本発明の磁気記録再生装置の一例であるハードディスクドライブを示した概略斜視図である。
【図４】図４は、従来のディスクリート型の磁気記録媒体の一例を説明するための平面図であり、図４（ａ）はディスクリート型の磁気記録媒体の全体を示した模式図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）において矩形で示したディスクリート型の磁気記録媒体の一部の領域のみを拡大して示した拡大模式図である。
【符号の説明】
【００９３】
１…非磁性基板、２…磁性層、３…マスク層、４…レジスト層、４ａ…レジストパターン、５…スタンプ、６…ミリングイオン、８…レジスト層、９…保護膜層、１１…不活性ガス、２７…磁気ヘッド、２８…ヘッド駆動部、２９…記録再生信号系、３４…媒体駆動部、３３…トラッキングサーボパターン、３３ａ…凸部、４０、５０…磁気記録媒体、４１…データ領域、４１ａ…データ記録パターン、４２…サーボ情報領域、４３ａ…バーストパターン、５１ａ…磁気記録パターン、５１ｂ…凸部、５１ｃ…凹部。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターンが備えられ、
前記磁気記録パターンの一部に、前記磁気記録パターンの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターンがトラッキングサーボ情報として形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記トラッキングサーボ情報が、バースト情報を含むことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と内側部との距離を異ならせてなる内側パターンと、前記磁気記録パターンの中央と外側部との距離を異ならせてなる外側パターンとを含むものであることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と内側部との距離を異ならせてなる複数の内側パターンを有するものであり、
隣接する前記内側パターンが、前記磁気記録パターンにおける１データビット長の１００倍以上の間隔を空けて配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と外側部との距離を異ならせてなる複数の外側パターンを有するものであり、
隣接する前記外側パターンが、前記磁気記録パターンにおける１データビット長の１００倍以上の間隔を空けて配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、
前記磁気記録媒体が請求項１〜５の何れか１項に記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項７】
請求項５に記載の磁気記録再生装置における信号処理方法であって、
磁気ヘッドに、磁気記録媒体の磁気記録パターンから信号を読み出させる工程と、
前記信号を周波数の差を用いて分離する工程と、
前記信号を分離することにより前記信号からトラッキングサーボ情報が得られた場合、前記トラッキングサーボ情報の周波数に応じて、前記磁気ヘッドを前記磁気記録パターンの半径方向の中央に位置づけさせる工程とを備えることを特徴とする磁気記録再生装置の信号処理方法。
【請求項１】
非磁性基板上に磁気的に分離された磁性層からなる環状の磁気記録パターンが備えられ、
前記磁気記録パターンの一部に、前記磁気記録パターンの中央と側部との距離を片側のみ異ならせてなるトラッキングサーボパターンがトラッキングサーボ情報として形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記トラッキングサーボ情報が、バースト情報を含むことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と内側部との距離を異ならせてなる内側パターンと、前記磁気記録パターンの中央と外側部との距離を異ならせてなる外側パターンとを含むものであることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と内側部との距離を異ならせてなる複数の内側パターンを有するものであり、
隣接する前記内側パターンが、前記磁気記録パターンにおける１データビット長の１００倍以上の間隔を空けて配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記トラッキングサーボパターンが、前記磁気記録パターンの中央と外側部との距離を異ならせてなる複数の外側パターンを有するものであり、
隣接する前記外側パターンが、前記磁気記録パターンにおける１データビット長の１００倍以上の間隔を空けて配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項６】
磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に情報を記録再生する磁気ヘッドとを備えた磁気記録再生装置であって、
前記磁気記録媒体が請求項１〜５の何れか１項に記載の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項７】
請求項５に記載の磁気記録再生装置における信号処理方法であって、
磁気ヘッドに、磁気記録媒体の磁気記録パターンから信号を読み出させる工程と、
前記信号を周波数の差を用いて分離する工程と、
前記信号を分離することにより前記信号からトラッキングサーボ情報が得られた場合、前記トラッキングサーボ情報の周波数に応じて、前記磁気ヘッドを前記磁気記録パターンの半径方向の中央に位置づけさせる工程とを備えることを特徴とする磁気記録再生装置の信号処理方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１０−１４６６０３（Ｐ２０１０−１４６６０３Ａ）
【公開日】平成２２年７月１日（２０１０．７．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３１９８０７（Ｐ２００８−３１９８０７）
【出願日】平成２０年１２月１６日（２００８．１２．１６）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年７月１日（２０１０．７．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月１６日（２００８．１２．１６）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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