磁気記録媒体の製造方法
【課題】研磨を行った後であって磁気転写を行う前の磁気記録媒体に対する異物の付着を抑制する。
【解決手段】垂直記録層が形成された磁気記録媒体１の表面にワイピングおよびバーニッシュを施した後、バーニッシュ後の磁気記録媒体１を、例えば帯電防止剤を含有する樹脂によって構成された基板カセットに収容し、表面検査・磁気転写装置１０の転写前媒体収容部１２に搬送する。表面検査・磁気転写装置１０では、転写前媒体収容部１２に配置された収容容器１２ａ（基板カセット）から磁気記録媒体１を取り出し、表面検査部１３で表面検査を行った後、磁気転写部１４において磁気記録媒体１に対するサーボ・パターンの磁気転写を行う。
【解決手段】垂直記録層が形成された磁気記録媒体１の表面にワイピングおよびバーニッシュを施した後、バーニッシュ後の磁気記録媒体１を、例えば帯電防止剤を含有する樹脂によって構成された基板カセットに収容し、表面検査・磁気転写装置１０の転写前媒体収容部１２に搬送する。表面検査・磁気転写装置１０では、転写前媒体収容部１２に配置された収容容器１２ａ（基板カセット）から磁気記録媒体１を取り出し、表面検査部１３で表面検査を行った後、磁気転写部１４において磁気記録媒体１に対するサーボ・パターンの磁気転写を行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハード・ディスク・ドライブ等に代表される磁気記録装置では、回転する磁気記録媒体に対し、磁気ヘッドを用いたデータの書き込みおよび読み取りが行われる。
この種の磁気記録装置では、磁気記録媒体上の目的とする位置に磁気ヘッドを移動させ、且つ、その位置でのデータの書き込みおよび読み取りを行わせるために、磁気ヘッドの位置決めを行っている。このため、磁気記録媒体には、予め、磁気ヘッドによって読み取られるとともに磁気ヘッドの位置決めに使用される位置決めデータが記録されている。
【０００３】
公報記載の従来技術として、磁気記録媒体に対する位置決めデータ等の記録を、所謂磁気転写方式にて行うことが提案されている（特許文献１参照）。磁気転写においては、記録すべきデータに対応したパターンが形成されたパターン形成体に磁気記録媒体を重ね合わせた状態で、パターン形成体と磁気記録媒体とを挟んで一方向に向かう磁力を加えることで、磁気記録媒体に対するパターンの磁気的な転写を行う。そして、特許文献１には、磁性層等が形成された磁気記録媒体に対し、磁気記録媒体の表面を平滑化するバーニッシュを施した後、磁気記録媒体に対する磁気転写を実行することも記載されている。
【０００４】
また、他の公報記載の従来技術として、磁気記録媒体に磁気転写を行う磁気転写装置に対し、磁気転写の前工程が完了した複数の磁気記録媒体を収容したカセットを供給し、磁気転写装置において、供給されたカセットから１枚ずつ取り出した磁気記録媒体に対し、磁気転写を行うことが記載されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−９２８７０号公報
【特許文献２】特開２００１−３５７５２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
磁気記録媒体の表面を平滑化した後、この磁気記録媒体に磁気転写を行うまでの間に、カセットに静電吸着した埃等の異物が磁気記録媒体の表面に転移、付着してしまうと、磁気転写においてパターン形成体に磁気記録媒体を重ね合わせる際に、両者の間に異物が挟み込まれてしまい、パターン形成体に傷がつくことに伴ってパターン形成体の寿命が短くなってしまうことがあった。
本発明は、研磨を行った後であって磁気転写を行う前の磁気記録媒体に対する異物の付着を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁性層が形成された磁気記録媒体の表面を研磨する工程と、導電性を有する容器に、表面が研磨された磁気記録媒体を収容して搬送する工程と、搬送されてきた容器から取り出した磁気記録媒体の表面に、パターンが形成されたパターン形成体のパターンの形成面を接触させ、パターンを磁気記録媒体の磁性層に磁気的に転写する工程とを含んでいる。
【０００８】
このような磁気記録媒体の製造方法において、磁気記録媒体は、磁性層よりも表面側に摩耗を抑制するための摩耗抑制層を備え、研磨する工程では、砥粒を含むテープにて摩耗抑制層を擦ることを特徴とすることができる。
また、研磨する工程では、砥粒を含むテープにて摩耗抑制層を擦る前に、砥粒を含まないテープにて摩耗抑制層を擦ることを特徴とすることができる。
さらに、導電性を有する容器は、導電性材料を有する樹脂または金属にて構成されることを特徴とすることができる。
【０００９】
また、他の観点から捉えると、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁性層が形成された磁気記録媒体の表面を研磨する工程と、表面が研磨された磁気記録媒体を、絶縁性を有する部材に接触させることなく搬送する工程と、搬送されてきた磁気記録媒体の表面に、パターンが形成されたパターン形成体のパターンの形成面を接触させ、パターンを磁気記録媒体の磁性層に磁気的に転写する工程とを含んでいる。
【００１０】
このような磁気記録媒体の製造方法において、磁気記録媒体は、磁性層よりも表面側に摩耗を抑制するための摩耗抑制層を備え、研磨する工程では、砥粒を含むテープにて摩耗抑制層を擦ることを特徴とすることができる。
また、研磨する工程では、砥粒を含むテープにて摩耗抑制層を擦る前に、砥粒を含まないテープにて摩耗抑制層を擦ることを特徴とすることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、研磨を行った後であって磁気転写を行う前の磁気記録媒体に対する異物の付着を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本実施の形態が適用される磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
【図２】磁気記録媒体の断面構成の一例を示す図である。
【図３】磁気記録媒体の上面図である。
【図４】本実施の形態における磁気記録媒体の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図５】表面検査および磁気転写を行うための表面検査・磁気転写装置の上面図である。
【図６】図５の矢印ＶＩ方向からみた表面検査・磁気転写装置の斜視図である。
【図７】磁気転写部における第１磁石部材、第２磁石部材の構成および両者の相互的な位置関係の一例を示す図である。
【図８】磁気転写部で用いられるマスタ情報記録体の構成の一例を示す図である。
【図９】磁気転写部における固定ホルダおよび可動ホルダの断面構成の一例を示す図である。
【図１０】表面検査・磁気転写装置における制御ブロックの一例を示す図である。
【図１１】収容容器として使用される基板カセットの構成の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態が適用される磁気記録媒体１を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
この磁気記録再生装置は、データを磁気的に記録する磁気記録媒体１と、磁気記録媒体１を回転駆動させる回転駆動部２と、磁気記録媒体１にデータを書き込むとともに磁気記録媒体１に記録されたデータを読み取る磁気ヘッド３と、磁気ヘッド３を搭載するキャリッジ４と、キャリッジ４を介して磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３を相対移動させるヘッド駆動部５と、外部から入力された情報を処理して得られた記録信号を磁気ヘッド３に出力し、磁気ヘッド３からの再生信号を処理して得られた情報を外部に出力する信号処理部６とを備えている。
ここで、本実施の形態では、磁気記録媒体１が円盤状の形状を有しており、後述するように、その両面にそれぞれデータを記録するための記録層が形成されている。そして、図１に示す例では、１台の磁気記録再生装置に複数（ここでは３枚）の磁気記録媒体１が取り付けられている。
【００１４】
図２は、図１に示す磁気記録媒体１の断面構成の一例を示す図である。なお、磁気記録媒体１に対するデータの記録方式には面内記録方式と垂直記録方式とが存在するが、本実施の形態では、垂直記録方式において使用される磁気記録媒体１について説明を行う。
この磁気記録媒体１は、基板１００と、基板１００の上に形成された密着層１１０と、密着層１１０の上に形成された軟磁性下地層１２０と、軟磁性下地層１２０の上に形成された配向制御層１３０と、配向制御層１３０の上に形成された非磁性下地層１４０と、非磁性下地層１４０の上に形成された垂直記録層１５０と、垂直記録層１５０の上に形成された保護層１６０と、保護層１６０の上に形成された潤滑層１７０とを備えている。そして、本実施の形態では、基板１００の両面のそれぞれに、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０、保護層１６０、および潤滑層１７０が形成されるようになっている。なお、以下の説明においては、必要に応じて、基板１００の両面に密着層１１０から保護層１６０までを積層したもの、換言すれば、基板１００に潤滑層１７０以外を形成したものを、積層基板１８０と称することがある。
【００１５】
本実施の形態では、基板１００として非磁性体が使用されており、例えばアルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えばガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００１６】
これらのうち、ガラス基板としては、例えば、通常のガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、通常のガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。また、セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００１７】
また、基板１００は、後述するようにＣｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層１２０と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。このため、基板１００と軟磁性下地層１２０との間に密着層１１０を設けることが好ましい。なお、密着層１１０の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金など適宜選択することが可能である。また、密着層１１０の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００１８】
軟磁性下地層１２０は、垂直記録方式を採用した場合において、記録再生時のノイズの低減を図るために設けられる。
本実施の形態において、軟磁性下地層１２０は、密着層１１０の上に形成される第１軟磁性層１２１と、第１軟磁性層１２１の上に形成されるスペーサ層１２２と、スペーサ層１２２の上に形成される第２軟磁性層１２３とを備えている。すなわち、軟磁性下地層１２０は、第１軟磁性層１２１と第２軟磁性層１２３とによってスペーサ層１２２を挟み込んだ構成を有している。
これらのうち、第１軟磁性層１２１および第２軟磁性層１２３は、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いるのが好ましく、またその透磁率や耐食性を高めるためＴａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒからなる群から選ばれる何れか１種を１原子％〜８原子％の範囲で含有させるのが好ましい。
また、スペーサ層１２２としては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中では特にＲｕを用いるのが好ましい。
【００１９】
配向制御層１３０は、非磁性下地層１４０を介してこの上に積層される垂直記録層１５０の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するために設けられる。
配向制御層１３０を構成する材料については、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金が好ましく、またこれらの合金を多層化したものを用いてもよい。例えば、基板１００側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００２０】
非磁性下地層１４０は、この上に積層される垂直記録層１５０の初期積層部における結晶成長の乱れを抑制し、記録再生時のノイズの発生を抑制するために設けられる。ただし、非磁性下地層１４０については、必ずしも設ける必要はない。
本実施の形態において、非磁性下地層１４０は、Ｃｏを主成分とする金属に、さらに酸化物を含んだ材料からなることが好ましい。非磁性下地層１４０におけるＣｒの含有量は、２５原子％〜５０原子％とすることが好ましい。非磁性下地層１４０における酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。非磁性下地層１４０における酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上１８ｍｏｌ％以下であることが好ましい。
【００２１】
本実施の形態における垂直記録層１５０は、非磁性下地層１４０の上に形成される第１磁性層１５１と、第１磁性層１５１の上に形成される第１非磁性層１５２と、第１非磁性層１５２の上に形成される第２磁性層１５３と、第２磁性層１５３の上に形成される第２非磁性層１５４と、第２非磁性層１５４の上に形成される第３磁性層１５５とを備えている。すなわち、垂直記録層１５０では、第１磁性層１５１と第２磁性層１５３とによって第１非磁性層１５２を挟み込み、第２磁性層１５３と第３磁性層１５５とによって第２非磁性層１５４を挟み込んだ構成を有している。
【００２２】
これらのうち、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５は、磁気ヘッド３から供給される磁気エネルギーによって垂直記録層１５０の厚さ方向に磁区の向きを反転させ、その状態を維持することでデータを記憶するために設けられる。なお、これら第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５が、本発明における磁性層に対応している。
これら第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５は、Ｃｏを主成分とする金属からなる磁性粒子と非磁性の酸化物とを含み、磁性粒子を酸化物で囲んだグラニュラ型構造を有するものを用いることが好ましい。
【００２３】
ここで、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５を構成する酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。また、垂直記録層１５０の中で最下層となる第１磁性層１５１については、２種類以上の酸化物からなる複合酸化物を含んでいることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００２４】
また、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５を構成する磁性粒子に適した材料としては、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などを挙げることができる。
【００２５】
また、第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４は、垂直記録層１５０を構成する第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５の個々での磁化反転を容易とし、磁性粒子全体での磁化反転の分散を小さくすることで、ノイズを低減するために設けられる。
本実施の形態において、第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４は、例えばＲｕおよびＣｏを含んでいることが好ましい。
【００２６】
なお、この例では、垂直記録層１５０を構成する磁性層を３層（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５）としていたが、これに限られるものではなく、４層以上の磁性層を備えた構成とすることも可能である。また、この例では、垂直記録層１５０を構成する各磁性層（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５）の間に非磁性層（第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４）を設けていたが、これに限られるものではなく、例えば異なる組成を有する２つの磁性層を、重ねて配置するようにしてもかまわない。
【００２７】
摩耗抑制層の一例としての保護層１６０は、垂直記録層１５０の腐食を抑制するとともに、磁気ヘッド３が磁気記録媒体１に接触したときに、磁気記録媒体１の表面の損傷を防いで保護するために設けられる。
保護層１６０としては、従来公知の材料を使用することができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２を含むものを使用することが可能である。保護層１６０の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが、図１に示す磁気記録再生装置において磁気ヘッド３と磁気記録媒体１との距離を小さくできるので、高記録密度の点から好ましい。
【００２８】
摩耗抑制層の一例としての潤滑層１７０は、磁気ヘッド３が磁気記録媒体１に接触したときに磁気ヘッド３および磁気記録媒体１の表面の摩耗を抑制するために設けられる。
潤滑層１７０としては、従来公知の材料を使用することができ、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を用いることが好ましい。潤滑層１７０の厚さは、１〜２ｎｍとすることが、図１に示す磁気記録再生装置において磁気ヘッド３と磁気記録媒体１との距離を小さくできるので、高記録密度の点から好ましい。
なお、本発明における摩耗抑制層とは、保護層１６０および潤滑層１７０のいずれか、または両者を指す。
【００２９】
図３は、図１に示す磁気記録媒体１の上面図である。また、図３には、磁気記録媒体１の表面に設けられる複数のデータ領域を模式的に示している。
本実施の形態における磁気記録媒体１は、上述したように円盤状の形状を有しており、その中央部には磁気記録媒体１の表裏を貫通する円形状の孔が形成されている。以下の説明では、磁気記録媒体１における円形状の孔の縁を内端１ａと称し、磁気記録媒体１における外周の縁を外端１ｂと称する。
【００３０】
図３に示す磁気記録媒体１の表面には、磁気ヘッド３（図１参照）を用いたデータの読み書きを行うための読み書きデータ記憶領域Ａ１と、磁気ヘッド３を用いたデータの読み書きにおいて磁気ヘッド３の位置決めに用いられるデータ（位置決めデータという）を記憶する位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。この例において、位置決めデータ記憶領域Ａ２は、磁気記録媒体１の表面に、放射状に複数設けられている。また、磁気記録媒体１の表面には、同心円状に、複数のトラックＴが設けられる。なお、図示はしていないが、図３に示す磁気記録媒体１の裏面にも、同様にして、読み書きデータ記憶領域Ａ１と位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。ただし、磁気記録媒体１の表裏面のそれぞれに設けられた位置決めデータ記憶領域Ａ２は、表裏で位置を合わせなくてもかまわない。
【００３１】
磁気記録媒体１の位置決めデータ記憶領域Ａ２には、位置決めデータとして、例えば、磁気ヘッド３による読み取り時において検出信号の利得調整に用いられるＡＧＣ（Auto Gain Control）パターン、サーボ信号の検出に用いられる検出パターン、サーボ・トラックのシリンダ情報あるいはセクタ情報の検出に用いられるアドレス・パターン、そして目的とするトラックＴに磁気ヘッド３を移動させた後にそのトラックＴ上に磁気ヘッド３を追従させるのに用いられるバースト・パターン（いずれも図示せず）等を含むサーボ・パターンが記憶されている。なお、サーボ・パターンは、磁気記録媒体１に設けられた垂直記録層１５０の厚み方向の磁化の向きを、位置決めデータに合わせて適宜反転させることで構成されている。
【００３２】
図４は、本実施の形態における磁気記録媒体１の製造方法の一例を示すフローチャートである。本実施の形態では、磁気記録媒体１の製造過程において、上述した位置決めデータ記憶領域Ａ２にサーボ・パターンの書き込みを行っていること、より具体的には、後述するマスタ情報記録体２００（図８参照）を用いて、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写していることに特徴がある。
【００３３】
磁気記録媒体１の製造に先立ち、予め円盤状に形成されるとともに中央部に表裏を貫通する円形状の孔が形成された基板１００を準備し、予備洗浄を行った後、この基板１００に対する研磨を行う（ステップ１０１）。ステップ１０１における基板１００の研磨は、例えばダイヤモンドスラリーを用いたメカニカルポリッシュで行うことが望ましい。
【００３４】
そして、研磨後の基板１００は、その平均表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であるとことが、磁気ヘッド３（図１参照）を低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、研磨後の基板１００の表面の微小うねり（Ｗａ）が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下。）であることが、磁気ヘッド３を低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、研磨後の基板１００の端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下（より好ましくは９．５ｎｍ以下。）のものを用いることが、磁気ヘッド３の飛行安定性にとって好ましい。なお、微少うねり（Ｗａ）は、例えば、表面粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００３５】
次に、研磨が施された基板１００に対し、前洗浄を行う（ステップ１０２）。ステップ１０２における基板１００の前洗浄は、研磨が施された基板１００を、純水あるいは超純水に浸漬して超音波振動を加えながら行うことが好ましい。そして、前洗浄がなされた基板１００は、速やかにスピン法等で乾燥させることが好ましい。
【００３６】
続いて、前洗浄が施された基板１００に対し、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０および保護層１６０を順次積層する成膜工程を行う（ステップ１０３）。ここで、生産性を向上させるという観点からすれば、ステップ１０３における各層の形成を、例えばそれぞれが成膜機能を備えた複数のチャンバを直列に接続したインライン式成膜装置で行うことが好ましい。また、生産性を向上させるという観点からすれば、成膜工程で形成される各層をスパッタリング法で形成することが望ましい。ただし、保護層１６０の強度を確保しつつ薄膜化するという観点からすれば、密着層１１０から垂直記録層１５０についてはスパッタリング法で形成する一方、保護層１６０についてはＣＶＤ法で形成することが好ましい。このように、前洗浄が施された基板１００に対し成膜工程を行うことで、積層基板１８０（図２参照）が得られる。
【００３７】
そして、成膜工程によって得られた積層基板１８０に対し、後洗浄を行う（ステップ１０４）。ステップ１０４における積層基板１８０の後洗浄は、記録層を構成する合金の腐食を防ぐため水素水を用いることができる。ここで、水素水とは、純水もしくは超純水に、高純度の水素ガスを溶解した水であり、被洗浄物の腐食を低減し、また水のクラスターを小さくして洗浄能力を高めたものである。
【００３８】
本実施の形態の後洗浄工程は、後述するワイピング工程（ステップ１０７）、バーニッシュ工程（ステップ１０８）では除去しきれない積層基板１８０表面の汚染物を除去する目的で行われる。これらの汚染物は、後述する潤滑剤塗布工程（ステップ１０５）や上記ワイピング工程およびバーニッシュ工程の後では水素水による洗浄除去が困難となる場合がある。その理由は、推測ではあるが、汚染物が潤滑層１７０に覆われるとその撥水性により除去が困難となること、ワイピング工程およびバーニッシュ工程の後では汚染物が積層基板１８０の表面に塗り込められ、除去しにくくなってしまうことが考えられる。なお、水素水を用いた後洗浄工程によっても、スパッタダスト等の粉状物をある程度は除去することが可能ではあるが、ワイピング工程およびバーニッシュ工程のように積層基板１８０の表面をスクラブし、ワイプし、または削る効果が低いため、積層基板１８０の表面に強固に付着した粉状物を除去することは困難である。よって、この水素水を用いた後洗浄工程は、ワイピング工程やバーニッシュ工程と併用するのが好ましい。
【００３９】
次に、後洗浄が施された積層基板１８０に対し、潤滑剤を塗布し（ステップ１０５）、積層基板１８０に潤滑層１７０を形成する。続いて、潤滑層１７０が塗布された積層基板１８０を１００℃程度で数分間加熱するベークを行う（ステップ１０６）。これにより、潤滑層１７０に含まれる水分が揮発し、且つ、積層基板１８０の最表面側に設けられた保護層１６０と保護層１６０に接する潤滑層１７０との密着性が高まる。以上により、磁気記録媒体１が得られる。
【００４０】
次いで、ベークが施された磁気記録媒体１の表面をワイピングする（ステップ１０７）。ワイピング工程は、磁気記録媒体１の表面に付着したスパッタダスト等を拭き取るために行われる。これは、上述したように、ステップ１０４の後洗浄工程は水素水への浸漬によるものであり、これだけでは、磁気記録媒体１の表面に強固に付着した粉状物を除去することが困難であるからである。
【００４１】
ワイピング工程は、例えば布製のワイピングテープ（砥粒を含まないテープ）等を用いて行なわれ、このワイピングテープを磁気記録媒体１の表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロールまたはパッドによってワイピングテープ表面を磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、磁気記録媒体１の表面を軽く拭くことによって行われる。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体１の表面に付着していたスパッタダスト等が除去されることになる。その結果、得られた磁気記録媒体１を図１に示す磁気記録再生装置に組み込んだ場合に、磁気記録媒体１に対する磁気ヘッド３の浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００４２】
ここで、ワイピング工程に用いられるワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物等が用いられる。
【００４３】
また、このようなワイピングテープを用いる磁気記録媒体１のワイピング方法は、具体的には、磁気記録媒体１を回転させつつ、この磁気記録媒体１の磁性層側の面に、ワイピングテープの表面（拭き面）を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体１の表面のスパッタダスト等が拭き取られ、表面が清浄化する。ここで、ワイピングテープは、供給リールと巻取りリールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取りリールに巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取りリール側に走行する途中で、ワイピングテープは、拭き面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロールまたはフェルト等により押圧され、その拭き面が磁気記録媒体１の表面に押し当てられる。
【００４４】
そして、ワイピングが施された磁気記録媒体１の表面に対しバーニッシュを行う（ステップ１０８）。
バーニッシュ工程は、磁気記録媒体１の表面に形成または付着した突起物を除去するため、その表面を、研磨テープを用いて研磨する工程である。このような処理を行うことにより、得られた磁気記録媒体１を図１に示す磁気記録再生装置に組み込んだ場合に、磁気記録媒体１に対する磁気ヘッド３の浮上量をより小さくすることができる。また、後述する磁気転写工程において、磁気記録媒体１とマスタ情報記録体２００との間に隙間が生じて転写パターンが不鮮明となり、マスタ情報記録体２００が損傷を受けるのを防ぐことができる。なお、本発明においては、ステップ１０８のバーニッシュ工程が「研磨する工程」に対応している。また、ステップ１０８のバーニッシュ工程とステップ１０７のワイピング工程とを含めて、「研磨する工程」とすることもある。
【００４５】
バーニッシュ工程は、アルミナ砥粒を塗布した研磨テープ（砥粒を含むテープ）等を用いて行なわれ、この研磨テープをゴム製のコンタクトロールによって磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、磁気記録媒体１の表面を軽く研磨することにより行われる。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体１の表面の異常突起等が除去される。
【００４６】
バーニッシュ工程に用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、通常ポリエステル製のベースフィルム上に研磨材層を形成してなるテープを使用する。そして、この研磨材層が磁気記録媒体１の磁性層側の面と接触して摺動することによって、磁気記録媒体１の表面に付着した微小な塵埃が除去されると共に、その表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて、その表面が平滑化される。研磨材としては、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が用いられる。
【００４７】
また、このような研磨テープを用いる磁気記録媒体１のバーニッシュ加工は、具体的には、磁気記録媒体１を回転させつつ、この磁気記録媒体１の磁性層側の面に、研磨テープの砥粒面を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体１の表面の突起が研磨除去され平滑化される。ここで、研磨テープは、供給リールと巻取りリールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取りリールに巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取りリール側に走行する途中で、研磨テープは、砥粒面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロールまたはフェルト等により押圧され、研磨テープの研磨面が磁気記録媒体１の表面に押し当てられる。
【００４８】
次に、バーニッシュが施された磁気記録媒体１に対し、初期磁化を行う（ステップ１０９）。この例では、垂直記録方式で用いられる磁気記録媒体１を対象としているため、初期磁化工程は、磁気記録媒体１の表面に垂直方向に一方向の初期直流磁界を印加することによって行われる。その際に印加する初期直流磁界は永久磁石、電磁石によって発生させることが可能であり、好ましくは、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いて発生させるのが好ましい。また、初期磁化工程は磁気記録媒体１と磁石とを非接触状態で行うことが、磁気記録媒体１の表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００４９】
ここで、本実施の形態の磁気記録媒体１における垂直記録層１５０（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３、第３磁性層１５５）の保磁力Ｈｃは、通常、３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上になっている。よって、初期磁化工程では、垂直記録層１５０の各磁性層を直流磁化することが可能な磁石を用いるとよい。
【００５０】
その後、初期磁化が施された磁気記録媒体１に対し、表面検査を行う（ステップ１１０）。表面検査工程では、初期磁化後の磁気記録媒体１の表面への塵埃の付着や異常突起の有無を検査する。
そして、表面検査が完了した磁気記録媒体１に対し磁気転写を行い（ステップ１１１）、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを記憶させた位置決めデータ記憶領域Ａ２（図３参照）を設ける。
なお、ステップ１１０の表面検査工程およびステップ１１１の磁気転写工程は、一連の動作として実行されるが、この詳細については後述する。
【００５１】
続いて、磁気転写が施された磁気記録媒体１に対しグライド検査を行う（ステップ１１２）。グライド検査工程では、磁気転写済の磁気記録媒体１の表面に突起物が無いかどうか、実際にヘッドを浮上走行させて検査する。磁気ヘッド３を用いて磁気記録媒体１をデータの書き込み（記録）および読み出し（再生）を実行する際に、磁気記録媒体１の表面に浮上量（磁気記録媒体１と磁気ヘッド３の間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッド３が突起にぶつかって磁気ヘッド３が損傷したり、磁気記録媒体１に欠陥が発生したりする原因となる。このため、グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００５２】
次いで、グライド検査に合格した磁気記録媒体１に対し、サーティファイ検査を行う（ステップ１１３）。サーティファイ検査工程では、通常の磁気記録再生装置と同様に、磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３で予め決められた信号を記録した後、記録した信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体１の記録不良を検出し、磁気記録媒体１の電気特性や欠陥の有無など磁気記録媒体１の品質を確かめる。上述した方法で製造した磁気記録媒体１には、既にサーボ・パターンが書き込まれているため、サーボ情報を用いない従来の方式でのサーティファイ検査を実施することが困難となっている。このため、本実施の形態では、磁気記録媒体１に磁気転写されたサーボ・パターン（位置決めデータ）を利用して磁気ヘッド３を特定箇所に位置づけし、データの読み書きを行う形式の検査を行う。
そして、サーティファイ検査に合格した磁気記録媒体１が、製品として出荷されることになる。
【００５３】
では、上述したステップ１１０における表面検査工程およびステップ１１１における磁気転写工程について、より詳細に説明する。
図５は、表面検査および磁気転写を行うための表面検査・磁気転写装置１０の上面図である。また、図６は、図５に示す矢印ＶＩ方向からみた表面検査・磁気転写装置１０の斜視図である。なお、以下では、図５において、図中左側から右側に向かう方向をＸ方向、図中下側から上側に向かう方向をＹ方向、そして図中奥側から手前側に向かう方向をＺ方向として説明を行う。
【００５４】
表面検査・磁気転写装置１０は、Ｙ方向に対してＸ方向が長辺側となる矩形状の基台１１と、ステップ１０９に示す初期磁化が施された磁気記録媒体１を収容する転写前媒体収容部１２と、転写前媒体収容部１２から取り出された磁気記録媒体１に対しステップ１１０に示す表面検査を行う表面検査部１３と、表面検査がなされた磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写する磁気転写部１４と、サーボ・パターンの磁気転写がなされた磁気記録媒体１を収容する転写済媒体収容部１５と、表面検査部１３による表面検査の結果が不合格となった磁気記録媒体１を収容する不具合品収容部１６とを備える。また、表面検査・磁気転写装置１０は、表面検査がなされた磁気記録媒体１を磁気転写部１４へと供給するとともに磁気転写がなされた磁気記録媒体１を磁気転写部１４から回収するために磁気記録媒体１を移載する移載部１７と、転写前媒体収容部１２、表面検査部１３、転写済媒体収容部１５、不具合品収容部１６および移載部１７の間で磁気記録媒体１の授受を行うスカラ（SCARA：Selective Compliance Assembly Robot Arm）・ロボット１８とをさらに備える。そして、表面検査・磁気転写装置１０は、移載部１７に保持された磁気記録媒体１の磁気転写部１４に対する位置決めに用いられる位置検出部１９と、磁気転写部１４に対する位置決めがなされた磁気記録媒体１の振動検出に用いられる振動検出部２０とをさらに備える。
【００５５】
表面検査・磁気転写装置１０において、転写前媒体収容部１２、表面検査部１３、磁気転写部１４、転写済媒体収容部１５、不具合品収容部１６、移載部１７、スカラ・ロボット１８、位置検出部１９および振動検出部２０は、基台１１の上部側に配置されている。これに対し、表面検査部１３、磁気転写部１４、移載部１７、スカラ・ロボット１８、位置検出部１９および振動検出部２０の駆動系は、基台１１よりも下部側に配置されている。また、本実施の形態の表面検査・磁気転写装置１０は、ダウンフロー方式を採用したクリーンルーム内に配置されており、表面検査・磁気転写装置１０には、上方から下方（図５において−Ｚ方向）に空気が流れるようになっている。
【００５６】
なお、以下の説明においては、転写前媒体収容部１２から表面検査部１３を介して、磁気転写部１４あるいは不具合品収容部１６に供給される、磁気転写工程実行前の磁気記録媒体１を『転写前媒体』と称する。また、以下の説明では、磁気転写部１４から転写済媒体収容部１５に供給される、磁気転写工程実行後の磁気記録媒体１を『転写済媒体』と称する。
【００５７】
転写前媒体収容部１２は複数の転写前媒体を立てた状態で収容可能な収容容器１２ａを、転写済媒体収容部１５は複数の転写済媒体を立てた状態で収容可能な収容容器１５ａを、そして、不具合品収容部１６は複数の転写前媒体（不具合品）を立てた状態で収容可能な収容容器１６ａを、それぞれ備えている。ここで、これら収容容器１２ａ、１５ａ、１６ａには、共通の構造を有するものを用いている。そして、転写前媒体収容部１２においては転写前媒体が空になったときに、転写済媒体収容部１５においては転写済媒体がいっぱいになったときに、そして不具合品収容部１６においては転写前媒体（不具合品）がいっぱいになったときに、それぞれ新たなものと交換されるようになっている。
【００５８】
表面検査部１３は、スカラ・ロボット１８によって転写前媒体収容部１２から運ばれてきた転写前媒体の両面について表面検査を行う。表面検査部１３における表面検査の手法としては、例えば図示しないレーザ光源を用いて転写前媒体の両面を走査し、その反射光に基づいて表面における異常（突起等）の有無を検出するものが挙げられる。
【００５９】
移載部１７は、基台１１に搭載されるとともにＸ方向に伸びる直動案内部１７ａと、直動案内部１７ａの上部に搭載されて直動案内部１７ａに沿ってＸ方向および−Ｘ方向に移動する直動部１７ｂとを備える。また、直動部１７ｂは、−Ｘ方向に伸びる腕木部１７ｃと、腕木部１７ｃの自由端側から−Ｙ方向に伸び、磁気転写部１４に供給する転写前媒体を保持するための供給チャック部１７ｄと、供給チャック部１７ｄよりも直動部１７ｂに近い側において腕木部１７ｃから−Ｙ方向に伸び、磁気転写部１４から回収した転写後媒体を保持するための回収チャック部１７ｅとを備える。
【００６０】
スカラ・ロボット１８は、基台１１に搭載された基部１８ａと、基部１８ａの上部に取り付けられ水平方向（Ｘ方向およびＹ方向）への移動が許容されたアーム部１８ｂとを備えている。そして、アーム部１８ｂの自由端には、上下方向（Ｚ方向および−Ｚ方向）に移動するスライド軸（図示せず）が設けられており、このスライド軸には、磁気記録媒体１（転写前媒体および転写済媒体の両者）を保持するためのチャック部（図示せず）が取り付けられている。
【００６１】
位置検出部１９は、例えばレーザ等からなる光源とＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサ等からなる受光部とを備えている。そして、位置検出部１９は、磁気転写部１４の近傍において移載部１７の供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体の位置を検出するようになっている。
【００６２】
振動検出部２０は、例えばレーザ等からなる光源とＣＣＤイメージセンサ等からなる受光部とを備えている。そして、振動検出部２０は、磁気転写部１４の近傍において移載部１７の供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体の振動を検出するようになっている。
【００６３】
次に、磁気転写部１４について説明する。
磁気転写部１４は、基台１１に固定された状態で搭載され、サーボ・パターンが予め記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する固定ホルダ３０と、固定ホルダ３０に対向して配置されるとともに、基台１１に対しＹ方向および−Ｙ方向に移動できるように配置され、サーボ・パターンが予め磁気的に記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する可動ホルダ４０とを備える。なお、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００および可動ホルダ４０に取り付けられたマスタ情報記録体２００は、互いに対向した状態で配置されている。
【００６４】
また、マスタ情報記録体２００を保持した固定ホルダ３０の背面側には、第１磁石５１を備えた第１磁石部材５０が配置されている。第１磁石部材５０は、固定ホルダ３０に対向配置される第１磁石５１と、第１磁石５１を保持する第１磁石保持部５２と、第１磁石保持部５２の背面側からＹ方向に沿って伸びる第１磁石支持部５３とを備えている。第１磁石支持部５３は、基台１１に対しＹ方向には固定された状態で支持され、且つ、図中矢印方向には回転可能に支持されている。これにより、第１磁石支持部５３の回転に伴って第１磁石保持部５２に保持された第１磁石５１が回転するようになっている。
【００６５】
一方、マスタ情報記録体２００を保持した可動ホルダ４０の背面側には、第２磁石６１を備えた第２磁石部材６０が配置されている。第２磁石部材６０は、可動ホルダ４０に対向配置される第２磁石６１と、第２磁石６１を保持する第２磁石保持部６２と、第２磁石保持部６２の背面側からＹ方向に沿って伸びる第２磁石支持部６３とを備えている。第２磁石支持部６３は、基台１１に対しＹ方向および−Ｙ方向に進退可能に支持され、且つ、図中矢印方向に回転可能に支持されている。これにより、第２磁石支持部６３の進退に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が進退するとともに、第２磁石支持部６３の回転に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が回転するようになっている。
【００６６】
図７は、磁気転写部１４における第１磁石部材５０、第２磁石部材６０の構成および両者の相互的な位置関係の一例を示す図である。
第１磁石部材５０において、第１磁石５１は、第１磁石保持部５２に対し、第１磁石支持部５３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第１磁石５１は、固定ホルダ３０と対向する側が一方の極性の磁極（例えばＮ極）となるように第１磁石保持部５２に保持されている。
一方、第２磁石部材６０において、第２磁石６１は、第２磁石保持部６２に対し、第２磁石支持部６３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第２磁石６１は、可動ホルダ４０と対向する側が他方の極性の磁極（例えばＳ極）となるように第２磁石保持部６２に保持されている。
【００６７】
そして、本実施の形態では、第１磁石５１と第２磁石６１とが、固定ホルダ３０および可動ホルダ４０を挟んで対向するように配置される。また、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石５１と第２磁石６１とを対向させた状態を維持しながら、ともに回転するように構成されている。
【００６８】
図８は、磁気転写部１４で用いられるマスタ情報記録体２００の構成の一例を示す図である。ここで、図８（ａ）はマスタ情報記録体２００の上面図を、また、図８（ｂ）は図８（ａ）におけるＶＩＩＩＢ−ＶＩＩＩＢ断面図を、それぞれ示している。
【００６９】
パターン形成体の一例としてのマスタ情報記録体２００は、磁気記録媒体１よりも直径が大きい円盤状の形状を有している。また、マスタ情報記録体２００の一方の面（形成面に対応）には、サーボ・パターンに対応する微細な凹凸が形成されたサーボ・パターン形成領域ＳＰが設けられている。この例において、サーボ・パターン形成領域ＳＰは、マスタ情報記録体２００の一方の面に、中央部と外縁部とを除いて、放射状に複数設けられている。なお、図５等に示す固定ホルダ３０あるいは可動ホルダ４０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際には、サーボ・パターン形成領域ＳＰを設けた面が、互いに露出した状態で対向することになる。
【００７０】
また、固定ホルダ３０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００の中央部には、表裏を貫通する第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが設けられている。これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは、マスタ情報記録体２００においてサーボ・パターン形成領域ＳＰよりも内側（中心側）に設けられている。なお、可動ホルダ４０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００には、これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは不要である。この理由については後述する。
【００７１】
次に、マスタ情報記録体２００の構造について説明すると、マスタ情報記録体２００は、円盤状の基体２０１と、この基体２０１の一方の面に形成されたマスタ磁性層２０２と、マスタ磁性層２０２の上に形成されたマスタ保護層２０３とを備えている。ここで、図８（ｂ）は、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおけるマスタ情報記録体２００の断面構成を示しており、この部位には、サーボ・パターンに対応した凸部２０４および凹部２０５が存在している。なお、マスタ情報記録体２００の一方の面のうち、サーボ・パターン形成領域ＳＰ以外の領域は、マスタ情報記録体２００と磁気記録媒体１との吸着を防ぐため、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおける凹部２０５と同じ高さとなっている。
【００７２】
マスタ情報記録体２００は公知の方法によって製造できるが、例えば次の製造方法を掲げることができる。先ず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。塗布後、このレジストに対し、電子線露光装置を用いて、サーボ・パターンに対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストを露光する。その後、レジストを現像し、未露光部分を除去して、シリコンウェハ上にレジストのパターンを形成する。
【００７３】
次いで、このレジストパターンをマスクとして用い、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させてマスタ情報記録体２００を作製するための原盤を得る。
【００７４】
この原盤上に、Ｎｉからなる導電層をスパッタリング法により１０ｎｍ程度形成する。その後、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数μｍ厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層を洗浄等して、表面に凸部を配設した基体２０１を得る。
【００７５】
次いで、この基体２０１の表面にマスタ磁性層２０２を形成する。このマスタ磁性層２０２については磁気記録媒体１に用いられる磁性層（第１磁性層１５１等）と同じものが使用できる。またマスタ磁性層２０２の上には磁気記録媒体１と同様にマスタ保護層２０３を形成する。このマスタ保護層２０３は、マスタ情報記録体２００の耐摩耗性すなわちマスタ情報記録体２００の転写耐久性を高めるものであり、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等を用いることができる。以上の製造工程によってマスタ情報記録体２００を得ることができる。
なお、このようにして得られたマスタ情報記録体２００は、例えば１０万枚以上の磁気記録媒体の製造（磁気転写）に繰り返し使用される。
【００７６】
図９は、磁気転写部１４における固定ホルダ３０および可動ホルダ４０の断面構成の一例を示す図である。なお、図９では、固定ホルダ３０に磁気記録媒体１を取り付けた状態を例示している。
これらのうち、固定ホルダ３０は、マスタ情報記録体２００の保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、マスタ情報記録体２００の保持面においてマスタ情報記録体２００の取り付け位置中央部に開口が設けられた２つの第１吸引路３１と、マスタ情報記録体２００の保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、マスタ情報記録体２００の保持面においてマスタ情報記録体２００の取り付け位置の外側に開口が設けられた２つの第２吸引路３２とを備える。また、固定ホルダ３０は、マスタ情報記録体２００の保持面において第２吸引路３２の開口よりも外側に周方向に沿って取り付けられたＯリング３３を備えている。なお、固定ホルダ３０のマスタ情報記録体２００の保持面での第１吸引路３１の２つの開口には、固定ホルダ３０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際に、マスタ情報記録体２００側の第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが重ね合わされるようになっている。なお、本実施の形態では、固定ホルダ３０に設けられた２つの第１吸引路３１と吸引駆動部７６（後述する図１０参照）とによって、取り付け部が構成されている。
【００７７】
これに対し、可動ホルダ４０は、固定ホルダ３０と対向する側の面にマスタ情報記録体２００を保持するとともに、その背面側には第２磁石部材６０が設けられた記録体保持部４０ａと、記録体保持部４０ａの周縁を覆うように設けられた筒状体４０ｂとを備えている。また、可動ホルダ４０は、筒状体４０ｂの内周面に周方向に沿って取り付けられ、周方向にわたって記録体保持部４０ａの外周面に接触するＯリング４１とを備えている。ここで、可動ホルダ４０を構成する記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂは、互いに独立して固定ホルダ３０に対し進退可能に取り付けられ、筒状体４０ｂは粗動機構に、記録体保持部４０ａは微動機構に、それぞれ用いられている。また、筒状体４０ｂの固定ホルダ３０と対向する側の端部は、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に対し一周にわたって対向し且つ接触するようになっている。なお、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａには、固定ホルダ３０のような吸引路は設けられていない。このため、記録体保持部４０ａに取り付けられるマスタ情報記録体２００には、第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂを設けておく必要がない。
【００７８】
図１０は、図５に示す表面検査・磁気転写装置１０における制御ブロックの一例を示す図である。
表面検査・磁気転写装置１０は、装置全体の動作を制御するためのコントローラ７０を備えている。このコントローラ７０には、表面検査部１３による転写前媒体の表面検査結果、位置検出部１９による転写前媒体の位置検知結果、そして振動検出部２０による転写前媒体の振動検知結果が入力されるようになっている。また、コントローラ７０は、表面検査部１３、位置検出部１９、振動検出部２０、スカラ・ロボット１８を駆動するロボット駆動部７１、移載部１７に設けられた直動部１７ｂを駆動する直動駆動部７２、移載部１７に設けられた供給チャック部１７ｄを駆動する供給チャック駆動部７３、移載部１７に設けられた回収チャック部１７ｅを駆動する回収チャック駆動部７４、磁気転写部１４に設けられた可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）を駆動する可動ホルダ駆動部７５、固定ホルダ３０の第１吸引路３１および第２吸引路３２に接続された吸引機構（図示せず）を駆動する吸引駆動部７６、第１磁石部材５０を駆動する第１磁石駆動部７７、そして第２磁石部材６０を駆動する第２磁石駆動部７８に、それぞれ制御信号を出力するようになっている。
【００７９】
図１１は、転写前媒体収容部１２における収容容器１２ａ、転写済媒体収容部１５における収容容器１５ａ、そして不具合品収容部１６における収容容器１６ａとして用いられる基板カセット８０の構成の一例を示す斜視図である。なお、導電性を有する容器の一例としての基板カセット８０は、図５に示す表面検査・磁気転写装置１０で用いられる他、上述したステップ１０７のワイピング工程からステップ１０８のバーニッシュ工程に磁気記録媒体１を搬送する工程、ステップ１０８のバーニッシュ工程からステップ１０９の初期磁化工程に磁気記録媒体１を搬送する工程、そしてステップ１０９の初期磁化工程からステップ１１０の表面検査工程すなわち表面検査・磁気転写装置１０に磁気記録媒体１を搬送する工程において用いられている。
【００８０】
また、ステップ１０７のワイピング工程からステップ１０８のバーニッシュ工程への移行、ステップ１０８のバーニッシュ工程からステップ１０９の初期磁化工程への移行、そしてステップ１０９の初期磁化工程からステップ１１０の表面検査工程への移行にあたって、磁気記録媒体１は、基板カセット８０に収容された状態で、図示しないロボットにより直接搬送されるようになっている。
【００８１】
本実施の形態の基板カセット８０は、図５に示す表面検査・磁気転写装置１０に配置された際に、Ｘ方向に沿って平行に伸び且つ互いに相対する２つの第１側板８１ａ、８１ｂと、Ｙ方向に沿って平行に伸び且つ互いに相対する２つの第２側板８２ａ、８２ｂとを一体化して構成されている。このため、図１１に示す基板カセット８０は、Ｚ方向において上下が開放された枠状の形状を有している。そして、第２側板８２ａ、８２ｂのＹ方向長さは、第１側板８１ａ、８１ｂのＸ方向長さよりも長く設定されており、その結果、Ｚ方向の開口は長方形状の断面を有している。
【００８２】
また、基板カセット８０において、２つの第２側板８２ａ、８２ｂの内側には、Ｚ方向に沿って伸び且つ内側（第２側板８２ａにおいてはＸ方向側、第２側板８２ｂにおいては−Ｘ方向側）に突出して形成される凸条部８３が、それぞれＹ方向に沿って複数設けられている（第２側板８２ｂ側に設けられる凸条部８３については図示せず）。そして、第２側板８２ａに設けられる複数の凸条部８３および第２側板８２ｂに設けられる複数の凸条部８３は、互いに対向して配置されている。また、各凸条部８３の−Ｚ方向（下方）の端部側では、それぞれのＺ方向（上方）の端部側よりも内側により突出して形成されている。これにより、隣接する２つの凸条部８３の間には、溝８４が形成されるようになっている。また、各溝８４のＹ方向の長さすなわち幅Ｗは、−Ｚ方向（下方）側ほど狭まるようになっている。
【００８３】
そして、図３等に示す磁気記録媒体１は、基板カセット８０の上方から、そのデータ面をＸＺ平面に沿わせた状態で−Ｚ方向に供給され、基板カセット８０の２つの第２側板８２ａ、８２ｂ側に形成される一対の溝８４にその外端１ｂをそれぞれはめ込ませることで、基板カセット８０に収容されるようになっている。
【００８４】
また、基板カセット８０は、２つの第１側板８１ａ、８１ｂのＺ方向端部からＺ方向中央部にかけてそれぞれ切り欠き８１０ａ、８１０ｂが形成されることにより、上部に向かう開口が形成されている。この２つの切り欠き８１０ａ、８１０ｂは、基板カセット８０に収容された磁気記録媒体１を取り出す際に、磁気記録媒体１の内端１ａをチャックする手法を利用する際に、図示しないチャック治具を基板カセット８０の内側に挿入させるために設けられている。
【００８５】
そして、本実施の形態の基板カセット８０は、埃等の吸着を抑制するために、導電性を持たせることで帯電しにくくした材料で構成されている。
また、基板カセット８０を構成する材料としては、例えば、各種樹脂材料に帯電防止剤を添加したもの、各種樹脂材料の表面に帯電防止剤からなる層を設けたもの、各種金属材料、等が挙げられる。
【００８６】
ここで、各種樹脂材料としては、例えば、所望形状への成型が容易であり、また軟質のものが好ましい。具体的にはポリアセタール、超高分子量ポリエチレン、ポリアミドイミド等の樹脂、あるいはこれらの樹脂をベースとしてノンカーボン系の各種導電性材料を添加した樹脂組成物からなるノンカーボン系帯電防止剤を例示できる。これらの樹脂のうちでも特にポリアセタールまたはポリアセタールをベースとするノンカーボン系樹脂組成物からなる帯電防止材を推奨できる。ポリアセタールまたはポリアセタールをベースとするノンカーボン系樹脂組成物は、導電性が高いため静電気放電を確実に防止でき、かつ軟質樹脂であって接触疵防止の観点からも好ましい。
その他の帯電防止剤としては、各種表面活性剤、水溶性ポリマー、無機塩、多価アルコール、金属化合物等を用いることができ、これらのうちカチオン活性剤が一般的である。
さらに、金属材料としては、ステンレス合金、アルミニウム合金、ニッケル合金、クロム合金等を用いることができる。
【００８７】
また、本発明において、『導電性を有する』とは、その表面抵抗率が１０14Ω／□以下であることをいう。一方、本発明において、『絶縁性を有する』とは、その表面抵抗率が１０14Ω／□を越えていることをいう。
【００８８】
では、図５乃至図１１を用いて、表面検査・磁気転写装置１０による表面検査工程および磁気転写工程について説明を行う。なお、以下に説明する動作は、コントローラ７０によって制御される。また、初期状態において、表面検査・磁気転写装置１０を構成する各部は、図５に示した位置に配置されているものとする。さらに、以下の説明では、図５に示した直動部１７ｂ（直動部１７ｂに設けられた腕木部１７ｃ、さらに腕木部１７ｃに設けられた供給チャック部１７ｄおよび回収チャック部１７ｅを含む）の位置を、待機位置と呼ぶ。
【００８９】
動作の開始に伴い、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが、転写前媒体収容部１２の収容容器１２ａ（基板カセット８０）に収容される転写前媒体を１枚チャックして取り出し、チャックした転写前媒体を表面検査部１３に向けて移送する。続いて、移送されてきた転写前媒体を表面検査部１３に設けられたチャック機構（図示せず）が保持すると、アーム部１８ｂが転写前媒体のチャックを解除し、表面検査部１３から待避する。
【００９０】
次いで、表面検査部１３は、保持した転写前媒体の両面についてそれぞれ表面検査を行う。表面検査部１３による検査が完了すると、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが表面検査部１３側に移動し、アーム部１８ｂが表面検査部１３に保持された転写前媒体をチャックした後、表面検査部１３がこの転写前媒体のチャックを解除する。
【００９１】
ここで、表面検査の結果について、コントローラ７０が少なくともいずれか一方の面が不合格であると判断した場合は、アーム部１８ｂが、チャックした転写前媒体を不具合品収容部１６に向けて移送し、チャックを解除して不具合品収容部１６の収容容器１６ａ（基板カセット８０）に収容させた後、不具合品収容部１６から待避する。
一方、表面検査の結果について、コントローラ７０が両面とも合格であると判断した場合は、アーム部１８ｂが、チャックした転写前媒体を待機位置におかれた直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄと対向する位置に向けて搬送する。そして供給チャック部１７ｄがアーム部１８ｂに保持された転写前媒体をチャックした後、アーム部１８ｂがこの転写前媒体のチャックを解除し、供給チャック部１７ｄと対向する位置から待避する。
【００９２】
続いて、待機位置にある直動部１７ｂが、−Ｘ方向に沿って移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように移動していく。
【００９３】
この間、位置検出部１９は、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達したか否かを検出している。この位置の検出結果に基づき、コントローラ７０は、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達した時点で直動部１７ｂの駆動を停止させる。そして、以下の説明においては、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が２枚のマスタ情報記録体２００と正対する際の直動部１７ｂの位置を、供給位置と呼ぶ。
【００９４】
なお、マスタ情報記録体２００の中心に対する転写前媒体の中心の位置決めの要求精度は、±７．５μｍ、より好ましくは±５．０μｍの範囲内であれば十分である。なぜなら、転写前媒体に磁気転写されるサーボ・パターンが、仮に転写前媒体の中心に対して偏心していたとしても、磁気転写後のサーボ・パターンを用いて磁気ヘッド３がトラックＴに追従することができるのであれば、磁気記録媒体１に対するデータの読み書きは可能となるからである。
【００９５】
また、振動検出部２０は、位置決めに伴って供給位置に停止した直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄに取り付けられた転写前媒体の振動の大きさを検出している。そして、コントローラ７０は、振動検出部２０によって検出された振動の大きさが磁気記録媒体１のデータ面に対して平行の方向、すなわちＸ軸およびＺ軸を含む面において±１．０μｍ以下となった後に、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで固定ホルダ３０側に転写前媒体をチャックさせ、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００に転写前媒体の一方の面を接触させる。そして、固定ホルダ３０側に転写前媒体をチャックしてから、供給チャック部１７ｄはこの転写前媒体のチャックを解除する。そして、転写前媒体の保持を解除した直動部１７ｂは、Ｘ方向に向かって移動した後、待機位置で停止する。
【００９６】
続いて、磁気転写部１４において、可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が固定ホルダ３０側に近づく方向へと移動を開始する。これに伴い、まず、筒状体４０ｂの周部端面が固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に突き当たった後に停止する。また、記録体保持部４０ａおよび第２磁石部材６０は、筒状体４０ｂが停止した後も固定ホルダ３０側に近づく方向へと移動を続け、固定ホルダ３０に設けられたマスタ情報記録体２００と可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａに設けられたマスタ情報記録体２００とによって転写前媒体を挟み込んだ後に停止する。なお、記録体保持部４０ａの停止位置は予め決められており、その結果、２枚のマスタ情報記録体２００および１枚の転写前媒体には、予め設定された軽い荷重が加えられる。また、このとき、固定ホルダ３０と記録体保持部４０ａと筒状体４０ｂとの間には、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３と筒状体４０ｂに設けられたＯリング４１とを用いて、閉空間が形成される。続いて、第２吸引路３２を介した吸引を開始させることで、閉空間内に存在する２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体との間に存在する隙間が真空引きされ、閉空間内外の差圧によって２枚のマスタ情報記録体２００の各サーボ・パターン形成領域ＳＰの形成面と１枚の転写前媒体の両面とがそれぞれ密着していく。
【００９７】
次に、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石支持部５３および第２磁石支持部６３を軸とし、２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体とを挟んで、第１磁石５１および第２磁石６１を対向させた状態を維持しながら少なくとも１回転する。
第１磁石５１および第２磁石６１が１回転する間、２枚のマスタ情報記録体２００に挟まれた転写前媒体では、第１磁石５１および第２磁石６１により、初期磁化工程とは逆向きの直流磁界が周方向に順次印加される。すると、転写前媒体のうち、固定ホルダ３０側のマスタ情報記録体２００と接する側では、このマスタ情報記録体２００の凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。また、この転写前媒体のうち、可動ホルダ４０側のマスタ情報記録体２００と接する側でも、このマスタ情報記録体２００の凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。このようにして、転写前媒体の両面には、それぞれ、マスタ情報記録体２００に設けられた凹凸の配列からなるサーボ・パターンが、磁化の向きの配列からなるサーボ・パターンとして転写される。その結果、転写前媒体は、位置決めデータ記憶領域Ａ２にサーボ・パターンが記憶された転写済媒体となる。
【００９８】
このようにして磁気転写が完了すると、まず、第２吸引路３２を介した吸引を停止して閉空間内を大気圧とし、次いで、可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が元の位置への後退を開始する。これにより、固定ホルダ３０に保持された転写済媒体は、外部に露出した状態となる。
【００９９】
ところで、直動部１７ｂは、上述したように、供給チャック部１７ｄに保持した転写前媒体を、供給位置において固定ホルダ３０側に受け渡した後、待機位置に戻って停止している。そして、この表面検査・磁気転写装置１０では、磁気転写部１４で前の転写前媒体に磁気転写を行うのと並行して、次の転写前媒体の準備を行っている。すなわち、前の転写前媒体への磁気転写と並行して、スカラ・ロボット１８を用いた転写前媒体収容部１２からの次の転写前媒体の取り出し、表面検査部１３による次の転写前媒体の検査、そして、待機位置にある直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄによる次の転写前媒体のチャックが行われる。なお、供給チャック部１７ｄによる次の転写前媒体のチャックは、前の転写前媒体への磁気転写が完了するまで（転写前媒体が転写済媒体となるまで）に終了していることが、生産性の観点から好ましい。
【０１００】
そして、磁気転写部１４において前の転写前媒体への磁気転写が完了し、且つ、次の転写前媒体の供給チャック部１７ｄへのチャックが完了した状態で、待機位置にある直動部１７ｂが、−Ｘ方向に沿って移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、何も保持していない回収チャック部１７ｅが、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように移動していく。その後、直動部１７ｂは、回収チャック部１７ｅが、固定ホルダ３０に真空チャックされた転写済媒体と正対する位置に到達して停止する。このとき、コントローラ７０が、位置検出部１９による位置検出結果に基づく直動部１７ｂの停止位置の制御を行うようにしてもよい。なお、以下の説明においては、回収チャック部１７ｅが固定ホルダ３０に保持された転写済媒体と正対する際の直動部１７ｂの位置を、回収位置と呼ぶ。
【０１０１】
次に、回収チャック部１７ｅが転写済媒体をチャックし、その後固定ホルダ３０による転写済媒体の真空チャックを解除する。
続いて、回収位置におかれた直動部１７ｂは、回収チャック部１７ｅに転写済媒体を保持し、供給チャック部１７ｄに次の転写前媒体を保持した状態で、Ｘ方向に移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように、再び供給位置に向かって移動していく。
【０１０２】
この間、位置検出部１９は、供給チャック部１７ｄに保持された次の転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達したか否かを検出している。この位置の検出結果に基づき、コントローラ７０は、供給チャック部１７ｄに保持された次の転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達した時点すなわち供給位置に到達した時点で直動部１７ｂの駆動を停止させる。
【０１０３】
また、振動検出部２０は、位置決めに伴って供給位置に停止した直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄに取り付けられた次の転写前媒体の振動の大きさを検出している。そして、コントローラ７０は、振動検出部２０によって検出された振動の大きさが磁気記録媒体１のデータ面に対して平行の方向で±１．０μｍ以下となった後に、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで固定ホルダ３０側に次の転写前媒体を真空チャックし、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００に次の転写前媒体の一方の面を接触させる。なお、固定ホルダ３０側に次の転写前媒体を真空チャックしてから、供給チャック部１７ｄはこの次の転写前媒体のチャックを解除する。その後、この次の転写前媒体には、上述した手順を経てサーボ・パターンの磁気転写がなされる。これに対し、転写済媒体を保持する一方で次の転写前媒体の保持を解除した直動部１７ｂは、Ｘ方向に向かって移動した後、待機位置で停止する。
【０１０４】
次いで、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが、待機位置で停止した直動部１７ｂの回収チャック部１７ｅに保持された転写済媒体と対向する位置に移動する。続いて、アーム部１８ｂが、回収チャック部１７ｅに保持された転写済媒体をチャックした後、回収チャック部１７ｅが転写済媒体のチャックを解除する。そして、アーム部１８ｂが、チャックした転写済媒体を転写済媒体収容部１５に向けて移送し、チャックを解除して転写済媒体収容部１５の収容容器１５ａ（基板カセット８０）に収容させた後、転写済媒体収容部１５から待避し、さらに次の転写前媒体の取り出しを開始する。
【０１０５】
以降、上述した手順を繰り返すことにより、転写前媒体の取り出し、転写前媒体に対する表面検査、転写前媒体に対するサーボ・パターンの磁気転写、サーボ・パターンが転写された転写済媒体の回収が順次行われていく。
【０１０６】
本実施の形態では、上述したように、２枚のマスタ情報記録体２００によって転写前媒体を挟んだ状態で磁気転写を行う。このとき、転写前媒体の表面に埃等の異物（ダスト）が付着していた場合には、マスタ情報記録体２００の接触面がダストによって傷つけられてしまい、結果として、マスタ情報記録体２００の寿命（転写に使用し得る回数）が短くなってしまうことがある。特に本実施の形態では、マスタ情報記録体２００に凹凸によるサーボ・パターンを形成しているため、接触時に凹凸が欠けたり変形してしまったりした場合には、以降の磁気転写において転写不良が生じてしまうことになる。
【０１０７】
また、本実施の形態では、磁気転写工程の前に、ワイピング工程やバーニッシュ工程が行われる。ワイピングやバーニッシュにおいては、磁気記録媒体１の表面からダストが生じることがある。
【０１０８】
従来の手法においては、バーニッシュを施した磁気記録媒体１を、例えば樹脂からなる基板カセット８０に収容して搬送に供していた。このため、基板カセット８０にダストが静電吸着する場合があり、基板カセット８０に静電吸着したダストが基板カセット８０に収容された磁気記録媒体１に転移・付着してしまうおそれがあった。特に、バーニッシュ工程においては、磁気記録媒体１から剥がされたダストや砥粒に起因するダストが発生しやすいため、バーニッシュ後の磁気記録媒体１を収容する基板カセット８０には、ダストが静電吸着しやすい状況にあった。
【０１０９】
これに対し、本実施の形態では、導電性を有することで帯電防止機能を備えた材料によって構成された基板カセット８０に磁気記録媒体１を収容して搬送するようにした。これにより、基板カセット８０にダストを静電吸着させにくくすることが可能になり、結果として基板カセット８０から基板カセット８０に収容される磁気記録媒体１へとダストが転移、付着するという事態の発生を抑制することができる。その結果、磁気転写において２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体との間にダストが噛み込まれにくくなり、マスタ情報記録体２００の低寿命化を抑制することが可能になる。
【０１１０】
なお、本実施の形態では、潤滑層１７０までが形成された磁気記録媒体１に対し、ワイピングおよびバーニッシュを施した後に磁気転写を行うようにしていたが、これに限られるものではなく、ワイピングを施すことなくバーニッシュのみを施した後に磁気転写を行うようにしてもよい。
【０１１１】
また、本実施の形態では、バーニッシュ工程が完了した磁気記録媒体１（転写前媒体）を、帯電防止機能を備えた基板カセット８０に収容した状態で表面検査・磁気転写装置１０に搬送するようにしていたが、これに限られるものではない。例えば、初期磁化工程を行う初期磁化装置、初期磁化工程の前にバーニッシュ工程を行うバーニッシュ装置、バーニッシュ工程の前にワイピング工程を行うワイピング装置、そして、表面検査・磁気転写装置１０の間に、産業用ロボット（多関節ロボット）を配置し、基板カセット８０を用いることなく、各装置間で磁気記録媒体１を直接受け渡すようにしてもよい。すなわち、バーニッシュ工程後の磁気記録媒体１を、絶縁性を有することにより帯電しやすい材料に接触させることなく、そのまま表面検査・磁気転写装置１０に供するようにしてもよい。なお、この場合において、磁気記録媒体１を掴むために産業用ロボットに設けられた部材は、導電性を有する材料（上述した帯電防止剤を含む樹脂や金属）で構成することが必要になる。
【符号の説明】
【０１１２】
１…磁気記録媒体、１００…基板、１１０…密着層、１２０…軟磁性下地層、１３０…配向制御層、１４０…非磁性下地層、１５０…垂直記録層、１６０…保護層、１７０…潤滑層、１８０…積層基板、１０…表面検査・磁気転写装置、１２…転写前媒体収容部、１３…表面検査部、１４…磁気転写部、１５…転写済媒体収容部、１６…不具合品収容部、１７…移載部、１８…スカラ・ロボット、８０…基板カセット、２００…マスタ情報記録体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハード・ディスク・ドライブ等に代表される磁気記録装置では、回転する磁気記録媒体に対し、磁気ヘッドを用いたデータの書き込みおよび読み取りが行われる。
この種の磁気記録装置では、磁気記録媒体上の目的とする位置に磁気ヘッドを移動させ、且つ、その位置でのデータの書き込みおよび読み取りを行わせるために、磁気ヘッドの位置決めを行っている。このため、磁気記録媒体には、予め、磁気ヘッドによって読み取られるとともに磁気ヘッドの位置決めに使用される位置決めデータが記録されている。
【０００３】
公報記載の従来技術として、磁気記録媒体に対する位置決めデータ等の記録を、所謂磁気転写方式にて行うことが提案されている（特許文献１参照）。磁気転写においては、記録すべきデータに対応したパターンが形成されたパターン形成体に磁気記録媒体を重ね合わせた状態で、パターン形成体と磁気記録媒体とを挟んで一方向に向かう磁力を加えることで、磁気記録媒体に対するパターンの磁気的な転写を行う。そして、特許文献１には、磁性層等が形成された磁気記録媒体に対し、磁気記録媒体の表面を平滑化するバーニッシュを施した後、磁気記録媒体に対する磁気転写を実行することも記載されている。
【０００４】
また、他の公報記載の従来技術として、磁気記録媒体に磁気転写を行う磁気転写装置に対し、磁気転写の前工程が完了した複数の磁気記録媒体を収容したカセットを供給し、磁気転写装置において、供給されたカセットから１枚ずつ取り出した磁気記録媒体に対し、磁気転写を行うことが記載されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−９２８７０号公報
【特許文献２】特開２００１−３５７５２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
磁気記録媒体の表面を平滑化した後、この磁気記録媒体に磁気転写を行うまでの間に、カセットに静電吸着した埃等の異物が磁気記録媒体の表面に転移、付着してしまうと、磁気転写においてパターン形成体に磁気記録媒体を重ね合わせる際に、両者の間に異物が挟み込まれてしまい、パターン形成体に傷がつくことに伴ってパターン形成体の寿命が短くなってしまうことがあった。
本発明は、研磨を行った後であって磁気転写を行う前の磁気記録媒体に対する異物の付着を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁性層が形成された磁気記録媒体の表面を研磨する工程と、導電性を有する容器に、表面が研磨された磁気記録媒体を収容して搬送する工程と、搬送されてきた容器から取り出した磁気記録媒体の表面に、パターンが形成されたパターン形成体のパターンの形成面を接触させ、パターンを磁気記録媒体の磁性層に磁気的に転写する工程とを含んでいる。
【０００８】
このような磁気記録媒体の製造方法において、磁気記録媒体は、磁性層よりも表面側に摩耗を抑制するための摩耗抑制層を備え、研磨する工程では、砥粒を含むテープにて摩耗抑制層を擦ることを特徴とすることができる。
また、研磨する工程では、砥粒を含むテープにて摩耗抑制層を擦る前に、砥粒を含まないテープにて摩耗抑制層を擦ることを特徴とすることができる。
さらに、導電性を有する容器は、導電性材料を有する樹脂または金属にて構成されることを特徴とすることができる。
【０００９】
また、他の観点から捉えると、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁性層が形成された磁気記録媒体の表面を研磨する工程と、表面が研磨された磁気記録媒体を、絶縁性を有する部材に接触させることなく搬送する工程と、搬送されてきた磁気記録媒体の表面に、パターンが形成されたパターン形成体のパターンの形成面を接触させ、パターンを磁気記録媒体の磁性層に磁気的に転写する工程とを含んでいる。
【００１０】
このような磁気記録媒体の製造方法において、磁気記録媒体は、磁性層よりも表面側に摩耗を抑制するための摩耗抑制層を備え、研磨する工程では、砥粒を含むテープにて摩耗抑制層を擦ることを特徴とすることができる。
また、研磨する工程では、砥粒を含むテープにて摩耗抑制層を擦る前に、砥粒を含まないテープにて摩耗抑制層を擦ることを特徴とすることができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、研磨を行った後であって磁気転写を行う前の磁気記録媒体に対する異物の付着を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本実施の形態が適用される磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
【図２】磁気記録媒体の断面構成の一例を示す図である。
【図３】磁気記録媒体の上面図である。
【図４】本実施の形態における磁気記録媒体の製造方法の一例を示すフローチャートである。
【図５】表面検査および磁気転写を行うための表面検査・磁気転写装置の上面図である。
【図６】図５の矢印ＶＩ方向からみた表面検査・磁気転写装置の斜視図である。
【図７】磁気転写部における第１磁石部材、第２磁石部材の構成および両者の相互的な位置関係の一例を示す図である。
【図８】磁気転写部で用いられるマスタ情報記録体の構成の一例を示す図である。
【図９】磁気転写部における固定ホルダおよび可動ホルダの断面構成の一例を示す図である。
【図１０】表面検査・磁気転写装置における制御ブロックの一例を示す図である。
【図１１】収容容器として使用される基板カセットの構成の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態が適用される磁気記録媒体１を備えた磁気記録再生装置の構成の一例を示した図である。
この磁気記録再生装置は、データを磁気的に記録する磁気記録媒体１と、磁気記録媒体１を回転駆動させる回転駆動部２と、磁気記録媒体１にデータを書き込むとともに磁気記録媒体１に記録されたデータを読み取る磁気ヘッド３と、磁気ヘッド３を搭載するキャリッジ４と、キャリッジ４を介して磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３を相対移動させるヘッド駆動部５と、外部から入力された情報を処理して得られた記録信号を磁気ヘッド３に出力し、磁気ヘッド３からの再生信号を処理して得られた情報を外部に出力する信号処理部６とを備えている。
ここで、本実施の形態では、磁気記録媒体１が円盤状の形状を有しており、後述するように、その両面にそれぞれデータを記録するための記録層が形成されている。そして、図１に示す例では、１台の磁気記録再生装置に複数（ここでは３枚）の磁気記録媒体１が取り付けられている。
【００１４】
図２は、図１に示す磁気記録媒体１の断面構成の一例を示す図である。なお、磁気記録媒体１に対するデータの記録方式には面内記録方式と垂直記録方式とが存在するが、本実施の形態では、垂直記録方式において使用される磁気記録媒体１について説明を行う。
この磁気記録媒体１は、基板１００と、基板１００の上に形成された密着層１１０と、密着層１１０の上に形成された軟磁性下地層１２０と、軟磁性下地層１２０の上に形成された配向制御層１３０と、配向制御層１３０の上に形成された非磁性下地層１４０と、非磁性下地層１４０の上に形成された垂直記録層１５０と、垂直記録層１５０の上に形成された保護層１６０と、保護層１６０の上に形成された潤滑層１７０とを備えている。そして、本実施の形態では、基板１００の両面のそれぞれに、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０、保護層１６０、および潤滑層１７０が形成されるようになっている。なお、以下の説明においては、必要に応じて、基板１００の両面に密着層１１０から保護層１６０までを積層したもの、換言すれば、基板１００に潤滑層１７０以外を形成したものを、積層基板１８０と称することがある。
【００１５】
本実施の形態では、基板１００として非磁性体が使用されており、例えばアルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えばガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、ＮｉＰ層又はＮｉＰ合金層が形成されたものを用いることもできる。
【００１６】
これらのうち、ガラス基板としては、例えば、通常のガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、通常のガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。また、セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。
【００１７】
また、基板１００は、後述するようにＣｏ又はＦｅが主成分となる軟磁性下地層１２０と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。このため、基板１００と軟磁性下地層１２０との間に密着層１１０を設けることが好ましい。なお、密着層１１０の材料としては、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金など適宜選択することが可能である。また、密着層１１０の厚みは２ｎｍ（２０Å）以上であることが好ましい。
【００１８】
軟磁性下地層１２０は、垂直記録方式を採用した場合において、記録再生時のノイズの低減を図るために設けられる。
本実施の形態において、軟磁性下地層１２０は、密着層１１０の上に形成される第１軟磁性層１２１と、第１軟磁性層１２１の上に形成されるスペーサ層１２２と、スペーサ層１２２の上に形成される第２軟磁性層１２３とを備えている。すなわち、軟磁性下地層１２０は、第１軟磁性層１２１と第２軟磁性層１２３とによってスペーサ層１２２を挟み込んだ構成を有している。
これらのうち、第１軟磁性層１２１および第２軟磁性層１２３は、Ｆｅ：Ｃｏを４０：６０〜７０：３０（原子比）の範囲で含む材料を用いるのが好ましく、またその透磁率や耐食性を高めるためＴａ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｃｒからなる群から選ばれる何れか１種を１原子％〜８原子％の範囲で含有させるのが好ましい。
また、スペーサ層１２２としては、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｃｕ等を用いることができるが、この中では特にＲｕを用いるのが好ましい。
【００１９】
配向制御層１３０は、非磁性下地層１４０を介してこの上に積層される垂直記録層１５０の結晶粒を微細化して、記録再生特性を改善するために設けられる。
配向制御層１３０を構成する材料については、特に限定されるものではないが、ｈｃｐ構造、ｆｃｃ構造、アモルファス構造を有するものが好ましい。特に、Ｒｕ系合金、Ｎｉ系合金、Ｃｏ系合金、Ｐｔ系合金、Ｃｕ系合金が好ましく、またこれらの合金を多層化したものを用いてもよい。例えば、基板１００側からＮｉ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｃｏ系合金とＲｕ系合金との多層構造、Ｐｔ系合金とＲｕ系合金との多層構造を採用することが好ましい。
【００２０】
非磁性下地層１４０は、この上に積層される垂直記録層１５０の初期積層部における結晶成長の乱れを抑制し、記録再生時のノイズの発生を抑制するために設けられる。ただし、非磁性下地層１４０については、必ずしも設ける必要はない。
本実施の形態において、非磁性下地層１４０は、Ｃｏを主成分とする金属に、さらに酸化物を含んだ材料からなることが好ましい。非磁性下地層１４０におけるＣｒの含有量は、２５原子％〜５０原子％とすることが好ましい。非磁性下地層１４０における酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。非磁性下地層１４０における酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等の合金を１つの化合物として算出したｍｏｌ総量に対して、３ｍｏｌ％以上１８ｍｏｌ％以下であることが好ましい。
【００２１】
本実施の形態における垂直記録層１５０は、非磁性下地層１４０の上に形成される第１磁性層１５１と、第１磁性層１５１の上に形成される第１非磁性層１５２と、第１非磁性層１５２の上に形成される第２磁性層１５３と、第２磁性層１５３の上に形成される第２非磁性層１５４と、第２非磁性層１５４の上に形成される第３磁性層１５５とを備えている。すなわち、垂直記録層１５０では、第１磁性層１５１と第２磁性層１５３とによって第１非磁性層１５２を挟み込み、第２磁性層１５３と第３磁性層１５５とによって第２非磁性層１５４を挟み込んだ構成を有している。
【００２２】
これらのうち、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５は、磁気ヘッド３から供給される磁気エネルギーによって垂直記録層１５０の厚さ方向に磁区の向きを反転させ、その状態を維持することでデータを記憶するために設けられる。なお、これら第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５が、本発明における磁性層に対応している。
これら第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５は、Ｃｏを主成分とする金属からなる磁性粒子と非磁性の酸化物とを含み、磁性粒子を酸化物で囲んだグラニュラ型構造を有するものを用いることが好ましい。
【００２３】
ここで、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５を構成する酸化物としては、例えばＣｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉＯ２などを好適に用いることができる。また、垂直記録層１５０の中で最下層となる第１磁性層１５１については、２種類以上の酸化物からなる複合酸化物を含んでいることが好ましい。その中でも特に、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３−ＳｉＯ２−ＴｉＯ２などを好適に用いることができる。
【００２４】
また、第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５を構成する磁性粒子に適した材料としては、例えば、９０（Ｃｏ１４Ｃｒ１８Ｐｔ）−１０（ＳｉＯ２）｛Ｃｒ含有量１４原子％、Ｐｔ含有量１８原子％、残部Ｃｏからなる磁性粒子を１つの化合物として算出したモル濃度が９０ｍｏｌ％、ＳｉＯ２からなる酸化物組成が１０ｍｏｌ％｝、９２（Ｃｏ１０Ｃｒ１６Ｐｔ）−８（ＳｉＯ２）、９４（Ｃｏ８Ｃｒ１４Ｐｔ４Ｎｂ）−６（Ｃｒ２Ｏ３）の他、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｔａ２Ｏ５）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔ）−（Ｃｒ２Ｏ３）−（ＳｉＯ２）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＭｏ）−（ＴｉＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＷ）−（ＴｉＯ２）、（ＣｏＣｒＰｔＢ）−（Ａｌ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＴａＮｄ）−（ＭｇＯ）、（ＣｏＣｒＰｔＢＣｕ）−（Ｙ２Ｏ３）、（ＣｏＣｒＰｔＲｕ）−（ＳｉＯ２）などを挙げることができる。
【００２５】
また、第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４は、垂直記録層１５０を構成する第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５の個々での磁化反転を容易とし、磁性粒子全体での磁化反転の分散を小さくすることで、ノイズを低減するために設けられる。
本実施の形態において、第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４は、例えばＲｕおよびＣｏを含んでいることが好ましい。
【００２６】
なお、この例では、垂直記録層１５０を構成する磁性層を３層（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５）としていたが、これに限られるものではなく、４層以上の磁性層を備えた構成とすることも可能である。また、この例では、垂直記録層１５０を構成する各磁性層（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３および第３磁性層１５５）の間に非磁性層（第１非磁性層１５２および第２非磁性層１５４）を設けていたが、これに限られるものではなく、例えば異なる組成を有する２つの磁性層を、重ねて配置するようにしてもかまわない。
【００２７】
摩耗抑制層の一例としての保護層１６０は、垂直記録層１５０の腐食を抑制するとともに、磁気ヘッド３が磁気記録媒体１に接触したときに、磁気記録媒体１の表面の損傷を防いで保護するために設けられる。
保護層１６０としては、従来公知の材料を使用することができ、例えばＣ、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２を含むものを使用することが可能である。保護層１６０の厚みは、１〜１０ｎｍとすることが、図１に示す磁気記録再生装置において磁気ヘッド３と磁気記録媒体１との距離を小さくできるので、高記録密度の点から好ましい。
【００２８】
摩耗抑制層の一例としての潤滑層１７０は、磁気ヘッド３が磁気記録媒体１に接触したときに磁気ヘッド３および磁気記録媒体１の表面の摩耗を抑制するために設けられる。
潤滑層１７０としては、従来公知の材料を使用することができ、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を用いることが好ましい。潤滑層１７０の厚さは、１〜２ｎｍとすることが、図１に示す磁気記録再生装置において磁気ヘッド３と磁気記録媒体１との距離を小さくできるので、高記録密度の点から好ましい。
なお、本発明における摩耗抑制層とは、保護層１６０および潤滑層１７０のいずれか、または両者を指す。
【００２９】
図３は、図１に示す磁気記録媒体１の上面図である。また、図３には、磁気記録媒体１の表面に設けられる複数のデータ領域を模式的に示している。
本実施の形態における磁気記録媒体１は、上述したように円盤状の形状を有しており、その中央部には磁気記録媒体１の表裏を貫通する円形状の孔が形成されている。以下の説明では、磁気記録媒体１における円形状の孔の縁を内端１ａと称し、磁気記録媒体１における外周の縁を外端１ｂと称する。
【００３０】
図３に示す磁気記録媒体１の表面には、磁気ヘッド３（図１参照）を用いたデータの読み書きを行うための読み書きデータ記憶領域Ａ１と、磁気ヘッド３を用いたデータの読み書きにおいて磁気ヘッド３の位置決めに用いられるデータ（位置決めデータという）を記憶する位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。この例において、位置決めデータ記憶領域Ａ２は、磁気記録媒体１の表面に、放射状に複数設けられている。また、磁気記録媒体１の表面には、同心円状に、複数のトラックＴが設けられる。なお、図示はしていないが、図３に示す磁気記録媒体１の裏面にも、同様にして、読み書きデータ記憶領域Ａ１と位置決めデータ記憶領域Ａ２とが設けられている。ただし、磁気記録媒体１の表裏面のそれぞれに設けられた位置決めデータ記憶領域Ａ２は、表裏で位置を合わせなくてもかまわない。
【００３１】
磁気記録媒体１の位置決めデータ記憶領域Ａ２には、位置決めデータとして、例えば、磁気ヘッド３による読み取り時において検出信号の利得調整に用いられるＡＧＣ（Auto Gain Control）パターン、サーボ信号の検出に用いられる検出パターン、サーボ・トラックのシリンダ情報あるいはセクタ情報の検出に用いられるアドレス・パターン、そして目的とするトラックＴに磁気ヘッド３を移動させた後にそのトラックＴ上に磁気ヘッド３を追従させるのに用いられるバースト・パターン（いずれも図示せず）等を含むサーボ・パターンが記憶されている。なお、サーボ・パターンは、磁気記録媒体１に設けられた垂直記録層１５０の厚み方向の磁化の向きを、位置決めデータに合わせて適宜反転させることで構成されている。
【００３２】
図４は、本実施の形態における磁気記録媒体１の製造方法の一例を示すフローチャートである。本実施の形態では、磁気記録媒体１の製造過程において、上述した位置決めデータ記憶領域Ａ２にサーボ・パターンの書き込みを行っていること、より具体的には、後述するマスタ情報記録体２００（図８参照）を用いて、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写していることに特徴がある。
【００３３】
磁気記録媒体１の製造に先立ち、予め円盤状に形成されるとともに中央部に表裏を貫通する円形状の孔が形成された基板１００を準備し、予備洗浄を行った後、この基板１００に対する研磨を行う（ステップ１０１）。ステップ１０１における基板１００の研磨は、例えばダイヤモンドスラリーを用いたメカニカルポリッシュで行うことが望ましい。
【００３４】
そして、研磨後の基板１００は、その平均表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ（１０Å）以下、好ましくは０．５ｎｍ以下であるとことが、磁気ヘッド３（図１参照）を低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、研磨後の基板１００の表面の微小うねり（Ｗａ）が０．３ｎｍ以下（より好ましくは０．２５ｎｍ以下。）であることが、磁気ヘッド３を低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、研磨後の基板１００の端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下（より好ましくは９．５ｎｍ以下。）のものを用いることが、磁気ヘッド３の飛行安定性にとって好ましい。なお、微少うねり（Ｗａ）は、例えば、表面粗さ測定装置Ｐ−１２（ＫＬＭ−Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用い、測定範囲８０μｍでの表面平均粗さとして測定することができる。
【００３５】
次に、研磨が施された基板１００に対し、前洗浄を行う（ステップ１０２）。ステップ１０２における基板１００の前洗浄は、研磨が施された基板１００を、純水あるいは超純水に浸漬して超音波振動を加えながら行うことが好ましい。そして、前洗浄がなされた基板１００は、速やかにスピン法等で乾燥させることが好ましい。
【００３６】
続いて、前洗浄が施された基板１００に対し、密着層１１０、軟磁性下地層１２０、配向制御層１３０、非磁性下地層１４０、垂直記録層１５０および保護層１６０を順次積層する成膜工程を行う（ステップ１０３）。ここで、生産性を向上させるという観点からすれば、ステップ１０３における各層の形成を、例えばそれぞれが成膜機能を備えた複数のチャンバを直列に接続したインライン式成膜装置で行うことが好ましい。また、生産性を向上させるという観点からすれば、成膜工程で形成される各層をスパッタリング法で形成することが望ましい。ただし、保護層１６０の強度を確保しつつ薄膜化するという観点からすれば、密着層１１０から垂直記録層１５０についてはスパッタリング法で形成する一方、保護層１６０についてはＣＶＤ法で形成することが好ましい。このように、前洗浄が施された基板１００に対し成膜工程を行うことで、積層基板１８０（図２参照）が得られる。
【００３７】
そして、成膜工程によって得られた積層基板１８０に対し、後洗浄を行う（ステップ１０４）。ステップ１０４における積層基板１８０の後洗浄は、記録層を構成する合金の腐食を防ぐため水素水を用いることができる。ここで、水素水とは、純水もしくは超純水に、高純度の水素ガスを溶解した水であり、被洗浄物の腐食を低減し、また水のクラスターを小さくして洗浄能力を高めたものである。
【００３８】
本実施の形態の後洗浄工程は、後述するワイピング工程（ステップ１０７）、バーニッシュ工程（ステップ１０８）では除去しきれない積層基板１８０表面の汚染物を除去する目的で行われる。これらの汚染物は、後述する潤滑剤塗布工程（ステップ１０５）や上記ワイピング工程およびバーニッシュ工程の後では水素水による洗浄除去が困難となる場合がある。その理由は、推測ではあるが、汚染物が潤滑層１７０に覆われるとその撥水性により除去が困難となること、ワイピング工程およびバーニッシュ工程の後では汚染物が積層基板１８０の表面に塗り込められ、除去しにくくなってしまうことが考えられる。なお、水素水を用いた後洗浄工程によっても、スパッタダスト等の粉状物をある程度は除去することが可能ではあるが、ワイピング工程およびバーニッシュ工程のように積層基板１８０の表面をスクラブし、ワイプし、または削る効果が低いため、積層基板１８０の表面に強固に付着した粉状物を除去することは困難である。よって、この水素水を用いた後洗浄工程は、ワイピング工程やバーニッシュ工程と併用するのが好ましい。
【００３９】
次に、後洗浄が施された積層基板１８０に対し、潤滑剤を塗布し（ステップ１０５）、積層基板１８０に潤滑層１７０を形成する。続いて、潤滑層１７０が塗布された積層基板１８０を１００℃程度で数分間加熱するベークを行う（ステップ１０６）。これにより、潤滑層１７０に含まれる水分が揮発し、且つ、積層基板１８０の最表面側に設けられた保護層１６０と保護層１６０に接する潤滑層１７０との密着性が高まる。以上により、磁気記録媒体１が得られる。
【００４０】
次いで、ベークが施された磁気記録媒体１の表面をワイピングする（ステップ１０７）。ワイピング工程は、磁気記録媒体１の表面に付着したスパッタダスト等を拭き取るために行われる。これは、上述したように、ステップ１０４の後洗浄工程は水素水への浸漬によるものであり、これだけでは、磁気記録媒体１の表面に強固に付着した粉状物を除去することが困難であるからである。
【００４１】
ワイピング工程は、例えば布製のワイピングテープ（砥粒を含まないテープ）等を用いて行なわれ、このワイピングテープを磁気記録媒体１の表面に対して相対走行させつつ、ゴム製のコンタクトロールまたはパッドによってワイピングテープ表面を磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、磁気記録媒体１の表面を軽く拭くことによって行われる。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体１の表面に付着していたスパッタダスト等が除去されることになる。その結果、得られた磁気記録媒体１を図１に示す磁気記録再生装置に組み込んだ場合に、磁気記録媒体１に対する磁気ヘッド３の浮上量をより小さくすることが可能となる。
【００４２】
ここで、ワイピング工程に用いられるワイピングテープとしては、超極細繊維よりなる布帛を帯状にスリットしたワイピングテープや、超極細繊維マルチフィラメント糸の織編物等が用いられる。
【００４３】
また、このようなワイピングテープを用いる磁気記録媒体１のワイピング方法は、具体的には、磁気記録媒体１を回転させつつ、この磁気記録媒体１の磁性層側の面に、ワイピングテープの表面（拭き面）を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体１の表面のスパッタダスト等が拭き取られ、表面が清浄化する。ここで、ワイピングテープは、供給リールと巻取りリールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取りリールに巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取りリール側に走行する途中で、ワイピングテープは、拭き面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロールまたはフェルト等により押圧され、その拭き面が磁気記録媒体１の表面に押し当てられる。
【００４４】
そして、ワイピングが施された磁気記録媒体１の表面に対しバーニッシュを行う（ステップ１０８）。
バーニッシュ工程は、磁気記録媒体１の表面に形成または付着した突起物を除去するため、その表面を、研磨テープを用いて研磨する工程である。このような処理を行うことにより、得られた磁気記録媒体１を図１に示す磁気記録再生装置に組み込んだ場合に、磁気記録媒体１に対する磁気ヘッド３の浮上量をより小さくすることができる。また、後述する磁気転写工程において、磁気記録媒体１とマスタ情報記録体２００との間に隙間が生じて転写パターンが不鮮明となり、マスタ情報記録体２００が損傷を受けるのを防ぐことができる。なお、本発明においては、ステップ１０８のバーニッシュ工程が「研磨する工程」に対応している。また、ステップ１０８のバーニッシュ工程とステップ１０７のワイピング工程とを含めて、「研磨する工程」とすることもある。
【００４５】
バーニッシュ工程は、アルミナ砥粒を塗布した研磨テープ（砥粒を含むテープ）等を用いて行なわれ、この研磨テープをゴム製のコンタクトロールによって磁気記録媒体１の表面に押し当てることにより、磁気記録媒体１の表面を軽く研磨することにより行われる。このような処理を行うことにより、磁気記録媒体１の表面の異常突起等が除去される。
【００４６】
バーニッシュ工程に用いられる研磨テープ（バーニッシュテープ）としては、通常ポリエステル製のベースフィルム上に研磨材層を形成してなるテープを使用する。そして、この研磨材層が磁気記録媒体１の磁性層側の面と接触して摺動することによって、磁気記録媒体１の表面に付着した微小な塵埃が除去されると共に、その表面に存在する異常突起等が研磨・除去されて、その表面が平滑化される。研磨材としては、平均粒子径が０．０５μｍ〜５０μｍ程度の、酸化クロム、α−アルミナ、炭化珪素、非磁性酸化鉄、ダイヤモンド、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、コランダム、人造ダイヤモンド等が用いられる。
【００４７】
また、このような研磨テープを用いる磁気記録媒体１のバーニッシュ加工は、具体的には、磁気記録媒体１を回転させつつ、この磁気記録媒体１の磁性層側の面に、研磨テープの砥粒面を押し当てることにより行われる。これにより、磁気記録媒体１の表面の突起が研磨除去され平滑化される。ここで、研磨テープは、供給リールと巻取りリールとの間に掛け渡されており、供給リールから順次供給され、巻取りリールに巻き取られる。そして、この供給リール側から巻取りリール側に走行する途中で、研磨テープは、砥粒面と反対側の面（裏面）がゴム等のバッキングロールまたはフェルト等により押圧され、研磨テープの研磨面が磁気記録媒体１の表面に押し当てられる。
【００４８】
次に、バーニッシュが施された磁気記録媒体１に対し、初期磁化を行う（ステップ１０９）。この例では、垂直記録方式で用いられる磁気記録媒体１を対象としているため、初期磁化工程は、磁気記録媒体１の表面に垂直方向に一方向の初期直流磁界を印加することによって行われる。その際に印加する初期直流磁界は永久磁石、電磁石によって発生させることが可能であり、好ましくは、より安定で磁力の強いＮｄＦｅＢ系の焼結磁石を用いて発生させるのが好ましい。また、初期磁化工程は磁気記録媒体１と磁石とを非接触状態で行うことが、磁気記録媒体１の表面の清浄性を維持する上で好ましい。
【００４９】
ここで、本実施の形態の磁気記録媒体１における垂直記録層１５０（第１磁性層１５１、第２磁性層１５３、第３磁性層１５５）の保磁力Ｈｃは、通常、３２０ｋＡ／ｍ（約４０００Ｏｅ）以上になっている。よって、初期磁化工程では、垂直記録層１５０の各磁性層を直流磁化することが可能な磁石を用いるとよい。
【００５０】
その後、初期磁化が施された磁気記録媒体１に対し、表面検査を行う（ステップ１１０）。表面検査工程では、初期磁化後の磁気記録媒体１の表面への塵埃の付着や異常突起の有無を検査する。
そして、表面検査が完了した磁気記録媒体１に対し磁気転写を行い（ステップ１１１）、磁気記録媒体１にサーボ・パターンを記憶させた位置決めデータ記憶領域Ａ２（図３参照）を設ける。
なお、ステップ１１０の表面検査工程およびステップ１１１の磁気転写工程は、一連の動作として実行されるが、この詳細については後述する。
【００５１】
続いて、磁気転写が施された磁気記録媒体１に対しグライド検査を行う（ステップ１１２）。グライド検査工程では、磁気転写済の磁気記録媒体１の表面に突起物が無いかどうか、実際にヘッドを浮上走行させて検査する。磁気ヘッド３を用いて磁気記録媒体１をデータの書き込み（記録）および読み出し（再生）を実行する際に、磁気記録媒体１の表面に浮上量（磁気記録媒体１と磁気ヘッド３の間隔）以上の高さの突起があると、磁気ヘッド３が突起にぶつかって磁気ヘッド３が損傷したり、磁気記録媒体１に欠陥が発生したりする原因となる。このため、グライド検査では、そのような高い突起の有無を検査する。
【００５２】
次いで、グライド検査に合格した磁気記録媒体１に対し、サーティファイ検査を行う（ステップ１１３）。サーティファイ検査工程では、通常の磁気記録再生装置と同様に、磁気記録媒体１に対して磁気ヘッド３で予め決められた信号を記録した後、記録した信号を再生し、得られた再生信号によって磁気記録媒体１の記録不良を検出し、磁気記録媒体１の電気特性や欠陥の有無など磁気記録媒体１の品質を確かめる。上述した方法で製造した磁気記録媒体１には、既にサーボ・パターンが書き込まれているため、サーボ情報を用いない従来の方式でのサーティファイ検査を実施することが困難となっている。このため、本実施の形態では、磁気記録媒体１に磁気転写されたサーボ・パターン（位置決めデータ）を利用して磁気ヘッド３を特定箇所に位置づけし、データの読み書きを行う形式の検査を行う。
そして、サーティファイ検査に合格した磁気記録媒体１が、製品として出荷されることになる。
【００５３】
では、上述したステップ１１０における表面検査工程およびステップ１１１における磁気転写工程について、より詳細に説明する。
図５は、表面検査および磁気転写を行うための表面検査・磁気転写装置１０の上面図である。また、図６は、図５に示す矢印ＶＩ方向からみた表面検査・磁気転写装置１０の斜視図である。なお、以下では、図５において、図中左側から右側に向かう方向をＸ方向、図中下側から上側に向かう方向をＹ方向、そして図中奥側から手前側に向かう方向をＺ方向として説明を行う。
【００５４】
表面検査・磁気転写装置１０は、Ｙ方向に対してＸ方向が長辺側となる矩形状の基台１１と、ステップ１０９に示す初期磁化が施された磁気記録媒体１を収容する転写前媒体収容部１２と、転写前媒体収容部１２から取り出された磁気記録媒体１に対しステップ１１０に示す表面検査を行う表面検査部１３と、表面検査がなされた磁気記録媒体１にサーボ・パターンを磁気転写する磁気転写部１４と、サーボ・パターンの磁気転写がなされた磁気記録媒体１を収容する転写済媒体収容部１５と、表面検査部１３による表面検査の結果が不合格となった磁気記録媒体１を収容する不具合品収容部１６とを備える。また、表面検査・磁気転写装置１０は、表面検査がなされた磁気記録媒体１を磁気転写部１４へと供給するとともに磁気転写がなされた磁気記録媒体１を磁気転写部１４から回収するために磁気記録媒体１を移載する移載部１７と、転写前媒体収容部１２、表面検査部１３、転写済媒体収容部１５、不具合品収容部１６および移載部１７の間で磁気記録媒体１の授受を行うスカラ（SCARA：Selective Compliance Assembly Robot Arm）・ロボット１８とをさらに備える。そして、表面検査・磁気転写装置１０は、移載部１７に保持された磁気記録媒体１の磁気転写部１４に対する位置決めに用いられる位置検出部１９と、磁気転写部１４に対する位置決めがなされた磁気記録媒体１の振動検出に用いられる振動検出部２０とをさらに備える。
【００５５】
表面検査・磁気転写装置１０において、転写前媒体収容部１２、表面検査部１３、磁気転写部１４、転写済媒体収容部１５、不具合品収容部１６、移載部１７、スカラ・ロボット１８、位置検出部１９および振動検出部２０は、基台１１の上部側に配置されている。これに対し、表面検査部１３、磁気転写部１４、移載部１７、スカラ・ロボット１８、位置検出部１９および振動検出部２０の駆動系は、基台１１よりも下部側に配置されている。また、本実施の形態の表面検査・磁気転写装置１０は、ダウンフロー方式を採用したクリーンルーム内に配置されており、表面検査・磁気転写装置１０には、上方から下方（図５において−Ｚ方向）に空気が流れるようになっている。
【００５６】
なお、以下の説明においては、転写前媒体収容部１２から表面検査部１３を介して、磁気転写部１４あるいは不具合品収容部１６に供給される、磁気転写工程実行前の磁気記録媒体１を『転写前媒体』と称する。また、以下の説明では、磁気転写部１４から転写済媒体収容部１５に供給される、磁気転写工程実行後の磁気記録媒体１を『転写済媒体』と称する。
【００５７】
転写前媒体収容部１２は複数の転写前媒体を立てた状態で収容可能な収容容器１２ａを、転写済媒体収容部１５は複数の転写済媒体を立てた状態で収容可能な収容容器１５ａを、そして、不具合品収容部１６は複数の転写前媒体（不具合品）を立てた状態で収容可能な収容容器１６ａを、それぞれ備えている。ここで、これら収容容器１２ａ、１５ａ、１６ａには、共通の構造を有するものを用いている。そして、転写前媒体収容部１２においては転写前媒体が空になったときに、転写済媒体収容部１５においては転写済媒体がいっぱいになったときに、そして不具合品収容部１６においては転写前媒体（不具合品）がいっぱいになったときに、それぞれ新たなものと交換されるようになっている。
【００５８】
表面検査部１３は、スカラ・ロボット１８によって転写前媒体収容部１２から運ばれてきた転写前媒体の両面について表面検査を行う。表面検査部１３における表面検査の手法としては、例えば図示しないレーザ光源を用いて転写前媒体の両面を走査し、その反射光に基づいて表面における異常（突起等）の有無を検出するものが挙げられる。
【００５９】
移載部１７は、基台１１に搭載されるとともにＸ方向に伸びる直動案内部１７ａと、直動案内部１７ａの上部に搭載されて直動案内部１７ａに沿ってＸ方向および−Ｘ方向に移動する直動部１７ｂとを備える。また、直動部１７ｂは、−Ｘ方向に伸びる腕木部１７ｃと、腕木部１７ｃの自由端側から−Ｙ方向に伸び、磁気転写部１４に供給する転写前媒体を保持するための供給チャック部１７ｄと、供給チャック部１７ｄよりも直動部１７ｂに近い側において腕木部１７ｃから−Ｙ方向に伸び、磁気転写部１４から回収した転写後媒体を保持するための回収チャック部１７ｅとを備える。
【００６０】
スカラ・ロボット１８は、基台１１に搭載された基部１８ａと、基部１８ａの上部に取り付けられ水平方向（Ｘ方向およびＹ方向）への移動が許容されたアーム部１８ｂとを備えている。そして、アーム部１８ｂの自由端には、上下方向（Ｚ方向および−Ｚ方向）に移動するスライド軸（図示せず）が設けられており、このスライド軸には、磁気記録媒体１（転写前媒体および転写済媒体の両者）を保持するためのチャック部（図示せず）が取り付けられている。
【００６１】
位置検出部１９は、例えばレーザ等からなる光源とＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサ等からなる受光部とを備えている。そして、位置検出部１９は、磁気転写部１４の近傍において移載部１７の供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体の位置を検出するようになっている。
【００６２】
振動検出部２０は、例えばレーザ等からなる光源とＣＣＤイメージセンサ等からなる受光部とを備えている。そして、振動検出部２０は、磁気転写部１４の近傍において移載部１７の供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体の振動を検出するようになっている。
【００６３】
次に、磁気転写部１４について説明する。
磁気転写部１４は、基台１１に固定された状態で搭載され、サーボ・パターンが予め記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する固定ホルダ３０と、固定ホルダ３０に対向して配置されるとともに、基台１１に対しＹ方向および−Ｙ方向に移動できるように配置され、サーボ・パターンが予め磁気的に記録されたマスタ情報記録体２００を固定した状態で保持する可動ホルダ４０とを備える。なお、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００および可動ホルダ４０に取り付けられたマスタ情報記録体２００は、互いに対向した状態で配置されている。
【００６４】
また、マスタ情報記録体２００を保持した固定ホルダ３０の背面側には、第１磁石５１を備えた第１磁石部材５０が配置されている。第１磁石部材５０は、固定ホルダ３０に対向配置される第１磁石５１と、第１磁石５１を保持する第１磁石保持部５２と、第１磁石保持部５２の背面側からＹ方向に沿って伸びる第１磁石支持部５３とを備えている。第１磁石支持部５３は、基台１１に対しＹ方向には固定された状態で支持され、且つ、図中矢印方向には回転可能に支持されている。これにより、第１磁石支持部５３の回転に伴って第１磁石保持部５２に保持された第１磁石５１が回転するようになっている。
【００６５】
一方、マスタ情報記録体２００を保持した可動ホルダ４０の背面側には、第２磁石６１を備えた第２磁石部材６０が配置されている。第２磁石部材６０は、可動ホルダ４０に対向配置される第２磁石６１と、第２磁石６１を保持する第２磁石保持部６２と、第２磁石保持部６２の背面側からＹ方向に沿って伸びる第２磁石支持部６３とを備えている。第２磁石支持部６３は、基台１１に対しＹ方向および−Ｙ方向に進退可能に支持され、且つ、図中矢印方向に回転可能に支持されている。これにより、第２磁石支持部６３の進退に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が進退するとともに、第２磁石支持部６３の回転に伴って第２磁石保持部６２に保持された第２磁石６１が回転するようになっている。
【００６６】
図７は、磁気転写部１４における第１磁石部材５０、第２磁石部材６０の構成および両者の相互的な位置関係の一例を示す図である。
第１磁石部材５０において、第１磁石５１は、第１磁石保持部５２に対し、第１磁石支持部５３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第１磁石５１は、固定ホルダ３０と対向する側が一方の極性の磁極（例えばＮ極）となるように第１磁石保持部５２に保持されている。
一方、第２磁石部材６０において、第２磁石６１は、第２磁石保持部６２に対し、第２磁石支持部６３の回転中心から偏倚した位置に放射方向に取り付けられている。また、第２磁石６１は、可動ホルダ４０と対向する側が他方の極性の磁極（例えばＳ極）となるように第２磁石保持部６２に保持されている。
【００６７】
そして、本実施の形態では、第１磁石５１と第２磁石６１とが、固定ホルダ３０および可動ホルダ４０を挟んで対向するように配置される。また、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石５１と第２磁石６１とを対向させた状態を維持しながら、ともに回転するように構成されている。
【００６８】
図８は、磁気転写部１４で用いられるマスタ情報記録体２００の構成の一例を示す図である。ここで、図８（ａ）はマスタ情報記録体２００の上面図を、また、図８（ｂ）は図８（ａ）におけるＶＩＩＩＢ−ＶＩＩＩＢ断面図を、それぞれ示している。
【００６９】
パターン形成体の一例としてのマスタ情報記録体２００は、磁気記録媒体１よりも直径が大きい円盤状の形状を有している。また、マスタ情報記録体２００の一方の面（形成面に対応）には、サーボ・パターンに対応する微細な凹凸が形成されたサーボ・パターン形成領域ＳＰが設けられている。この例において、サーボ・パターン形成領域ＳＰは、マスタ情報記録体２００の一方の面に、中央部と外縁部とを除いて、放射状に複数設けられている。なお、図５等に示す固定ホルダ３０あるいは可動ホルダ４０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際には、サーボ・パターン形成領域ＳＰを設けた面が、互いに露出した状態で対向することになる。
【００７０】
また、固定ホルダ３０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００の中央部には、表裏を貫通する第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが設けられている。これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは、マスタ情報記録体２００においてサーボ・パターン形成領域ＳＰよりも内側（中心側）に設けられている。なお、可動ホルダ４０に取り付けられる方のマスタ情報記録体２００には、これら第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂは不要である。この理由については後述する。
【００７１】
次に、マスタ情報記録体２００の構造について説明すると、マスタ情報記録体２００は、円盤状の基体２０１と、この基体２０１の一方の面に形成されたマスタ磁性層２０２と、マスタ磁性層２０２の上に形成されたマスタ保護層２０３とを備えている。ここで、図８（ｂ）は、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおけるマスタ情報記録体２００の断面構成を示しており、この部位には、サーボ・パターンに対応した凸部２０４および凹部２０５が存在している。なお、マスタ情報記録体２００の一方の面のうち、サーボ・パターン形成領域ＳＰ以外の領域は、マスタ情報記録体２００と磁気記録媒体１との吸着を防ぐため、サーボ・パターン形成領域ＳＰにおける凹部２０５と同じ高さとなっている。
【００７２】
マスタ情報記録体２００は公知の方法によって製造できるが、例えば次の製造方法を掲げることができる。先ず、シリコンウェハの表面に電子線レジストをスピンコート法により塗布する。塗布後、このレジストに対し、電子線露光装置を用いて、サーボ・パターンに対応させて変調した電子ビームを照射し、レジストを露光する。その後、レジストを現像し、未露光部分を除去して、シリコンウェハ上にレジストのパターンを形成する。
【００７３】
次いで、このレジストパターンをマスクとして用い、シリコンウェハに対して反応性エッチング処理を行い、レジストでマスクされていない箇所を掘り下げる。このエッチング処理後、シリコンウェハ上に残存するレジストを溶剤で洗浄除去する。その後、シリコンウェハを乾燥させてマスタ情報記録体２００を作製するための原盤を得る。
【００７４】
この原盤上に、Ｎｉからなる導電層をスパッタリング法により１０ｎｍ程度形成する。その後、この導電層を形成した原盤を母型として用い、電鋳法により、この原盤上に数μｍ厚のＮｉ層を形成する。その後、Ｎｉ層を原盤から外し、このＮｉ層を洗浄等して、表面に凸部を配設した基体２０１を得る。
【００７５】
次いで、この基体２０１の表面にマスタ磁性層２０２を形成する。このマスタ磁性層２０２については磁気記録媒体１に用いられる磁性層（第１磁性層１５１等）と同じものが使用できる。またマスタ磁性層２０２の上には磁気記録媒体１と同様にマスタ保護層２０３を形成する。このマスタ保護層２０３は、マスタ情報記録体２００の耐摩耗性すなわちマスタ情報記録体２００の転写耐久性を高めるものであり、数ｎｍ程度の厚さの硬質炭素膜等を用いることができる。以上の製造工程によってマスタ情報記録体２００を得ることができる。
なお、このようにして得られたマスタ情報記録体２００は、例えば１０万枚以上の磁気記録媒体の製造（磁気転写）に繰り返し使用される。
【００７６】
図９は、磁気転写部１４における固定ホルダ３０および可動ホルダ４０の断面構成の一例を示す図である。なお、図９では、固定ホルダ３０に磁気記録媒体１を取り付けた状態を例示している。
これらのうち、固定ホルダ３０は、マスタ情報記録体２００の保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、マスタ情報記録体２００の保持面においてマスタ情報記録体２００の取り付け位置中央部に開口が設けられた２つの第１吸引路３１と、マスタ情報記録体２００の保持面と第１磁石部材５０との対向面とを貫通し、マスタ情報記録体２００の保持面においてマスタ情報記録体２００の取り付け位置の外側に開口が設けられた２つの第２吸引路３２とを備える。また、固定ホルダ３０は、マスタ情報記録体２００の保持面において第２吸引路３２の開口よりも外側に周方向に沿って取り付けられたＯリング３３を備えている。なお、固定ホルダ３０のマスタ情報記録体２００の保持面での第１吸引路３１の２つの開口には、固定ホルダ３０にマスタ情報記録体２００を取り付けた際に、マスタ情報記録体２００側の第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂが重ね合わされるようになっている。なお、本実施の形態では、固定ホルダ３０に設けられた２つの第１吸引路３１と吸引駆動部７６（後述する図１０参照）とによって、取り付け部が構成されている。
【００７７】
これに対し、可動ホルダ４０は、固定ホルダ３０と対向する側の面にマスタ情報記録体２００を保持するとともに、その背面側には第２磁石部材６０が設けられた記録体保持部４０ａと、記録体保持部４０ａの周縁を覆うように設けられた筒状体４０ｂとを備えている。また、可動ホルダ４０は、筒状体４０ｂの内周面に周方向に沿って取り付けられ、周方向にわたって記録体保持部４０ａの外周面に接触するＯリング４１とを備えている。ここで、可動ホルダ４０を構成する記録体保持部４０ａおよび筒状体４０ｂは、互いに独立して固定ホルダ３０に対し進退可能に取り付けられ、筒状体４０ｂは粗動機構に、記録体保持部４０ａは微動機構に、それぞれ用いられている。また、筒状体４０ｂの固定ホルダ３０と対向する側の端部は、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に対し一周にわたって対向し且つ接触するようになっている。なお、可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａには、固定ホルダ３０のような吸引路は設けられていない。このため、記録体保持部４０ａに取り付けられるマスタ情報記録体２００には、第１貫通孔２００ａおよび第２貫通孔２００ｂを設けておく必要がない。
【００７８】
図１０は、図５に示す表面検査・磁気転写装置１０における制御ブロックの一例を示す図である。
表面検査・磁気転写装置１０は、装置全体の動作を制御するためのコントローラ７０を備えている。このコントローラ７０には、表面検査部１３による転写前媒体の表面検査結果、位置検出部１９による転写前媒体の位置検知結果、そして振動検出部２０による転写前媒体の振動検知結果が入力されるようになっている。また、コントローラ７０は、表面検査部１３、位置検出部１９、振動検出部２０、スカラ・ロボット１８を駆動するロボット駆動部７１、移載部１７に設けられた直動部１７ｂを駆動する直動駆動部７２、移載部１７に設けられた供給チャック部１７ｄを駆動する供給チャック駆動部７３、移載部１７に設けられた回収チャック部１７ｅを駆動する回収チャック駆動部７４、磁気転写部１４に設けられた可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）を駆動する可動ホルダ駆動部７５、固定ホルダ３０の第１吸引路３１および第２吸引路３２に接続された吸引機構（図示せず）を駆動する吸引駆動部７６、第１磁石部材５０を駆動する第１磁石駆動部７７、そして第２磁石部材６０を駆動する第２磁石駆動部７８に、それぞれ制御信号を出力するようになっている。
【００７９】
図１１は、転写前媒体収容部１２における収容容器１２ａ、転写済媒体収容部１５における収容容器１５ａ、そして不具合品収容部１６における収容容器１６ａとして用いられる基板カセット８０の構成の一例を示す斜視図である。なお、導電性を有する容器の一例としての基板カセット８０は、図５に示す表面検査・磁気転写装置１０で用いられる他、上述したステップ１０７のワイピング工程からステップ１０８のバーニッシュ工程に磁気記録媒体１を搬送する工程、ステップ１０８のバーニッシュ工程からステップ１０９の初期磁化工程に磁気記録媒体１を搬送する工程、そしてステップ１０９の初期磁化工程からステップ１１０の表面検査工程すなわち表面検査・磁気転写装置１０に磁気記録媒体１を搬送する工程において用いられている。
【００８０】
また、ステップ１０７のワイピング工程からステップ１０８のバーニッシュ工程への移行、ステップ１０８のバーニッシュ工程からステップ１０９の初期磁化工程への移行、そしてステップ１０９の初期磁化工程からステップ１１０の表面検査工程への移行にあたって、磁気記録媒体１は、基板カセット８０に収容された状態で、図示しないロボットにより直接搬送されるようになっている。
【００８１】
本実施の形態の基板カセット８０は、図５に示す表面検査・磁気転写装置１０に配置された際に、Ｘ方向に沿って平行に伸び且つ互いに相対する２つの第１側板８１ａ、８１ｂと、Ｙ方向に沿って平行に伸び且つ互いに相対する２つの第２側板８２ａ、８２ｂとを一体化して構成されている。このため、図１１に示す基板カセット８０は、Ｚ方向において上下が開放された枠状の形状を有している。そして、第２側板８２ａ、８２ｂのＹ方向長さは、第１側板８１ａ、８１ｂのＸ方向長さよりも長く設定されており、その結果、Ｚ方向の開口は長方形状の断面を有している。
【００８２】
また、基板カセット８０において、２つの第２側板８２ａ、８２ｂの内側には、Ｚ方向に沿って伸び且つ内側（第２側板８２ａにおいてはＸ方向側、第２側板８２ｂにおいては−Ｘ方向側）に突出して形成される凸条部８３が、それぞれＹ方向に沿って複数設けられている（第２側板８２ｂ側に設けられる凸条部８３については図示せず）。そして、第２側板８２ａに設けられる複数の凸条部８３および第２側板８２ｂに設けられる複数の凸条部８３は、互いに対向して配置されている。また、各凸条部８３の−Ｚ方向（下方）の端部側では、それぞれのＺ方向（上方）の端部側よりも内側により突出して形成されている。これにより、隣接する２つの凸条部８３の間には、溝８４が形成されるようになっている。また、各溝８４のＹ方向の長さすなわち幅Ｗは、−Ｚ方向（下方）側ほど狭まるようになっている。
【００８３】
そして、図３等に示す磁気記録媒体１は、基板カセット８０の上方から、そのデータ面をＸＺ平面に沿わせた状態で−Ｚ方向に供給され、基板カセット８０の２つの第２側板８２ａ、８２ｂ側に形成される一対の溝８４にその外端１ｂをそれぞれはめ込ませることで、基板カセット８０に収容されるようになっている。
【００８４】
また、基板カセット８０は、２つの第１側板８１ａ、８１ｂのＺ方向端部からＺ方向中央部にかけてそれぞれ切り欠き８１０ａ、８１０ｂが形成されることにより、上部に向かう開口が形成されている。この２つの切り欠き８１０ａ、８１０ｂは、基板カセット８０に収容された磁気記録媒体１を取り出す際に、磁気記録媒体１の内端１ａをチャックする手法を利用する際に、図示しないチャック治具を基板カセット８０の内側に挿入させるために設けられている。
【００８５】
そして、本実施の形態の基板カセット８０は、埃等の吸着を抑制するために、導電性を持たせることで帯電しにくくした材料で構成されている。
また、基板カセット８０を構成する材料としては、例えば、各種樹脂材料に帯電防止剤を添加したもの、各種樹脂材料の表面に帯電防止剤からなる層を設けたもの、各種金属材料、等が挙げられる。
【００８６】
ここで、各種樹脂材料としては、例えば、所望形状への成型が容易であり、また軟質のものが好ましい。具体的にはポリアセタール、超高分子量ポリエチレン、ポリアミドイミド等の樹脂、あるいはこれらの樹脂をベースとしてノンカーボン系の各種導電性材料を添加した樹脂組成物からなるノンカーボン系帯電防止剤を例示できる。これらの樹脂のうちでも特にポリアセタールまたはポリアセタールをベースとするノンカーボン系樹脂組成物からなる帯電防止材を推奨できる。ポリアセタールまたはポリアセタールをベースとするノンカーボン系樹脂組成物は、導電性が高いため静電気放電を確実に防止でき、かつ軟質樹脂であって接触疵防止の観点からも好ましい。
その他の帯電防止剤としては、各種表面活性剤、水溶性ポリマー、無機塩、多価アルコール、金属化合物等を用いることができ、これらのうちカチオン活性剤が一般的である。
さらに、金属材料としては、ステンレス合金、アルミニウム合金、ニッケル合金、クロム合金等を用いることができる。
【００８７】
また、本発明において、『導電性を有する』とは、その表面抵抗率が１０14Ω／□以下であることをいう。一方、本発明において、『絶縁性を有する』とは、その表面抵抗率が１０14Ω／□を越えていることをいう。
【００８８】
では、図５乃至図１１を用いて、表面検査・磁気転写装置１０による表面検査工程および磁気転写工程について説明を行う。なお、以下に説明する動作は、コントローラ７０によって制御される。また、初期状態において、表面検査・磁気転写装置１０を構成する各部は、図５に示した位置に配置されているものとする。さらに、以下の説明では、図５に示した直動部１７ｂ（直動部１７ｂに設けられた腕木部１７ｃ、さらに腕木部１７ｃに設けられた供給チャック部１７ｄおよび回収チャック部１７ｅを含む）の位置を、待機位置と呼ぶ。
【００８９】
動作の開始に伴い、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが、転写前媒体収容部１２の収容容器１２ａ（基板カセット８０）に収容される転写前媒体を１枚チャックして取り出し、チャックした転写前媒体を表面検査部１３に向けて移送する。続いて、移送されてきた転写前媒体を表面検査部１３に設けられたチャック機構（図示せず）が保持すると、アーム部１８ｂが転写前媒体のチャックを解除し、表面検査部１３から待避する。
【００９０】
次いで、表面検査部１３は、保持した転写前媒体の両面についてそれぞれ表面検査を行う。表面検査部１３による検査が完了すると、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが表面検査部１３側に移動し、アーム部１８ｂが表面検査部１３に保持された転写前媒体をチャックした後、表面検査部１３がこの転写前媒体のチャックを解除する。
【００９１】
ここで、表面検査の結果について、コントローラ７０が少なくともいずれか一方の面が不合格であると判断した場合は、アーム部１８ｂが、チャックした転写前媒体を不具合品収容部１６に向けて移送し、チャックを解除して不具合品収容部１６の収容容器１６ａ（基板カセット８０）に収容させた後、不具合品収容部１６から待避する。
一方、表面検査の結果について、コントローラ７０が両面とも合格であると判断した場合は、アーム部１８ｂが、チャックした転写前媒体を待機位置におかれた直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄと対向する位置に向けて搬送する。そして供給チャック部１７ｄがアーム部１８ｂに保持された転写前媒体をチャックした後、アーム部１８ｂがこの転写前媒体のチャックを解除し、供給チャック部１７ｄと対向する位置から待避する。
【００９２】
続いて、待機位置にある直動部１７ｂが、−Ｘ方向に沿って移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように移動していく。
【００９３】
この間、位置検出部１９は、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達したか否かを検出している。この位置の検出結果に基づき、コントローラ７０は、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達した時点で直動部１７ｂの駆動を停止させる。そして、以下の説明においては、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が２枚のマスタ情報記録体２００と正対する際の直動部１７ｂの位置を、供給位置と呼ぶ。
【００９４】
なお、マスタ情報記録体２００の中心に対する転写前媒体の中心の位置決めの要求精度は、±７．５μｍ、より好ましくは±５．０μｍの範囲内であれば十分である。なぜなら、転写前媒体に磁気転写されるサーボ・パターンが、仮に転写前媒体の中心に対して偏心していたとしても、磁気転写後のサーボ・パターンを用いて磁気ヘッド３がトラックＴに追従することができるのであれば、磁気記録媒体１に対するデータの読み書きは可能となるからである。
【００９５】
また、振動検出部２０は、位置決めに伴って供給位置に停止した直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄに取り付けられた転写前媒体の振動の大きさを検出している。そして、コントローラ７０は、振動検出部２０によって検出された振動の大きさが磁気記録媒体１のデータ面に対して平行の方向、すなわちＸ軸およびＺ軸を含む面において±１．０μｍ以下となった後に、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで固定ホルダ３０側に転写前媒体をチャックさせ、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００に転写前媒体の一方の面を接触させる。そして、固定ホルダ３０側に転写前媒体をチャックしてから、供給チャック部１７ｄはこの転写前媒体のチャックを解除する。そして、転写前媒体の保持を解除した直動部１７ｂは、Ｘ方向に向かって移動した後、待機位置で停止する。
【００９６】
続いて、磁気転写部１４において、可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が固定ホルダ３０側に近づく方向へと移動を開始する。これに伴い、まず、筒状体４０ｂの周部端面が固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３に突き当たった後に停止する。また、記録体保持部４０ａおよび第２磁石部材６０は、筒状体４０ｂが停止した後も固定ホルダ３０側に近づく方向へと移動を続け、固定ホルダ３０に設けられたマスタ情報記録体２００と可動ホルダ４０の記録体保持部４０ａに設けられたマスタ情報記録体２００とによって転写前媒体を挟み込んだ後に停止する。なお、記録体保持部４０ａの停止位置は予め決められており、その結果、２枚のマスタ情報記録体２００および１枚の転写前媒体には、予め設定された軽い荷重が加えられる。また、このとき、固定ホルダ３０と記録体保持部４０ａと筒状体４０ｂとの間には、固定ホルダ３０に設けられたＯリング３３と筒状体４０ｂに設けられたＯリング４１とを用いて、閉空間が形成される。続いて、第２吸引路３２を介した吸引を開始させることで、閉空間内に存在する２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体との間に存在する隙間が真空引きされ、閉空間内外の差圧によって２枚のマスタ情報記録体２００の各サーボ・パターン形成領域ＳＰの形成面と１枚の転写前媒体の両面とがそれぞれ密着していく。
【００９７】
次に、第１磁石部材５０および第２磁石部材６０は、第１磁石支持部５３および第２磁石支持部６３を軸とし、２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体とを挟んで、第１磁石５１および第２磁石６１を対向させた状態を維持しながら少なくとも１回転する。
第１磁石５１および第２磁石６１が１回転する間、２枚のマスタ情報記録体２００に挟まれた転写前媒体では、第１磁石５１および第２磁石６１により、初期磁化工程とは逆向きの直流磁界が周方向に順次印加される。すると、転写前媒体のうち、固定ホルダ３０側のマスタ情報記録体２００と接する側では、このマスタ情報記録体２００の凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。また、この転写前媒体のうち、可動ホルダ４０側のマスタ情報記録体２００と接する側でも、このマスタ情報記録体２００の凹部２０５と対向する部位における磁性層の磁化の向きは初期磁化工程後の状態を維持するものの、凸部２０４と接する部位における磁性層の磁化の向きは反転した状態となる。このようにして、転写前媒体の両面には、それぞれ、マスタ情報記録体２００に設けられた凹凸の配列からなるサーボ・パターンが、磁化の向きの配列からなるサーボ・パターンとして転写される。その結果、転写前媒体は、位置決めデータ記憶領域Ａ２にサーボ・パターンが記憶された転写済媒体となる。
【００９８】
このようにして磁気転写が完了すると、まず、第２吸引路３２を介した吸引を停止して閉空間内を大気圧とし、次いで、可動ホルダ４０（記録体保持部４０ａ、筒状体４０ｂ）および第２磁石部材６０が元の位置への後退を開始する。これにより、固定ホルダ３０に保持された転写済媒体は、外部に露出した状態となる。
【００９９】
ところで、直動部１７ｂは、上述したように、供給チャック部１７ｄに保持した転写前媒体を、供給位置において固定ホルダ３０側に受け渡した後、待機位置に戻って停止している。そして、この表面検査・磁気転写装置１０では、磁気転写部１４で前の転写前媒体に磁気転写を行うのと並行して、次の転写前媒体の準備を行っている。すなわち、前の転写前媒体への磁気転写と並行して、スカラ・ロボット１８を用いた転写前媒体収容部１２からの次の転写前媒体の取り出し、表面検査部１３による次の転写前媒体の検査、そして、待機位置にある直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄによる次の転写前媒体のチャックが行われる。なお、供給チャック部１７ｄによる次の転写前媒体のチャックは、前の転写前媒体への磁気転写が完了するまで（転写前媒体が転写済媒体となるまで）に終了していることが、生産性の観点から好ましい。
【０１００】
そして、磁気転写部１４において前の転写前媒体への磁気転写が完了し、且つ、次の転写前媒体の供給チャック部１７ｄへのチャックが完了した状態で、待機位置にある直動部１７ｂが、−Ｘ方向に沿って移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、何も保持していない回収チャック部１７ｅが、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように移動していく。その後、直動部１７ｂは、回収チャック部１７ｅが、固定ホルダ３０に真空チャックされた転写済媒体と正対する位置に到達して停止する。このとき、コントローラ７０が、位置検出部１９による位置検出結果に基づく直動部１７ｂの停止位置の制御を行うようにしてもよい。なお、以下の説明においては、回収チャック部１７ｅが固定ホルダ３０に保持された転写済媒体と正対する際の直動部１７ｂの位置を、回収位置と呼ぶ。
【０１０１】
次に、回収チャック部１７ｅが転写済媒体をチャックし、その後固定ホルダ３０による転写済媒体の真空チャックを解除する。
続いて、回収位置におかれた直動部１７ｂは、回収チャック部１７ｅに転写済媒体を保持し、供給チャック部１７ｄに次の転写前媒体を保持した状態で、Ｘ方向に移動を開始する。そして、直動部１７ｂは、供給チャック部１７ｄに保持された転写前媒体が、磁気転写部１４において固定ホルダ３０および可動ホルダ４０に挟まれた状態となるように、再び供給位置に向かって移動していく。
【０１０２】
この間、位置検出部１９は、供給チャック部１７ｄに保持された次の転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達したか否かを検出している。この位置の検出結果に基づき、コントローラ７０は、供給チャック部１７ｄに保持された次の転写前媒体が、磁気転写部１４に設けられた２枚のマスタ情報記録体２００と正対する位置に到達した時点すなわち供給位置に到達した時点で直動部１７ｂの駆動を停止させる。
【０１０３】
また、振動検出部２０は、位置決めに伴って供給位置に停止した直動部１７ｂの供給チャック部１７ｄに取り付けられた次の転写前媒体の振動の大きさを検出している。そして、コントローラ７０は、振動検出部２０によって検出された振動の大きさが磁気記録媒体１のデータ面に対して平行の方向で±１．０μｍ以下となった後に、第１吸引路３１を介した吸引を開始させることで固定ホルダ３０側に次の転写前媒体を真空チャックし、固定ホルダ３０に取り付けられたマスタ情報記録体２００に次の転写前媒体の一方の面を接触させる。なお、固定ホルダ３０側に次の転写前媒体を真空チャックしてから、供給チャック部１７ｄはこの次の転写前媒体のチャックを解除する。その後、この次の転写前媒体には、上述した手順を経てサーボ・パターンの磁気転写がなされる。これに対し、転写済媒体を保持する一方で次の転写前媒体の保持を解除した直動部１７ｂは、Ｘ方向に向かって移動した後、待機位置で停止する。
【０１０４】
次いで、スカラ・ロボット１８のアーム部１８ｂが、待機位置で停止した直動部１７ｂの回収チャック部１７ｅに保持された転写済媒体と対向する位置に移動する。続いて、アーム部１８ｂが、回収チャック部１７ｅに保持された転写済媒体をチャックした後、回収チャック部１７ｅが転写済媒体のチャックを解除する。そして、アーム部１８ｂが、チャックした転写済媒体を転写済媒体収容部１５に向けて移送し、チャックを解除して転写済媒体収容部１５の収容容器１５ａ（基板カセット８０）に収容させた後、転写済媒体収容部１５から待避し、さらに次の転写前媒体の取り出しを開始する。
【０１０５】
以降、上述した手順を繰り返すことにより、転写前媒体の取り出し、転写前媒体に対する表面検査、転写前媒体に対するサーボ・パターンの磁気転写、サーボ・パターンが転写された転写済媒体の回収が順次行われていく。
【０１０６】
本実施の形態では、上述したように、２枚のマスタ情報記録体２００によって転写前媒体を挟んだ状態で磁気転写を行う。このとき、転写前媒体の表面に埃等の異物（ダスト）が付着していた場合には、マスタ情報記録体２００の接触面がダストによって傷つけられてしまい、結果として、マスタ情報記録体２００の寿命（転写に使用し得る回数）が短くなってしまうことがある。特に本実施の形態では、マスタ情報記録体２００に凹凸によるサーボ・パターンを形成しているため、接触時に凹凸が欠けたり変形してしまったりした場合には、以降の磁気転写において転写不良が生じてしまうことになる。
【０１０７】
また、本実施の形態では、磁気転写工程の前に、ワイピング工程やバーニッシュ工程が行われる。ワイピングやバーニッシュにおいては、磁気記録媒体１の表面からダストが生じることがある。
【０１０８】
従来の手法においては、バーニッシュを施した磁気記録媒体１を、例えば樹脂からなる基板カセット８０に収容して搬送に供していた。このため、基板カセット８０にダストが静電吸着する場合があり、基板カセット８０に静電吸着したダストが基板カセット８０に収容された磁気記録媒体１に転移・付着してしまうおそれがあった。特に、バーニッシュ工程においては、磁気記録媒体１から剥がされたダストや砥粒に起因するダストが発生しやすいため、バーニッシュ後の磁気記録媒体１を収容する基板カセット８０には、ダストが静電吸着しやすい状況にあった。
【０１０９】
これに対し、本実施の形態では、導電性を有することで帯電防止機能を備えた材料によって構成された基板カセット８０に磁気記録媒体１を収容して搬送するようにした。これにより、基板カセット８０にダストを静電吸着させにくくすることが可能になり、結果として基板カセット８０から基板カセット８０に収容される磁気記録媒体１へとダストが転移、付着するという事態の発生を抑制することができる。その結果、磁気転写において２枚のマスタ情報記録体２００と１枚の転写前媒体との間にダストが噛み込まれにくくなり、マスタ情報記録体２００の低寿命化を抑制することが可能になる。
【０１１０】
なお、本実施の形態では、潤滑層１７０までが形成された磁気記録媒体１に対し、ワイピングおよびバーニッシュを施した後に磁気転写を行うようにしていたが、これに限られるものではなく、ワイピングを施すことなくバーニッシュのみを施した後に磁気転写を行うようにしてもよい。
【０１１１】
また、本実施の形態では、バーニッシュ工程が完了した磁気記録媒体１（転写前媒体）を、帯電防止機能を備えた基板カセット８０に収容した状態で表面検査・磁気転写装置１０に搬送するようにしていたが、これに限られるものではない。例えば、初期磁化工程を行う初期磁化装置、初期磁化工程の前にバーニッシュ工程を行うバーニッシュ装置、バーニッシュ工程の前にワイピング工程を行うワイピング装置、そして、表面検査・磁気転写装置１０の間に、産業用ロボット（多関節ロボット）を配置し、基板カセット８０を用いることなく、各装置間で磁気記録媒体１を直接受け渡すようにしてもよい。すなわち、バーニッシュ工程後の磁気記録媒体１を、絶縁性を有することにより帯電しやすい材料に接触させることなく、そのまま表面検査・磁気転写装置１０に供するようにしてもよい。なお、この場合において、磁気記録媒体１を掴むために産業用ロボットに設けられた部材は、導電性を有する材料（上述した帯電防止剤を含む樹脂や金属）で構成することが必要になる。
【符号の説明】
【０１１２】
１…磁気記録媒体、１００…基板、１１０…密着層、１２０…軟磁性下地層、１３０…配向制御層、１４０…非磁性下地層、１５０…垂直記録層、１６０…保護層、１７０…潤滑層、１８０…積層基板、１０…表面検査・磁気転写装置、１２…転写前媒体収容部、１３…表面検査部、１４…磁気転写部、１５…転写済媒体収容部、１６…不具合品収容部、１７…移載部、１８…スカラ・ロボット、８０…基板カセット、２００…マスタ情報記録体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性層が形成された磁気記録媒体の表面を研磨する工程と、
導電性を有する容器に、前記表面が研磨された前記磁気記録媒体を収容して搬送する工程と、
搬送されてきた前記容器から取り出した前記磁気記録媒体の前記表面に、パターンが形成されたパターン形成体の当該パターンの形成面を接触させ、当該パターンを当該磁気記録媒体の前記磁性層に磁気的に転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記磁気記録媒体は、前記磁性層よりも前記表面側に摩耗を抑制するための摩耗抑制層を備え、
前記研磨する工程では、砥粒を含むテープにて前記摩耗抑制層を擦ることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記研磨する工程では、前記砥粒を含むテープにて前記摩耗抑制層を擦る前に、当該砥粒を含まないテープにて当該摩耗抑制層を擦ることを特徴とする請求項２記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記導電性を有する容器は、導電性材料を有する樹脂または金属にて構成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
磁性層が形成された磁気記録媒体の表面を研磨する工程と、
前記表面が研磨された前記磁気記録媒体を、絶縁性を有する部材に接触させることなく搬送する工程と、
搬送されてきた前記磁気記録媒体の前記表面に、パターンが形成されたパターン形成体の当該パターンの形成面を接触させ、当該パターンを当該磁気記録媒体の前記磁性層に磁気的に転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記磁気記録媒体は、前記磁性層よりも前記表面側に摩耗を抑制するための摩耗抑制層を備え、
前記研磨する工程では、砥粒を含むテープにて前記摩耗抑制層を擦ることを特徴とする請求項５記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記研磨する工程では、前記砥粒を含むテープにて前記摩耗抑制層を擦る前に、当該砥粒を含まないテープにて当該摩耗抑制層を擦ることを特徴とする請求項６記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１】
磁性層が形成された磁気記録媒体の表面を研磨する工程と、
導電性を有する容器に、前記表面が研磨された前記磁気記録媒体を収容して搬送する工程と、
搬送されてきた前記容器から取り出した前記磁気記録媒体の前記表面に、パターンが形成されたパターン形成体の当該パターンの形成面を接触させ、当該パターンを当該磁気記録媒体の前記磁性層に磁気的に転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記磁気記録媒体は、前記磁性層よりも前記表面側に摩耗を抑制するための摩耗抑制層を備え、
前記研磨する工程では、砥粒を含むテープにて前記摩耗抑制層を擦ることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記研磨する工程では、前記砥粒を含むテープにて前記摩耗抑制層を擦る前に、当該砥粒を含まないテープにて当該摩耗抑制層を擦ることを特徴とする請求項２記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記導電性を有する容器は、導電性材料を有する樹脂または金属にて構成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
磁性層が形成された磁気記録媒体の表面を研磨する工程と、
前記表面が研磨された前記磁気記録媒体を、絶縁性を有する部材に接触させることなく搬送する工程と、
搬送されてきた前記磁気記録媒体の前記表面に、パターンが形成されたパターン形成体の当該パターンの形成面を接触させ、当該パターンを当該磁気記録媒体の前記磁性層に磁気的に転写する工程と
を含む磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記磁気記録媒体は、前記磁性層よりも前記表面側に摩耗を抑制するための摩耗抑制層を備え、
前記研磨する工程では、砥粒を含むテープにて前記摩耗抑制層を擦ることを特徴とする請求項５記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記研磨する工程では、前記砥粒を含むテープにて前記摩耗抑制層を擦る前に、当該砥粒を含まないテープにて当該摩耗抑制層を擦ることを特徴とする請求項６記載の磁気記録媒体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１１−２２２０６１（Ｐ２０１１−２２２０６１Ａ）
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８７３５３（Ｐ２０１０−８７３５３）
【出願日】平成２２年４月５日（２０１０．４．５）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月５日（２０１０．４．５）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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