磁気記録媒体の製造方法
【課題】 より小さい酸素濃度雰囲気下において電子線照射を行い非磁性層を硬化させることにより、表面平滑性及び走行耐久性に優れる磁気記録媒体を製造する方法を提供する。
【解決手段】 非磁性支持体と、非磁性支持体上の下層非磁性層と、下層非磁性層上の上層磁性層とを少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性支持体上に、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、未硬化の下層非磁性層を形成し、酸素濃度５００ｐｐｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させ、硬化した下層非磁性層上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤樹脂とを含む磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することを含む、磁気記録媒体の製造方法。
【解決手段】 非磁性支持体と、非磁性支持体上の下層非磁性層と、下層非磁性層上の上層磁性層とを少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性支持体上に、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、未硬化の下層非磁性層を形成し、酸素濃度５００ｐｐｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させ、硬化した下層非磁性層上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤樹脂とを含む磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することを含む、磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、特に表面平滑性及び走行耐久性に優れる磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、磁気記録媒体は、非磁性支持体の一方の面上に磁性層を有し、前記非磁性支持体の他方の面上に走行耐久性向上等のためにバックコート層を有する。
【０００３】
近年、記録データ量の増大に対応すべく、磁気記録媒体の高密度記録化が求められている。高密度記録化のために記録波長が短波長化され、磁性層が薄膜化されている。磁性層が薄膜化されると、磁性層表面に支持体の表面粗さが反映して磁性層表面の平滑性が損なわれ、電磁変換特性が悪化する。このため、支持体表面に例えば下塗り層としての非磁性層を設け、これを介して磁性層が設けられる。
【０００４】
記録波長の短波長化に伴い、スペーシングロスの観点から、磁性層表面はより平滑であることが要求され、そのために下塗り層としての非磁性層表面もより平滑であることが要求される。
【０００５】
また、磁気記録媒体には、走行耐久性が要求される。磁性層表面の走行耐久性を確保するために、非磁性層表面の平滑性に加え、非磁性層の強靱さが要求される。
【０００６】
前記非磁性層は、通常、非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥することによって形成される。非磁性層用の結合剤としては、従来、熱硬化性樹脂が多く用いられていた。近年、より強靱な塗膜を得るために、電子線硬化性樹脂を用いて非磁性層用を形成することが知られている。
【０００７】
例えば、特開２０００−１１３５３号公報には、磁気記録媒体の製造について、電子線硬化性結合剤樹脂を含む非磁性層用塗料を非磁性支持体上に塗布、乾燥し、下層非磁性層に電子線照射を行い、その後、下層非磁性層上に磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することが開示されている。同公報第９カラム４行〜８行には、「ＥＢ照射量は１〜１０Ｍｒａｄが良く、さらに３〜１０Ｍｒａｄが好ましい。３Ｍｒａｄ未満だと上層磁性層の塗布面の安定性に欠き、１０Ｍｒａｄ超照射しても媒体物性に差がでなくなるので必要ない。」と記載されている。
【０００８】
特開２００４−６３０４９号公報には、放射線硬化性結合剤樹脂として特定の放射線硬化性ポリウレタン樹脂を含む非磁性層を有する磁気記録媒体が開示されている。同公報段落番号[0029]には、放射線として電子線が好ましく、電子線照射量は１〜１０Ｍｒａｄが好ましく、３〜７Ｍｒａｄがより好ましいことが開示されている。
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−１１３５３号公報
【特許文献２】特開２００４−６３０４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、より小さい酸素濃度雰囲気下において電子線照射を行い非磁性層を硬化させることにより、表面平滑性及び走行耐久性に優れる磁気記録媒体を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明には、以下の発明が含まれる。
（１） 非磁性支持体と、非磁性支持体上の下層非磁性層と、下層非磁性層上の上層磁性層とを少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、
非磁性支持体上に、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、未硬化の下層非磁性層を形成し、
酸素濃度５００ｐｐｍ（容積基準）以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させ、
硬化した下層非磁性層上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤樹脂とを含む磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することを含む、磁気記録媒体の製造方法。
【００１２】
（２） 酸素濃度３００ｐｐｍ（容積基準）以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行う、（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、電子線硬化性結合剤樹脂を含む非磁性層用塗料を用いて、５００ｐｐｍ以下の酸素濃度雰囲気下において電子線照射を行い下層非磁性層を硬化させる。電子線照射雰囲気中の酸素濃度を５００ｐｐｍ以下とすることによって、照射雰囲気中で生じる酸素ラジカルに起因する硬化反応阻害が抑制され、良好な硬化反応を行うことができ、平滑な表面で且つ強固な下層非磁性層が得られる。その後、平滑な表面の下層非磁性層上に上層磁性層を形成するので、平滑な表面で且つ強固な上層磁性層が得られる。その結果、本発明により製造された磁気記録媒体は、表面平滑性に優れ、且つ耐久走行後のヘッド付着が少なく走行耐久性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明で製造される磁気記録媒体の例としては、非磁性支持体の一方の面上に厚み０．３〜２．５μｍの下層非磁性層が設けられ、下層非磁性層上に厚み０．０３〜０．３０μｍの上層磁性層が設けられ、必要に応じて非磁性支持体の他方の面上にバックコート層が設けられている。なお、本発明では、上層磁性層上に潤滑剤塗膜や磁性層保護用の各種塗膜などが必要に応じて設けられてもよい。また、非磁性支持体の磁性層が設けられる前記一方の面には、塗膜と非磁性支持体との接着性の向上等を目的として、下塗り層（易接着層）が設けられてもよい。
【００１５】
［下層非磁性層］
下層非磁性層は、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂とを含む非磁性層用塗料を用いて形成される。非磁性粉末としては、カーボンブラック、カーボンブラック以外の非磁性無機粉末が挙げられる。
【００１６】
非磁性層に含まれるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネスブラック、ゴム用サーマルブラック、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。比表面積は５〜６００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は３０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は１０〜１００ｎｍが好ましい。使用できるカーボンブラックは具体的には「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック協会編を参考にすることができる。
【００１７】
カーボンブラックの配合量は、下層非磁性層において５〜３０重量％、好ましくは１０〜２５重量％である。
【００１８】
非磁性層にはカーボンブラック以外の各種非磁性無機粉末を用いることができ、例えば、針状の非磁性酸化鉄（α−Ｆｅ2 Ｏ3 ）、ＣａＣＯ3 、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Ａｌ2 Ｏ3 等の無機粉末が挙げられる。
【００１９】
カーボンブラックと前記カーボンブラック以外の無機粉末の配合比率は、重量比（カーボンブラック／無機粉末）で１００／０〜５／９５が好ましい。カーボンブラックの配合比率が５重量部を下回ると、表面電気抵抗に問題が生じる。
【００２０】
本発明において、下層非磁性層用の結合剤として電子線硬化性樹脂を用いる。電子線硬化性結合剤樹脂の少なくとも一部として、例えば５０重量％以上の量で、電子線感応変性された塩化ビニル系共重合体を用いることが好ましい。
【００２１】
塩化ビニル系共重合体としては、塩化ビニル含有量６０〜９５重量％、特に６０〜９０重量％のものが好ましく、その平均重合度は１００〜５００程度であることが好ましい。特に塩化ビニルとエポキシ（グリシジル）基を含有する単量体との共重合体が好ましい。塩化ビニル系共重合体は、公知の手法により（メタ）アクリル系二重結合等を導入して電子線感応変性を行ったものである。
【００２２】
塩化ビニル系共重合体が塩化ビニルとエポキシ基含有単量体との共重合体である場合には、例えば、２−イソシアネートエチルメタクリレート（ＭＯＩ：２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート）を用いて、塩化ビニル系共重合体の側鎖に存在するエポキシ基やヒドロキシル基に、ウレタン結合を介してメタクリロイル基を導入することができる。また、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の２つのイソシアネート基のうちの１つのイソシアネート基に、ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）がヒドロキシ基を介して付加した構造のイソシアネート／アクリレート含有アダクト体（ＨＰＡ−ＩＰＤＩ）を用いて、塩化ビニル系共重合体の側鎖に存在するエポキシ基やヒドロキシル基に、ウレタン結合を介してアクリロイル基を導入することができる。
【００２３】
電子線硬化性樹脂として、上記塩化ビニル系共重合体に電子線硬化性ポリウレタン樹脂を組み合わせて用いることが好ましい。
【００２４】
上記塩化ビニル系樹脂と併用するポリウレタン樹脂とは、ポリエステルポリオール及び／又はポリエーテルポリオール等のヒドロキシ基含有樹脂とポリイソシアネート含有化合物との反応により得られる樹脂の総称であって、数平均分子量5,000 〜200,000 程度で、Ｑ値（重量平均分子量／数平均分子量）１．５〜４程度のものである。ポリウレタン樹脂は、公知の手法により（メタ）アクリル系二重結合を導入して電子線感応変性を行ったものである。
【００２５】
このような電子線硬化性樹脂の使用によって、１．０〜４．０Ｍｒａｄという比較的少ない電子線照射量で、結合剤樹脂が十分に架橋し硬化し、ゲル分率８０％以上の硬化した下層非磁性層が得られるという利点もある。ゲル分率とは、硬化した下層非磁性層において、全樹脂成分重量を基準として、溶媒に対して不溶性の樹脂の重量分率である。このゲル分率の値が高いほど、下層非磁性層の電子線硬化性結合剤樹脂の硬化ないしは架橋反応が十分である。
【００２６】
塩化ビニル系共重合体及びポリウレタン樹脂に加えて、非磁性層において全結合剤の２０重量％以下の範囲で、公知の各種樹脂が含有されてもよい。
【００２７】
本発明においては、電子線硬化性結合剤樹脂の架橋率を向上させるために、さらに架橋剤として電子線硬化性多官能モノマー、好ましくは多官能（メタ）アクリレートを用いてもよい。
【００２８】
多官能（メタ）アクリル系モノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、1,6-ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
また、多官能（メタ）アクリル系モノマーとして、次のようなジアクリレートアダクト体が好ましく用いられる。
イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の２つのイソシアネート基に、ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）がヒドロキシ基を介してそれぞれ付加した構造のジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＰＡ）、
イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の２つのイソシアネート基に、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）がヒドロキシ基を介してそれぞれ付加した構造のジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＥＡ）、
トリレン ２，４−ジイソシアネート（ＴＤＩ）の２つのイソシアネート基に、ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）がヒドロキシ基を介してそれぞれ付加した構造のジアクリレートアダクト体（ＴＤＩ−２ＨＰＡ）。
【００３０】
電子線硬化性多官能モノマーは、用いる場合には、電子線硬化性結合剤樹脂と電子線硬化性多官能モノマーの合計１００重量部に対して、１〜５０重量部、好ましくは５〜４０重量部使用するとよい。
【００３１】
下層非磁性層に用いる結合剤樹脂の含有量は、下層非磁性層中のカーボンブラックとカーボンブラック以外の前記非磁性無機粉末の合計１００重量部に対し、好ましくは１０〜１００重量部、より好ましくは１２〜３０重量部である。結合剤の含有量が少なすぎると、下層非磁性層における結合剤樹脂の比率が低下し、十分な塗膜強度が得られない。結合剤の含有量が多すぎると、テープ媒体の場合にテープ幅方向の湾曲が強く起きやすく、ヘッドとの接触が悪くなる傾向にある。
【００３２】
下層非磁性層には必要に応じて潤滑剤を含有することが好ましい。潤滑剤としては、飽和、不飽和に関わらず、ステアリン酸、ミリスチン酸等の脂肪酸、ブチルステアレート、ブチルパルミテート等の脂肪酸エステル、糖類など公知のものを、単独であるいは２種以上混合して用いることができ、融点の異なる脂肪酸を２種以上混合し用いることや、融点の異なる脂肪酸エステルを２種以上混合し用いることも好ましい。これは、磁気記録媒体の使用される、あらゆる温度環境に応じた潤滑剤を、媒体表面に持続して供給する必要があるからである。
【００３３】
下層非磁性層の潤滑剤の含有量は、目的に応じ適宜調整すればよいが、カーボンブラックとカーボンブラック以外の前記非磁性無機粉末を加えた合計重量に対し、１〜２０重量％が好ましい。
【００３４】
下層非磁性層形成用の塗料は、公知の方法で、上記各成分に有機溶剤を加えて、混合、攪拌、混練、分散等を行い調製する。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤や、トルエン等の芳香族系溶剤などの各種溶媒の１種又は２種以上を、適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、カーボンブラック、カーボンブラック以外の各種無機粉末等、及び結合剤樹脂、及び用いる場合には多官能モノマーの合計量１００重量部に対し１００〜９００重量部程度とすればよい。
【００３５】
下層非磁性層の厚さは、通常０．３〜２．５μｍ、好ましくは０．３〜２．３μｍである。非磁性層が薄すぎると、非磁性支持体の表面粗さの影響を受けやすくなり、その結果、非磁性層の表面平滑性が悪化して磁性層の表面平滑性も悪化しやすくなり、電磁変換特性が低下する傾向にある。また、光透過率が高くなるので、媒体端を光透過率の変化により検出する場合に問題となる。一方、非磁性層をある程度以上厚くしても性能は向上しない。
【００３６】
［上層磁性層］
上層磁性層は、少なくとも強磁性粉末及び結合剤樹脂を含有する。
【００３７】
本発明において、強磁性粉末としては、金属磁性粉末又は六方晶形板状微粉末を用いることが好ましい。金属磁性粉末としては、保磁力Ｈｃが１１８．５〜２３７ｋＡ／ｍ（１５００〜３０００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが１２０〜１６０Ａｍ2/ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）、平均長軸長が０．０３〜０．１μｍ、平均短軸長が１０〜２０ｎｍ、アスペクト比が１．２〜２０であることが好ましい。また、金属磁性粉末を用いて作製した媒体のＨｃは１１８．５〜２３７ｋＡ／ｍ（１５００〜３０００Ｏｅ）が好ましい。六方晶形板状微粉末としては、保磁力Ｈｃが７９〜２３７ｋＡ／ｍ（１０００〜３０００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが５０〜７０Ａｍ2/ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）、平均板粒径が３０〜８０ｎｍ、板比が３〜７であることが好ましい。また、六方晶形板状微粉末を用いて作製した媒体のＨｃは９４．８〜２３８．７ｋＡ／ｍ（１２００〜３０００Ｏｅ）が好ましい。
【００３８】
ここで、強磁性粉末の平均長軸長は、テープ片から磁性粉末を分別、採取して、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により撮影した写真から、粉末の長軸長を計ることにより求めることができる。その手順の一例を以下に示す。(1) テープ片からバックコート層を溶剤で拭き取り、除去する。(2) 非磁性支持体上に下層非磁性層と上層磁性層が残ったテープ片試料を、５％ＮａＯＨ水溶液に浸漬し、加熱、攪拌する。(3) 非磁性支持体から脱落させた塗膜を水洗し、乾燥する。(4) 乾燥された塗膜をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）中で超音波処理し、マグネットスターラーを用いて磁性粉末を吸着させて集める。(5) 残渣から磁性粉末を分離、乾燥する。(6) 専用のメッシュに(4) 及び(5) で得られた磁性粉末を採取し、ＴＥＭ用試料を作製し、ＴＥＭにて写真撮影する。(7) 写真の磁性粉末の長軸長を計って平均する（測定回数：ｎ＝１００）。
【００３９】
強磁性粉末は、磁性層を基準として７０〜９０重量％程度含まれていればよい。強磁性粉末の含有量が多すぎると、結合剤の含有量が減少するためカレンダー加工による表面平滑性が悪化しやすくなり、一方、強磁性粉末の含有量が少なすぎると、高い再生出力を得られない。
【００４０】
磁性層用の結合剤として、特に制限なく、熱可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型樹脂、放射線（電子線又は紫外線）硬化性樹脂等が、媒体の特性、工程条件に合わせて適宜組み合わせて選択されて使用される。
【００４１】
磁性層に用いる結合剤樹脂の含有量は、強磁性粉末１００重量部に対し、好ましくは５〜４０重量部、特に好ましくは１０〜３０重量部である。結合剤の含有量が少なすぎると、磁性層の強度が低下し、走行耐久性が悪化しやすくなる。一方、結合剤の含有量が多すぎると、強磁性粉末の含有量が低下するため、電磁変換特性が低下する傾向にある。
【００４２】
さらに磁性層中には、磁性層の機械的強度を高めるためと、磁気ヘッドの目詰まりを防ぐために、例えばα−アルミナ（モース硬度９）等のモース硬度６以上の研磨材を含有させる。このような研磨材は通常、不定形状であり、磁気ヘッドの目詰まりを防ぎ、塗膜の強度を向上させる。
【００４３】
研磨材の平均粒径は、例えば０．０１〜０．２μｍであり、０．０５〜０．２μｍであることが好ましい。平均粒径が大きすぎると、磁性層表面からの突出量が大きくなって、電磁変換特性の低下、ドロップアウトの増加、ヘッド摩耗量の増大等を招く。平均粒径が小さすぎると、磁性層表面からの突出量が小さくなって、ヘッド目詰まりの防止効果が不十分となる。
【００４４】
平均粒径は、通常、透過型電子顕微鏡により測定する。研磨材の含有量は、強磁性粉末１００重量部に対し、３〜２５重量部、好ましくは５〜２０重量部含有すればよい。
また、磁性層中には、必要に応じ、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００４５】
磁性層形成用の塗料は、公知の方法で、上記各成分に有機溶剤を加えて、混合、攪拌、混練、分散等を行い調製する。用いる有機溶剤は特に制限はなく、下層非磁性層に使用するものと同様のものが使用可能である。
【００４６】
磁性層の厚さは０．０３〜０．３０μｍ、更に好ましくは０．１０〜０．２５μｍとする。磁性層が厚すぎると、自己減磁損失や厚み損失が大きくなる。
【００４７】
磁性層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、好ましくは１．０〜５．０ｎｍ、より好ましくは１．０〜４．０ｎｍとする。Ｒａが１．０ｎｍ未満では表面が平滑すぎて、走行安定性が悪化して走行中のトラブルが生じやすくなる。一方、５．０ｎｍを越えると、磁性層表面が粗くなり、ＭＲ型ヘッドを用いた再生システムでは、再生出力等の電磁変換特性が劣化する。
【００４８】
［バックコート層］
バックコート層は、走行安定性の改善や磁性層の帯電防止等のために設けられることが好ましく、特に構造や組成は限定されないが、例えば、カーボンブラック、カーボンブラック以外の非磁性無機粉末、及び結合剤樹脂を含むものを用いることができる。
【００４９】
バックコート層は、バックコート層を基準として３０〜８０重量％のカーボンブラックを含有することが好ましい。
【００５０】
バックコート層には、前記カーボンブラック以外に、機械的強度をコントロールするために、各種非磁性無機粉末を用いることができ、無機粉末として例えば、α−Ｆｅ2 Ｏ3 、ＣａＣＯ3 、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Ａｌ2 Ｏ3 等を挙げることができる。
【００５１】
バックコート層形成用の塗料は、公知の方法で、上記各成分に有機溶剤を加えて、混合、攪拌、混練、分散等を行い調製する。用いる有機溶剤は特に制限はなく、下層非磁性層に使用するものと同様のものが使用可能である。
【００５２】
バックコート層の厚さ（カレンダー加工後）は、１．０μｍ以下、好ましくは０．１〜１．０μｍ、より好ましくは０．２〜０．８μｍである。
【００５３】
［非磁性支持体］
非磁性支持体として用いる材料には特に制限はなく、目的に応じて各種可撓性材料、各種剛性材料から選択し、各種規格に応じて媒体状などの所定形状及び寸法とすればよい。例えば、可撓性材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネートなどの各種樹脂が挙げられる。
【００５４】
これら非磁性支持体の厚さは３．０〜１５．０μｍであることが好ましい。非磁性支持体の形態については特に制限はなく、テープ状、シート状、カード状、ディスク状等のいずれであっても良く、形態に応じて、また必要に応じて種々の材料を選択して使用することができる。
【００５５】
［磁気記録媒体の製造］
本発明において、調製された各非磁性層形成用塗料、磁性層形成用塗料、バックコート層形成用塗料を用いて、塗布、乾燥、カレンダー、硬化等により、それぞれの塗膜（塗層）を形成し、磁気記録媒体を製造する。
【００５６】
本発明において、下層非磁性層及び上層磁性層は、いわゆるウェット・オン・ドライ塗布方式によって形成する。すなわち、まず、非磁性支持体の一方の面上に、非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、必要に応じてカレンダー処理を行い、未硬化の下層非磁性層を得る。その後、酸素濃度５００ｐｐｍ（容積基準）以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させる。次に、硬化された下層非磁性層上に磁性層用塗料を塗布、配向、乾燥して、上層磁性層を形成する。バックコート層の形成の順序は任意であり、すなわち、下層非磁性層の形成前、下層非磁性層の形成後であり上層磁性層の形成前、上層磁性層の形成後のいずれであってもよい。
【００５７】
本発明において、下層非磁性層の硬化の際の電子線照射雰囲気中の酸素濃度を５００ｐｐｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以下とする。照射雰囲気中の酸素濃度を小さくするには、窒素などの不活性ガスによるパージを行うことが好ましい。
【００５８】
電子線照射雰囲気中の酸素濃度を５００ｐｐｍ以下とすることによって、照射雰囲気中で生じる酸素ラジカルに起因する硬化反応阻害が抑制され、良好な硬化反応を行うことができ、平滑な表面で且つ強固な硬化した下層非磁性層が得られる。そして、硬化された下層非磁性層上に磁性層用塗料を塗布するので、非磁性層と磁性層の界面の乱れがなく、ディンプル状の面粗れのない表面平滑性に優れた磁性層が得られる。ディンプル状の面粗れは、下層非磁性層の硬化が不十分な場合に、その上に磁性塗料を塗布することにより発生する現象である。
【００５９】
電子線照射雰囲気中の酸素濃度を３００ｐｐｍ以下とすると、前記の硬化反応阻害がさらに抑制され、さらに良好な硬化反応を行うことができ、平滑な表面で且つより強固な硬化した下層非磁性層が得られる。そして、得られた下層非磁性層上に上層磁性層を形成するので、より強固な上層磁性層が得られる。その結果、耐久走行後においてもテープ磁性層表面にキズの発生がなく、ヘッド付着が少なく走行耐久性に優れた磁気記録媒体が得られる。この媒体は電磁変換特性にも優れている。
【００６０】
上層磁性層の塗布前に下層非磁性層のカレンダー処理を行うことにより、より表面平滑性に優れた磁性層が得られ、電磁変換特性もより向上するので好ましい。
【００６１】
下層非磁性層の硬化の際の電子線照射量は、特に限定されず、１〜１０Ｍｒａｄの範囲から選択すると良く、１．０〜４．０Ｍｒａｄの範囲から選択することが好ましい。照射量が１．０Ｍｒａｄ未満であると、硬化が不十分であり、磁性層表面の平滑性に悪影響が生じやすい。一方、照射量が１０Ｍｒａｄを超えると、硬化の点では問題はないが、照射量に応じた照射時間が必要となり、その結果、媒体の生産性の向上が望めない。より好ましくは、２．０〜３．０Ｍｒａｄの範囲の照射量とするとよい。
【００６２】
塗布方法としては、グラビアコート、リバースロールコート、ダイノズルコート、バーコート等の公知の種々の塗布手段を用いることができる。
【実施例】
【００６３】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００６４】
［非磁性塗料に用いる電子線硬化性塩化ビニル系樹脂の合成例１］
ＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体による電子線感応変性：
１リットルの三つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）４２４重量部、ジブチルスズジラウレート０．４重量部、及び２，６−tert−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）０．２４重量部を仕込み、反応混合物を６０℃に制御しながら、２−ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）３７２重量部を滴下した。滴下終了後、反応混合物を６０℃で２時間攪拌し、その後、ＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体を得た。得られたＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体の中には、ジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＰＡ）も含まれていた。
【００６５】
次に、日本ゼオン（株）製塩化ビニル系樹脂ＭＲ１１０ ６３０重量部をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）２２９１重量部に溶解し、溶解液の水分量を測定したところ、０．０３重量％であった。そこで、溶解液の水分量が０．２重量％になるように調整し、ジブチルスズジラウレート２．４５重量部及び２，６−tert−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）０．０９重量部を仕込み、７０℃で３時間攪拌後、先に得られたＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体３５２重量部を投入した。反応混合物を７０℃で１５時間攪拌した後、ＩＲスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収（２２７０ｃｍ-1）の消滅を確認した後、取出し、電子線硬化性塩化ビニル系樹脂（Ｒ１）を得た。得られた樹脂（Ｒ１）の中には、ジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＰＡ）が含まれていた。
【００６６】
［実施例１］
（非磁性塗料の調製）
顔料 針状α−ＦｅＯＯＨ ８０．０重量部
（平均長軸長：０．１μｍ、結晶子径：１２ｎｍ）
カーボンブラック ２０．０重量部
（三菱化学（株）製 商品名：＃９５０Ｂ、平均粒径：１７ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：２５０ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量：７０ｍｌ／１００ｇ、ｐＨ：８）
電子線硬化性塩化ビニル樹脂（Ｒ１） １２．０重量部
電子線硬化性ポリエステルポリウレタン樹脂 １０．０重量部
（東洋紡績（株） 商品名：ＴＢ−０２１６、（固形分）ヒドロキシ含有アクリル化合物−ホスホン酸基含有リン化合物−ヒドロキシ含有ポリエステルポリオール、平均分子量：１３，０００、Ｐ含有量：０．２％（重量百分率）、アクリル含有量：８モル／１モル）分散剤 リン酸系界面活性剤 ３．２重量部
（東邦化学工業（株）製 商品名：ＲＥ６１０）
研磨材 α−アルミナ ５．０重量部
（住友化学（株）製 商品名：ＨＩＴ６０Ａ、平均粒径：０．１８μｍ）
ＮＶ（固形分濃度）＝３３％（質量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝２／２／１（質量比）
【００６７】
上記の材料をニーダーで混練した後、０．８ｍｍのジルコニアビーズが充填率８０％（空隙率５０ｖｏｌ％）にて充填された横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、下記潤滑剤材料：
潤滑剤 脂肪酸 ０．５重量部
（日本油脂（株）製 商品名：ＮＡＡ１８０）
潤滑剤 脂肪酸アマイド ０．５重量部
（花王（株）製 商品名：脂肪酸アマイドＳ）
潤滑剤 脂肪酸エステル １．０重量部
（日光ケミカルズ（株）製 商品名：ＮＩＫＫＯＬＢＳ）
を添加して、
ＮＶ（固形分濃度）＝２５％（質量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２／２／１（質量百分率）
となるように希釈した後、分散を行った。得られた塗料をさらに絶対濾過精度３．０μｍのフィルターで濾過して、非磁性塗料を作製した。
【００６８】
（磁性塗料の調製）
磁性粉末 Ｆｅ系針状強磁性粉末 １００．０重量部
（Ｆｅ／Ｃｏ／Ａｌ／Ｙ＝１００／２４／５／８（原子比）、Ｈｃ：１８８ｋＡ／ｍ、σｓ：１４０Ａｍ2 ／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積値：５０ｍ2 ／ｇ、平均長軸長：０．１０μｍ）
バインダ樹脂 塩化ビニル共重合体 １０．０重量部
（日本ゼオン（株）製 商品名：ＭＲ１１０）
バインダ樹脂 ポリエステルポリウレタン ６．０重量部
（東洋紡績（株）製 商品名：ＵＲ８３００）
分散剤 リン酸系界面活性剤 ３．０重量部
（東邦化学工業（株）製、商品名：ＲＥ６１０）
研磨材 α−アルミナ １０．０重量部
（住友化学（株）製 商品名：ＨＩＴ６０Ａ、平均粒径：０．１８μｍ）
ＮＶ（固形分濃度）＝３０％（質量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝４／４／２（質量比）
【００６９】
上記の材料をニーダーで混練した後、前分散として、０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率５０ｖｏｌ％）にて充填した横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、
ＮＶ（固形分濃度）＝１５％（質量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２２．５／２２．５／５５（質量比）
となるように希釈してから、仕上げ分散を行った。
【００７０】
得られた塗料に硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ）１０重量部を添加混合した後、さらに絶対濾過精度１．０μｍのフィルターで濾過して、磁性塗料を作製した。
【００７１】
（バックコート塗料の調製）
カーボンブラック ７５重量部
（キャボット社製 商品名：ＢＰ−８００、平均粒径１７ｎｍ、ＤＢＰ吸油量６８ｍｌ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積値２１０ｍ2 ／ｇ）
カーボンブラック １０重量部
（キャボット社製 商品名：ＢＰ−１３０、平均粒径７５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量６９ｍｌ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積値２５ｍ2 ／ｇ）
炭酸カルシウム １５重量部
（白石工業（株）製 白艶華Ｏ、平均粒径３０ｎｍ）
ニトロセルロース ６５重量部
（旭化成工業（株）製 商品名：ＢＴＨ１／２）
ポリウレタン樹脂 ３５重量部
（脂肪族ポリエステルジオール／芳香族ポリエステルジオール＝４３／５３）
ＮＶ（固形分濃度）＝３０％（重量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝１／１／１（重量比）
上記の材料を有機溶剤の一部を除いた状態でニーダーで混練した。次いで、残りの有機溶剤を添加してディゾルバにて十分に攪拌した後、０．８ｍｍのジルコニアビーズが充填率８０％（空隙率５０ｖｏｌ％）にて充填された横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、
ＮＶ（固形分濃度）＝１０％（重量百分率）
溶剤比 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝５／４／１（重量比）
となるように希釈して、分散を行った。このようにして得られた塗料に硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製 商品名：コロネートＬ）５重量部を添加混合して、さらに、絶対濾過精度１．０μｍのフィルターで濾過して、バックコート塗料を作製した。
【００７２】
得られた磁性塗料、非磁性塗料及びバックコート塗料を用いて、下記のように磁気記録テープサンプルを作製した。
【００７３】
（非磁性層形成工程）
１００ｍｍ幅、６．２μｍ厚のＰＥＴ支持体の片面上に、カレンダー加工後の厚みが２．０μｍになるように、非磁性塗料をノズルにより押し出し塗布法で塗布して、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍ、速度１６０ｍ／分で加工を行い、さらに、酸素濃度５０容積ｐｐｍの雰囲気下において、照射線量３．０Ｍｒａｄ、加速電圧２００ｋＶ−１８ｍＡにて電子線照射を行い、下層非磁性層を形成した。酸素濃度の調整は、雰囲気中に窒素ガスを１８．０Ｎｍ3 ／ｈｒの流量でパージすることにより行った。
【００７４】
（磁性層形成工程）
上記のようにして形成した非磁性層上に、磁性塗料を、加工後の厚みが０．１μｍになるようにノズルで塗布して、配向を行い、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍ、速度１６０ｍ／分で加工を行い、上層磁性層を形成した。
【００７５】
（バックコート層形成工程）
さらに、前記ＰＥＴ支持体の他面上に、バックコート塗料を、加工後の厚みが０．６μｍとなるようにノズルで塗布し、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度９０℃、線圧２０００Ｎ／ｃｍ、速度１６０ｍ／分で加工を行い、バックコート層を形成した。
【００７６】
以上のようにして得られた磁気記録テープ原反を、６０℃で４８時間熱硬化させて、１／２ｉｎｃｈ（＝１２．６５０ｍｍ）幅にスリット（裁断）し、実施例１の磁気記録テープサンプルとしてのデータ用テープを作製した。
【００７７】
［実施例２〜５及び比較例１〜２］
表１に示すように、窒素ガスの流量を変化させることにより、電子線照射雰囲気中の酸素濃度を変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気記録テープサンプルをそれぞれ作製した。
【００７８】
［磁気テープの評価］
各磁気記録テープサンプルについて、次の評価を行った。
【００７９】
（テープ表面の観察）
テープの磁性層表面を、微分干渉光学顕微鏡を用いて、倍率１００倍及び倍率２００倍でそれぞれ観察した。表１に、観察面にディンプル状の面粗れが認められなかったものを○とし、ディンプル状の面粗れが認められたものを×として示した。
ディンプル状の面粗れは、下層非磁性層の硬化が不十分な場合に、その上に磁性塗料を塗布することにより発生する現象である。
【００８０】
（走行耐久性）
１／２ｉｎｃｈ幅にスリットされた各磁気記録テープサンプルから、ＤＬＴIVカートリッジをそれぞれ作製した。
カートリッジを、４０℃、８０％ＲＨの環境下で４８時間にわたって、Ｑｕａｎｔｕｍ社製ＤＬＴ−７０００ドライブで信号のリード／ライトの繰り返し走行をさせた。走行後のヘッドを光学顕微鏡を用いて、倍率５０倍で観察し、ヘッドへの付着物（すなわち、塗膜削れ物）を調べた。
○：付着物は認められなかった。
△＋：少量の付着物は認められたが、実用上問題とはならないレベルであった。
△−：付着物が認められ、実用上問題となるレベルであった。
【００８１】
以上の結果を表１に示す。
表１から、実施例１〜５のテープサンプルはいずれも、テープの磁性層表面にディンプル状面粗れが認められず、平滑であった。実施例１〜３のテープサンプルは、走行耐久性にも非常に優れていた。
【００８２】
比較例１〜２のテープサンプルは、下層非磁性層の硬化が不十分でありディンプル状の面粗れが認められた。
【００８３】
【表１】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、特に表面平滑性及び走行耐久性に優れる磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、磁気記録媒体は、非磁性支持体の一方の面上に磁性層を有し、前記非磁性支持体の他方の面上に走行耐久性向上等のためにバックコート層を有する。
【０００３】
近年、記録データ量の増大に対応すべく、磁気記録媒体の高密度記録化が求められている。高密度記録化のために記録波長が短波長化され、磁性層が薄膜化されている。磁性層が薄膜化されると、磁性層表面に支持体の表面粗さが反映して磁性層表面の平滑性が損なわれ、電磁変換特性が悪化する。このため、支持体表面に例えば下塗り層としての非磁性層を設け、これを介して磁性層が設けられる。
【０００４】
記録波長の短波長化に伴い、スペーシングロスの観点から、磁性層表面はより平滑であることが要求され、そのために下塗り層としての非磁性層表面もより平滑であることが要求される。
【０００５】
また、磁気記録媒体には、走行耐久性が要求される。磁性層表面の走行耐久性を確保するために、非磁性層表面の平滑性に加え、非磁性層の強靱さが要求される。
【０００６】
前記非磁性層は、通常、非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥することによって形成される。非磁性層用の結合剤としては、従来、熱硬化性樹脂が多く用いられていた。近年、より強靱な塗膜を得るために、電子線硬化性樹脂を用いて非磁性層用を形成することが知られている。
【０００７】
例えば、特開２０００−１１３５３号公報には、磁気記録媒体の製造について、電子線硬化性結合剤樹脂を含む非磁性層用塗料を非磁性支持体上に塗布、乾燥し、下層非磁性層に電子線照射を行い、その後、下層非磁性層上に磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することが開示されている。同公報第９カラム４行〜８行には、「ＥＢ照射量は１〜１０Ｍｒａｄが良く、さらに３〜１０Ｍｒａｄが好ましい。３Ｍｒａｄ未満だと上層磁性層の塗布面の安定性に欠き、１０Ｍｒａｄ超照射しても媒体物性に差がでなくなるので必要ない。」と記載されている。
【０００８】
特開２００４−６３０４９号公報には、放射線硬化性結合剤樹脂として特定の放射線硬化性ポリウレタン樹脂を含む非磁性層を有する磁気記録媒体が開示されている。同公報段落番号[0029]には、放射線として電子線が好ましく、電子線照射量は１〜１０Ｍｒａｄが好ましく、３〜７Ｍｒａｄがより好ましいことが開示されている。
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−１１３５３号公報
【特許文献２】特開２００４−６３０４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、より小さい酸素濃度雰囲気下において電子線照射を行い非磁性層を硬化させることにより、表面平滑性及び走行耐久性に優れる磁気記録媒体を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明には、以下の発明が含まれる。
（１） 非磁性支持体と、非磁性支持体上の下層非磁性層と、下層非磁性層上の上層磁性層とを少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、
非磁性支持体上に、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、未硬化の下層非磁性層を形成し、
酸素濃度５００ｐｐｍ（容積基準）以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させ、
硬化した下層非磁性層上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤樹脂とを含む磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することを含む、磁気記録媒体の製造方法。
【００１２】
（２） 酸素濃度３００ｐｐｍ（容積基準）以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行う、（１）に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、電子線硬化性結合剤樹脂を含む非磁性層用塗料を用いて、５００ｐｐｍ以下の酸素濃度雰囲気下において電子線照射を行い下層非磁性層を硬化させる。電子線照射雰囲気中の酸素濃度を５００ｐｐｍ以下とすることによって、照射雰囲気中で生じる酸素ラジカルに起因する硬化反応阻害が抑制され、良好な硬化反応を行うことができ、平滑な表面で且つ強固な下層非磁性層が得られる。その後、平滑な表面の下層非磁性層上に上層磁性層を形成するので、平滑な表面で且つ強固な上層磁性層が得られる。その結果、本発明により製造された磁気記録媒体は、表面平滑性に優れ、且つ耐久走行後のヘッド付着が少なく走行耐久性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明で製造される磁気記録媒体の例としては、非磁性支持体の一方の面上に厚み０．３〜２．５μｍの下層非磁性層が設けられ、下層非磁性層上に厚み０．０３〜０．３０μｍの上層磁性層が設けられ、必要に応じて非磁性支持体の他方の面上にバックコート層が設けられている。なお、本発明では、上層磁性層上に潤滑剤塗膜や磁性層保護用の各種塗膜などが必要に応じて設けられてもよい。また、非磁性支持体の磁性層が設けられる前記一方の面には、塗膜と非磁性支持体との接着性の向上等を目的として、下塗り層（易接着層）が設けられてもよい。
【００１５】
［下層非磁性層］
下層非磁性層は、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂とを含む非磁性層用塗料を用いて形成される。非磁性粉末としては、カーボンブラック、カーボンブラック以外の非磁性無機粉末が挙げられる。
【００１６】
非磁性層に含まれるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネスブラック、ゴム用サーマルブラック、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。比表面積は５〜６００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は３０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は１０〜１００ｎｍが好ましい。使用できるカーボンブラックは具体的には「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック協会編を参考にすることができる。
【００１７】
カーボンブラックの配合量は、下層非磁性層において５〜３０重量％、好ましくは１０〜２５重量％である。
【００１８】
非磁性層にはカーボンブラック以外の各種非磁性無機粉末を用いることができ、例えば、針状の非磁性酸化鉄（α−Ｆｅ2 Ｏ3 ）、ＣａＣＯ3 、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Ａｌ2 Ｏ3 等の無機粉末が挙げられる。
【００１９】
カーボンブラックと前記カーボンブラック以外の無機粉末の配合比率は、重量比（カーボンブラック／無機粉末）で１００／０〜５／９５が好ましい。カーボンブラックの配合比率が５重量部を下回ると、表面電気抵抗に問題が生じる。
【００２０】
本発明において、下層非磁性層用の結合剤として電子線硬化性樹脂を用いる。電子線硬化性結合剤樹脂の少なくとも一部として、例えば５０重量％以上の量で、電子線感応変性された塩化ビニル系共重合体を用いることが好ましい。
【００２１】
塩化ビニル系共重合体としては、塩化ビニル含有量６０〜９５重量％、特に６０〜９０重量％のものが好ましく、その平均重合度は１００〜５００程度であることが好ましい。特に塩化ビニルとエポキシ（グリシジル）基を含有する単量体との共重合体が好ましい。塩化ビニル系共重合体は、公知の手法により（メタ）アクリル系二重結合等を導入して電子線感応変性を行ったものである。
【００２２】
塩化ビニル系共重合体が塩化ビニルとエポキシ基含有単量体との共重合体である場合には、例えば、２−イソシアネートエチルメタクリレート（ＭＯＩ：２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート）を用いて、塩化ビニル系共重合体の側鎖に存在するエポキシ基やヒドロキシル基に、ウレタン結合を介してメタクリロイル基を導入することができる。また、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の２つのイソシアネート基のうちの１つのイソシアネート基に、ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）がヒドロキシ基を介して付加した構造のイソシアネート／アクリレート含有アダクト体（ＨＰＡ−ＩＰＤＩ）を用いて、塩化ビニル系共重合体の側鎖に存在するエポキシ基やヒドロキシル基に、ウレタン結合を介してアクリロイル基を導入することができる。
【００２３】
電子線硬化性樹脂として、上記塩化ビニル系共重合体に電子線硬化性ポリウレタン樹脂を組み合わせて用いることが好ましい。
【００２４】
上記塩化ビニル系樹脂と併用するポリウレタン樹脂とは、ポリエステルポリオール及び／又はポリエーテルポリオール等のヒドロキシ基含有樹脂とポリイソシアネート含有化合物との反応により得られる樹脂の総称であって、数平均分子量5,000 〜200,000 程度で、Ｑ値（重量平均分子量／数平均分子量）１．５〜４程度のものである。ポリウレタン樹脂は、公知の手法により（メタ）アクリル系二重結合を導入して電子線感応変性を行ったものである。
【００２５】
このような電子線硬化性樹脂の使用によって、１．０〜４．０Ｍｒａｄという比較的少ない電子線照射量で、結合剤樹脂が十分に架橋し硬化し、ゲル分率８０％以上の硬化した下層非磁性層が得られるという利点もある。ゲル分率とは、硬化した下層非磁性層において、全樹脂成分重量を基準として、溶媒に対して不溶性の樹脂の重量分率である。このゲル分率の値が高いほど、下層非磁性層の電子線硬化性結合剤樹脂の硬化ないしは架橋反応が十分である。
【００２６】
塩化ビニル系共重合体及びポリウレタン樹脂に加えて、非磁性層において全結合剤の２０重量％以下の範囲で、公知の各種樹脂が含有されてもよい。
【００２７】
本発明においては、電子線硬化性結合剤樹脂の架橋率を向上させるために、さらに架橋剤として電子線硬化性多官能モノマー、好ましくは多官能（メタ）アクリレートを用いてもよい。
【００２８】
多官能（メタ）アクリル系モノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、1,6-ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２９】
また、多官能（メタ）アクリル系モノマーとして、次のようなジアクリレートアダクト体が好ましく用いられる。
イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の２つのイソシアネート基に、ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）がヒドロキシ基を介してそれぞれ付加した構造のジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＰＡ）、
イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）の２つのイソシアネート基に、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）がヒドロキシ基を介してそれぞれ付加した構造のジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＥＡ）、
トリレン ２，４−ジイソシアネート（ＴＤＩ）の２つのイソシアネート基に、ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）がヒドロキシ基を介してそれぞれ付加した構造のジアクリレートアダクト体（ＴＤＩ−２ＨＰＡ）。
【００３０】
電子線硬化性多官能モノマーは、用いる場合には、電子線硬化性結合剤樹脂と電子線硬化性多官能モノマーの合計１００重量部に対して、１〜５０重量部、好ましくは５〜４０重量部使用するとよい。
【００３１】
下層非磁性層に用いる結合剤樹脂の含有量は、下層非磁性層中のカーボンブラックとカーボンブラック以外の前記非磁性無機粉末の合計１００重量部に対し、好ましくは１０〜１００重量部、より好ましくは１２〜３０重量部である。結合剤の含有量が少なすぎると、下層非磁性層における結合剤樹脂の比率が低下し、十分な塗膜強度が得られない。結合剤の含有量が多すぎると、テープ媒体の場合にテープ幅方向の湾曲が強く起きやすく、ヘッドとの接触が悪くなる傾向にある。
【００３２】
下層非磁性層には必要に応じて潤滑剤を含有することが好ましい。潤滑剤としては、飽和、不飽和に関わらず、ステアリン酸、ミリスチン酸等の脂肪酸、ブチルステアレート、ブチルパルミテート等の脂肪酸エステル、糖類など公知のものを、単独であるいは２種以上混合して用いることができ、融点の異なる脂肪酸を２種以上混合し用いることや、融点の異なる脂肪酸エステルを２種以上混合し用いることも好ましい。これは、磁気記録媒体の使用される、あらゆる温度環境に応じた潤滑剤を、媒体表面に持続して供給する必要があるからである。
【００３３】
下層非磁性層の潤滑剤の含有量は、目的に応じ適宜調整すればよいが、カーボンブラックとカーボンブラック以外の前記非磁性無機粉末を加えた合計重量に対し、１〜２０重量％が好ましい。
【００３４】
下層非磁性層形成用の塗料は、公知の方法で、上記各成分に有機溶剤を加えて、混合、攪拌、混練、分散等を行い調製する。用いる有機溶剤は特に制限はなく、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤や、トルエン等の芳香族系溶剤などの各種溶媒の１種又は２種以上を、適宜選択して用いればよい。有機溶剤の添加量は、カーボンブラック、カーボンブラック以外の各種無機粉末等、及び結合剤樹脂、及び用いる場合には多官能モノマーの合計量１００重量部に対し１００〜９００重量部程度とすればよい。
【００３５】
下層非磁性層の厚さは、通常０．３〜２．５μｍ、好ましくは０．３〜２．３μｍである。非磁性層が薄すぎると、非磁性支持体の表面粗さの影響を受けやすくなり、その結果、非磁性層の表面平滑性が悪化して磁性層の表面平滑性も悪化しやすくなり、電磁変換特性が低下する傾向にある。また、光透過率が高くなるので、媒体端を光透過率の変化により検出する場合に問題となる。一方、非磁性層をある程度以上厚くしても性能は向上しない。
【００３６】
［上層磁性層］
上層磁性層は、少なくとも強磁性粉末及び結合剤樹脂を含有する。
【００３７】
本発明において、強磁性粉末としては、金属磁性粉末又は六方晶形板状微粉末を用いることが好ましい。金属磁性粉末としては、保磁力Ｈｃが１１８．５〜２３７ｋＡ／ｍ（１５００〜３０００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが１２０〜１６０Ａｍ2/ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）、平均長軸長が０．０３〜０．１μｍ、平均短軸長が１０〜２０ｎｍ、アスペクト比が１．２〜２０であることが好ましい。また、金属磁性粉末を用いて作製した媒体のＨｃは１１８．５〜２３７ｋＡ／ｍ（１５００〜３０００Ｏｅ）が好ましい。六方晶形板状微粉末としては、保磁力Ｈｃが７９〜２３７ｋＡ／ｍ（１０００〜３０００Ｏｅ）、飽和磁化σｓが５０〜７０Ａｍ2/ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）、平均板粒径が３０〜８０ｎｍ、板比が３〜７であることが好ましい。また、六方晶形板状微粉末を用いて作製した媒体のＨｃは９４．８〜２３８．７ｋＡ／ｍ（１２００〜３０００Ｏｅ）が好ましい。
【００３８】
ここで、強磁性粉末の平均長軸長は、テープ片から磁性粉末を分別、採取して、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により撮影した写真から、粉末の長軸長を計ることにより求めることができる。その手順の一例を以下に示す。(1) テープ片からバックコート層を溶剤で拭き取り、除去する。(2) 非磁性支持体上に下層非磁性層と上層磁性層が残ったテープ片試料を、５％ＮａＯＨ水溶液に浸漬し、加熱、攪拌する。(3) 非磁性支持体から脱落させた塗膜を水洗し、乾燥する。(4) 乾燥された塗膜をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）中で超音波処理し、マグネットスターラーを用いて磁性粉末を吸着させて集める。(5) 残渣から磁性粉末を分離、乾燥する。(6) 専用のメッシュに(4) 及び(5) で得られた磁性粉末を採取し、ＴＥＭ用試料を作製し、ＴＥＭにて写真撮影する。(7) 写真の磁性粉末の長軸長を計って平均する（測定回数：ｎ＝１００）。
【００３９】
強磁性粉末は、磁性層を基準として７０〜９０重量％程度含まれていればよい。強磁性粉末の含有量が多すぎると、結合剤の含有量が減少するためカレンダー加工による表面平滑性が悪化しやすくなり、一方、強磁性粉末の含有量が少なすぎると、高い再生出力を得られない。
【００４０】
磁性層用の結合剤として、特に制限なく、熱可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型樹脂、放射線（電子線又は紫外線）硬化性樹脂等が、媒体の特性、工程条件に合わせて適宜組み合わせて選択されて使用される。
【００４１】
磁性層に用いる結合剤樹脂の含有量は、強磁性粉末１００重量部に対し、好ましくは５〜４０重量部、特に好ましくは１０〜３０重量部である。結合剤の含有量が少なすぎると、磁性層の強度が低下し、走行耐久性が悪化しやすくなる。一方、結合剤の含有量が多すぎると、強磁性粉末の含有量が低下するため、電磁変換特性が低下する傾向にある。
【００４２】
さらに磁性層中には、磁性層の機械的強度を高めるためと、磁気ヘッドの目詰まりを防ぐために、例えばα−アルミナ（モース硬度９）等のモース硬度６以上の研磨材を含有させる。このような研磨材は通常、不定形状であり、磁気ヘッドの目詰まりを防ぎ、塗膜の強度を向上させる。
【００４３】
研磨材の平均粒径は、例えば０．０１〜０．２μｍであり、０．０５〜０．２μｍであることが好ましい。平均粒径が大きすぎると、磁性層表面からの突出量が大きくなって、電磁変換特性の低下、ドロップアウトの増加、ヘッド摩耗量の増大等を招く。平均粒径が小さすぎると、磁性層表面からの突出量が小さくなって、ヘッド目詰まりの防止効果が不十分となる。
【００４４】
平均粒径は、通常、透過型電子顕微鏡により測定する。研磨材の含有量は、強磁性粉末１００重量部に対し、３〜２５重量部、好ましくは５〜２０重量部含有すればよい。
また、磁性層中には、必要に応じ、界面活性剤等の分散剤、高級脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００４５】
磁性層形成用の塗料は、公知の方法で、上記各成分に有機溶剤を加えて、混合、攪拌、混練、分散等を行い調製する。用いる有機溶剤は特に制限はなく、下層非磁性層に使用するものと同様のものが使用可能である。
【００４６】
磁性層の厚さは０．０３〜０．３０μｍ、更に好ましくは０．１０〜０．２５μｍとする。磁性層が厚すぎると、自己減磁損失や厚み損失が大きくなる。
【００４７】
磁性層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、好ましくは１．０〜５．０ｎｍ、より好ましくは１．０〜４．０ｎｍとする。Ｒａが１．０ｎｍ未満では表面が平滑すぎて、走行安定性が悪化して走行中のトラブルが生じやすくなる。一方、５．０ｎｍを越えると、磁性層表面が粗くなり、ＭＲ型ヘッドを用いた再生システムでは、再生出力等の電磁変換特性が劣化する。
【００４８】
［バックコート層］
バックコート層は、走行安定性の改善や磁性層の帯電防止等のために設けられることが好ましく、特に構造や組成は限定されないが、例えば、カーボンブラック、カーボンブラック以外の非磁性無機粉末、及び結合剤樹脂を含むものを用いることができる。
【００４９】
バックコート層は、バックコート層を基準として３０〜８０重量％のカーボンブラックを含有することが好ましい。
【００５０】
バックコート層には、前記カーボンブラック以外に、機械的強度をコントロールするために、各種非磁性無機粉末を用いることができ、無機粉末として例えば、α−Ｆｅ2 Ｏ3 、ＣａＣＯ3 、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Ａｌ2 Ｏ3 等を挙げることができる。
【００５１】
バックコート層形成用の塗料は、公知の方法で、上記各成分に有機溶剤を加えて、混合、攪拌、混練、分散等を行い調製する。用いる有機溶剤は特に制限はなく、下層非磁性層に使用するものと同様のものが使用可能である。
【００５２】
バックコート層の厚さ（カレンダー加工後）は、１．０μｍ以下、好ましくは０．１〜１．０μｍ、より好ましくは０．２〜０．８μｍである。
【００５３】
［非磁性支持体］
非磁性支持体として用いる材料には特に制限はなく、目的に応じて各種可撓性材料、各種剛性材料から選択し、各種規格に応じて媒体状などの所定形状及び寸法とすればよい。例えば、可撓性材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネートなどの各種樹脂が挙げられる。
【００５４】
これら非磁性支持体の厚さは３．０〜１５．０μｍであることが好ましい。非磁性支持体の形態については特に制限はなく、テープ状、シート状、カード状、ディスク状等のいずれであっても良く、形態に応じて、また必要に応じて種々の材料を選択して使用することができる。
【００５５】
［磁気記録媒体の製造］
本発明において、調製された各非磁性層形成用塗料、磁性層形成用塗料、バックコート層形成用塗料を用いて、塗布、乾燥、カレンダー、硬化等により、それぞれの塗膜（塗層）を形成し、磁気記録媒体を製造する。
【００５６】
本発明において、下層非磁性層及び上層磁性層は、いわゆるウェット・オン・ドライ塗布方式によって形成する。すなわち、まず、非磁性支持体の一方の面上に、非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、必要に応じてカレンダー処理を行い、未硬化の下層非磁性層を得る。その後、酸素濃度５００ｐｐｍ（容積基準）以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させる。次に、硬化された下層非磁性層上に磁性層用塗料を塗布、配向、乾燥して、上層磁性層を形成する。バックコート層の形成の順序は任意であり、すなわち、下層非磁性層の形成前、下層非磁性層の形成後であり上層磁性層の形成前、上層磁性層の形成後のいずれであってもよい。
【００５７】
本発明において、下層非磁性層の硬化の際の電子線照射雰囲気中の酸素濃度を５００ｐｐｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以下とする。照射雰囲気中の酸素濃度を小さくするには、窒素などの不活性ガスによるパージを行うことが好ましい。
【００５８】
電子線照射雰囲気中の酸素濃度を５００ｐｐｍ以下とすることによって、照射雰囲気中で生じる酸素ラジカルに起因する硬化反応阻害が抑制され、良好な硬化反応を行うことができ、平滑な表面で且つ強固な硬化した下層非磁性層が得られる。そして、硬化された下層非磁性層上に磁性層用塗料を塗布するので、非磁性層と磁性層の界面の乱れがなく、ディンプル状の面粗れのない表面平滑性に優れた磁性層が得られる。ディンプル状の面粗れは、下層非磁性層の硬化が不十分な場合に、その上に磁性塗料を塗布することにより発生する現象である。
【００５９】
電子線照射雰囲気中の酸素濃度を３００ｐｐｍ以下とすると、前記の硬化反応阻害がさらに抑制され、さらに良好な硬化反応を行うことができ、平滑な表面で且つより強固な硬化した下層非磁性層が得られる。そして、得られた下層非磁性層上に上層磁性層を形成するので、より強固な上層磁性層が得られる。その結果、耐久走行後においてもテープ磁性層表面にキズの発生がなく、ヘッド付着が少なく走行耐久性に優れた磁気記録媒体が得られる。この媒体は電磁変換特性にも優れている。
【００６０】
上層磁性層の塗布前に下層非磁性層のカレンダー処理を行うことにより、より表面平滑性に優れた磁性層が得られ、電磁変換特性もより向上するので好ましい。
【００６１】
下層非磁性層の硬化の際の電子線照射量は、特に限定されず、１〜１０Ｍｒａｄの範囲から選択すると良く、１．０〜４．０Ｍｒａｄの範囲から選択することが好ましい。照射量が１．０Ｍｒａｄ未満であると、硬化が不十分であり、磁性層表面の平滑性に悪影響が生じやすい。一方、照射量が１０Ｍｒａｄを超えると、硬化の点では問題はないが、照射量に応じた照射時間が必要となり、その結果、媒体の生産性の向上が望めない。より好ましくは、２．０〜３．０Ｍｒａｄの範囲の照射量とするとよい。
【００６２】
塗布方法としては、グラビアコート、リバースロールコート、ダイノズルコート、バーコート等の公知の種々の塗布手段を用いることができる。
【実施例】
【００６３】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００６４】
［非磁性塗料に用いる電子線硬化性塩化ビニル系樹脂の合成例１］
ＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体による電子線感応変性：
１リットルの三つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）４２４重量部、ジブチルスズジラウレート０．４重量部、及び２，６−tert−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）０．２４重量部を仕込み、反応混合物を６０℃に制御しながら、２−ヒドロキシプロピルアクリレート（ＨＰＡ）３７２重量部を滴下した。滴下終了後、反応混合物を６０℃で２時間攪拌し、その後、ＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体を得た。得られたＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体の中には、ジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＰＡ）も含まれていた。
【００６５】
次に、日本ゼオン（株）製塩化ビニル系樹脂ＭＲ１１０ ６３０重量部をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）２２９１重量部に溶解し、溶解液の水分量を測定したところ、０．０３重量％であった。そこで、溶解液の水分量が０．２重量％になるように調整し、ジブチルスズジラウレート２．４５重量部及び２，６−tert−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）０．０９重量部を仕込み、７０℃で３時間攪拌後、先に得られたＩＰＤＩ−ＨＰＡアダクト体３５２重量部を投入した。反応混合物を７０℃で１５時間攪拌した後、ＩＲスペクトルにおいてイソシアネート基の特性吸収（２２７０ｃｍ-1）の消滅を確認した後、取出し、電子線硬化性塩化ビニル系樹脂（Ｒ１）を得た。得られた樹脂（Ｒ１）の中には、ジアクリレートアダクト体（ＩＰＤＩ−２ＨＰＡ）が含まれていた。
【００６６】
［実施例１］
（非磁性塗料の調製）
顔料 針状α−ＦｅＯＯＨ ８０．０重量部
（平均長軸長：０．１μｍ、結晶子径：１２ｎｍ）
カーボンブラック ２０．０重量部
（三菱化学（株）製 商品名：＃９５０Ｂ、平均粒径：１７ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：２５０ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量：７０ｍｌ／１００ｇ、ｐＨ：８）
電子線硬化性塩化ビニル樹脂（Ｒ１） １２．０重量部
電子線硬化性ポリエステルポリウレタン樹脂 １０．０重量部
（東洋紡績（株） 商品名：ＴＢ−０２１６、（固形分）ヒドロキシ含有アクリル化合物−ホスホン酸基含有リン化合物−ヒドロキシ含有ポリエステルポリオール、平均分子量：１３，０００、Ｐ含有量：０．２％（重量百分率）、アクリル含有量：８モル／１モル）分散剤 リン酸系界面活性剤 ３．２重量部
（東邦化学工業（株）製 商品名：ＲＥ６１０）
研磨材 α−アルミナ ５．０重量部
（住友化学（株）製 商品名：ＨＩＴ６０Ａ、平均粒径：０．１８μｍ）
ＮＶ（固形分濃度）＝３３％（質量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝２／２／１（質量比）
【００６７】
上記の材料をニーダーで混練した後、０．８ｍｍのジルコニアビーズが充填率８０％（空隙率５０ｖｏｌ％）にて充填された横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、下記潤滑剤材料：
潤滑剤 脂肪酸 ０．５重量部
（日本油脂（株）製 商品名：ＮＡＡ１８０）
潤滑剤 脂肪酸アマイド ０．５重量部
（花王（株）製 商品名：脂肪酸アマイドＳ）
潤滑剤 脂肪酸エステル １．０重量部
（日光ケミカルズ（株）製 商品名：ＮＩＫＫＯＬＢＳ）
を添加して、
ＮＶ（固形分濃度）＝２５％（質量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２／２／１（質量百分率）
となるように希釈した後、分散を行った。得られた塗料をさらに絶対濾過精度３．０μｍのフィルターで濾過して、非磁性塗料を作製した。
【００６８】
（磁性塗料の調製）
磁性粉末 Ｆｅ系針状強磁性粉末 １００．０重量部
（Ｆｅ／Ｃｏ／Ａｌ／Ｙ＝１００／２４／５／８（原子比）、Ｈｃ：１８８ｋＡ／ｍ、σｓ：１４０Ａｍ2 ／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積値：５０ｍ2 ／ｇ、平均長軸長：０．１０μｍ）
バインダ樹脂 塩化ビニル共重合体 １０．０重量部
（日本ゼオン（株）製 商品名：ＭＲ１１０）
バインダ樹脂 ポリエステルポリウレタン ６．０重量部
（東洋紡績（株）製 商品名：ＵＲ８３００）
分散剤 リン酸系界面活性剤 ３．０重量部
（東邦化学工業（株）製、商品名：ＲＥ６１０）
研磨材 α−アルミナ １０．０重量部
（住友化学（株）製 商品名：ＨＩＴ６０Ａ、平均粒径：０．１８μｍ）
ＮＶ（固形分濃度）＝３０％（質量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝４／４／２（質量比）
【００６９】
上記の材料をニーダーで混練した後、前分散として、０．８ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％（空隙率５０ｖｏｌ％）にて充填した横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、
ＮＶ（固形分濃度）＝１５％（質量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝２２．５／２２．５／５５（質量比）
となるように希釈してから、仕上げ分散を行った。
【００７０】
得られた塗料に硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ）１０重量部を添加混合した後、さらに絶対濾過精度１．０μｍのフィルターで濾過して、磁性塗料を作製した。
【００７１】
（バックコート塗料の調製）
カーボンブラック ７５重量部
（キャボット社製 商品名：ＢＰ−８００、平均粒径１７ｎｍ、ＤＢＰ吸油量６８ｍｌ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積値２１０ｍ2 ／ｇ）
カーボンブラック １０重量部
（キャボット社製 商品名：ＢＰ−１３０、平均粒径７５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量６９ｍｌ／１００ｇ、ＢＥＴ比表面積値２５ｍ2 ／ｇ）
炭酸カルシウム １５重量部
（白石工業（株）製 白艶華Ｏ、平均粒径３０ｎｍ）
ニトロセルロース ６５重量部
（旭化成工業（株）製 商品名：ＢＴＨ１／２）
ポリウレタン樹脂 ３５重量部
（脂肪族ポリエステルジオール／芳香族ポリエステルジオール＝４３／５３）
ＮＶ（固形分濃度）＝３０％（重量百分率）
溶剤比率 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサノン＝１／１／１（重量比）
上記の材料を有機溶剤の一部を除いた状態でニーダーで混練した。次いで、残りの有機溶剤を添加してディゾルバにて十分に攪拌した後、０．８ｍｍのジルコニアビーズが充填率８０％（空隙率５０ｖｏｌ％）にて充填された横型のピンミルにて分散した。その後、さらに、
ＮＶ（固形分濃度）＝１０％（重量百分率）
溶剤比 ＭＥＫ／トルエン／シクロヘキサン＝５／４／１（重量比）
となるように希釈して、分散を行った。このようにして得られた塗料に硬化剤（日本ポリウレタン工業（株）製 商品名：コロネートＬ）５重量部を添加混合して、さらに、絶対濾過精度１．０μｍのフィルターで濾過して、バックコート塗料を作製した。
【００７２】
得られた磁性塗料、非磁性塗料及びバックコート塗料を用いて、下記のように磁気記録テープサンプルを作製した。
【００７３】
（非磁性層形成工程）
１００ｍｍ幅、６．２μｍ厚のＰＥＴ支持体の片面上に、カレンダー加工後の厚みが２．０μｍになるように、非磁性塗料をノズルにより押し出し塗布法で塗布して、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍ、速度１６０ｍ／分で加工を行い、さらに、酸素濃度５０容積ｐｐｍの雰囲気下において、照射線量３．０Ｍｒａｄ、加速電圧２００ｋＶ−１８ｍＡにて電子線照射を行い、下層非磁性層を形成した。酸素濃度の調整は、雰囲気中に窒素ガスを１８．０Ｎｍ3 ／ｈｒの流量でパージすることにより行った。
【００７４】
（磁性層形成工程）
上記のようにして形成した非磁性層上に、磁性塗料を、加工後の厚みが０．１μｍになるようにノズルで塗布して、配向を行い、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度１００℃、線圧３５００Ｎ／ｃｍ、速度１６０ｍ／分で加工を行い、上層磁性層を形成した。
【００７５】
（バックコート層形成工程）
さらに、前記ＰＥＴ支持体の他面上に、バックコート塗料を、加工後の厚みが０．６μｍとなるようにノズルで塗布し、乾燥した。その後、プラスチックロールと金属ロールとを組み合わせたカレンダーにて、ニップ数４回、加工温度９０℃、線圧２０００Ｎ／ｃｍ、速度１６０ｍ／分で加工を行い、バックコート層を形成した。
【００７６】
以上のようにして得られた磁気記録テープ原反を、６０℃で４８時間熱硬化させて、１／２ｉｎｃｈ（＝１２．６５０ｍｍ）幅にスリット（裁断）し、実施例１の磁気記録テープサンプルとしてのデータ用テープを作製した。
【００７７】
［実施例２〜５及び比較例１〜２］
表１に示すように、窒素ガスの流量を変化させることにより、電子線照射雰囲気中の酸素濃度を変更した以外は、実施例１と同様にして、磁気記録テープサンプルをそれぞれ作製した。
【００７８】
［磁気テープの評価］
各磁気記録テープサンプルについて、次の評価を行った。
【００７９】
（テープ表面の観察）
テープの磁性層表面を、微分干渉光学顕微鏡を用いて、倍率１００倍及び倍率２００倍でそれぞれ観察した。表１に、観察面にディンプル状の面粗れが認められなかったものを○とし、ディンプル状の面粗れが認められたものを×として示した。
ディンプル状の面粗れは、下層非磁性層の硬化が不十分な場合に、その上に磁性塗料を塗布することにより発生する現象である。
【００８０】
（走行耐久性）
１／２ｉｎｃｈ幅にスリットされた各磁気記録テープサンプルから、ＤＬＴIVカートリッジをそれぞれ作製した。
カートリッジを、４０℃、８０％ＲＨの環境下で４８時間にわたって、Ｑｕａｎｔｕｍ社製ＤＬＴ−７０００ドライブで信号のリード／ライトの繰り返し走行をさせた。走行後のヘッドを光学顕微鏡を用いて、倍率５０倍で観察し、ヘッドへの付着物（すなわち、塗膜削れ物）を調べた。
○：付着物は認められなかった。
△＋：少量の付着物は認められたが、実用上問題とはならないレベルであった。
△−：付着物が認められ、実用上問題となるレベルであった。
【００８１】
以上の結果を表１に示す。
表１から、実施例１〜５のテープサンプルはいずれも、テープの磁性層表面にディンプル状面粗れが認められず、平滑であった。実施例１〜３のテープサンプルは、走行耐久性にも非常に優れていた。
【００８２】
比較例１〜２のテープサンプルは、下層非磁性層の硬化が不十分でありディンプル状の面粗れが認められた。
【００８３】
【表１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体と、非磁性支持体上の下層非磁性層と、下層非磁性層上の上層磁性層とを少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、
非磁性支持体上に、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、未硬化の下層非磁性層を形成し、
酸素濃度５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させ、
硬化した下層非磁性層上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤樹脂とを含む磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することを含む、磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
酸素濃度３００ｐｐｍ以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行う、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１】
非磁性支持体と、非磁性支持体上の下層非磁性層と、下層非磁性層上の上層磁性層とを少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、
非磁性支持体上に、少なくとも非磁性粉末と電子線硬化性結合剤樹脂とを含む非磁性層用塗料を塗布、乾燥し、未硬化の下層非磁性層を形成し、
酸素濃度５００ｐｐｍ以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行い、下層非磁性層を硬化させ、
硬化した下層非磁性層上に、少なくとも強磁性粉末と結合剤樹脂とを含む磁性層用塗料を塗布、乾燥して、上層磁性層を形成することを含む、磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
酸素濃度３００ｐｐｍ以下の雰囲気下で、未硬化の下層非磁性層に電子線照射を行う、請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【公開番号】特開２００６−２０２４１７（Ｐ２００６−２０２４１７Ａ）
【公開日】平成１８年８月３日（２００６．８．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−１３３１０（Ｐ２００５−１３３１０）
【出願日】平成１７年１月２０日（２００５．１．２０）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年８月３日（２００６．８．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１月２０日（２００５．１．２０）
【出願人】（０００００３０６７）ＴＤＫ株式会社 (7,238)
【Ｆターム（参考）】
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