磁気記録媒体用基板、及び磁気記録媒体用基板の製造方法
【課題】 基板の製造工程における研磨工程を省くことが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】 磁気記録媒体用基板１は、樹脂が射出成形などによって円盤状に成形された樹脂製基板２を備え、その樹脂製基盤２の表面上に被覆層３ａが形成されている。被覆層３ａは、金属、セラミック又は磁性膜などを含み、めっき法やスパッタリングなどにより形成される。射出成形などに用いられる型の表面粗さＲａを小さくすることで、樹脂製基板２の表面粗さＲａを小さくすることができ、研磨工程が不要となる。この磁気記録媒体用基板１の被覆層３ａの表面が研磨されることで、最終的な磁気記録媒体用基板が作製され、その後、被覆層３ａ上に磁性層が形成されて磁気記録媒体となる。
【解決手段】 磁気記録媒体用基板１は、樹脂が射出成形などによって円盤状に成形された樹脂製基板２を備え、その樹脂製基盤２の表面上に被覆層３ａが形成されている。被覆層３ａは、金属、セラミック又は磁性膜などを含み、めっき法やスパッタリングなどにより形成される。射出成形などに用いられる型の表面粗さＲａを小さくすることで、樹脂製基板２の表面粗さＲａを小さくすることができ、研磨工程が不要となる。この磁気記録媒体用基板１の被覆層３ａの表面が研磨されることで、最終的な磁気記録媒体用基板が作製され、その後、被覆層３ａ上に磁性層が形成されて磁気記録媒体となる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気ディスク記録装置の基板に用いられる磁気記録媒体用基板及びその製造方法に関し、特に、樹脂製の基板を用いた磁気記録媒体用基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータなどに用いられる磁気ディスク記録装置、例えばハードディスクには、アルミニウム合金又はガラスのディスクが基板として用いられている。この基板上に金属磁気薄膜が形成され、金属磁気薄膜を磁気ヘッドで磁化することにより情報が記録される。
【０００３】
また、磁気記録媒体に記憶された磁気記録情報を読み取るための磁気ヘッドは、磁気記録媒体に対してその表面から浮上した状態で移動するように構成されている。磁気記録媒体の表面に凹凸が存在すると、磁気ヘッドが移動するときにこれらの凹凸と磁気ヘッドとが衝突し、磁気ヘッドの損傷、磁気記録媒体の傷つき等の不具合が生じるおそれがある。このような不具合の発生を抑制するために、アルミニウム基板又はガラス基板は、その表面が平滑面となるように製造時に高精度の研削・研磨処理が施され、表面の凹凸の発生を極力抑える試みがなされている（例えば特許文献１、特許文献２、及び特許文献３など）。
【０００４】
例えばアルミニウム基板を用いる場合、アルミニウム板をプレス成形して円盤状にした後、表面に対して高精度の研削・研磨加工及び洗浄工程を施すことにより、表面を平滑化し、続いて、Ｎｉ−Ｐめっき等のめっき処理を施した後、研磨加工、テクスチャー加工を施し、さらにスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００５】
また、ガラス基板を用いる場合、ガラス素材を溶融し、溶融したガラスをプレス成形し、円盤状のガラス基板を作製する。そして、ガラス基板の表面に対して高精度の研削・研磨加工及び洗浄工程を施すことにより、表面を平滑化した後、アルカリの溶融塩によるイオン交換によって表面を化学強化処理し、精密洗浄工程を経た後、テクスチャー加工を施し、さらにスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−５４９６５号公報（図４、図５など）
【特許文献２】特開２００３−５５００１号公報
【特許文献３】特開２０００−１６３７４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
以上のように、アルミニウム基板又はガラス基板に対して研削・研磨工程と洗浄工程とを繰り返すことにより、平滑な表面を得ている。しかしながら、基板の表面平滑性を得るための研削・研磨工程が煩雑となり、また、プレス成形後であって研削・研磨工程前の基板の表面粗さが大きいため、磁気記録媒体用の基板に要求される表面粗さを得るためには、その研削・研磨に相当の時間がかかってしまう。これにより、基板の製造コストが高くなってしまい、磁気記録媒体自体の価格を引き上げる要因となってしまう。例えば、アルミニウム基板又はガラス基板の表面粗さＲａとして、最終的には、表面粗さＲａ<１［ｎｍ］が要求されるが、この要求に応じるためには、研削・研磨を長時間にわたり精密に制御しながら実施する必要がある。なお、「表面粗さＲａ」は、ＪＩＳ Ｂ０６０１の規定による「表面粗さ」の算術平均粗さＲａである。
【０００８】
また、２．５インチ、１インチ、又は０．８５インチなどの携帯可能な小型の磁気ディスク記録装置の場合、装置に衝撃が加わると磁気記録媒体それ自体に衝撃が加わるため、磁気記録媒体は大きな損傷を受け、基板であるガラス基板やアルミニウム基板が破損や変形をしてしまう問題がある。さらに、磁気記録媒体の製造工程においても、ガラス基板は割れやすい問題があった。
【０００９】
さらに、携帯可能な磁気ディスク記録装置については、携帯性を考慮して装置の軽量化が望まれているが、アルミニウム基板やガラス基板はその基板自体が重いため、アルミニウム基板やガラス基板を用いた場合は、装置の軽量化が困難となっていた。
【００１０】
この発明は上記の問題に解決するものであり、磁気記録媒体用基板の母材として樹脂製の基板を用いることにより、基板の製造工程における研磨工程を省くことが可能な磁気記録媒体用基板を提供することを目的とする。
【００１１】
さらに、割れ難く、磁気ディスク記録装置の軽量化が可能な磁気記録媒体用基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この出願に係る発明者は樹脂製の基板の特徴に着目し、樹脂を成形して円盤状の形状を有する樹脂製の基板を作製し、その樹脂製基板の表面上に被覆層を形成することで磁気記録媒体用基板とした。
【００１３】
樹脂製基板は、射出成形や注型成形などにより作製されるため、基板の寸法精度や表面精度は、射出成形などに用いられる型の表面精度や成形条件に依存する。このため、高精度に加工された型を用い、精密に成形を制御することで、寸法精度が良く平滑性を有する均一な品質の基板を大量に製造することができる。例えば、樹脂製基板の表面粗さＲａを１０［ｎｍ］以下とすることもできる。これにより、研磨工程を省略できたり、また、所望の表面精度（表面の粗さやうねり）や寸法精度を達成するために成形品取り出し後に研削・研磨などが必要な場合であっても、ガラスやアルミニウムを母材とする工程（研磨、研削、洗浄などの工程）に比べて工程を大きく省略化できる。以上により、製造コストを安価に抑えることが可能となる。そして、樹脂製基板上に被覆層を形成することにより磁気記録媒体用基板となる。被覆層を形成後、磁気記録媒体用基板の所望の表面精度（例えば表面粗さＲａを１［ｎｍ］以下）に達していない場合には、被覆層を研磨することにより所望性能を達成することが可能となる。こうして得た磁気記録媒体用基板に対して磁性層が形成されて磁気記録媒体となる。
【００１４】
以下に、この発明の具体的な態様を示す。
【００１５】
請求項１に記載の発明は、円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に被覆層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用基板である。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板と前記被覆層との間に中間層が形成されていることを特徴とするものである。
【００１７】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の磁気記録媒体用基板であって、前記中間層は、塗布により形成された樹脂からなることを特徴とするものである。
【００１８】
請求項４に記載の発明は、請求項２又は請求項３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記中間層は、周囲と異なる材質の粒子を含むことを特徴とするものである。
【００１９】
請求項５に記載の発明は、請求項１から請求項４のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板は、母材と異なる材質の粒子を含むことを特徴とするものである。
【００２０】
請求項６に記載の発明は、請求項４又は請求項５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記粒子は、金属、酸化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物、ガラス、ガラスファイバー、又はカーボンファイバーからなることを特徴とするものである。
【００２１】
請求項７に記載の発明は、請求項４又は請求項５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記粒子は、周囲と異なる材質の樹脂粒子であることを特徴とするものである。
【００２２】
請求項８に記載の発明は、請求項１から請求項７のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板の表面の表面粗さＲａが１０［ｎｍ］以下であることを特徴とするものである。
【００２３】
請求項９に記載の発明は、請求項１から請求項８のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板を構成する樹脂は、ガラス転移温度Ｔｇが２００［℃］以上であることを特徴とするものである。
【００２４】
請求項１０に記載の発明は、請求項１から請求項９のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板は、射出成形、注型成形、シート成形、射出圧縮成形、又は圧縮成形によって成形されることを特徴とするものである。
【００２５】
請求項１１に記載の発明は、請求項１０に記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板の内径寸法、外径寸法、内周端部形状、又は外周端部形状のうち少なくとも１つは前記成形時に形成されることを特徴とするものである。
【００２６】
請求項１２に記載の発明は、請求項１から請求項１１のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、少なくとも金属層、セラミック層、磁性層、ガラス層、又は、無機層と有機層との複合層のいずれかの層を含むことを特徴とするものである。
【００２７】
請求項１３に記載の発明は、請求項１から請求項１１のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、少なくともＮｉ（ニッケル）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｕ（銅）、Ｔｉ（チタン）、Ｐ（リン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｓｉ（シリコン）、Ｓｎ（錫）又はＰｄ（パラジウム）のいずれかを成分とする金属層、セラミック層、又は磁性層のいずれかの層を含むことを特徴とするものである。
【００２８】
請求項１４に記載の発明は、請求項１から請求項１３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、各膜の成分が異なる多層膜からなることを特徴とするものである。
【００２９】
請求項１５に記載の発明は、請求項１から請求項１３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、前記基板に接する面から表面にかけて、その成分が徐々に変化するように形成されていることを特徴とするものである。
【００３０】
請求項１６に記載の発明は、請求項１から請求項１５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、前記基板に接する側よりも表面側の硬度が高いことを特徴とするものである。
【００３１】
請求項１７に記載の発明は、請求項１から請求項１６のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層の表面粗さＲａが１［ｎｍ］以下であることを特徴とするものである。
【００３２】
請求項１８に記載の発明は、請求項１から請求項１７のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層の表面が研磨されていることを特徴とするものである。
【００３３】
請求項１９に記載の発明は、請求項１から請求項１８のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板は、中央部の厚さが端部の厚さよりも厚いことを特徴とするものである。
【００３４】
請求項２０に記載の発明は、請求項１９に記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板は、中央部から端部にかけて厚さが徐々に薄くなっていることを特徴とするものである。
【００３５】
請求項２１に記載の発明は、円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に被覆層を形成し、前記被覆層の表面を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法である。
【００３６】
請求項２２に記載の発明は、円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基盤とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に中間層を形成し、前記中間層の上に被覆層を形成し、前記被覆層の表面を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法である。
【発明の効果】
【００３７】
この発明によると、成形による樹脂製基板を用いているため、成形品取り出し後の追加工程の状態で高い寸法品質や表面粗さが良好な基板を得ることが可能となり、工程を省略できる。また、所望の表面精度（表面の粗さやうねり）や寸法精度を達成するために成形品取り出し後に研削・研磨などが必要な場合でも、ガラスやアルミニウムを母材とする工程に比べて、工程を大きく簡略化できる。以上により、生産性が向上し、磁気記録媒体の製造コストを削減することが可能となる。
【００３８】
また、割れ難く、従来技術に係るガラス基板やアルミニウム基板と比較して軽量であるため、磁気記録媒体や磁気ディスク記録装置の軽量化が可能となる。さらに、磁気記録媒体の軽量化が可能となるため、その分、磁気ディスク記録装置の消費電力を抑制することが可能となる。
【００３９】
さらに、射出成形や注型成形などによって樹脂製基板を作製することができるため、型を作製し、成形を制御することで複雑な形状の基板を比較的容易に作製することもできる。また、型を作るだけで、樹脂製基板に直接、パターンを形成することもできる。
【００４０】
さらに、樹脂製基板と被覆層との間に中間層を設けることにより、樹脂製基板と被覆層との密着度を高めることが可能となる。また、中間層によって表面を平滑にすることもでき、中間層の硬度を高めることで、磁気記録媒体用基板の硬度を高めることもできる。
【００４１】
また、樹脂製基板に母材と異なる材質の粒子を含ませることにより、樹脂製基板の表面粗さを大きくし、その結果、樹脂製基板の強度特性を向上させると同時に、粗さ制御機能が付加されることで好適な表面形状が得られ、樹脂製基板と被覆層との密着度を高めることができる。また、中間層を形成する場合は、その中間層に粒子を含ませても、中間層と被覆層との密着度を高めることができる。
【００４２】
さらに、樹脂製基板の中央部の厚さを周辺部の厚さよりも厚くすることにより、磁気記録媒体を磁気ディスク記録装置で回転させるときに、回転による磁気記録媒体のぶれを小さくすることができ、また、磁気ヘッドの追従性を良好にすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
以下、この発明の実施形態に係る磁気記録媒体用基板及びその製造方法について説明する。
【００４４】
［第１の実施の形態］
まず、この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板について図１を参照して説明する。図１は、この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す図であり、図１（ａ）は磁気記録媒体用基板の斜視図、図１（ｂ）及び（ｃ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【００４５】
図１（ａ）の斜視図に示すように、磁気記録媒体用基板１は円盤状の形状を有し、中央に孔が形成され、ハードディスクなどの磁気記録媒体の基板として用いられる。
【００４６】
図１（ｂ）の断面図に示すように、磁気記録媒体用基板１は、樹脂材料が円盤状に成形された樹脂製基板２を備え、樹脂製基板２の一方の表面上に被覆層３ａが形成されている。第１の実施形態では、樹脂製基板２の両表面は平面かつ水平状に形成されている。
【００４７】
この磁気記録媒体用基板１を用いて磁気記録媒体を作製する場合、被覆層３ａの上に磁性層を形成して磁気記録媒体とする。例えば、被覆層３ａを研磨し、研磨後の被覆層３ａ上にスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することにより行われる。
【００４８】
樹脂製基板２には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は活性線硬化性樹脂の他、様々な樹脂を用いることができる。
【００４９】
例えば、樹脂製基板２には、例えば、ポリカーボネイト、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ＰＥＥＫ樹脂）、環状ポリオレフィン樹脂、メタクリルスチレン樹脂（ＭＳ樹脂）、ポリスチレン樹脂（ＰＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ＡＢＳ樹脂、ポリエステル樹脂（ＰＥＴ樹脂、ＰＢＴ樹脂など）、ポリオレフィン樹脂（ＰＥ樹脂、ＰＰ樹脂など）、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリアミド樹脂、又は、アクリル樹脂などを用いることができる。また、フェノール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂（ＢＭＣ樹脂など）、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂などを用いることができる。その他、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ樹脂）などを用いることができる。
【００５０】
また、活性線硬化性樹脂として、例えば、紫外線硬化性樹脂が用いられる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシ樹脂、紫外線硬化シリコン系樹脂、又は、紫外線硬化アクリル樹脂などを挙げることができる。
【００５１】
この発明の目的を効果的に発現させるために、塗設された硬化前の層に活性線を照射することによって硬化するときに、光開始剤を用いて硬化反応を促進させることが好ましい。このとき光増感剤を併用しても良い。
【００５２】
また、空気中の酸素が上記硬化反応を抑制する場合は、酸素濃度を低下させる、または除去するために、例えば不活性ガス雰囲気下で活性線を照射することもできる。活性線としては、赤外線、可視光、紫外線などを適宜選択することができるが、特に紫外線を選択することが好ましいが、特に限定されるものではない。また、活性線の照射中、または前後に加熱によって硬化反応を強化させても良い。
【００５３】
また、樹脂製基板２には、液晶ポリマー、有機／無機ハイブリッド樹脂（例えば、高分子成分にシリコンを骨格として取り込んだもの）などを用いることができる。なお、上記に挙げた樹脂は樹脂製基板２に用いられる樹脂の一例であり、この発明に係る樹脂製基板がこれらの樹脂に限定されることはない。２種以上の樹脂を混合して樹脂製基板としても良く、また、別々の層として異なる成分を隣接させて基板としても良い。
【００５４】
また、樹脂製基板２は、射出成形、注型成形、シート成形、射出圧縮成形、又は圧縮成形などによって作製することが可能である。さらに、必要に応じて、成形した基板をカッティングし、打ち抜き、又はプレス成形することにより、樹脂製基板２を作製する。
【００５５】
また、上記射出成形などにより樹脂製基板２を成形することで、樹脂製基板２の内径の寸法、外径の寸法、内周端部の形状、又は外周端部の形状の少なくとも１つを同時に形成することができる。つまり、樹脂製基板２の内径の寸法や外径の寸法に合わせて、射出成形などに用いられる金型を作製し、その金型を用いることで、内径寸法や外径寸法が樹脂成形時に完成されることになる。また、樹脂製基板２の内周端部の形状や外周端部の形状に合わせて、金型を作製し、その金型を用いることで、内周端部の形状や外周端部の形状が樹脂成形時に形成されることになる。
【００５６】
被覆層３ａには、金属層、セラミック層、磁性層、ガラス層、又は、無機層と有機層との複合層（ハイブリッド層）が用いられる。被覆層３ａの具体的な成分として、Ｎｉ（ニッケル）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｕ（銅）、Ｔｉ（チタン）、Ｐ（リン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｓｉ（シリコン）、Ｓｎ（錫）又はＰｄ（パラジウム）などが含まれる。
【００５７】
磁気記録媒体用基板１に磁性層が形成される前に、所望の表面精度（例えば表面粗さＲａ＜１［ｎｍ］）を達成すべく、必要に応じて被覆層３ａの表面は研磨されるため、その研磨によって削られる分の厚さを考慮して被覆層３ａを形成する必要がある。例えば、研磨をしない場合の被覆層３ａの厚さは０．０１〜３０［μｍ］であるが、研磨を必要とする場合には、研磨前の被覆層３ａの厚さを０．０１〜５０［μｍ］とする。なお、研磨によって削られる厚さの２倍以上の厚さの被覆層３ａを形成することが望ましい。
【００５８】
また、被覆層３ａは、電気めっき又は化学めっきなどのめっき法によって樹脂製基板２の表面上に形成することが可能である。その他、スパッタリング、真空蒸着、又はＣＶＤ法などによっても形成することが可能である。また、バーコート法、ディップコート（浸漬引き上げ）法、スピンコート法、スプレー法、又は印刷法などの塗布法も用いることができる。
【００５９】
以上のように、母材として樹脂を用いているため、射出成形や注型成形などにより基板２を作製することが可能となる。基板の寸法精度や表面精度は、射出成形などに用いられる型の表面精度や成形条件に依存する。このため、高精度に加工された型を用い、精密に成形を制御することで、寸法精度が良く平滑性を有する均一な品質の基板を大量に製造することができる。例えば、樹脂製基板の表面粗さＲａを１０［ｎｍ］以下にすることもできる。これにより、研磨工程を省略できたり、また、所望の表面精度（表面粗さやうねり）や寸法精度を達成するために成形品取り出し後に研削・研磨などが必要な場合であっても、ガラスやアルミニウムを母材とする工程（研磨、研削、洗浄などの工程）に比べて工程を大きく簡略化できる。以上により、基板の製造コストを安価に抑えることが可能となる。
【００６０】
また、樹脂製であるため、割れ難く、従来技術に係るアルミニウム基板やガラス基板と比較して軽量であるため、磁気記録媒体及び磁気ディスク記録装置の軽量化が可能となる。
【００６１】
さらに、射出成形や注型成形などによって樹脂製基板２を作製することができるため、型を作るだけで、複雑な形状の基板を比較的容易に作製することもでき、また、基板自体に直接、パターンを形成することもできる。
【００６２】
そして、被覆層３ａ自体の表面精度が所望の表面精度に達していなくとも、必要に応じて被覆層３ａを研削、研磨することにより、最終的な磁気記録媒体用基板が得られ、例えば、その表面粗さＲａを１［ｎｍ］以下にすることが可能となる。その研磨の後、スパッタリングによって被覆層３ａ上に磁性層が形成され、磁気記録媒体が作製される。なお、被覆層３ａを研磨する量は、被覆層３ａを形成する前の樹脂製基板２の表面粗さＲａに依存し、表面粗さＲａが大きいほど、被覆層３ａの研磨の量を多くする。
【００６３】
また、母材としての樹脂製基板２は、極力、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが高い方が望ましい。研磨処理後の被覆層３ａ上にスパッタリングにより磁性層が形成されるため、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇは、そのスパッタリングにおける温度以上であることが望ましい。例えば、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが２００℃以上である樹脂を用いることが望ましい。
【００６４】
ガラス転移温度Ｔｇが２００℃以上の代表的な樹脂として、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ＢＭＣ樹脂、又は、液晶ポリマーなどが挙げられる。より具体的には、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）として、ユーデル（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）として、ウルテム（日本ＧＥプラスチック）、ポリアミドイミド樹脂として、トーロン（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリイミド樹脂（熱可塑性）として、オーラム（三井化学）、ポリイミド（熱硬化性）として、ユーピレックス（宇部興産）、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂として、ＰＢＩ／Ｃｅｌａｚｏｌｅ（クラリアントジャパン）が挙げられる。また、液晶ポリマーとして、スミカスーパーＬＣＰ（住友化学）、ポリエーテルエーテルケトンとして、ビクトレックス（ビクトレックスＭＣ）が挙げられる。
【００６５】
また、樹脂製基板２として、吸湿による基板の寸法変化による磁気ヘッドとの位置ずれを防ぐために、吸湿性が少ない樹脂を用いることが望ましい。吸湿性の少ない樹脂の代表としては、ポリカーボネイトや環状ポリオレフィン樹脂がある。
【００６６】
また、表面に形成される被覆層３ａとの密着性などが良い樹脂を用いることが望ましい。例えば、表面に極性基が存在する樹脂や、表面粗さＲａが大きい樹脂や、周囲と異なる材質の粒子が含まれる樹脂などを樹脂製基板２の材料として用いる。
【００６７】
例えば、樹脂製基板２の表面粗さＲａを大きくすると、その表面上に形成される被覆層３ａと密着する面積が大きくなるため、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度を高くすることが可能となる。射出成形や注型成形などにより樹脂製基板２を作製する際に用いられる型の表面粗さＲａを調整することで、成形によって得られる樹脂製基板２の表面粗さＲａを大きくすることができる。なお、樹脂製基板２の表面粗さＲａを大きくしても、その表面に形成される被覆層３ａを研磨することで、必要とされる表面粗さＲａを得ることが可能である。ただし、被覆層３ａには、被覆する表面の粗さを埋め、さらに被覆層形成後、表面粗さＲａ＜１［ｎｍ］を達成する研磨による摩擦を補うだけの被覆層厚みが必要となるため、基板表面については表面粗さＲａをあまり大きくしすぎると加工効率が落ちてしまう。例えば、表面粗さＲａ＜１０００［ｎｍ］、さらには表面粗さＲａ＜１００［ｎｍ］が望ましい。
【００６８】
また、樹脂に粒子を含ませる場合、その粒子としては、母材となる樹脂よりも硬度が高い粒子や、母材となる樹脂よりも線膨張係数が小さい粒子を用いる。また、溶剤や薬品によるエッチングに対する化学的耐久性や、耐熱性、紫外線に対する脆化性など、母材と耐久性が異なる粒子を用いることもできる。
【００６９】
粒子の形状は、例えば、球状、凸凹状、楕円状、又はファイバー状などいずれの形状であっても良い。また、粒子を１方向に沿って含ませることもでき、ランダムな方向を向いた状態で含ませることもできる。粒子の大きさは、０．１〜１０［μｍ］のものを用いる。
【００７０】
粒子としては、金属、酸化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物、ガラス、ガラスファイバー、又はカーボンファイバーなどが用いられる。例えば、粒子の材質として、Ｓｉ（シリコン）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｃ（カーボン）、Ｓｎ（錫）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｔｉ（チタン）、Ｉｎ（インジウム）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｂａ（バリウム）、Ｌａ（ランタン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｗ（タングステン）、Ｖ（バナジウム）、又はＳｒ（ストロンチウム）などを用いることができる。さらに、これらを主成分とする化合物、例えば、酸化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物などであっても良い。具体的には、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＳｒＣＯ３、Ｃ、ＡｌＰＯ４、ＣａＣＯ３、ＩＴＯ、ＺｎＳ、ＭｇＦ２などが粒子として用いられる。
【００７１】
上記は無機粒子の例であるが、母材の樹脂と異なる種類の樹脂粒子を用いても良い。例えば、ＡＢＳ樹脂にはそれ自体に粒子としてブタジエンが含まれており、ブタジエン粒子を選択的にエッチングすることで表面形状を変化させることができる。
【００７２】
このように粒子を母材の樹脂に含ませることにより、耐傷性や剛性の向上、樹脂製基板２の表面に粒子の一部が突出し、その突出により表面の形状が凹凸状になることによる樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度の向上などが可能となる。なお、この凹凸の程度は、粒子の選択（例えば、粒子の種類、粒子のサイズ、粒子の添加量）、エッチング、加熱、エネルギー粒子照射、及びそれらの組み合わせによりコントロールできる。
【００７３】
上記粒子はその粒径が大きく、添加量が多い方が、樹脂製基板２の硬度、強度、及び熱膨張の改善効果が高く、表面の凹凸も作りやすくなり、被覆層３ａとの密着度を高めることができる。ただし、粒径が大きすぎたり、添加量が多すぎたりすると成形上支障があり、また基板の表面が粗くなりすぎて加工が困難になるので、目的に応じて適宜添加量を設定する。例えば、被覆層３ａを薄く、加工量を少なくする場合においては、密着力が確保できる範囲で、粒径が１［μｍ］以下の粒子を添加量１０［％］以下の範囲で樹脂に添加する。また、密着性、樹脂特性の改質を重視する場合には、成形上支障がない範囲で、粒径が１０［μｍ］程度の粒子を添加量として数十％の範囲で樹脂に添加する。
【００７４】
さらに、被覆層３ａとして、複数の層が積層された多層膜を用いても良く、また、厚さ方向に徐々にその成分を変えた傾斜成分層を用いても良い。例えば、樹脂製基板２と接する面側には、樹脂との密着度が高い層を形成し、最表面側には研磨しやすい硬度を有する層を形成する。これにより、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度を高めるとともに、被覆層３ａを容易に研磨することが可能となる。例えば、樹脂製基板２に接する面側に形成された層よりも、最表面側に形成された層の硬度を高くすることで、被覆層３ａの研磨によって容易に所望の表面精度を得ることができる。
【００７５】
また、高密度化技術として期待の大きい垂直磁気記録媒体においては、基板表面に対して垂直に磁性体を並べる必要があり、そのためには、磁性層と基板との間に軟磁性層を形成する必要がある。この軟磁性層の代表的な合金として、ニッケル−コバルト（Ｎｉ−Ｃｏ）合金がある。被覆層３ａとしてＮｉ−Ｃｏ合金を用いることにより、垂直磁気記録媒体における軟磁性層としての機能も果たすことが可能となる。
【００７６】
また、図１（ｃ）の断面図に示す磁気記録媒体用基板４のように、樹脂製基板２の両面に被覆層３ａ、３ｂを形成しても良い。もちろんこのとき、基板の端面も同時に被覆しても良い。この場合、一方の面に形成された被覆層３ａ上にＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を作製する。
【００７７】
なお、被覆層３ａ（３ｂ）の密着性を高めるために、樹脂製基板２の表面に凹凸形状を設けた場合など、被覆層３ａ（３ｂ）の表面粗さＲａが所望の表面粗さ（例えば表面粗さＲａ＜１［ｎｍ］）でなかった場合には、被覆層３ａ（３ｂ）の表面を、研削、研磨することにより所望の表面粗さに加工して磁気記録媒体基板とし、被覆層３ａ（３ｂ）上に磁性層を形成することで磁気記録媒体を作製する。
【００７８】
このように樹脂製基板２の両面に被覆層３ａ、３ｂを形成することにより、磁気記録媒体用基板の反りを緩和することが可能となる。つまり、樹脂製基板２の一方の表面のみに被覆層３ａを形成すると、その被覆層３ａに起因する引張り応力又は圧縮応力によって磁気記録媒体用基板が反ってしまうおそれがある。これに対して、樹脂製基板２の両面に被覆層３ａ、３ｂを形成することにより、両面に引張り応力又は圧縮応力が発生するため、それらの応力が相殺されて磁気記録媒体用基板の反りを緩和することが可能となる。また、樹脂製基板に対する被覆効果によって、吸湿性、ガス放出性などの化学的な安定性が改善される。
【００７９】
なお、被覆層３ａ、３ｂの厚さは等しくても良く、厚さが異なっていても良い。厚さが異なっていても、両面に被覆層３ａ、３ｂを形成することで、被覆層３ｂが形成されない場合と比べて、磁気記録媒体用基板の反りを緩和することが可能となる。
【００８０】
また、樹脂製基板２を作製した後、被覆層３ａを形成する工程、及び被覆層３ａを研磨する工程の前後にて、必要に応じて、性能向上や品質安定のため、適宜、アニール処理を行っても構わない。
【００８１】
［第２の実施の形態］
次に、この発明の第２の実施の形態に係る磁気記録媒体用基板について図２を参照して説明する。図２は、この発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す断面図である。
【００８２】
図２（ａ）に示すように、第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板５は、樹脂製基板２を備え、樹脂製基板２の一方の表面上に中間層６ａが形成され、その中間層６ａの上に被覆層３ａが形成されている。上記第１の実施形態では、樹脂製基板２上に直接、被覆層３ａを設けたが、第２の実施形態では、樹脂製基板２と被覆層３ａとの間に中間層６ａを設けたことが特徴となっている。
【００８３】
中間層６ａには、熱硬化性樹脂、又は活性線硬化性樹脂の他、様々な樹脂を用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などが用いられる。
【００８４】
また、活性線硬化性樹脂として紫外線硬化性樹脂が用いられ、例えば、紫外線硬化性アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、又は、紫外線硬化性エポキシ樹脂などを挙げることができる。この発明の目的を効果的に発現させるために、塗設された硬化前の層に活性線を照射することによって硬化するときに、光開始剤を用いて硬化反応を促進させることが好ましい。このとき光増感剤を併用しても良い。また、空気中の酸素が上記硬化反応を抑制する場合には、酸素濃度を低下させる、または除去するために、例えば不活性ガス雰囲気下で活性線を照射することもできる。活性線としては、赤外線、可視光、紫外線などを適宜選択することもできるが、特に紫外線を選択することが好ましいが、特に限定するものではない。また、活性線の照射中、または前後に加熱によって硬化反応を強化させても良い。
【００８５】
中間層６ａは、樹脂製基板２上に塗布されて形成される。例えば、バーコート法、ディップコート（浸漬引き上げ）法、スピンコート法、スプレー法、又は印刷法などの方法によって樹脂製基板２上に成膜される。
【００８６】
中間層６ａは、樹脂製基板２の表面を平滑にする機能（平滑性）、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度を高める機能（密着性）、及び、最終的に作製される磁気記録媒体基板５の強度を高める機能（強度性）を有する。以下、それぞれの機能について説明する。
【００８７】
まず、平滑性について説明する。中間層６ａを樹脂製基板２上に形成することにより、樹脂製基板２を作製するときに形成された表面の凹凸を吸収して、基板の表面粗さを小さくすることが可能となる。たとえ樹脂製基板２の表面粗さやうねりが大きい場合であっても、中間層６ａによって表面粗さやうねりの影響が軽減され、基板の表面粗さやうねりを小さくすることができる。なお、中間層６ａを形成後、寸法精度や表面精度などが所望の性能に到達していない場合には、切削、研磨、研削などの追加工程を実施しても良い。
【００８８】
次に、密着性について説明する。樹脂製基板２と被覆層３ａの材料の組み合わせによっては、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度が低くなる場合もある。この場合、中間層６ａを設けることにより、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度を高めることができる。例えば、成膜条件によって中間層６ａの表面を荒らして凹凸を付けることにより、被覆層３ａと接する面積が大きくなるため、中間層６ａと被覆層３ａとの密着度が高くなり、これによって、樹脂製基板２上に被覆層３ａを強固に形成することが可能となる．
【００８９】
また、中間層６ａと被覆層３ａとの密着度を更に高めるために、樹脂に粒子を含ませたものを中間層６ａとしても良い。その粒子としては、第１の実施形態において樹脂製基板２に含ませた粒子と同じものを用いることができる。樹脂と異なる材質の粒子を樹脂に含ませて中間層６ａとする。例えば、樹脂よりも硬度が高い粒子や、樹脂よりも線膨張係数が小さい粒子、耐久性が樹脂と異なる粒子などを用いる。
【００９０】
このように樹脂に粒子を含ませて中間層６ａとすることにより、中間層６ａの表面に粒子の一部が突出したり、又は、エッチングにより粒子の一部あるいは全部を除去したりして、中間層６ａの表面形状が凹凸状になる。このように中間層６ａの表面を凹凸状にすることで、中間層６ａと被覆層３ａとの密着度を更に高めることが可能となる。
【００９１】
また、樹脂製基板２と被覆層３ａとの間の線膨張係数の差が大きいことにより温度上昇時にクラックが発生する場合には、中間層６ａの線膨張係数を樹脂製基板２と被覆層３ａの中間の線膨張係数とすることで、クラックの発生を防止又は低減できる。
【００９２】
次に、強度性について説明する。樹脂製基板２は樹脂を母材とした基板であるため柔らかく、基板の厚さによっては基板が湾曲し、変形してしまうおそれがある。このように樹脂製基板２が湾曲すると、磁気記録媒体の回転時における磁気ヘッドの追従性などに影響がでてくる。そこで、樹脂製基板２と被覆層３ａとの間に中間層６ａを設けることにより、樹脂製基板２の強度を補強することが可能となる。また、強度を更に高めるために、樹脂に粒子を含ませたものを中間層６ａとしても良い。
【００９３】
なお、樹脂製基板２は、第１の実施形態と同じ材料（樹脂）を母材とし、同じ方法によって作製される。従って、樹脂製基板２に粒子を含ませても良い。また、被覆層３ａについても、第１の実施形態と同じ材料が用いられ、同じ方法によって形成される。従って、被覆層３ａを多層膜などにしても良い。
【００９４】
そして、磁気記録媒体用基板５を用いて磁気記録媒体を作製する場合、第１の実施形態と同様に、被覆層３ａ上に磁性層を形成して磁気記録媒体とする。なお、所望の表面精度を得るために被覆層３ａを研削、研磨しても良い。
【００９５】
また、図２（ｂ）の断面図に示す磁気記録媒体用基板７のように、樹脂製基板２の両面に中間層６ａ、６ｂを形成し、それら中間層６ａ、６ｂ上に被覆層３ａ、３ｂを形成しても良い。このように樹脂製基板２の両面に中間層６ａ、６ｂ、及び被覆層３ａ、３ｂを形成することにより、両面に発生する引張り応力又は圧縮応力が相殺され、磁気記録媒体用基板の反りを緩和することが可能となる。また、中間層６ａ、６ｂの厚さ、被覆層３ａ、３ｂの厚さは等しくても良く、厚さが異なっていても良い。
【００９６】
一方の面に形成された被覆層３ａ上に磁性膜を形成することで磁気記録媒体を作製する。第１の実施形態と同じく、被覆層３ａの表面粗さＲａが所望の値（例えばＲａ＜１［ｎｍ］）でなかった場合には、被覆層３ａ表面を、研削、研磨することにより所望の表面粗さＲａに加工して磁気記録媒体基板とし、被覆層３ａ上に磁性層を形成することで磁気記録媒体を作製する。
【００９７】
また、樹脂製基板２を作製した後、中間層６ａを形成する工程、被覆層３ａを形成する工程、及び被覆層３ａを研磨する工程の前後にて、必要に応じて、性能向上や品質安定のため、適宜、アニール処理を行っても構わない。
【００９８】
［第３の実施の形態］
次に、この発明の第３の実施形態に係る磁気記録媒体用基板について図３を参照して説明する。図３は、この発明の第３の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の母材となる基板の構成を示す断面図である。
【００９９】
上記第１及び第２の実施形態では、樹脂製基板２の表面が平面かつ水平状に形成され、基板の中央部であっても周辺部であっても樹脂製基板２の厚さを等しくしたが、この第３の実施形態では、樹脂製基板の厚さを中央部と周辺部とで変えた点が特徴となっている。
【０１００】
図３（ａ）の断面図に示すように、第３の実施形態に係る樹脂製基板８は、基板の中央部Ｏに上下方向に貫通する開口部８ｃが形成され、中央部Ｏから樹脂製基板８の端部８ｄに近づくにつれて徐々に基板の厚さが薄くなっている。つまり、基板の中央部Ｏに比べて周辺部の厚さが薄くなっている。この例では、樹脂製基板８の表面８ａ、８ｂを平面状とし、両表面８ａ、８ｂともに斜めに形成することで、基板の厚さを端部８ｄに向けて徐々に薄くしている。ここで、中央部Ｏ付近の厚さを「厚さｄ１」とし、端部８ｄの厚さを「厚さｄ２」とすると、厚さｄ１＞厚さｄ２となる。
【０１０１】
また、この樹脂製基板８は、第１及び第２の実施形態と同じ方法（射出成形など）で作製することができる。なお、表面８ａ、８ｂの傾斜の角度は、樹脂製基板８を作製する際に型の形状を変えることで、任意に変更することができる。例えば、外径が１インチの基板を用いる場合、中央部Ｏの厚さｄ１を１［ｍｍ］とすると、端部８ｄの厚さは、０．３［ｍｍ］程度まで薄くしても良い。
【０１０２】
以上のように、樹脂製基板８の中央部に比べて周辺部の厚さを薄くすることにより、樹脂製基板８に基づいて作製された磁気記録媒体を磁気ディスク記録装置で回転させるときに、回転によるぶれを小さくすることができ、また、磁気ヘッドの追従性を良好にすることが可能となる。
【０１０３】
また、射出成形で樹脂製基板を作製する場合、一般的には、中央部に設けたゲートから樹脂を充填して基板を形作り、中央部に相当する部分を打ち抜くことで開口部を形成し成形品として取り出している。この方法を採用する場合において、樹脂製基板の中央部が周辺部よりも厚くなるような金型を用いることで、樹脂の流動性が向上し、成形しやすくなる効果がある。
【０１０４】
なお、表面８ａの傾斜と表面８ｂの傾斜とでは、それらの傾斜角度が同じであっても良く、異なっていても良い。両表面８ａ、８ｂの傾斜角度が同じでも異なっていても、中央部Ｏから端部８ｄにかけて徐々に基板の厚さが薄くなっていれば、上記の作用及び効果を奏することが可能である。
【０１０５】
また、樹脂製基板として、図３（ｂ）に示すような樹脂製基板９を用いても良い。この樹脂製基板９についても、中央部Ｏに上下方向に貫通する開口部９ｃが形成され、中央部Ｏから樹脂製基板９の端部９ｄに近づくにつれて徐々に基板の厚さが薄くなっている。この例では、樹脂製基板９の表面９ａ、９ｂは凸型の曲面形状を有しており、両表面９ａ、９ｂともに凸型の曲面形状に形成することで、基板の厚さを端部９ｄに向けて徐々に薄くしている。
【０１０６】
以上のように、表面９ａ、９ｂを凸型の曲面状にして周辺部の厚さを薄くしても、回転時におけるブレを小さくし、磁気ヘッドの追従性を良好にすることができる。
【０１０７】
なお、表面９ａの曲率半径と表面９ｂの曲率半径とでは、それらの曲率半径が同じであっても良く、異なっていても良い。両表面９ａ、９ｂの曲率半径が同じであっても異なっていても、中央部Ｏから端部９ｄにかけて徐々に基板の厚さが薄くなっていれば、上記の作用及び効果を奏することが可能である。
【０１０８】
さらに、樹脂製基板として、図３（ｃ）に示すような樹脂製基板１０を用いても良い。この樹脂製基板１０についても、中央部Ｏに上下方向に貫通する開口部１０ｃが形成され、中央部Ｏから樹脂製基板１０の端部１０ｄに近づくにつれて徐々に基板の厚さが薄くなっている。この例では、樹脂製基板１０の両表面１０ａ、１０ｂは平面状となっているが、一方の面である表面１０ａは水平状に形成され、反対側の面である表面１０ｂは斜めに形成されている。この点が、図３（ａ）に示す樹脂製基板８と異なる。樹脂製基板８ａは、両面が斜面となっているが、図３（ｃ）に示す樹脂製基板１０は、一方の面（表面１０ａ）が水平状に形成され、他方の面（表面１０ｂ）のみが斜面となっている。このように１つの面（表面１０ｂ）が斜めに形成されているため、基板の中央部Ｏから端部１０ｄに向けて徐々に厚さが薄くなっている。
【０１０９】
また、樹脂製基板１０に被覆層３ａや中間層６ａを形成する場合は、少なくとも水平な面である表面１０ａ上に形成する。なお、斜面である表面１０ｂにも被覆層３ｂや中間層６ｂを形成しても構わない。
【０１１０】
以上のように、一方の面（表面１０ｂ）のみを斜面にして周辺部の厚さを薄くしても、回転時におけるブレを小さくし、磁気ヘッドの追従性を良好にすることができる。
【０１１１】
なお、この第３の実施形態に係る樹脂製基板８、９、１０は、それらの形状が第１及び第２の実施形態に係る樹脂製基板の形状と異なる点に特徴があり、材質、表面粗さＲａ、及び任意に含まれる粒子などに関しては、第１及び第２の実施形態と同じである。
【０１１２】
そして、図３（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に示す樹脂製基板８、９、１０の表面に、第１の実施形態と同様に被覆層６ａを形成することで磁気記録媒体用基板を作製する。さらに、被覆層３ａの表面粗さＲａが所望の値（例えばＲａ＜１［ｎｍ］）でなかった場合には、被覆層３ａ表面を、研削、研磨することにより所望の表面粗さＲａに加工して磁気記録媒体用基板とし、被覆層３ａ上に磁性層を形成することで磁気記録媒体を作製する。
【０１１３】
また、第２の実施形態と同様に、樹脂製基板８、９、１０と被覆層６ａとの間に中間層３ａを設けても良い。さらに、樹脂製基板８、９、１０の両面に被覆層６ａ、６ｂを設けたり、中間層６ａ、６ｂを設けたりしても良い。
【０１１４】
また、上記第１から第３の実施形態において、樹脂性基板２や中間層６ａ（６ｂ）に粒子を含ませる場合には、粒子を含ませることによって樹脂製基板２や中間層６ａ（６ｂ）の表面に凹凸が生じたり、粒子の一部が露出したりすることにより、隣接する層との密着力が強化する効果が期待できる。
【０１１５】
さらに、その密着力を強化する手段として、樹脂製基板２や中間層６ａ（６ｂ）の表面を溶媒によって溶かすことで、樹脂製基板２や中間層６ａ（６ｂ）に含まれる粒子の露出を多くし、積極的に表面を凹凸形状に形成しても良い。また、樹脂製基板２や中間層６ａ（６ｂ）をエッチングすることにより表面近傍の粒子の一部あるいは全部を除去することによって、積極的に表面を凹凸形状に形成しても良い。このとき、凹凸形状に、表面の樹脂を内部にえぐるような形状が含まれていると、密着力強化の効果を更に高めることが可能となる。例えば図４に示す基板の断面図のように、樹脂製基板２又は中間層６ａの表面に形成された凹部１１が、凹部１１の開口から内部の樹脂をえぐるように形成され（図４中、破線で示す部分）、凹凸形状に、凸部１２の側面が凹部１１によって内側にえぐられている形状が含まれていることにより、密着力強化の効果を高めることができる。
【０１１６】
また、上記第１から第３の実施形態において、磁気記録媒体としての性能を確保するために、基板の面取りやバリ取り、次工程の取り扱いを簡単にするための形状加工などの工夫を取り入れ、性能や品質を向上させることが可能である。
【０１１７】
［実施例］
次に、この発明の具体的な実施例について説明する。
【０１１８】
（実施例１）
この実施例１は上記第１の実施形態に相当する。ここでは、樹脂製基板２の一方の表面上に被覆層３ａを形成して磁気記録媒体用基板とする例について説明する。
【０１１９】
（樹脂製基板１の成形）
実施例１に係る磁気記録媒体用基板における母材（樹脂製基板）の材料として、ポリイミドを用い、射出成形により樹脂製基板２を形成した。ポリイミドとして、オーラム（三井化学社製）を用いた。この樹脂製基板２の寸法を以下に示す。
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
樹脂製基板２の厚さ：０．４［ｍｍ］
表面粗さＲａ：２０［ｎｍ］
【０１２０】
このように樹脂を用いて射出成形することで、研磨を行わなくても表面粗さＲａが小さい樹脂製基板を作製することができる。これにより、アルミニウム基板やガラス基板などに対して行っていた研磨工程を簡略化でき、磁気記録媒体用基板の製造コストを削減することが可能となる。
【０１２１】
（被覆層３ａの形成）
上記樹脂製基板２に対して無電解めっきを施すことにより、樹脂製基板２の表面に、１［μｍ］のＮｉ層を形成した。その後、さらに無電解めっきを施すことにより、Ｎｉ層上にＮｉＰ合金めっき層（以下、ＮｉＰ層と称する）を形成した。このＮｉＰ層の厚さは、３０［μｍ］となった。これらＮｉ層とＮｉＰ層が、被覆層３ａに相当する。
【０１２２】
（研磨工程）
上記被覆層３ａを形成した後、被覆層３ａの表面を研磨した。この研磨工程では、コロイダルシリカを主成分とするスラリを研磨剤として用いた。研磨後の磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａは、０．４［ｎｍ］となった。
【０１２３】
以上のように、実施例１によると、研磨工程後の磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａを１［ｎｍ］以下にすることが可能となる。従って、樹脂製基板２自体を研磨しなくても、磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａを、磁気記録媒体に要求される表面粗さまで小さくすることが可能となる。
【０１２４】
また、上記研磨工程後、被覆層３ａ上にスパッタリングによってＣｏ系合金の磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製する。
【０１２５】
なお、この実施例１では樹脂製基板２の材料としてポリイミドを用いたが、上記第１の実施形態で挙げた他の樹脂を用いても、この実施例１と同様の効果を奏することができる。また、被覆層３ａをＮｉＰ層としたが、第１の実施形態で挙げた他の成分からなる層を用いても、同様の効果を奏することができる。
【０１２６】
（実施例２）
この実施例２は上記第２の実施形態に相当する。ここでは、樹脂製基板２の一方の表面上に中間層６ａを形成し、さらにその中間層６ａ上に被覆層３ａを形成して磁気記録媒体用基板とする例について説明する。
【０１２７】
（樹脂製基板１の成形）
実施例２に係る磁気記録媒体用基板における母材（樹脂製基板）の材料として、環状ポリオレフィン樹脂を用い、射出成形により樹脂製基板２を形成した。環状ポリオレフィンとして、アペル（三井化学社製）を用いた。この樹脂製基板２の寸法を以下に示す。
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
樹脂製基板２の厚さ：０．４［ｍｍ］
表面粗さＲａ：１０［ｎｍ］
【０１２８】
このように樹脂を用いて射出成形することで、研磨を行わなくても表面粗さＲａが小さい樹脂製基板を作製することができる。
【０１２９】
（中間層６ａの形成）
上記樹脂製基板２に対して塗布により中間層６ａを形成した。この実施例２では、以下に示す成分の紫外線硬化性アクリル系樹脂に、粒径が１〜３［μｍ］のシリカ粒子を２０［ｗｔ％］混入して塗布樹脂液とし、この塗布樹脂液を上記樹脂製基板２の表面にスピンコート法によって塗布し、続いて４０［℃］で３０秒間乾燥し、溶媒を揮発させて乾燥した。塗布した層を紫外線照射により固化させて中間層６ａとした。この中間層６ａの厚さは、７［μｍ］となった。
＜紫外線硬化性アクリル系樹脂＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリトーレ単量体：７０［ｇ］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリトーレ２量体：１５［ｇ］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリトーレ３量体以上の成分：１５［ｇ］
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤：４［ｇ］
プロピレングリコールモノメチルエーテル：７５［ｇ］
メチルエチルケトン：７５［ｇ］
【０１３０】
（被覆層３ａの形成）
樹脂製基板２上に中間層６ａを形成した後、その中間層６ａ上に被覆層３ａを形成した。被覆層３ａを形成する前処理として、中間層６ａが形成された樹脂製基板２をエッチングした。ここでは、中間層６ａに含まれる粒子の一部が表面から突出するまでエッチングを行なった。このエッチングにより中間層６ａが削られ、中間層６ａに含まれる粒子の一部が表面から突出する。一部が突出した粒子によって中間層６ａの表面に凹凸が形成される。
【０１３１】
そのエッチングの後、無電解めっきを施すことにより、中間層６ａ上に１［μｍ］のＮｉ層を形成し、さらに無電解めっきを施すことにより、Ｎｉ層上にＮｉＰ層を形成した。このＮｉＰ層の厚さは、３５［μｍ］となった。さらにＮｉＰ層を形成した後、電解めっきを施すことにより、ＮｉＰ層上に、厚さ５［μｍ］のＣｒ層を形成した。これらＮｉ層、ＮｉＰ層及びＣｒ層が、被覆層３ａに相当する。
【０１３２】
また、中間層６ａをエッチングすることにより、中間層６ａに含まれる粒子の一部が表面から突出して、その突出した粒子によって中間層６ａの表面に段差が生じ、表面の形状が凹凸状になる。このように中間層６ａの表面が凹凸状に形成されるため、めっきによって形成されるＮｉ層やＮｉＰ層などが中間層６ａの表面に強固に付着することになる。つまり、粒子によって中間層６ａの表面を凹凸状にすることで、中間層６ａとＮｉＰ層などの被覆層３ａとの密着度を高くすることが可能となる。
【０１３３】
なお、ＮｉＰ層上にＣｒ層を形成することで、ＮｉＰ層の曇り発生を防止することができる。
【０１３４】
（研磨工程）
中間層６ａを形成し、さらに被覆層３ａを形成した後、被覆層３ａの表面を研磨した。この研磨工程では、コロイダルシリカを主成分とするスラリを研磨剤として用いた。研磨後の磁気記録媒体用基板１の表面粗さＲａは、０．４［ｎｍ］となった。
【０１３５】
以上のように、実施例２によると、研磨工程後の磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａを１［ｎｍ］以下にすることが可能となる。従って、樹脂製基板２自体を研磨しなくても、磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａを、磁気記録媒体に要求される表面粗さまで小さくすることが可能となる。
【０１３６】
また、上記研磨工程後、被覆層３ａ上にスパッタリングによってＣｏ径合金の磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製する。
【０１３７】
なお、この実施例２では樹脂製基板２の材料として環状ポリオレフィン樹脂を用いたが、上記第１の実施形態で挙げた他の樹脂を用いても、この実施例２と同様の効果を奏することできる。また、中間層６ａとして紫外線硬化性アクリル系樹脂を用いたが、上記第２の実施形態で挙げた他の樹脂を用いても、同様の効果を奏することができる。さらに、被覆層３ａをＮｉＰ層及びＣｒ層としたが、第１の実施形態で挙げた他の成分からなる層を用いても、同様の効果を奏することができる。
【０１３８】
（実施例３）
この実施例３は上記第３の実施形態に相当する。ここでは、図３（ｂ）に示す樹脂製基板９の具体例について説明する。
【０１３９】
（樹脂製基板９の寸法）
実施例３に係る樹脂製基板９の寸法を以下に示す。
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
内径（穴の径）：７［ｍｍ］
中心部Ｏ付近の厚さ：１［ｍｍ］
周辺部（端部９ｄ）の厚さ：０．３［ｍｍ］
曲面状に形成された表面９ａ、９ｂの曲率半径Ｒ：３００［ｍｍ］
【０１４０】
上記の構成を有する樹脂製基板９上に被覆層３ａを形成し、被覆層３ａの表面を研磨して最終的な磁気記録媒体用基板とした。研磨前後の被覆層３ａの厚さは、上記実施例１と同じである。また、樹脂製基板９上に中間層６ａを形成し、更にその中間層６ａ上に被覆層３ａを形成し、被覆層３ａの表面を研磨して最終的な磁気記録媒体用基板とした。中間層６ａの厚さは、上記実施例２と同じである。
【０１４１】
被覆層３ａを研磨した後、被覆層３ａ上にスパッタリングによってＣｏ系合金の磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製する。
【０１４２】
この実施例３によると、磁気記録媒体の回転時におけるぶれを抑制することができ、磁気ヘッドの追従性の向上が図れた。さらに、基板の中央部の厚さを周辺部よりも厚くしたことにより、射出成形によって樹脂製基板９を作製する際に、樹脂の流動性が向上し、成形しやすいことが確認された。
【０１４３】
なお、表面９ａ、９ｂの曲率半径Ｒについては、基板の大きさに依存するが、例えば、１インチの基板の場合、曲率半径Ｒを１３５［ｍｍ］以上にすることが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【０１４４】
【図１】この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す図である。
【図２】この発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す断面図である。
【図３】この発明の第３の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の母材となる基板の構成を示す断面図である。
【図４】この発明の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１４５】
１、４、５、７ 磁気記録媒体用基板
２、８、９、１０ 樹脂製基板
３ａ、３ｂ 被覆層
６ａ、６ｂ 中間層
【技術分野】
【０００１】
この発明は、磁気ディスク記録装置の基板に用いられる磁気記録媒体用基板及びその製造方法に関し、特に、樹脂製の基板を用いた磁気記録媒体用基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータなどに用いられる磁気ディスク記録装置、例えばハードディスクには、アルミニウム合金又はガラスのディスクが基板として用いられている。この基板上に金属磁気薄膜が形成され、金属磁気薄膜を磁気ヘッドで磁化することにより情報が記録される。
【０００３】
また、磁気記録媒体に記憶された磁気記録情報を読み取るための磁気ヘッドは、磁気記録媒体に対してその表面から浮上した状態で移動するように構成されている。磁気記録媒体の表面に凹凸が存在すると、磁気ヘッドが移動するときにこれらの凹凸と磁気ヘッドとが衝突し、磁気ヘッドの損傷、磁気記録媒体の傷つき等の不具合が生じるおそれがある。このような不具合の発生を抑制するために、アルミニウム基板又はガラス基板は、その表面が平滑面となるように製造時に高精度の研削・研磨処理が施され、表面の凹凸の発生を極力抑える試みがなされている（例えば特許文献１、特許文献２、及び特許文献３など）。
【０００４】
例えばアルミニウム基板を用いる場合、アルミニウム板をプレス成形して円盤状にした後、表面に対して高精度の研削・研磨加工及び洗浄工程を施すことにより、表面を平滑化し、続いて、Ｎｉ−Ｐめっき等のめっき処理を施した後、研磨加工、テクスチャー加工を施し、さらにスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００５】
また、ガラス基板を用いる場合、ガラス素材を溶融し、溶融したガラスをプレス成形し、円盤状のガラス基板を作製する。そして、ガラス基板の表面に対して高精度の研削・研磨加工及び洗浄工程を施すことにより、表面を平滑化した後、アルカリの溶融塩によるイオン交換によって表面を化学強化処理し、精密洗浄工程を経た後、テクスチャー加工を施し、さらにスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造している。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−５４９６５号公報（図４、図５など）
【特許文献２】特開２００３−５５００１号公報
【特許文献３】特開２０００−１６３７４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
以上のように、アルミニウム基板又はガラス基板に対して研削・研磨工程と洗浄工程とを繰り返すことにより、平滑な表面を得ている。しかしながら、基板の表面平滑性を得るための研削・研磨工程が煩雑となり、また、プレス成形後であって研削・研磨工程前の基板の表面粗さが大きいため、磁気記録媒体用の基板に要求される表面粗さを得るためには、その研削・研磨に相当の時間がかかってしまう。これにより、基板の製造コストが高くなってしまい、磁気記録媒体自体の価格を引き上げる要因となってしまう。例えば、アルミニウム基板又はガラス基板の表面粗さＲａとして、最終的には、表面粗さＲａ<１［ｎｍ］が要求されるが、この要求に応じるためには、研削・研磨を長時間にわたり精密に制御しながら実施する必要がある。なお、「表面粗さＲａ」は、ＪＩＳ Ｂ０６０１の規定による「表面粗さ」の算術平均粗さＲａである。
【０００８】
また、２．５インチ、１インチ、又は０．８５インチなどの携帯可能な小型の磁気ディスク記録装置の場合、装置に衝撃が加わると磁気記録媒体それ自体に衝撃が加わるため、磁気記録媒体は大きな損傷を受け、基板であるガラス基板やアルミニウム基板が破損や変形をしてしまう問題がある。さらに、磁気記録媒体の製造工程においても、ガラス基板は割れやすい問題があった。
【０００９】
さらに、携帯可能な磁気ディスク記録装置については、携帯性を考慮して装置の軽量化が望まれているが、アルミニウム基板やガラス基板はその基板自体が重いため、アルミニウム基板やガラス基板を用いた場合は、装置の軽量化が困難となっていた。
【００１０】
この発明は上記の問題に解決するものであり、磁気記録媒体用基板の母材として樹脂製の基板を用いることにより、基板の製造工程における研磨工程を省くことが可能な磁気記録媒体用基板を提供することを目的とする。
【００１１】
さらに、割れ難く、磁気ディスク記録装置の軽量化が可能な磁気記録媒体用基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この出願に係る発明者は樹脂製の基板の特徴に着目し、樹脂を成形して円盤状の形状を有する樹脂製の基板を作製し、その樹脂製基板の表面上に被覆層を形成することで磁気記録媒体用基板とした。
【００１３】
樹脂製基板は、射出成形や注型成形などにより作製されるため、基板の寸法精度や表面精度は、射出成形などに用いられる型の表面精度や成形条件に依存する。このため、高精度に加工された型を用い、精密に成形を制御することで、寸法精度が良く平滑性を有する均一な品質の基板を大量に製造することができる。例えば、樹脂製基板の表面粗さＲａを１０［ｎｍ］以下とすることもできる。これにより、研磨工程を省略できたり、また、所望の表面精度（表面の粗さやうねり）や寸法精度を達成するために成形品取り出し後に研削・研磨などが必要な場合であっても、ガラスやアルミニウムを母材とする工程（研磨、研削、洗浄などの工程）に比べて工程を大きく省略化できる。以上により、製造コストを安価に抑えることが可能となる。そして、樹脂製基板上に被覆層を形成することにより磁気記録媒体用基板となる。被覆層を形成後、磁気記録媒体用基板の所望の表面精度（例えば表面粗さＲａを１［ｎｍ］以下）に達していない場合には、被覆層を研磨することにより所望性能を達成することが可能となる。こうして得た磁気記録媒体用基板に対して磁性層が形成されて磁気記録媒体となる。
【００１４】
以下に、この発明の具体的な態様を示す。
【００１５】
請求項１に記載の発明は、円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に被覆層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用基板である。
【００１６】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板と前記被覆層との間に中間層が形成されていることを特徴とするものである。
【００１７】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の磁気記録媒体用基板であって、前記中間層は、塗布により形成された樹脂からなることを特徴とするものである。
【００１８】
請求項４に記載の発明は、請求項２又は請求項３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記中間層は、周囲と異なる材質の粒子を含むことを特徴とするものである。
【００１９】
請求項５に記載の発明は、請求項１から請求項４のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板は、母材と異なる材質の粒子を含むことを特徴とするものである。
【００２０】
請求項６に記載の発明は、請求項４又は請求項５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記粒子は、金属、酸化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物、ガラス、ガラスファイバー、又はカーボンファイバーからなることを特徴とするものである。
【００２１】
請求項７に記載の発明は、請求項４又は請求項５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記粒子は、周囲と異なる材質の樹脂粒子であることを特徴とするものである。
【００２２】
請求項８に記載の発明は、請求項１から請求項７のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板の表面の表面粗さＲａが１０［ｎｍ］以下であることを特徴とするものである。
【００２３】
請求項９に記載の発明は、請求項１から請求項８のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板を構成する樹脂は、ガラス転移温度Ｔｇが２００［℃］以上であることを特徴とするものである。
【００２４】
請求項１０に記載の発明は、請求項１から請求項９のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板は、射出成形、注型成形、シート成形、射出圧縮成形、又は圧縮成形によって成形されることを特徴とするものである。
【００２５】
請求項１１に記載の発明は、請求項１０に記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板の内径寸法、外径寸法、内周端部形状、又は外周端部形状のうち少なくとも１つは前記成形時に形成されることを特徴とするものである。
【００２６】
請求項１２に記載の発明は、請求項１から請求項１１のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、少なくとも金属層、セラミック層、磁性層、ガラス層、又は、無機層と有機層との複合層のいずれかの層を含むことを特徴とするものである。
【００２７】
請求項１３に記載の発明は、請求項１から請求項１１のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、少なくともＮｉ（ニッケル）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｕ（銅）、Ｔｉ（チタン）、Ｐ（リン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｓｉ（シリコン）、Ｓｎ（錫）又はＰｄ（パラジウム）のいずれかを成分とする金属層、セラミック層、又は磁性層のいずれかの層を含むことを特徴とするものである。
【００２８】
請求項１４に記載の発明は、請求項１から請求項１３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、各膜の成分が異なる多層膜からなることを特徴とするものである。
【００２９】
請求項１５に記載の発明は、請求項１から請求項１３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、前記基板に接する面から表面にかけて、その成分が徐々に変化するように形成されていることを特徴とするものである。
【００３０】
請求項１６に記載の発明は、請求項１から請求項１５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層は、前記基板に接する側よりも表面側の硬度が高いことを特徴とするものである。
【００３１】
請求項１７に記載の発明は、請求項１から請求項１６のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層の表面粗さＲａが１［ｎｍ］以下であることを特徴とするものである。
【００３２】
請求項１８に記載の発明は、請求項１から請求項１７のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記被覆層の表面が研磨されていることを特徴とするものである。
【００３３】
請求項１９に記載の発明は、請求項１から請求項１８のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板は、中央部の厚さが端部の厚さよりも厚いことを特徴とするものである。
【００３４】
請求項２０に記載の発明は、請求項１９に記載の磁気記録媒体用基板であって、前記基板は、中央部から端部にかけて厚さが徐々に薄くなっていることを特徴とするものである。
【００３５】
請求項２１に記載の発明は、円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に被覆層を形成し、前記被覆層の表面を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法である。
【００３６】
請求項２２に記載の発明は、円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基盤とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に中間層を形成し、前記中間層の上に被覆層を形成し、前記被覆層の表面を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法である。
【発明の効果】
【００３７】
この発明によると、成形による樹脂製基板を用いているため、成形品取り出し後の追加工程の状態で高い寸法品質や表面粗さが良好な基板を得ることが可能となり、工程を省略できる。また、所望の表面精度（表面の粗さやうねり）や寸法精度を達成するために成形品取り出し後に研削・研磨などが必要な場合でも、ガラスやアルミニウムを母材とする工程に比べて、工程を大きく簡略化できる。以上により、生産性が向上し、磁気記録媒体の製造コストを削減することが可能となる。
【００３８】
また、割れ難く、従来技術に係るガラス基板やアルミニウム基板と比較して軽量であるため、磁気記録媒体や磁気ディスク記録装置の軽量化が可能となる。さらに、磁気記録媒体の軽量化が可能となるため、その分、磁気ディスク記録装置の消費電力を抑制することが可能となる。
【００３９】
さらに、射出成形や注型成形などによって樹脂製基板を作製することができるため、型を作製し、成形を制御することで複雑な形状の基板を比較的容易に作製することもできる。また、型を作るだけで、樹脂製基板に直接、パターンを形成することもできる。
【００４０】
さらに、樹脂製基板と被覆層との間に中間層を設けることにより、樹脂製基板と被覆層との密着度を高めることが可能となる。また、中間層によって表面を平滑にすることもでき、中間層の硬度を高めることで、磁気記録媒体用基板の硬度を高めることもできる。
【００４１】
また、樹脂製基板に母材と異なる材質の粒子を含ませることにより、樹脂製基板の表面粗さを大きくし、その結果、樹脂製基板の強度特性を向上させると同時に、粗さ制御機能が付加されることで好適な表面形状が得られ、樹脂製基板と被覆層との密着度を高めることができる。また、中間層を形成する場合は、その中間層に粒子を含ませても、中間層と被覆層との密着度を高めることができる。
【００４２】
さらに、樹脂製基板の中央部の厚さを周辺部の厚さよりも厚くすることにより、磁気記録媒体を磁気ディスク記録装置で回転させるときに、回転による磁気記録媒体のぶれを小さくすることができ、また、磁気ヘッドの追従性を良好にすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
以下、この発明の実施形態に係る磁気記録媒体用基板及びその製造方法について説明する。
【００４４】
［第１の実施の形態］
まず、この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板について図１を参照して説明する。図１は、この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す図であり、図１（ａ）は磁気記録媒体用基板の斜視図、図１（ｂ）及び（ｃ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【００４５】
図１（ａ）の斜視図に示すように、磁気記録媒体用基板１は円盤状の形状を有し、中央に孔が形成され、ハードディスクなどの磁気記録媒体の基板として用いられる。
【００４６】
図１（ｂ）の断面図に示すように、磁気記録媒体用基板１は、樹脂材料が円盤状に成形された樹脂製基板２を備え、樹脂製基板２の一方の表面上に被覆層３ａが形成されている。第１の実施形態では、樹脂製基板２の両表面は平面かつ水平状に形成されている。
【００４７】
この磁気記録媒体用基板１を用いて磁気記録媒体を作製する場合、被覆層３ａの上に磁性層を形成して磁気記録媒体とする。例えば、被覆層３ａを研磨し、研磨後の被覆層３ａ上にスパッタリングによりＣｏ系合金の磁性層を形成することにより行われる。
【００４８】
樹脂製基板２には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は活性線硬化性樹脂の他、様々な樹脂を用いることができる。
【００４９】
例えば、樹脂製基板２には、例えば、ポリカーボネイト、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ＰＥＥＫ樹脂）、環状ポリオレフィン樹脂、メタクリルスチレン樹脂（ＭＳ樹脂）、ポリスチレン樹脂（ＰＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ＡＢＳ樹脂、ポリエステル樹脂（ＰＥＴ樹脂、ＰＢＴ樹脂など）、ポリオレフィン樹脂（ＰＥ樹脂、ＰＰ樹脂など）、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリアミド樹脂、又は、アクリル樹脂などを用いることができる。また、フェノール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹脂（ＢＭＣ樹脂など）、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂などを用いることができる。その他、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ樹脂）などを用いることができる。
【００５０】
また、活性線硬化性樹脂として、例えば、紫外線硬化性樹脂が用いられる。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシ樹脂、紫外線硬化シリコン系樹脂、又は、紫外線硬化アクリル樹脂などを挙げることができる。
【００５１】
この発明の目的を効果的に発現させるために、塗設された硬化前の層に活性線を照射することによって硬化するときに、光開始剤を用いて硬化反応を促進させることが好ましい。このとき光増感剤を併用しても良い。
【００５２】
また、空気中の酸素が上記硬化反応を抑制する場合は、酸素濃度を低下させる、または除去するために、例えば不活性ガス雰囲気下で活性線を照射することもできる。活性線としては、赤外線、可視光、紫外線などを適宜選択することができるが、特に紫外線を選択することが好ましいが、特に限定されるものではない。また、活性線の照射中、または前後に加熱によって硬化反応を強化させても良い。
【００５３】
また、樹脂製基板２には、液晶ポリマー、有機／無機ハイブリッド樹脂（例えば、高分子成分にシリコンを骨格として取り込んだもの）などを用いることができる。なお、上記に挙げた樹脂は樹脂製基板２に用いられる樹脂の一例であり、この発明に係る樹脂製基板がこれらの樹脂に限定されることはない。２種以上の樹脂を混合して樹脂製基板としても良く、また、別々の層として異なる成分を隣接させて基板としても良い。
【００５４】
また、樹脂製基板２は、射出成形、注型成形、シート成形、射出圧縮成形、又は圧縮成形などによって作製することが可能である。さらに、必要に応じて、成形した基板をカッティングし、打ち抜き、又はプレス成形することにより、樹脂製基板２を作製する。
【００５５】
また、上記射出成形などにより樹脂製基板２を成形することで、樹脂製基板２の内径の寸法、外径の寸法、内周端部の形状、又は外周端部の形状の少なくとも１つを同時に形成することができる。つまり、樹脂製基板２の内径の寸法や外径の寸法に合わせて、射出成形などに用いられる金型を作製し、その金型を用いることで、内径寸法や外径寸法が樹脂成形時に完成されることになる。また、樹脂製基板２の内周端部の形状や外周端部の形状に合わせて、金型を作製し、その金型を用いることで、内周端部の形状や外周端部の形状が樹脂成形時に形成されることになる。
【００５６】
被覆層３ａには、金属層、セラミック層、磁性層、ガラス層、又は、無機層と有機層との複合層（ハイブリッド層）が用いられる。被覆層３ａの具体的な成分として、Ｎｉ（ニッケル）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｕ（銅）、Ｔｉ（チタン）、Ｐ（リン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｓｉ（シリコン）、Ｓｎ（錫）又はＰｄ（パラジウム）などが含まれる。
【００５７】
磁気記録媒体用基板１に磁性層が形成される前に、所望の表面精度（例えば表面粗さＲａ＜１［ｎｍ］）を達成すべく、必要に応じて被覆層３ａの表面は研磨されるため、その研磨によって削られる分の厚さを考慮して被覆層３ａを形成する必要がある。例えば、研磨をしない場合の被覆層３ａの厚さは０．０１〜３０［μｍ］であるが、研磨を必要とする場合には、研磨前の被覆層３ａの厚さを０．０１〜５０［μｍ］とする。なお、研磨によって削られる厚さの２倍以上の厚さの被覆層３ａを形成することが望ましい。
【００５８】
また、被覆層３ａは、電気めっき又は化学めっきなどのめっき法によって樹脂製基板２の表面上に形成することが可能である。その他、スパッタリング、真空蒸着、又はＣＶＤ法などによっても形成することが可能である。また、バーコート法、ディップコート（浸漬引き上げ）法、スピンコート法、スプレー法、又は印刷法などの塗布法も用いることができる。
【００５９】
以上のように、母材として樹脂を用いているため、射出成形や注型成形などにより基板２を作製することが可能となる。基板の寸法精度や表面精度は、射出成形などに用いられる型の表面精度や成形条件に依存する。このため、高精度に加工された型を用い、精密に成形を制御することで、寸法精度が良く平滑性を有する均一な品質の基板を大量に製造することができる。例えば、樹脂製基板の表面粗さＲａを１０［ｎｍ］以下にすることもできる。これにより、研磨工程を省略できたり、また、所望の表面精度（表面粗さやうねり）や寸法精度を達成するために成形品取り出し後に研削・研磨などが必要な場合であっても、ガラスやアルミニウムを母材とする工程（研磨、研削、洗浄などの工程）に比べて工程を大きく簡略化できる。以上により、基板の製造コストを安価に抑えることが可能となる。
【００６０】
また、樹脂製であるため、割れ難く、従来技術に係るアルミニウム基板やガラス基板と比較して軽量であるため、磁気記録媒体及び磁気ディスク記録装置の軽量化が可能となる。
【００６１】
さらに、射出成形や注型成形などによって樹脂製基板２を作製することができるため、型を作るだけで、複雑な形状の基板を比較的容易に作製することもでき、また、基板自体に直接、パターンを形成することもできる。
【００６２】
そして、被覆層３ａ自体の表面精度が所望の表面精度に達していなくとも、必要に応じて被覆層３ａを研削、研磨することにより、最終的な磁気記録媒体用基板が得られ、例えば、その表面粗さＲａを１［ｎｍ］以下にすることが可能となる。その研磨の後、スパッタリングによって被覆層３ａ上に磁性層が形成され、磁気記録媒体が作製される。なお、被覆層３ａを研磨する量は、被覆層３ａを形成する前の樹脂製基板２の表面粗さＲａに依存し、表面粗さＲａが大きいほど、被覆層３ａの研磨の量を多くする。
【００６３】
また、母材としての樹脂製基板２は、極力、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが高い方が望ましい。研磨処理後の被覆層３ａ上にスパッタリングにより磁性層が形成されるため、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇは、そのスパッタリングにおける温度以上であることが望ましい。例えば、耐熱温度又はガラス転移温度Ｔｇが２００℃以上である樹脂を用いることが望ましい。
【００６４】
ガラス転移温度Ｔｇが２００℃以上の代表的な樹脂として、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ＢＭＣ樹脂、又は、液晶ポリマーなどが挙げられる。より具体的には、ポリエーテルスルホン樹脂（ＰＥＳ樹脂）として、ユーデル（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリエーテルイミド樹脂（ＰＥＩ樹脂）として、ウルテム（日本ＧＥプラスチック）、ポリアミドイミド樹脂として、トーロン（ソルベイアデバンストポリマーズ）、ポリイミド樹脂（熱可塑性）として、オーラム（三井化学）、ポリイミド（熱硬化性）として、ユーピレックス（宇部興産）、又は、ポリベンゾイミダゾール樹脂として、ＰＢＩ／Ｃｅｌａｚｏｌｅ（クラリアントジャパン）が挙げられる。また、液晶ポリマーとして、スミカスーパーＬＣＰ（住友化学）、ポリエーテルエーテルケトンとして、ビクトレックス（ビクトレックスＭＣ）が挙げられる。
【００６５】
また、樹脂製基板２として、吸湿による基板の寸法変化による磁気ヘッドとの位置ずれを防ぐために、吸湿性が少ない樹脂を用いることが望ましい。吸湿性の少ない樹脂の代表としては、ポリカーボネイトや環状ポリオレフィン樹脂がある。
【００６６】
また、表面に形成される被覆層３ａとの密着性などが良い樹脂を用いることが望ましい。例えば、表面に極性基が存在する樹脂や、表面粗さＲａが大きい樹脂や、周囲と異なる材質の粒子が含まれる樹脂などを樹脂製基板２の材料として用いる。
【００６７】
例えば、樹脂製基板２の表面粗さＲａを大きくすると、その表面上に形成される被覆層３ａと密着する面積が大きくなるため、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度を高くすることが可能となる。射出成形や注型成形などにより樹脂製基板２を作製する際に用いられる型の表面粗さＲａを調整することで、成形によって得られる樹脂製基板２の表面粗さＲａを大きくすることができる。なお、樹脂製基板２の表面粗さＲａを大きくしても、その表面に形成される被覆層３ａを研磨することで、必要とされる表面粗さＲａを得ることが可能である。ただし、被覆層３ａには、被覆する表面の粗さを埋め、さらに被覆層形成後、表面粗さＲａ＜１［ｎｍ］を達成する研磨による摩擦を補うだけの被覆層厚みが必要となるため、基板表面については表面粗さＲａをあまり大きくしすぎると加工効率が落ちてしまう。例えば、表面粗さＲａ＜１０００［ｎｍ］、さらには表面粗さＲａ＜１００［ｎｍ］が望ましい。
【００６８】
また、樹脂に粒子を含ませる場合、その粒子としては、母材となる樹脂よりも硬度が高い粒子や、母材となる樹脂よりも線膨張係数が小さい粒子を用いる。また、溶剤や薬品によるエッチングに対する化学的耐久性や、耐熱性、紫外線に対する脆化性など、母材と耐久性が異なる粒子を用いることもできる。
【００６９】
粒子の形状は、例えば、球状、凸凹状、楕円状、又はファイバー状などいずれの形状であっても良い。また、粒子を１方向に沿って含ませることもでき、ランダムな方向を向いた状態で含ませることもできる。粒子の大きさは、０．１〜１０［μｍ］のものを用いる。
【００７０】
粒子としては、金属、酸化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物、ガラス、ガラスファイバー、又はカーボンファイバーなどが用いられる。例えば、粒子の材質として、Ｓｉ（シリコン）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｃ（カーボン）、Ｓｎ（錫）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｔｉ（チタン）、Ｉｎ（インジウム）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｂａ（バリウム）、Ｌａ（ランタン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｗ（タングステン）、Ｖ（バナジウム）、又はＳｒ（ストロンチウム）などを用いることができる。さらに、これらを主成分とする化合物、例えば、酸化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物などであっても良い。具体的には、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＳｒＣＯ３、Ｃ、ＡｌＰＯ４、ＣａＣＯ３、ＩＴＯ、ＺｎＳ、ＭｇＦ２などが粒子として用いられる。
【００７１】
上記は無機粒子の例であるが、母材の樹脂と異なる種類の樹脂粒子を用いても良い。例えば、ＡＢＳ樹脂にはそれ自体に粒子としてブタジエンが含まれており、ブタジエン粒子を選択的にエッチングすることで表面形状を変化させることができる。
【００７２】
このように粒子を母材の樹脂に含ませることにより、耐傷性や剛性の向上、樹脂製基板２の表面に粒子の一部が突出し、その突出により表面の形状が凹凸状になることによる樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度の向上などが可能となる。なお、この凹凸の程度は、粒子の選択（例えば、粒子の種類、粒子のサイズ、粒子の添加量）、エッチング、加熱、エネルギー粒子照射、及びそれらの組み合わせによりコントロールできる。
【００７３】
上記粒子はその粒径が大きく、添加量が多い方が、樹脂製基板２の硬度、強度、及び熱膨張の改善効果が高く、表面の凹凸も作りやすくなり、被覆層３ａとの密着度を高めることができる。ただし、粒径が大きすぎたり、添加量が多すぎたりすると成形上支障があり、また基板の表面が粗くなりすぎて加工が困難になるので、目的に応じて適宜添加量を設定する。例えば、被覆層３ａを薄く、加工量を少なくする場合においては、密着力が確保できる範囲で、粒径が１［μｍ］以下の粒子を添加量１０［％］以下の範囲で樹脂に添加する。また、密着性、樹脂特性の改質を重視する場合には、成形上支障がない範囲で、粒径が１０［μｍ］程度の粒子を添加量として数十％の範囲で樹脂に添加する。
【００７４】
さらに、被覆層３ａとして、複数の層が積層された多層膜を用いても良く、また、厚さ方向に徐々にその成分を変えた傾斜成分層を用いても良い。例えば、樹脂製基板２と接する面側には、樹脂との密着度が高い層を形成し、最表面側には研磨しやすい硬度を有する層を形成する。これにより、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度を高めるとともに、被覆層３ａを容易に研磨することが可能となる。例えば、樹脂製基板２に接する面側に形成された層よりも、最表面側に形成された層の硬度を高くすることで、被覆層３ａの研磨によって容易に所望の表面精度を得ることができる。
【００７５】
また、高密度化技術として期待の大きい垂直磁気記録媒体においては、基板表面に対して垂直に磁性体を並べる必要があり、そのためには、磁性層と基板との間に軟磁性層を形成する必要がある。この軟磁性層の代表的な合金として、ニッケル−コバルト（Ｎｉ−Ｃｏ）合金がある。被覆層３ａとしてＮｉ−Ｃｏ合金を用いることにより、垂直磁気記録媒体における軟磁性層としての機能も果たすことが可能となる。
【００７６】
また、図１（ｃ）の断面図に示す磁気記録媒体用基板４のように、樹脂製基板２の両面に被覆層３ａ、３ｂを形成しても良い。もちろんこのとき、基板の端面も同時に被覆しても良い。この場合、一方の面に形成された被覆層３ａ上にＣｏ系合金の磁性層を形成することで磁気記録媒体を作製する。
【００７７】
なお、被覆層３ａ（３ｂ）の密着性を高めるために、樹脂製基板２の表面に凹凸形状を設けた場合など、被覆層３ａ（３ｂ）の表面粗さＲａが所望の表面粗さ（例えば表面粗さＲａ＜１［ｎｍ］）でなかった場合には、被覆層３ａ（３ｂ）の表面を、研削、研磨することにより所望の表面粗さに加工して磁気記録媒体基板とし、被覆層３ａ（３ｂ）上に磁性層を形成することで磁気記録媒体を作製する。
【００７８】
このように樹脂製基板２の両面に被覆層３ａ、３ｂを形成することにより、磁気記録媒体用基板の反りを緩和することが可能となる。つまり、樹脂製基板２の一方の表面のみに被覆層３ａを形成すると、その被覆層３ａに起因する引張り応力又は圧縮応力によって磁気記録媒体用基板が反ってしまうおそれがある。これに対して、樹脂製基板２の両面に被覆層３ａ、３ｂを形成することにより、両面に引張り応力又は圧縮応力が発生するため、それらの応力が相殺されて磁気記録媒体用基板の反りを緩和することが可能となる。また、樹脂製基板に対する被覆効果によって、吸湿性、ガス放出性などの化学的な安定性が改善される。
【００７９】
なお、被覆層３ａ、３ｂの厚さは等しくても良く、厚さが異なっていても良い。厚さが異なっていても、両面に被覆層３ａ、３ｂを形成することで、被覆層３ｂが形成されない場合と比べて、磁気記録媒体用基板の反りを緩和することが可能となる。
【００８０】
また、樹脂製基板２を作製した後、被覆層３ａを形成する工程、及び被覆層３ａを研磨する工程の前後にて、必要に応じて、性能向上や品質安定のため、適宜、アニール処理を行っても構わない。
【００８１】
［第２の実施の形態］
次に、この発明の第２の実施の形態に係る磁気記録媒体用基板について図２を参照して説明する。図２は、この発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す断面図である。
【００８２】
図２（ａ）に示すように、第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板５は、樹脂製基板２を備え、樹脂製基板２の一方の表面上に中間層６ａが形成され、その中間層６ａの上に被覆層３ａが形成されている。上記第１の実施形態では、樹脂製基板２上に直接、被覆層３ａを設けたが、第２の実施形態では、樹脂製基板２と被覆層３ａとの間に中間層６ａを設けたことが特徴となっている。
【００８３】
中間層６ａには、熱硬化性樹脂、又は活性線硬化性樹脂の他、様々な樹脂を用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などが用いられる。
【００８４】
また、活性線硬化性樹脂として紫外線硬化性樹脂が用いられ、例えば、紫外線硬化性アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、又は、紫外線硬化性エポキシ樹脂などを挙げることができる。この発明の目的を効果的に発現させるために、塗設された硬化前の層に活性線を照射することによって硬化するときに、光開始剤を用いて硬化反応を促進させることが好ましい。このとき光増感剤を併用しても良い。また、空気中の酸素が上記硬化反応を抑制する場合には、酸素濃度を低下させる、または除去するために、例えば不活性ガス雰囲気下で活性線を照射することもできる。活性線としては、赤外線、可視光、紫外線などを適宜選択することもできるが、特に紫外線を選択することが好ましいが、特に限定するものではない。また、活性線の照射中、または前後に加熱によって硬化反応を強化させても良い。
【００８５】
中間層６ａは、樹脂製基板２上に塗布されて形成される。例えば、バーコート法、ディップコート（浸漬引き上げ）法、スピンコート法、スプレー法、又は印刷法などの方法によって樹脂製基板２上に成膜される。
【００８６】
中間層６ａは、樹脂製基板２の表面を平滑にする機能（平滑性）、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度を高める機能（密着性）、及び、最終的に作製される磁気記録媒体基板５の強度を高める機能（強度性）を有する。以下、それぞれの機能について説明する。
【００８７】
まず、平滑性について説明する。中間層６ａを樹脂製基板２上に形成することにより、樹脂製基板２を作製するときに形成された表面の凹凸を吸収して、基板の表面粗さを小さくすることが可能となる。たとえ樹脂製基板２の表面粗さやうねりが大きい場合であっても、中間層６ａによって表面粗さやうねりの影響が軽減され、基板の表面粗さやうねりを小さくすることができる。なお、中間層６ａを形成後、寸法精度や表面精度などが所望の性能に到達していない場合には、切削、研磨、研削などの追加工程を実施しても良い。
【００８８】
次に、密着性について説明する。樹脂製基板２と被覆層３ａの材料の組み合わせによっては、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度が低くなる場合もある。この場合、中間層６ａを設けることにより、樹脂製基板２と被覆層３ａとの密着度を高めることができる。例えば、成膜条件によって中間層６ａの表面を荒らして凹凸を付けることにより、被覆層３ａと接する面積が大きくなるため、中間層６ａと被覆層３ａとの密着度が高くなり、これによって、樹脂製基板２上に被覆層３ａを強固に形成することが可能となる．
【００８９】
また、中間層６ａと被覆層３ａとの密着度を更に高めるために、樹脂に粒子を含ませたものを中間層６ａとしても良い。その粒子としては、第１の実施形態において樹脂製基板２に含ませた粒子と同じものを用いることができる。樹脂と異なる材質の粒子を樹脂に含ませて中間層６ａとする。例えば、樹脂よりも硬度が高い粒子や、樹脂よりも線膨張係数が小さい粒子、耐久性が樹脂と異なる粒子などを用いる。
【００９０】
このように樹脂に粒子を含ませて中間層６ａとすることにより、中間層６ａの表面に粒子の一部が突出したり、又は、エッチングにより粒子の一部あるいは全部を除去したりして、中間層６ａの表面形状が凹凸状になる。このように中間層６ａの表面を凹凸状にすることで、中間層６ａと被覆層３ａとの密着度を更に高めることが可能となる。
【００９１】
また、樹脂製基板２と被覆層３ａとの間の線膨張係数の差が大きいことにより温度上昇時にクラックが発生する場合には、中間層６ａの線膨張係数を樹脂製基板２と被覆層３ａの中間の線膨張係数とすることで、クラックの発生を防止又は低減できる。
【００９２】
次に、強度性について説明する。樹脂製基板２は樹脂を母材とした基板であるため柔らかく、基板の厚さによっては基板が湾曲し、変形してしまうおそれがある。このように樹脂製基板２が湾曲すると、磁気記録媒体の回転時における磁気ヘッドの追従性などに影響がでてくる。そこで、樹脂製基板２と被覆層３ａとの間に中間層６ａを設けることにより、樹脂製基板２の強度を補強することが可能となる。また、強度を更に高めるために、樹脂に粒子を含ませたものを中間層６ａとしても良い。
【００９３】
なお、樹脂製基板２は、第１の実施形態と同じ材料（樹脂）を母材とし、同じ方法によって作製される。従って、樹脂製基板２に粒子を含ませても良い。また、被覆層３ａについても、第１の実施形態と同じ材料が用いられ、同じ方法によって形成される。従って、被覆層３ａを多層膜などにしても良い。
【００９４】
そして、磁気記録媒体用基板５を用いて磁気記録媒体を作製する場合、第１の実施形態と同様に、被覆層３ａ上に磁性層を形成して磁気記録媒体とする。なお、所望の表面精度を得るために被覆層３ａを研削、研磨しても良い。
【００９５】
また、図２（ｂ）の断面図に示す磁気記録媒体用基板７のように、樹脂製基板２の両面に中間層６ａ、６ｂを形成し、それら中間層６ａ、６ｂ上に被覆層３ａ、３ｂを形成しても良い。このように樹脂製基板２の両面に中間層６ａ、６ｂ、及び被覆層３ａ、３ｂを形成することにより、両面に発生する引張り応力又は圧縮応力が相殺され、磁気記録媒体用基板の反りを緩和することが可能となる。また、中間層６ａ、６ｂの厚さ、被覆層３ａ、３ｂの厚さは等しくても良く、厚さが異なっていても良い。
【００９６】
一方の面に形成された被覆層３ａ上に磁性膜を形成することで磁気記録媒体を作製する。第１の実施形態と同じく、被覆層３ａの表面粗さＲａが所望の値（例えばＲａ＜１［ｎｍ］）でなかった場合には、被覆層３ａ表面を、研削、研磨することにより所望の表面粗さＲａに加工して磁気記録媒体基板とし、被覆層３ａ上に磁性層を形成することで磁気記録媒体を作製する。
【００９７】
また、樹脂製基板２を作製した後、中間層６ａを形成する工程、被覆層３ａを形成する工程、及び被覆層３ａを研磨する工程の前後にて、必要に応じて、性能向上や品質安定のため、適宜、アニール処理を行っても構わない。
【００９８】
［第３の実施の形態］
次に、この発明の第３の実施形態に係る磁気記録媒体用基板について図３を参照して説明する。図３は、この発明の第３の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の母材となる基板の構成を示す断面図である。
【００９９】
上記第１及び第２の実施形態では、樹脂製基板２の表面が平面かつ水平状に形成され、基板の中央部であっても周辺部であっても樹脂製基板２の厚さを等しくしたが、この第３の実施形態では、樹脂製基板の厚さを中央部と周辺部とで変えた点が特徴となっている。
【０１００】
図３（ａ）の断面図に示すように、第３の実施形態に係る樹脂製基板８は、基板の中央部Ｏに上下方向に貫通する開口部８ｃが形成され、中央部Ｏから樹脂製基板８の端部８ｄに近づくにつれて徐々に基板の厚さが薄くなっている。つまり、基板の中央部Ｏに比べて周辺部の厚さが薄くなっている。この例では、樹脂製基板８の表面８ａ、８ｂを平面状とし、両表面８ａ、８ｂともに斜めに形成することで、基板の厚さを端部８ｄに向けて徐々に薄くしている。ここで、中央部Ｏ付近の厚さを「厚さｄ１」とし、端部８ｄの厚さを「厚さｄ２」とすると、厚さｄ１＞厚さｄ２となる。
【０１０１】
また、この樹脂製基板８は、第１及び第２の実施形態と同じ方法（射出成形など）で作製することができる。なお、表面８ａ、８ｂの傾斜の角度は、樹脂製基板８を作製する際に型の形状を変えることで、任意に変更することができる。例えば、外径が１インチの基板を用いる場合、中央部Ｏの厚さｄ１を１［ｍｍ］とすると、端部８ｄの厚さは、０．３［ｍｍ］程度まで薄くしても良い。
【０１０２】
以上のように、樹脂製基板８の中央部に比べて周辺部の厚さを薄くすることにより、樹脂製基板８に基づいて作製された磁気記録媒体を磁気ディスク記録装置で回転させるときに、回転によるぶれを小さくすることができ、また、磁気ヘッドの追従性を良好にすることが可能となる。
【０１０３】
また、射出成形で樹脂製基板を作製する場合、一般的には、中央部に設けたゲートから樹脂を充填して基板を形作り、中央部に相当する部分を打ち抜くことで開口部を形成し成形品として取り出している。この方法を採用する場合において、樹脂製基板の中央部が周辺部よりも厚くなるような金型を用いることで、樹脂の流動性が向上し、成形しやすくなる効果がある。
【０１０４】
なお、表面８ａの傾斜と表面８ｂの傾斜とでは、それらの傾斜角度が同じであっても良く、異なっていても良い。両表面８ａ、８ｂの傾斜角度が同じでも異なっていても、中央部Ｏから端部８ｄにかけて徐々に基板の厚さが薄くなっていれば、上記の作用及び効果を奏することが可能である。
【０１０５】
また、樹脂製基板として、図３（ｂ）に示すような樹脂製基板９を用いても良い。この樹脂製基板９についても、中央部Ｏに上下方向に貫通する開口部９ｃが形成され、中央部Ｏから樹脂製基板９の端部９ｄに近づくにつれて徐々に基板の厚さが薄くなっている。この例では、樹脂製基板９の表面９ａ、９ｂは凸型の曲面形状を有しており、両表面９ａ、９ｂともに凸型の曲面形状に形成することで、基板の厚さを端部９ｄに向けて徐々に薄くしている。
【０１０６】
以上のように、表面９ａ、９ｂを凸型の曲面状にして周辺部の厚さを薄くしても、回転時におけるブレを小さくし、磁気ヘッドの追従性を良好にすることができる。
【０１０７】
なお、表面９ａの曲率半径と表面９ｂの曲率半径とでは、それらの曲率半径が同じであっても良く、異なっていても良い。両表面９ａ、９ｂの曲率半径が同じであっても異なっていても、中央部Ｏから端部９ｄにかけて徐々に基板の厚さが薄くなっていれば、上記の作用及び効果を奏することが可能である。
【０１０８】
さらに、樹脂製基板として、図３（ｃ）に示すような樹脂製基板１０を用いても良い。この樹脂製基板１０についても、中央部Ｏに上下方向に貫通する開口部１０ｃが形成され、中央部Ｏから樹脂製基板１０の端部１０ｄに近づくにつれて徐々に基板の厚さが薄くなっている。この例では、樹脂製基板１０の両表面１０ａ、１０ｂは平面状となっているが、一方の面である表面１０ａは水平状に形成され、反対側の面である表面１０ｂは斜めに形成されている。この点が、図３（ａ）に示す樹脂製基板８と異なる。樹脂製基板８ａは、両面が斜面となっているが、図３（ｃ）に示す樹脂製基板１０は、一方の面（表面１０ａ）が水平状に形成され、他方の面（表面１０ｂ）のみが斜面となっている。このように１つの面（表面１０ｂ）が斜めに形成されているため、基板の中央部Ｏから端部１０ｄに向けて徐々に厚さが薄くなっている。
【０１０９】
また、樹脂製基板１０に被覆層３ａや中間層６ａを形成する場合は、少なくとも水平な面である表面１０ａ上に形成する。なお、斜面である表面１０ｂにも被覆層３ｂや中間層６ｂを形成しても構わない。
【０１１０】
以上のように、一方の面（表面１０ｂ）のみを斜面にして周辺部の厚さを薄くしても、回転時におけるブレを小さくし、磁気ヘッドの追従性を良好にすることができる。
【０１１１】
なお、この第３の実施形態に係る樹脂製基板８、９、１０は、それらの形状が第１及び第２の実施形態に係る樹脂製基板の形状と異なる点に特徴があり、材質、表面粗さＲａ、及び任意に含まれる粒子などに関しては、第１及び第２の実施形態と同じである。
【０１１２】
そして、図３（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）に示す樹脂製基板８、９、１０の表面に、第１の実施形態と同様に被覆層６ａを形成することで磁気記録媒体用基板を作製する。さらに、被覆層３ａの表面粗さＲａが所望の値（例えばＲａ＜１［ｎｍ］）でなかった場合には、被覆層３ａ表面を、研削、研磨することにより所望の表面粗さＲａに加工して磁気記録媒体用基板とし、被覆層３ａ上に磁性層を形成することで磁気記録媒体を作製する。
【０１１３】
また、第２の実施形態と同様に、樹脂製基板８、９、１０と被覆層６ａとの間に中間層３ａを設けても良い。さらに、樹脂製基板８、９、１０の両面に被覆層６ａ、６ｂを設けたり、中間層６ａ、６ｂを設けたりしても良い。
【０１１４】
また、上記第１から第３の実施形態において、樹脂性基板２や中間層６ａ（６ｂ）に粒子を含ませる場合には、粒子を含ませることによって樹脂製基板２や中間層６ａ（６ｂ）の表面に凹凸が生じたり、粒子の一部が露出したりすることにより、隣接する層との密着力が強化する効果が期待できる。
【０１１５】
さらに、その密着力を強化する手段として、樹脂製基板２や中間層６ａ（６ｂ）の表面を溶媒によって溶かすことで、樹脂製基板２や中間層６ａ（６ｂ）に含まれる粒子の露出を多くし、積極的に表面を凹凸形状に形成しても良い。また、樹脂製基板２や中間層６ａ（６ｂ）をエッチングすることにより表面近傍の粒子の一部あるいは全部を除去することによって、積極的に表面を凹凸形状に形成しても良い。このとき、凹凸形状に、表面の樹脂を内部にえぐるような形状が含まれていると、密着力強化の効果を更に高めることが可能となる。例えば図４に示す基板の断面図のように、樹脂製基板２又は中間層６ａの表面に形成された凹部１１が、凹部１１の開口から内部の樹脂をえぐるように形成され（図４中、破線で示す部分）、凹凸形状に、凸部１２の側面が凹部１１によって内側にえぐられている形状が含まれていることにより、密着力強化の効果を高めることができる。
【０１１６】
また、上記第１から第３の実施形態において、磁気記録媒体としての性能を確保するために、基板の面取りやバリ取り、次工程の取り扱いを簡単にするための形状加工などの工夫を取り入れ、性能や品質を向上させることが可能である。
【０１１７】
［実施例］
次に、この発明の具体的な実施例について説明する。
【０１１８】
（実施例１）
この実施例１は上記第１の実施形態に相当する。ここでは、樹脂製基板２の一方の表面上に被覆層３ａを形成して磁気記録媒体用基板とする例について説明する。
【０１１９】
（樹脂製基板１の成形）
実施例１に係る磁気記録媒体用基板における母材（樹脂製基板）の材料として、ポリイミドを用い、射出成形により樹脂製基板２を形成した。ポリイミドとして、オーラム（三井化学社製）を用いた。この樹脂製基板２の寸法を以下に示す。
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
樹脂製基板２の厚さ：０．４［ｍｍ］
表面粗さＲａ：２０［ｎｍ］
【０１２０】
このように樹脂を用いて射出成形することで、研磨を行わなくても表面粗さＲａが小さい樹脂製基板を作製することができる。これにより、アルミニウム基板やガラス基板などに対して行っていた研磨工程を簡略化でき、磁気記録媒体用基板の製造コストを削減することが可能となる。
【０１２１】
（被覆層３ａの形成）
上記樹脂製基板２に対して無電解めっきを施すことにより、樹脂製基板２の表面に、１［μｍ］のＮｉ層を形成した。その後、さらに無電解めっきを施すことにより、Ｎｉ層上にＮｉＰ合金めっき層（以下、ＮｉＰ層と称する）を形成した。このＮｉＰ層の厚さは、３０［μｍ］となった。これらＮｉ層とＮｉＰ層が、被覆層３ａに相当する。
【０１２２】
（研磨工程）
上記被覆層３ａを形成した後、被覆層３ａの表面を研磨した。この研磨工程では、コロイダルシリカを主成分とするスラリを研磨剤として用いた。研磨後の磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａは、０．４［ｎｍ］となった。
【０１２３】
以上のように、実施例１によると、研磨工程後の磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａを１［ｎｍ］以下にすることが可能となる。従って、樹脂製基板２自体を研磨しなくても、磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａを、磁気記録媒体に要求される表面粗さまで小さくすることが可能となる。
【０１２４】
また、上記研磨工程後、被覆層３ａ上にスパッタリングによってＣｏ系合金の磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製する。
【０１２５】
なお、この実施例１では樹脂製基板２の材料としてポリイミドを用いたが、上記第１の実施形態で挙げた他の樹脂を用いても、この実施例１と同様の効果を奏することができる。また、被覆層３ａをＮｉＰ層としたが、第１の実施形態で挙げた他の成分からなる層を用いても、同様の効果を奏することができる。
【０１２６】
（実施例２）
この実施例２は上記第２の実施形態に相当する。ここでは、樹脂製基板２の一方の表面上に中間層６ａを形成し、さらにその中間層６ａ上に被覆層３ａを形成して磁気記録媒体用基板とする例について説明する。
【０１２７】
（樹脂製基板１の成形）
実施例２に係る磁気記録媒体用基板における母材（樹脂製基板）の材料として、環状ポリオレフィン樹脂を用い、射出成形により樹脂製基板２を形成した。環状ポリオレフィンとして、アペル（三井化学社製）を用いた。この樹脂製基板２の寸法を以下に示す。
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
樹脂製基板２の厚さ：０．４［ｍｍ］
表面粗さＲａ：１０［ｎｍ］
【０１２８】
このように樹脂を用いて射出成形することで、研磨を行わなくても表面粗さＲａが小さい樹脂製基板を作製することができる。
【０１２９】
（中間層６ａの形成）
上記樹脂製基板２に対して塗布により中間層６ａを形成した。この実施例２では、以下に示す成分の紫外線硬化性アクリル系樹脂に、粒径が１〜３［μｍ］のシリカ粒子を２０［ｗｔ％］混入して塗布樹脂液とし、この塗布樹脂液を上記樹脂製基板２の表面にスピンコート法によって塗布し、続いて４０［℃］で３０秒間乾燥し、溶媒を揮発させて乾燥した。塗布した層を紫外線照射により固化させて中間層６ａとした。この中間層６ａの厚さは、７［μｍ］となった。
＜紫外線硬化性アクリル系樹脂＞
ジペンタエリスリトールヘキサアクリトーレ単量体：７０［ｇ］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリトーレ２量体：１５［ｇ］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリトーレ３量体以上の成分：１５［ｇ］
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤：４［ｇ］
プロピレングリコールモノメチルエーテル：７５［ｇ］
メチルエチルケトン：７５［ｇ］
【０１３０】
（被覆層３ａの形成）
樹脂製基板２上に中間層６ａを形成した後、その中間層６ａ上に被覆層３ａを形成した。被覆層３ａを形成する前処理として、中間層６ａが形成された樹脂製基板２をエッチングした。ここでは、中間層６ａに含まれる粒子の一部が表面から突出するまでエッチングを行なった。このエッチングにより中間層６ａが削られ、中間層６ａに含まれる粒子の一部が表面から突出する。一部が突出した粒子によって中間層６ａの表面に凹凸が形成される。
【０１３１】
そのエッチングの後、無電解めっきを施すことにより、中間層６ａ上に１［μｍ］のＮｉ層を形成し、さらに無電解めっきを施すことにより、Ｎｉ層上にＮｉＰ層を形成した。このＮｉＰ層の厚さは、３５［μｍ］となった。さらにＮｉＰ層を形成した後、電解めっきを施すことにより、ＮｉＰ層上に、厚さ５［μｍ］のＣｒ層を形成した。これらＮｉ層、ＮｉＰ層及びＣｒ層が、被覆層３ａに相当する。
【０１３２】
また、中間層６ａをエッチングすることにより、中間層６ａに含まれる粒子の一部が表面から突出して、その突出した粒子によって中間層６ａの表面に段差が生じ、表面の形状が凹凸状になる。このように中間層６ａの表面が凹凸状に形成されるため、めっきによって形成されるＮｉ層やＮｉＰ層などが中間層６ａの表面に強固に付着することになる。つまり、粒子によって中間層６ａの表面を凹凸状にすることで、中間層６ａとＮｉＰ層などの被覆層３ａとの密着度を高くすることが可能となる。
【０１３３】
なお、ＮｉＰ層上にＣｒ層を形成することで、ＮｉＰ層の曇り発生を防止することができる。
【０１３４】
（研磨工程）
中間層６ａを形成し、さらに被覆層３ａを形成した後、被覆層３ａの表面を研磨した。この研磨工程では、コロイダルシリカを主成分とするスラリを研磨剤として用いた。研磨後の磁気記録媒体用基板１の表面粗さＲａは、０．４［ｎｍ］となった。
【０１３５】
以上のように、実施例２によると、研磨工程後の磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａを１［ｎｍ］以下にすることが可能となる。従って、樹脂製基板２自体を研磨しなくても、磁気記録媒体用基板の表面粗さＲａを、磁気記録媒体に要求される表面粗さまで小さくすることが可能となる。
【０１３６】
また、上記研磨工程後、被覆層３ａ上にスパッタリングによってＣｏ径合金の磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製する。
【０１３７】
なお、この実施例２では樹脂製基板２の材料として環状ポリオレフィン樹脂を用いたが、上記第１の実施形態で挙げた他の樹脂を用いても、この実施例２と同様の効果を奏することできる。また、中間層６ａとして紫外線硬化性アクリル系樹脂を用いたが、上記第２の実施形態で挙げた他の樹脂を用いても、同様の効果を奏することができる。さらに、被覆層３ａをＮｉＰ層及びＣｒ層としたが、第１の実施形態で挙げた他の成分からなる層を用いても、同様の効果を奏することができる。
【０１３８】
（実施例３）
この実施例３は上記第３の実施形態に相当する。ここでは、図３（ｂ）に示す樹脂製基板９の具体例について説明する。
【０１３９】
（樹脂製基板９の寸法）
実施例３に係る樹脂製基板９の寸法を以下に示す。
外径：１インチ（２５．４［ｍｍ］）
内径（穴の径）：７［ｍｍ］
中心部Ｏ付近の厚さ：１［ｍｍ］
周辺部（端部９ｄ）の厚さ：０．３［ｍｍ］
曲面状に形成された表面９ａ、９ｂの曲率半径Ｒ：３００［ｍｍ］
【０１４０】
上記の構成を有する樹脂製基板９上に被覆層３ａを形成し、被覆層３ａの表面を研磨して最終的な磁気記録媒体用基板とした。研磨前後の被覆層３ａの厚さは、上記実施例１と同じである。また、樹脂製基板９上に中間層６ａを形成し、更にその中間層６ａ上に被覆層３ａを形成し、被覆層３ａの表面を研磨して最終的な磁気記録媒体用基板とした。中間層６ａの厚さは、上記実施例２と同じである。
【０１４１】
被覆層３ａを研磨した後、被覆層３ａ上にスパッタリングによってＣｏ系合金の磁性層を形成し、磁気記録媒体を作製する。
【０１４２】
この実施例３によると、磁気記録媒体の回転時におけるぶれを抑制することができ、磁気ヘッドの追従性の向上が図れた。さらに、基板の中央部の厚さを周辺部よりも厚くしたことにより、射出成形によって樹脂製基板９を作製する際に、樹脂の流動性が向上し、成形しやすいことが確認された。
【０１４３】
なお、表面９ａ、９ｂの曲率半径Ｒについては、基板の大きさに依存するが、例えば、１インチの基板の場合、曲率半径Ｒを１３５［ｍｍ］以上にすることが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【０１４４】
【図１】この発明の第１の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す図である。
【図２】この発明の第２の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す断面図である。
【図３】この発明の第３の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の母材となる基板の構成を示す断面図である。
【図４】この発明の実施形態に係る磁気記録媒体用基板の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１４５】
１、４、５、７ 磁気記録媒体用基板
２、８、９、１０ 樹脂製基板
３ａ、３ｂ 被覆層
６ａ、６ｂ 中間層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に被覆層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用基板。
【請求項２】
前記基板と前記被覆層との間に中間層が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項３】
前記中間層は、塗布により形成された樹脂からなることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項４】
前記中間層は、周囲と異なる材質の粒子を含むことを特徴とする請求項２又は請求項３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項５】
前記基板は、母材と異なる材質の粒子を含むことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項６】
前記粒子は、金属、酸化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物、ガラス、ガラスファイバー、又はカーボンファイバーからなることを特徴とする請求項４又は請求項５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項７】
前記粒子は、周囲と異なる材質の樹脂粒子であることを特徴とする４又は請求項５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項８】
前記基板の表面の表面粗さＲａが１０［ｎｍ］以下であることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項９】
前記基板を構成する樹脂は、ガラス転移温度Ｔｇが２００［℃］以上であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１０】
前記基板は、射出成形、注型成形、シート成形、射出圧縮成形、又は圧縮成形によって成形されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１１】
前記基板の内径寸法、外径寸法、内周端部形状、又は外周端部形状のうち少なくとも１つは前記成形時に形成されることを特徴とする請求項１０に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１２】
前記被覆層は、少なくとも金属層、セラミック層、磁性層、ガラス層、又は、無機層と有機層との複合層のいずれかの層を含むことを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１３】
前記被覆層は、少なくともＮｉ（ニッケル）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｕ（銅）、Ｔｉ（チタン）、Ｐ（リン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｓｉ（シリコン）、Ｓｎ（錫）又はＰｄ（パラジウム）のいずれかを成分とする金属層、セラミック層、又は磁性層のいずれかの層を含むことを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１４】
前記被覆層は、各膜の成分が異なる多層膜からなることを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１５】
前記被覆層は、前記基板に接する面から表面にかけて、その成分が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１６】
前記被覆層は、前記基板に接する側よりも表面側の硬度が高いことを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１７】
前記被覆層の表面粗さＲａが１［ｎｍ］以下であることを特徴とする請求項１から請求項１６のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１８】
前記被覆層の表面が研磨されていることを特徴とする請求項１から請求項１７のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１９】
前記基板は、中央部の厚さが端部の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項１から請求項１８のいずれかに記載の磁気記録媒体基板。
【請求項２０】
前記基板は、中央部から端部にかけて厚さが徐々に薄くなっていることを特徴とする請求項１９に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項２１】
円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に被覆層を形成し、前記被覆層の表面を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項２２】
円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基盤とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に中間層を形成し、前記中間層の上に被覆層を形成し、前記被覆層の表面を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１】
円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に被覆層が形成されていることを特徴とする磁気記録媒体用基板。
【請求項２】
前記基板と前記被覆層との間に中間層が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項３】
前記中間層は、塗布により形成された樹脂からなることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項４】
前記中間層は、周囲と異なる材質の粒子を含むことを特徴とする請求項２又は請求項３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項５】
前記基板は、母材と異なる材質の粒子を含むことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項６】
前記粒子は、金属、酸化物、硫化物、炭酸化物、リン酸化物、フッ化物、ガラス、ガラスファイバー、又はカーボンファイバーからなることを特徴とする請求項４又は請求項５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項７】
前記粒子は、周囲と異なる材質の樹脂粒子であることを特徴とする４又は請求項５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項８】
前記基板の表面の表面粗さＲａが１０［ｎｍ］以下であることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項９】
前記基板を構成する樹脂は、ガラス転移温度Ｔｇが２００［℃］以上であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１０】
前記基板は、射出成形、注型成形、シート成形、射出圧縮成形、又は圧縮成形によって成形されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１１】
前記基板の内径寸法、外径寸法、内周端部形状、又は外周端部形状のうち少なくとも１つは前記成形時に形成されることを特徴とする請求項１０に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１２】
前記被覆層は、少なくとも金属層、セラミック層、磁性層、ガラス層、又は、無機層と有機層との複合層のいずれかの層を含むことを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１３】
前記被覆層は、少なくともＮｉ（ニッケル）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｕ（銅）、Ｔｉ（チタン）、Ｐ（リン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｓｉ（シリコン）、Ｓｎ（錫）又はＰｄ（パラジウム）のいずれかを成分とする金属層、セラミック層、又は磁性層のいずれかの層を含むことを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１４】
前記被覆層は、各膜の成分が異なる多層膜からなることを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１５】
前記被覆層は、前記基板に接する面から表面にかけて、その成分が徐々に変化するように形成されていることを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１６】
前記被覆層は、前記基板に接する側よりも表面側の硬度が高いことを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１７】
前記被覆層の表面粗さＲａが１［ｎｍ］以下であることを特徴とする請求項１から請求項１６のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１８】
前記被覆層の表面が研磨されていることを特徴とする請求項１から請求項１７のいずれかに記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項１９】
前記基板は、中央部の厚さが端部の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項１から請求項１８のいずれかに記載の磁気記録媒体基板。
【請求項２０】
前記基板は、中央部から端部にかけて厚さが徐々に薄くなっていることを特徴とする請求項１９に記載の磁気記録媒体用基板。
【請求項２１】
円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基板とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に被覆層を形成し、前記被覆層の表面を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項２２】
円盤状の形状を有する樹脂製の母材を基盤とし、前記基板の少なくとも一方の表面上に中間層を形成し、前記中間層の上に被覆層を形成し、前記被覆層の表面を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００７−６６３９０（Ｐ２００７−６６３９０Ａ）
【公開日】平成１９年３月１５日（２００７．３．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２４９８７８（Ｐ２００５−２４９８７８）
【出願日】平成１７年８月３０日（２００５．８．３０）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年３月１５日（２００７．３．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年８月３０日（２００５．８．３０）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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