表示装置およびその製造方法
【課題】電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えると共に、非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板の表示領域内に設けられた複数の第１電極と、複数の第１電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、表示領域に設けられると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、有機層の上面および補助電極の上面に設けられた第２電極とを備えた表示装置。
【解決手段】基板の表示領域内に設けられた複数の第１電極と、複数の第１電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、表示領域に設けられると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、有機層の上面および補助電極の上面に設けられた第２電極とを備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機ＥＬ（Electroluminescence）素子を有する表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、基板に第１電極，発光層を含む有機層および第２電極を順に積層した構成を有している。有機層の形成方法としては、例えば、画素毎の開口が設けられた蒸着マスクを用いて赤，緑および青の各色発光層を別々に蒸着する方法と、有効表示画素領域全体が開口された蒸着マスクを用いて、赤，緑および青の発光層を積層する方法とがある。高解像度、開口率向上が求められている表示装置では、今後、後者の方式が主流になると考えられる。
【０００３】
複数の発光層を積層する方式では、有機層がすべての有機ＥＬ素子に共通に設けられているので、第２電極での電源電圧供給は表示領域周辺のコンタクト領域のみで行われることになる。そのため、表示領域中央付近では、第２電極の電気抵抗が高くなってしまい、十分な電源電圧が供給されず、画面内のムラとなって表示品位が低下する。特に表示装置の大型化が進むにつれて、この問題は顕著に現れてくる。
【０００４】
例えば特許文献１および特許文献２では、各有機ＥＬ素子毎に補助電極を設け、有機層を蒸着したのちに、レーザを用いて補助電極上の有機層を除去し、第２電極と補助電極との電気的接続を確保する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１１８１０号公報
【特許文献２】特開２００９−２８３３９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１および特許文献２に記載された従来の方法では、レーザで除去された有機物がダスト（塵）となり、ダークスポット（非発光点）等、品質不良への影響が懸念されていた。
【０００７】
本開示の目的は、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えると共に、非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能な表示装置およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示による表示装置は、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の構成要素を備えたものである。
（Ａ）基板の表示領域内に設けられた複数の第１電極
（Ｂ）複数の第１電極の間の電極間領域に設けられた補助電極
（Ｃ）電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁
（Ｄ）表示領域に設けられると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層
（Ｅ）有機層の上面および補助電極の上面に設けられた第２電極
【０００９】
本開示の表示装置では、有機層は隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させており、第２電極は有機層の上面および補助電極の上面に設けられている。よって、第２電極と補助電極とが補助電極の上面で電気的に接続され、電源電圧の不均一による画面内のムラが抑えられる。
【００１０】
本開示による表示装置の製造方法は、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の工程を含むものである。
（Ａ）基板の表示領域内に複数の第１電極を形成する工程
（Ｂ）複数の第１電極の間の電極間領域に補助電極を形成する工程
（Ｃ）電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って隔壁を形成する工程
（Ｄ）表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を有機層から露出させる工程
（Ｅ）有機層の上面に第２電極を形成すると共に、隔壁および補助電極の有機層から露出した領域を第２電極により被覆する工程
【発明の効果】
【００１１】
本開示の表示装置によれば、有機層は隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させており、第２電極は有機層の上面および補助電極の上面に設けられているようにしている。よって、第２電極と補助電極とを補助電極の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えることが可能となる。
【００１２】
本開示の表示装置の製造方法によれば、表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を有機層から露出させたのち、有機層の上面に第２電極を形成すると共に、隔壁および補助電極の有機層から露出した領域を第２電極により被覆するようにしている。よって、第２電極と補助電極とを補助電極の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えることが可能となる。また、補助電極の上面には有機層は形成されないので、レーザを用いて補助電極上の有機層を除去する必要はなくなる。従って、レーザで除去された有機物のダストに起因する非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１に示した表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図４】図３の一部を拡大して表す平面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線における断面図である。
【図６】図４のＶＩ−ＶＩ線における断面図である。
【図７】図３に示した表示装置の製造方法を工程順に表す斜視図および断面図である。
【図８】図７に続く工程を表す斜視図および断面図である。
【図９】図８に続く工程を表す斜視図および断面図である。
【図１０】図６に示した隔壁の高さを説明するための図である。
【図１１】図９に続く工程を表す斜視図および断面図である。
【図１２】変形例１に係る表示装置における表示領域の一部を拡大して表す平面図である。
【図１３】変形例２に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１４】変形例３に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１５】変形例４に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１６】変形例５に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１７】変形例６に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１８】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図１９】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図２０】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図２１】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図２２】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図２３】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（各画素につき一組の補助電極および隔壁を設けた例）
２．変形例１（隔壁を、矩形の三辺をなす形状とした例）
３．変形例２（各副画素につき一組の補助電極および隔壁を設けた例）
４．変形例３（各画素につき一組の補助電極および隔壁を、第１電極の行間の領域に設けた例）
５．変形例４（各副画素につき一組の補助電極および隔壁を、第１電極の行間の領域に設けた例）
６．変形例５（各画素につき一組の補助電極および隔壁を、第１電極の列間の領域に設けた例）
７．変形例６（各副画素につき一組の補助電極および隔壁を、第１電極の列間の領域に設けた例）
【００１５】
図１は、本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表したものである。この表示装置は、有機ＥＬテレビジョン装置などに用いられるものであり、例えば、ガラスなどの基板１１の上に、後述する複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１０が設けられたものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【００１６】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。この画素駆動回路１４０は、後述する第１電極２０の下層に設けられたアクティブ型の駆動回路である。画素駆動回路１４０は、例えば、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、キャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂとを有している。キャパシタＣｓの一方の電極は駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２の間に接続され、他方の電極は駆動トランジスタＴｒ１および有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂとの間に接続されている。
【００１７】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（副画素）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１８】
図３は、図１に示した表示領域１１０の一部の平面構成を表したものであり、図４は、図３の一部を拡大して表したものである。基板１１の表示領域１１０内には、複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第１電極２０が、行列状に、互いに離間して配置されている。第１電極２０は一方向に長い矩形形状を有しており、短辺に平行な行方向には、異なる色の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第１電極２０が順に配列されている。長辺に平行な列方向には、同一色の有機ＥＬ素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）の第１電極２０が配列されている。
【００１９】
隣り合う三つの有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは一つの画素１０を構成しており、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは一つの副画素を構成している。画素１０の行方向におけるピッチ（中心間距離）ｐは、例えば、対角寸法４０インチの場合には２２８μｍである。第１電極２０の行方向の間隔Ｌ１は、例えば３０μｍ程度であり、列方向の間隔Ｌ２は、例えば５０μｍないし６０μｍ程度である。
【００２０】
第１電極２０は、複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの各々ごとに設けられている。第１電極２０は、例えば、厚みが５０ｎｍ程度のチタン（Ｔｉ）層と、厚みが３５０ｎｍ程度のＡｌ−Ｎｄ合金層とを基板１１側からこの順に積層した構成を有し、発光層で発生した光を第２電極７０側から取り出すようになっている（トップエミッション）。なお、第１電極２０の構成材料としては、アルミニウム（Ａｌ）またはその合金のほか、金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），クロム（Ｃｒ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ），モリブデン（Ｍｏ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金よりなる反射電極が挙げられる。
【００２１】
図５は、図４のＶ−Ｖ線における表示領域１１０の断面構成を表したものである。なお、図５以降の断面図では、図１に示した信号線駆動回路１２０，走査線駆動回路１３０，画素駆動回路１４０およびこれらを被覆する平坦化絶縁膜を省略している。第１電極２０は、画素間領域２０Ａに設けられた絶縁膜３０により、互いに電気的に分離されている。第１電極２０および絶縁膜３０上には、発光層を含む有機層４０と、第２電極５０とが、第１電極２０の側からこの順に設けられている。有機層４０は、表示領域１１０の全体に設けられている。第２電極５０は、有機層４０の上面に設けられている。第１電極２０と第２電極５０との間に有機層４０が挟持されている部分が、上述した有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを構成している。
【００２２】
絶縁膜３０は、第１電極２０と第２電極５０との絶縁性を確保すると共に発光領域を正確に所望の形状にするためのものである。絶縁膜３０は、第１電極２０の発光領域に対応して開口部３０Ａを有している。絶縁膜３０は、例えば、厚みが２μｍ（２０００ｎｍ）程度であり、ポリイミドなどの感光性絶縁材料により構成されている。
【００２３】
有機層４０は、第１電極２０および絶縁膜３０の上に、表示領域１１０の全体にわたり複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに共通に設けられている。有機層４０は、例えば、第１電極２０の側から順に、正孔注入層，正孔輸送層，発光層および電子輸送層を積層した構成を有している。
【００２４】
正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層は、例えば、厚みが２ｎｍないし１０ｎｍであり、化１に示したヘキサトリルアザトリフェニレンにより構成されている。
【００２５】
【化１】
【００２６】
正孔輸送層は、発光層への正孔注入効率を高めるためのものである。正孔輸送層は、例えば、厚みが３０ｎｍであり、化２に示した材料により構成されている。
【００２７】
【化２】
【００２８】
発光層は、例えば、第１電極２０の側から順に、厚み１０ｎｍの赤色発光層、厚み１０ｎｍの発光分離層、厚み１０ｎｍの青色発光層、および厚み１０ｎｍの緑色発光層（いずれも図示せず）を順に積層した白色発光用のものである。赤色発光層は、電界をかけることにより、第１電極２０から正孔注入層および正孔輸送層を介して注入された正孔の一部と、第２電極５０から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、赤色の光を発生するものである。発光分離層は、赤色発光層への電子供給量を減らすためのものである。青色発光層は、電界をかけることにより、第１電極２０から正孔注入層，正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第２電極５０から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、青色の光を発生するものである。緑色発光層は、電界をかけることにより、第１電極２０から正孔注入層，正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第２電極５０から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、緑色の光を発生するものである。赤色発光層，緑色発光層および青色発光層は、絶縁膜３０の開口部３０Ａに対応した領域で発光するようになっている。
【００２９】
赤色発光層は、例えば、赤色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種を含んでいる。赤色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、赤色発光層は、例えば、厚みが５ｎｍ程度であり、４，４−ビス（２，２−ジフェニルビニン）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）に２，６−ビス［（４’−メトキシジフェニルアミノ）スチリル］−１，５−ジシアノナフタレン（ＢＳＮ）を３０重量％混合したものにより構成されている。
【００３０】
発光分離層は、例えば、化３に示した材料により構成されている。
【００３１】
【化３】
【００３２】
緑色発光層は、例えば、緑色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種を含んでいる。緑色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、緑色発光層は、例えば、厚みが１０ｎｍ程度であり、ＤＰＶＢｉにクマリン６を５重量％混合したものにより構成されている。
【００３３】
青色発光層は、例えば、青色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種とを含んでいる。青色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、青色発光層は、例えば、厚みが３０ｎｍ程度であり、ＤＰＶＢｉに４，４’−ビス［２−｛４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）を２．５重量％混合したものにより構成されている。
【００３４】
電子輸送層は、発光層への電子注入効率を高めるためのものである。電子輸送層は、例えば、厚みが２０ｎｍ程度であり、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３ ）により構成されている。
【００３５】
第２電極５０は、有機層４０の上面に、表示領域１１０の全体にわたり複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに共通に設けられている。第２電極５０は、例えば、第１電極２０の側から順に、厚みが約０．３ｎｍでありフッ化リチウム（ＬｉＦ）よりなる第１層と、厚みが３ｎｍでありカルシウム（Ｃａ）よりなる第２層と、厚みが５ｎｍでありＭｇ−Ａｇ合金よりなる第３層とを積層した構成を有している。第２電極５０は、表示領域１１０の外側の領域で、図示しない補助配線に接続されている。この補助配線は、表示領域１１０を囲む枠状の導電膜により構成されている。
【００３６】
このような有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、必要に応じて、窒化ケイ素（ＳｉＮ）などの保護膜（図示せず）により被覆されている。保護膜上には、接着層（図示せず）を間にして、ガラスなどよりなる封止用基板（図示せず）が全面にわたって貼り合わせられている。封止用基板には、必要に応じて、カラーフィルタおよびブラックマトリクスとしての遮光膜などが設けられている。
【００３７】
次に、図３および図４に戻り、複数の第１電極２０の間の電極間領域２０Ａに設けられた補助電極６０および隔壁７０について説明する。補助電極６０および隔壁７０は、各画素１０につき一組、例えば有機発光素子１０Ｇ，１０Ｂの列間に設けられている。補助電極６０は、表示領域１１０中央付近における第２電極５０の電気抵抗の増大を抑えるためのコンタクト部であり、図示しないが、下層において上述した第２電極５０の補助配線に接続されている。隔壁７０は、後述する製造工程において補助電極６０の上面に有機層４０が成膜されないようにするためのものであり、補助電極６０および隔壁７０は対で配置される。隔壁７０は、補助電極６０の外形線の一部に沿って設けられている。具体的には、補助電極６０は矩形形状を有し、隔壁７０は、補助電極６０の一方の長辺に沿って設けられている。
【００３８】
補助電極６０は、例えば、幅ｗ１が１０μｍ、奥行きｄ１が５μｍ、厚みが５０ｎｍであり、チタン（Ｔｉ）により構成されている。なお、絶縁膜３０には、補助電極６０に対向して開口部３０Ｂが設けられている。
【００３９】
隔壁７０は、例えば、幅ｗ２が１２μｍ、奥行きｄ２が１０μｍ、高さｈが６μｍであり、ポリイミド等の感光性絶縁材料により構成されている。なお、隔壁７０は絶縁膜３０と一体をなしており、隔壁７０の高さｈは絶縁膜３０の厚みを含むものである。隔壁７０の高さｈは、必要な補助電極６０の面積および有機層４０を構成する有機材料の蒸着時の入射角度に基づいて算出することが可能であるが、その詳細については後述する。
【００４０】
補助電極６０および隔壁７０は、例えば、第１電極２０の行間かつ列間の領域（四つの第１電極２０の頂点で囲まれた領域）２０Ｂ、すなわち、行間領域２０Ｃと列間領域２０Ｄとの重なり合う領域に設けられていることが好ましい。これにより、後述する製造工程において、有機層４０の厚みムラを小さくすることが可能となる。
【００４１】
図６は、図４のＶＩ−ＶＩ線における断面構成を表したものである。電極間領域２０Ａにおいては、有機層４０は、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を露出させている。この露出した補助電極６０の上面に第２電極５０が設けられることにより、補助電極６０と第２電極５０とが電気的に接続されている。これにより、この表示装置では、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えると共に、非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能となっている。
【００４２】
この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。
【００４３】
まず、上述した材料よりなる基板１１の表示領域１１０に、例えばスパッタリング法によりチタン（Ｔｉ）膜を形成し、例えばフォトリソグラフィおよびドライエッチングにより所定の形状に成形する。これにより、図７に示したように、画素間領域２０Ａに補助電極３０を形成する。なお、同じ工程で、第１電極２０の下層のチタン層も形成することが可能である。
【００４４】
次いで、例えばスパッタリング法によりＡｌ−Ｎｄ合金膜を形成し、例えばフォトリソグラフィ法およびドライエッチングにより所定の形状に成形する。これにより、同じく図７に示したように、表示領域１１０内に、チタン層とＡｌ−Ｎｄ合金層とを積層した第１電極２０が、互いに離間して形成される。
【００４５】
続いて、図８に示したように、第１電極２０および補助電極６０が設けられた基板１１にポリイミド等の感光性絶縁材料を塗布し、フォトリソグラフィによる露光および現像を行う。これにより、開口部３０Ａ，３０Ｂを有する絶縁膜３０を形成すると共に、電極間領域２０Ａに、補助電極６０の外形線の一部に沿って隔壁７０を形成する。その際、フォトリソグラフィを２回行うか、またはハーフトーンマスクを使用することにより、絶縁膜３０および隔壁７０を一体に形成することが可能である。
【００４６】
そののち、図９に示したように、表示領域１１０に、上述した構成の有機層４０を斜め蒸着法により形成する。有機層４０の材料は、図９の矢印Ａ１に示したように、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａの反対側の上方から入射させる。これにより、入射側の側面７０Ｂには有機層４０が形成されるが、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面は有機層４０から露出する。蒸着方法としてはライン状の蒸着源を用いた蒸着が好ましい。基板１１の進行方向（蒸着方向）は、図３の矢印Ａ２に示したように、隔壁７０の裏側の側面７０Ｂから補助電極６０に沿う側面７０Ａに向かう方向（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの列方向）とする。また、基板１１が大型基板である場合には、基板１１を傾ける方法も考えられるが、ライン状の蒸着源を斜めにして蒸着するほうが望ましい。
【００４７】
隔壁７０の高さｈは、図１０に示したように、補助電極６０の幅をｗ１、奥行きをｄ１とし、有機材料の蒸着時の入射角をθとすると、数１を満たすことが好ましい。このようにすれば、補助電極６０の上面を確実に有機層４０から露出させ、補助電極６０と第２電極５０との接触を確保することが可能となるからである。
【００４８】
（数１）
ｈ＝（ｄ１×ｔａｎθ）×１．０１
【００４９】
数１では、入射角θに依存する有機材料の蒸着分布を考慮して、算出された隔壁７０の高さの１％分を追加している。同様に、隔壁７０の幅ｗ２についても、蒸着分布を考慮すると、数２のように表される。
【００５０】
（数２）
ｗ２＝ｗ１×１．０２
【００５１】
隔壁の奥行きｄ２については、これに依存する有機材料の蒸着分布感度が低いので、プロセス上のルールが優先される。
【００５２】
有機層４０を形成したのち、図１１に示したように、有機層４０の上面に第２電極５０を形成すると共に、隔壁７０および補助電極６０の有機層４０から露出した領域を第２電極５０により被覆する。具体的には、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を、第２電極５０により被覆する。成膜方法は、ライン状の蒸着源を用いた蒸着、回転蒸着、スパッタ法など、いずれの方法も使用することが可能である。また、図１１に示したように、第２電極５０を、基板１１と蒸発源（図示せず）とを平行にした状態で、すなわち成膜材料の入射角度を矢印Ａ３に示したように基板１１に対して垂直にした状態で、形成する。以上により、図３および図５に示した有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが形成されると共に、図６に示したように補助電極６０と第２電極５０とが補助電極６０の上面で電気的に接続される。なお、第２電極５０が隔壁７０の側面７０Ａで途切れた場合でも、隔壁７０の周囲では第２電極５０は連続しているので断線のおそれはない。
【００５３】
そののち、必要に応じて、例えばＣＶＤ法またはスパッタ法により、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの上に上述した材料よりなる保護膜（図示せず）を形成する。また、カラーフィルタ等を形成した封止用基板（図示せず）を用意し、この封止用基板を、保護膜の上に、接着層（図示せず）により貼り合わせる。以上により、図１ないし図３に示した表示装置が完成する。
【００５４】
この表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流Ｉｄｓが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第２電極５０，保護膜，接着層，カラーフィルタおよび封止用基板（第２電極５０以外はいずれも図示せず）を透過して（トップエミッション）取り出される。
【００５５】
ここでは、有機層４０は隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を露出させており、第２電極５０は有機層４０の上面および補助電極６０の上面に設けられている。よって、第２電極５０と補助電極６０とが補助電極６０の上面で電気的に接続され、電源電圧の不均一による画面内のムラが抑えられる。
【００５６】
このように本実施の形態の表示装置では、有機層４０は隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を露出させており、第２電極５０は有機層４０の上面および補助電極６０の上面に設けられているようにしている。よって、第２電極５０と補助電極６０とを補助電極６０の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑え、表示品位を向上させることが可能となる。特に大型の表示装置の場合に好適である。
【００５７】
本実施の形態の表示装置の製造方法では、表示領域１１０に、発光層を含む有機層４０を斜め蒸着法により形成すると共に、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を有機層４０から露出させたのち、有機層４０の上面に第２電極５０を形成すると共に、隔壁７０および補助電極６０の有機層４０から露出した領域を第２電極５０により被覆するようにしている。よって、第２電極５０と補助電極６０とを補助電極６０の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑え、表示品位を向上させることが可能となる。また、補助電極６０の上面には有機層４０は形成されないので、レーザを用いて補助電極６０上の有機層４０を除去する必要はなくなる。従って、装置および工程を簡素化し、コスト削減および歩留まり向上が可能となると共に、レーザで除去された有機物のダストに起因する非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能となる。
【００５８】
（変形例１）
なお、上記実施の形態では、隔壁７０が、矩形形状の補助電極６０の一方の長辺に沿って設けられている場合について説明したが、隔壁７０は、図１２に示したように、矩形形状の補助電極６０の三辺に沿って（三辺を囲んで）設けられていることも可能である。このようにすれば、有機層４０を斜め蒸着する際に、補助電極６０の上面の露出面積を大きくすることが可能となる。本変形例は、第１電極２０の行方向の間隔Ｌ１および列方向の間隔Ｌ２が十分にとれる場合に有効である。
【００５９】
（変形例２）
また、上記実施の形態では、補助電極６０および隔壁７０が、各画素１０につき一組設けられている場合について説明した。しかしながら、補助電極６０および隔壁７０は、図１３に示したように、各副画素である有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにつき一組設けられていることも可能である。このようにすれば、レイアウトの制限から補助電極６０の面積を確保しにくい場合にも、第２電極５０と補助電極６０との接続箇所を増やすことが可能となり、より高い効果を得ることが可能となる。
【００６０】
（変形例３）
更に、上記実施の形態では、補助電極６０および隔壁７０が、第１電極２０の行間かつ列間の領域２０Ｂに設けられている場合について説明した。しかしながら、補助電極６０および隔壁７０は、図１４に示したように、第１電極２０の行間領域２０Ｃ、例えば有機ＥＬ素子１０Ｂの短辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。本変形例は、第１電極２０の行方向の間隔Ｌ１が狭い場合や、レイアウトの制約から配置が制限される場合に好適である。
【００６１】
（変形例４）
加えて、変形例３と変形例２とを組み合わせることも可能である。すなわち、図１５に示したように、補助電極６０および隔壁７０は、各副画素である有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにつき一組、第１電極の行間領域２０Ｃ、例えば有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの短辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。
【００６２】
（変形例５）
更にまた、補助電極６０および隔壁７０は、図１６に示したように、第１電極２０の列間領域２０Ｄ、例えば有機ＥＬ素子１０Ｇ，１０Ｂの長辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。本変形例は、第１電極２０の列方向の間隔Ｌ２が狭い場合や、レイアウトの制約から配置が制限される場合に好適である。また、本変形例では、有機層４０を形成する工程における基板１１の進行方向（蒸着方向）は、図１６の矢印Ａ２に示したように、隔壁７０の裏側の側面７０Ｂから補助電極６０に沿う側面７０Ａに向かう方向（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの行方向）とする。
【００６３】
（変形例６）
加えてまた、変形例５と変形例２とを組み合わせることも可能である。すなわち、図１７に示したように、補助電極６０および隔壁７０は、各副画素である有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにつき一組、第１電極２０の列間領域２０Ｄ、例えば有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの長辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。本変形例においても、有機層４０を形成する工程における基板１１の進行方向（蒸着方向）は、変形例５と同様である。すなわち、図１７の矢印Ａ２に示したように、隔壁７０の裏側の側面７０Ｂから補助電極６０に沿う側面７０Ａに向かう方向（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの行方向）とする。
【００６４】
（モジュールおよび適用例）
以下、上述した実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００６５】
（モジュール）
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図１８に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、上記実施の形態における封止用基板８０から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【００６６】
（適用例１）
図１９は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６７】
（適用例２）
図２０は、上記実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６８】
（適用例３）
図２１は、上記実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６９】
（適用例４）
図２２は、上記実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００７０】
（適用例５）
図２３は、上記実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００７１】
以上、実施の形態を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、変形例１は、変形例２ないし変形例６にも適用可能である。
【００７２】
例えば、上記実施の形態では、発光層で発生した光を第２電極５０側から取り出す場合（トップエミッション）を例として説明したが、発光層で発生した光を基板１１側から取り出すことも可能である（ボトムエミッション）。この場合には、カラーフィルタは基板１１上に設けることが可能である。また、ボトムエミッションの場合には、第１電極２０は、ＩＴＯ，ＩＺＯ（登録商標），またはＳｎＯ2などの透明電極により構成され、第２電極５０は、金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），クロム（Ｃｒ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ），アルミニウム（Ａｌ），モリブデン（Ｍｏ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金よりなる反射電極により構成されている。また、第２電極５０は、上述した反射電極と透明電極との複合膜により構成されていてもよい。
【００７３】
加えて、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【００７４】
なお、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。
（１）
基板の表示領域内に設けられた複数の第１電極と、
前記複数の第１電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、
前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、
前記表示領域に設けられると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上面および前記補助電極の上面に設けられた第２電極と
を備えた表示装置。
（２）
前記補助電極は矩形形状を有し、
前記隔壁は、前記補助電極の一辺に沿って設けられている
前記（１）記載の表示装置。
（３）
前記補助電極は矩形形状を有し、
前記隔壁は、前記補助電極の三辺を囲んで設けられている
前記（１）記載の表示装置。
（４）
前記第１電極は矩形形状を有すると共に行列状に配列されており、
前記補助電極は、前記第１電極の行間かつ列間の領域に設けられている
前記（１）ないし（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（５）
前記隔壁は絶縁性材料により構成されている
前記（１）ないし（４）のいずれか１項に記載の表示装置。
（６）
基板の表示領域内に複数の第１電極を形成する工程と、
前記複数の第１電極の間の電極間領域に補助電極を形成する工程と、
前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って隔壁を形成する工程と、
前記表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を前記有機層から露出させる工程と、
前記有機層の上面に第２電極を形成すると共に、前記隔壁および前記補助電極の前記有機層から露出した領域を前記第２電極により被覆する工程と
を含む表示装置の製造方法。
（７）
前記第２電極を、前記基板と蒸発源とを平行にした状態で形成する
前記（６）記載の表示装置の製造方法。
（８）
前記有機層を形成する工程において、前記基板の進行方向を、前記隔壁の裏側の側面から前記補助電極に沿う側面に向かう方向とする
前記（６）または（７）記載の表示装置の製造方法。
（９）
前記有機層を形成する工程において、前記有機層の材料を前記隔壁の前記補助電極に沿う側面の反対側の上方から入射させる
前記（６）ないし（８）のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【符号の説明】
【００７５】
１０…画素、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機ＥＬ素子、１１…基板、２０…第１電極、３０…絶縁膜、４０…有機層、５０…第２電極、６０…補助電極、７０…隔壁、１１０…表示領域、１２０…信号線駆動回路、１３０…走査線駆動回路、１４０…画素駆動回路、Ｔｒ１，Ｔｒ２…トランジスタ。
【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機ＥＬ（Electroluminescence）素子を有する表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、基板に第１電極，発光層を含む有機層および第２電極を順に積層した構成を有している。有機層の形成方法としては、例えば、画素毎の開口が設けられた蒸着マスクを用いて赤，緑および青の各色発光層を別々に蒸着する方法と、有効表示画素領域全体が開口された蒸着マスクを用いて、赤，緑および青の発光層を積層する方法とがある。高解像度、開口率向上が求められている表示装置では、今後、後者の方式が主流になると考えられる。
【０００３】
複数の発光層を積層する方式では、有機層がすべての有機ＥＬ素子に共通に設けられているので、第２電極での電源電圧供給は表示領域周辺のコンタクト領域のみで行われることになる。そのため、表示領域中央付近では、第２電極の電気抵抗が高くなってしまい、十分な電源電圧が供給されず、画面内のムラとなって表示品位が低下する。特に表示装置の大型化が進むにつれて、この問題は顕著に現れてくる。
【０００４】
例えば特許文献１および特許文献２では、各有機ＥＬ素子毎に補助電極を設け、有機層を蒸着したのちに、レーザを用いて補助電極上の有機層を除去し、第２電極と補助電極との電気的接続を確保する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１１８１０号公報
【特許文献２】特開２００９−２８３３９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１および特許文献２に記載された従来の方法では、レーザで除去された有機物がダスト（塵）となり、ダークスポット（非発光点）等、品質不良への影響が懸念されていた。
【０００７】
本開示の目的は、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えると共に、非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能な表示装置およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示による表示装置は、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の構成要素を備えたものである。
（Ａ）基板の表示領域内に設けられた複数の第１電極
（Ｂ）複数の第１電極の間の電極間領域に設けられた補助電極
（Ｃ）電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁
（Ｄ）表示領域に設けられると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層
（Ｅ）有機層の上面および補助電極の上面に設けられた第２電極
【０００９】
本開示の表示装置では、有機層は隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させており、第２電極は有機層の上面および補助電極の上面に設けられている。よって、第２電極と補助電極とが補助電極の上面で電気的に接続され、電源電圧の不均一による画面内のムラが抑えられる。
【００１０】
本開示による表示装置の製造方法は、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の工程を含むものである。
（Ａ）基板の表示領域内に複数の第１電極を形成する工程
（Ｂ）複数の第１電極の間の電極間領域に補助電極を形成する工程
（Ｃ）電極間領域に、補助電極の外形線の一部に沿って隔壁を形成する工程
（Ｄ）表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を有機層から露出させる工程
（Ｅ）有機層の上面に第２電極を形成すると共に、隔壁および補助電極の有機層から露出した領域を第２電極により被覆する工程
【発明の効果】
【００１１】
本開示の表示装置によれば、有機層は隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を露出させており、第２電極は有機層の上面および補助電極の上面に設けられているようにしている。よって、第２電極と補助電極とを補助電極の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えることが可能となる。
【００１２】
本開示の表示装置の製造方法によれば、表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、隔壁の補助電極に沿う側面および補助電極の上面を有機層から露出させたのち、有機層の上面に第２電極を形成すると共に、隔壁および補助電極の有機層から露出した領域を第２電極により被覆するようにしている。よって、第２電極と補助電極とを補助電極の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えることが可能となる。また、補助電極の上面には有機層は形成されないので、レーザを用いて補助電極上の有機層を除去する必要はなくなる。従って、レーザで除去された有機物のダストに起因する非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す図である。
【図２】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図３】図１に示した表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図４】図３の一部を拡大して表す平面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線における断面図である。
【図６】図４のＶＩ−ＶＩ線における断面図である。
【図７】図３に示した表示装置の製造方法を工程順に表す斜視図および断面図である。
【図８】図７に続く工程を表す斜視図および断面図である。
【図９】図８に続く工程を表す斜視図および断面図である。
【図１０】図６に示した隔壁の高さを説明するための図である。
【図１１】図９に続く工程を表す斜視図および断面図である。
【図１２】変形例１に係る表示装置における表示領域の一部を拡大して表す平面図である。
【図１３】変形例２に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１４】変形例３に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１５】変形例４に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１６】変形例５に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１７】変形例６に係る表示装置における表示領域の概略構成を表す平面図である。
【図１８】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図１９】上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図２０】（Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図２１】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図２２】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図２３】（Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（各画素につき一組の補助電極および隔壁を設けた例）
２．変形例１（隔壁を、矩形の三辺をなす形状とした例）
３．変形例２（各副画素につき一組の補助電極および隔壁を設けた例）
４．変形例３（各画素につき一組の補助電極および隔壁を、第１電極の行間の領域に設けた例）
５．変形例４（各副画素につき一組の補助電極および隔壁を、第１電極の行間の領域に設けた例）
６．変形例５（各画素につき一組の補助電極および隔壁を、第１電極の列間の領域に設けた例）
７．変形例６（各副画素につき一組の補助電極および隔壁を、第１電極の列間の領域に設けた例）
【００１５】
図１は、本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表したものである。この表示装置は、有機ＥＬテレビジョン装置などに用いられるものであり、例えば、ガラスなどの基板１１の上に、後述する複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂがマトリクス状に配置されてなる表示領域１１０が設けられたものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【００１６】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。この画素駆動回路１４０は、後述する第１電極２０の下層に設けられたアクティブ型の駆動回路である。画素駆動回路１４０は、例えば、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、キャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂとを有している。キャパシタＣｓの一方の電極は駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２の間に接続され、他方の電極は駆動トランジスタＴｒ１および有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂとの間に接続されている。
【００１７】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂのいずれか一つ（副画素）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１８】
図３は、図１に示した表示領域１１０の一部の平面構成を表したものであり、図４は、図３の一部を拡大して表したものである。基板１１の表示領域１１０内には、複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第１電極２０が、行列状に、互いに離間して配置されている。第１電極２０は一方向に長い矩形形状を有しており、短辺に平行な行方向には、異なる色の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの第１電極２０が順に配列されている。長辺に平行な列方向には、同一色の有機ＥＬ素子１０Ｒ（または１０Ｇ，１０Ｂ）の第１電極２０が配列されている。
【００１９】
隣り合う三つの有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは一つの画素１０を構成しており、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは一つの副画素を構成している。画素１０の行方向におけるピッチ（中心間距離）ｐは、例えば、対角寸法４０インチの場合には２２８μｍである。第１電極２０の行方向の間隔Ｌ１は、例えば３０μｍ程度であり、列方向の間隔Ｌ２は、例えば５０μｍないし６０μｍ程度である。
【００２０】
第１電極２０は、複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの各々ごとに設けられている。第１電極２０は、例えば、厚みが５０ｎｍ程度のチタン（Ｔｉ）層と、厚みが３５０ｎｍ程度のＡｌ−Ｎｄ合金層とを基板１１側からこの順に積層した構成を有し、発光層で発生した光を第２電極７０側から取り出すようになっている（トップエミッション）。なお、第１電極２０の構成材料としては、アルミニウム（Ａｌ）またはその合金のほか、金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），クロム（Ｃｒ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ），モリブデン（Ｍｏ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金よりなる反射電極が挙げられる。
【００２１】
図５は、図４のＶ−Ｖ線における表示領域１１０の断面構成を表したものである。なお、図５以降の断面図では、図１に示した信号線駆動回路１２０，走査線駆動回路１３０，画素駆動回路１４０およびこれらを被覆する平坦化絶縁膜を省略している。第１電極２０は、画素間領域２０Ａに設けられた絶縁膜３０により、互いに電気的に分離されている。第１電極２０および絶縁膜３０上には、発光層を含む有機層４０と、第２電極５０とが、第１電極２０の側からこの順に設けられている。有機層４０は、表示領域１１０の全体に設けられている。第２電極５０は、有機層４０の上面に設けられている。第１電極２０と第２電極５０との間に有機層４０が挟持されている部分が、上述した有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを構成している。
【００２２】
絶縁膜３０は、第１電極２０と第２電極５０との絶縁性を確保すると共に発光領域を正確に所望の形状にするためのものである。絶縁膜３０は、第１電極２０の発光領域に対応して開口部３０Ａを有している。絶縁膜３０は、例えば、厚みが２μｍ（２０００ｎｍ）程度であり、ポリイミドなどの感光性絶縁材料により構成されている。
【００２３】
有機層４０は、第１電極２０および絶縁膜３０の上に、表示領域１１０の全体にわたり複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに共通に設けられている。有機層４０は、例えば、第１電極２０の側から順に、正孔注入層，正孔輸送層，発光層および電子輸送層を積層した構成を有している。
【００２４】
正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層は、例えば、厚みが２ｎｍないし１０ｎｍであり、化１に示したヘキサトリルアザトリフェニレンにより構成されている。
【００２５】
【化１】
【００２６】
正孔輸送層は、発光層への正孔注入効率を高めるためのものである。正孔輸送層は、例えば、厚みが３０ｎｍであり、化２に示した材料により構成されている。
【００２７】
【化２】
【００２８】
発光層は、例えば、第１電極２０の側から順に、厚み１０ｎｍの赤色発光層、厚み１０ｎｍの発光分離層、厚み１０ｎｍの青色発光層、および厚み１０ｎｍの緑色発光層（いずれも図示せず）を順に積層した白色発光用のものである。赤色発光層は、電界をかけることにより、第１電極２０から正孔注入層および正孔輸送層を介して注入された正孔の一部と、第２電極５０から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、赤色の光を発生するものである。発光分離層は、赤色発光層への電子供給量を減らすためのものである。青色発光層は、電界をかけることにより、第１電極２０から正孔注入層，正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第２電極５０から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、青色の光を発生するものである。緑色発光層は、電界をかけることにより、第１電極２０から正孔注入層，正孔輸送層および発光分離層を介して注入された正孔の一部と、第２電極５０から電子輸送層を介して注入された電子の一部とが再結合して、緑色の光を発生するものである。赤色発光層，緑色発光層および青色発光層は、絶縁膜３０の開口部３０Ａに対応した領域で発光するようになっている。
【００２９】
赤色発光層は、例えば、赤色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種を含んでいる。赤色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、赤色発光層は、例えば、厚みが５ｎｍ程度であり、４，４−ビス（２，２−ジフェニルビニン）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）に２，６−ビス［（４’−メトキシジフェニルアミノ）スチリル］−１，５−ジシアノナフタレン（ＢＳＮ）を３０重量％混合したものにより構成されている。
【００３０】
発光分離層は、例えば、化３に示した材料により構成されている。
【００３１】
【化３】
【００３２】
緑色発光層は、例えば、緑色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種を含んでいる。緑色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、緑色発光層は、例えば、厚みが１０ｎｍ程度であり、ＤＰＶＢｉにクマリン６を５重量％混合したものにより構成されている。
【００３３】
青色発光層は、例えば、青色発光材料，正孔輸送性材料，電子輸送性材料および両電荷輸送性材料のうち少なくとも１種とを含んでいる。青色発光材料は、蛍光性のものでも燐光性のものでもよい。具体的には、青色発光層は、例えば、厚みが３０ｎｍ程度であり、ＤＰＶＢｉに４，４’−ビス［２−｛４−（Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）フェニル｝ビニル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）を２．５重量％混合したものにより構成されている。
【００３４】
電子輸送層は、発光層への電子注入効率を高めるためのものである。電子輸送層は、例えば、厚みが２０ｎｍ程度であり、８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３ ）により構成されている。
【００３５】
第２電極５０は、有機層４０の上面に、表示領域１１０の全体にわたり複数の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに共通に設けられている。第２電極５０は、例えば、第１電極２０の側から順に、厚みが約０．３ｎｍでありフッ化リチウム（ＬｉＦ）よりなる第１層と、厚みが３ｎｍでありカルシウム（Ｃａ）よりなる第２層と、厚みが５ｎｍでありＭｇ−Ａｇ合金よりなる第３層とを積層した構成を有している。第２電極５０は、表示領域１１０の外側の領域で、図示しない補助配線に接続されている。この補助配線は、表示領域１１０を囲む枠状の導電膜により構成されている。
【００３６】
このような有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、必要に応じて、窒化ケイ素（ＳｉＮ）などの保護膜（図示せず）により被覆されている。保護膜上には、接着層（図示せず）を間にして、ガラスなどよりなる封止用基板（図示せず）が全面にわたって貼り合わせられている。封止用基板には、必要に応じて、カラーフィルタおよびブラックマトリクスとしての遮光膜などが設けられている。
【００３７】
次に、図３および図４に戻り、複数の第１電極２０の間の電極間領域２０Ａに設けられた補助電極６０および隔壁７０について説明する。補助電極６０および隔壁７０は、各画素１０につき一組、例えば有機発光素子１０Ｇ，１０Ｂの列間に設けられている。補助電極６０は、表示領域１１０中央付近における第２電極５０の電気抵抗の増大を抑えるためのコンタクト部であり、図示しないが、下層において上述した第２電極５０の補助配線に接続されている。隔壁７０は、後述する製造工程において補助電極６０の上面に有機層４０が成膜されないようにするためのものであり、補助電極６０および隔壁７０は対で配置される。隔壁７０は、補助電極６０の外形線の一部に沿って設けられている。具体的には、補助電極６０は矩形形状を有し、隔壁７０は、補助電極６０の一方の長辺に沿って設けられている。
【００３８】
補助電極６０は、例えば、幅ｗ１が１０μｍ、奥行きｄ１が５μｍ、厚みが５０ｎｍであり、チタン（Ｔｉ）により構成されている。なお、絶縁膜３０には、補助電極６０に対向して開口部３０Ｂが設けられている。
【００３９】
隔壁７０は、例えば、幅ｗ２が１２μｍ、奥行きｄ２が１０μｍ、高さｈが６μｍであり、ポリイミド等の感光性絶縁材料により構成されている。なお、隔壁７０は絶縁膜３０と一体をなしており、隔壁７０の高さｈは絶縁膜３０の厚みを含むものである。隔壁７０の高さｈは、必要な補助電極６０の面積および有機層４０を構成する有機材料の蒸着時の入射角度に基づいて算出することが可能であるが、その詳細については後述する。
【００４０】
補助電極６０および隔壁７０は、例えば、第１電極２０の行間かつ列間の領域（四つの第１電極２０の頂点で囲まれた領域）２０Ｂ、すなわち、行間領域２０Ｃと列間領域２０Ｄとの重なり合う領域に設けられていることが好ましい。これにより、後述する製造工程において、有機層４０の厚みムラを小さくすることが可能となる。
【００４１】
図６は、図４のＶＩ−ＶＩ線における断面構成を表したものである。電極間領域２０Ａにおいては、有機層４０は、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を露出させている。この露出した補助電極６０の上面に第２電極５０が設けられることにより、補助電極６０と第２電極５０とが電気的に接続されている。これにより、この表示装置では、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑えると共に、非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能となっている。
【００４２】
この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。
【００４３】
まず、上述した材料よりなる基板１１の表示領域１１０に、例えばスパッタリング法によりチタン（Ｔｉ）膜を形成し、例えばフォトリソグラフィおよびドライエッチングにより所定の形状に成形する。これにより、図７に示したように、画素間領域２０Ａに補助電極３０を形成する。なお、同じ工程で、第１電極２０の下層のチタン層も形成することが可能である。
【００４４】
次いで、例えばスパッタリング法によりＡｌ−Ｎｄ合金膜を形成し、例えばフォトリソグラフィ法およびドライエッチングにより所定の形状に成形する。これにより、同じく図７に示したように、表示領域１１０内に、チタン層とＡｌ−Ｎｄ合金層とを積層した第１電極２０が、互いに離間して形成される。
【００４５】
続いて、図８に示したように、第１電極２０および補助電極６０が設けられた基板１１にポリイミド等の感光性絶縁材料を塗布し、フォトリソグラフィによる露光および現像を行う。これにより、開口部３０Ａ，３０Ｂを有する絶縁膜３０を形成すると共に、電極間領域２０Ａに、補助電極６０の外形線の一部に沿って隔壁７０を形成する。その際、フォトリソグラフィを２回行うか、またはハーフトーンマスクを使用することにより、絶縁膜３０および隔壁７０を一体に形成することが可能である。
【００４６】
そののち、図９に示したように、表示領域１１０に、上述した構成の有機層４０を斜め蒸着法により形成する。有機層４０の材料は、図９の矢印Ａ１に示したように、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａの反対側の上方から入射させる。これにより、入射側の側面７０Ｂには有機層４０が形成されるが、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面は有機層４０から露出する。蒸着方法としてはライン状の蒸着源を用いた蒸着が好ましい。基板１１の進行方向（蒸着方向）は、図３の矢印Ａ２に示したように、隔壁７０の裏側の側面７０Ｂから補助電極６０に沿う側面７０Ａに向かう方向（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの列方向）とする。また、基板１１が大型基板である場合には、基板１１を傾ける方法も考えられるが、ライン状の蒸着源を斜めにして蒸着するほうが望ましい。
【００４７】
隔壁７０の高さｈは、図１０に示したように、補助電極６０の幅をｗ１、奥行きをｄ１とし、有機材料の蒸着時の入射角をθとすると、数１を満たすことが好ましい。このようにすれば、補助電極６０の上面を確実に有機層４０から露出させ、補助電極６０と第２電極５０との接触を確保することが可能となるからである。
【００４８】
（数１）
ｈ＝（ｄ１×ｔａｎθ）×１．０１
【００４９】
数１では、入射角θに依存する有機材料の蒸着分布を考慮して、算出された隔壁７０の高さの１％分を追加している。同様に、隔壁７０の幅ｗ２についても、蒸着分布を考慮すると、数２のように表される。
【００５０】
（数２）
ｗ２＝ｗ１×１．０２
【００５１】
隔壁の奥行きｄ２については、これに依存する有機材料の蒸着分布感度が低いので、プロセス上のルールが優先される。
【００５２】
有機層４０を形成したのち、図１１に示したように、有機層４０の上面に第２電極５０を形成すると共に、隔壁７０および補助電極６０の有機層４０から露出した領域を第２電極５０により被覆する。具体的には、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を、第２電極５０により被覆する。成膜方法は、ライン状の蒸着源を用いた蒸着、回転蒸着、スパッタ法など、いずれの方法も使用することが可能である。また、図１１に示したように、第２電極５０を、基板１１と蒸発源（図示せず）とを平行にした状態で、すなわち成膜材料の入射角度を矢印Ａ３に示したように基板１１に対して垂直にした状態で、形成する。以上により、図３および図５に示した有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂが形成されると共に、図６に示したように補助電極６０と第２電極５０とが補助電極６０の上面で電気的に接続される。なお、第２電極５０が隔壁７０の側面７０Ａで途切れた場合でも、隔壁７０の周囲では第２電極５０は連続しているので断線のおそれはない。
【００５３】
そののち、必要に応じて、例えばＣＶＤ法またはスパッタ法により、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの上に上述した材料よりなる保護膜（図示せず）を形成する。また、カラーフィルタ等を形成した封止用基板（図示せず）を用意し、この封止用基板を、保護膜の上に、接着層（図示せず）により貼り合わせる。以上により、図１ないし図３に示した表示装置が完成する。
【００５４】
この表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに駆動電流Ｉｄｓが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第２電極５０，保護膜，接着層，カラーフィルタおよび封止用基板（第２電極５０以外はいずれも図示せず）を透過して（トップエミッション）取り出される。
【００５５】
ここでは、有機層４０は隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を露出させており、第２電極５０は有機層４０の上面および補助電極６０の上面に設けられている。よって、第２電極５０と補助電極６０とが補助電極６０の上面で電気的に接続され、電源電圧の不均一による画面内のムラが抑えられる。
【００５６】
このように本実施の形態の表示装置では、有機層４０は隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を露出させており、第２電極５０は有機層４０の上面および補助電極６０の上面に設けられているようにしている。よって、第２電極５０と補助電極６０とを補助電極６０の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑え、表示品位を向上させることが可能となる。特に大型の表示装置の場合に好適である。
【００５７】
本実施の形態の表示装置の製造方法では、表示領域１１０に、発光層を含む有機層４０を斜め蒸着法により形成すると共に、隔壁７０の補助電極６０に沿う側面７０Ａおよび補助電極６０の上面を有機層４０から露出させたのち、有機層４０の上面に第２電極５０を形成すると共に、隔壁７０および補助電極６０の有機層４０から露出した領域を第２電極５０により被覆するようにしている。よって、第２電極５０と補助電極６０とを補助電極６０の上面で電気的に接続し、電源電圧の不均一による画面内のムラを抑え、表示品位を向上させることが可能となる。また、補助電極６０の上面には有機層４０は形成されないので、レーザを用いて補助電極６０上の有機層４０を除去する必要はなくなる。従って、装置および工程を簡素化し、コスト削減および歩留まり向上が可能となると共に、レーザで除去された有機物のダストに起因する非発光点などの品質不良への影響を抑えることが可能となる。
【００５８】
（変形例１）
なお、上記実施の形態では、隔壁７０が、矩形形状の補助電極６０の一方の長辺に沿って設けられている場合について説明したが、隔壁７０は、図１２に示したように、矩形形状の補助電極６０の三辺に沿って（三辺を囲んで）設けられていることも可能である。このようにすれば、有機層４０を斜め蒸着する際に、補助電極６０の上面の露出面積を大きくすることが可能となる。本変形例は、第１電極２０の行方向の間隔Ｌ１および列方向の間隔Ｌ２が十分にとれる場合に有効である。
【００５９】
（変形例２）
また、上記実施の形態では、補助電極６０および隔壁７０が、各画素１０につき一組設けられている場合について説明した。しかしながら、補助電極６０および隔壁７０は、図１３に示したように、各副画素である有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにつき一組設けられていることも可能である。このようにすれば、レイアウトの制限から補助電極６０の面積を確保しにくい場合にも、第２電極５０と補助電極６０との接続箇所を増やすことが可能となり、より高い効果を得ることが可能となる。
【００６０】
（変形例３）
更に、上記実施の形態では、補助電極６０および隔壁７０が、第１電極２０の行間かつ列間の領域２０Ｂに設けられている場合について説明した。しかしながら、補助電極６０および隔壁７０は、図１４に示したように、第１電極２０の行間領域２０Ｃ、例えば有機ＥＬ素子１０Ｂの短辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。本変形例は、第１電極２０の行方向の間隔Ｌ１が狭い場合や、レイアウトの制約から配置が制限される場合に好適である。
【００６１】
（変形例４）
加えて、変形例３と変形例２とを組み合わせることも可能である。すなわち、図１５に示したように、補助電極６０および隔壁７０は、各副画素である有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにつき一組、第１電極の行間領域２０Ｃ、例えば有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの短辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。
【００６２】
（変形例５）
更にまた、補助電極６０および隔壁７０は、図１６に示したように、第１電極２０の列間領域２０Ｄ、例えば有機ＥＬ素子１０Ｇ，１０Ｂの長辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。本変形例は、第１電極２０の列方向の間隔Ｌ２が狭い場合や、レイアウトの制約から配置が制限される場合に好適である。また、本変形例では、有機層４０を形成する工程における基板１１の進行方向（蒸着方向）は、図１６の矢印Ａ２に示したように、隔壁７０の裏側の側面７０Ｂから補助電極６０に沿う側面７０Ａに向かう方向（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの行方向）とする。
【００６３】
（変形例６）
加えてまた、変形例５と変形例２とを組み合わせることも可能である。すなわち、図１７に示したように、補助電極６０および隔壁７０は、各副画素である有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂにつき一組、第１電極２０の列間領域２０Ｄ、例えば有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの長辺に向かい合う位置に設けられていることも可能である。本変形例においても、有機層４０を形成する工程における基板１１の進行方向（蒸着方向）は、変形例５と同様である。すなわち、図１７の矢印Ａ２に示したように、隔壁７０の裏側の側面７０Ｂから補助電極６０に沿う側面７０Ａに向かう方向（有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの行方向）とする。
【００６４】
（モジュールおよび適用例）
以下、上述した実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
【００６５】
（モジュール）
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図１８に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、上記実施の形態における封止用基板８０から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。
【００６６】
（適用例１）
図１９は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６７】
（適用例２）
図２０は、上記実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６８】
（適用例３）
図２１は、上記実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００６９】
（適用例４）
図２２は、上記実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００７０】
（適用例５）
図２３は、上記実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
【００７１】
以上、実施の形態を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、変形例１は、変形例２ないし変形例６にも適用可能である。
【００７２】
例えば、上記実施の形態では、発光層で発生した光を第２電極５０側から取り出す場合（トップエミッション）を例として説明したが、発光層で発生した光を基板１１側から取り出すことも可能である（ボトムエミッション）。この場合には、カラーフィルタは基板１１上に設けることが可能である。また、ボトムエミッションの場合には、第１電極２０は、ＩＴＯ，ＩＺＯ（登録商標），またはＳｎＯ2などの透明電極により構成され、第２電極５０は、金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），クロム（Ｃｒ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ），アルミニウム（Ａｌ），モリブデン（Ｍｏ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金よりなる反射電極により構成されている。また、第２電極５０は、上述した反射電極と透明電極との複合膜により構成されていてもよい。
【００７３】
加えて、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【００７４】
なお、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。
（１）
基板の表示領域内に設けられた複数の第１電極と、
前記複数の第１電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、
前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、
前記表示領域に設けられると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上面および前記補助電極の上面に設けられた第２電極と
を備えた表示装置。
（２）
前記補助電極は矩形形状を有し、
前記隔壁は、前記補助電極の一辺に沿って設けられている
前記（１）記載の表示装置。
（３）
前記補助電極は矩形形状を有し、
前記隔壁は、前記補助電極の三辺を囲んで設けられている
前記（１）記載の表示装置。
（４）
前記第１電極は矩形形状を有すると共に行列状に配列されており、
前記補助電極は、前記第１電極の行間かつ列間の領域に設けられている
前記（１）ないし（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（５）
前記隔壁は絶縁性材料により構成されている
前記（１）ないし（４）のいずれか１項に記載の表示装置。
（６）
基板の表示領域内に複数の第１電極を形成する工程と、
前記複数の第１電極の間の電極間領域に補助電極を形成する工程と、
前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って隔壁を形成する工程と、
前記表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を前記有機層から露出させる工程と、
前記有機層の上面に第２電極を形成すると共に、前記隔壁および前記補助電極の前記有機層から露出した領域を前記第２電極により被覆する工程と
を含む表示装置の製造方法。
（７）
前記第２電極を、前記基板と蒸発源とを平行にした状態で形成する
前記（６）記載の表示装置の製造方法。
（８）
前記有機層を形成する工程において、前記基板の進行方向を、前記隔壁の裏側の側面から前記補助電極に沿う側面に向かう方向とする
前記（６）または（７）記載の表示装置の製造方法。
（９）
前記有機層を形成する工程において、前記有機層の材料を前記隔壁の前記補助電極に沿う側面の反対側の上方から入射させる
前記（６）ないし（８）のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【符号の説明】
【００７５】
１０…画素、１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ…有機ＥＬ素子、１１…基板、２０…第１電極、３０…絶縁膜、４０…有機層、５０…第２電極、６０…補助電極、７０…隔壁、１１０…表示領域、１２０…信号線駆動回路、１３０…走査線駆動回路、１４０…画素駆動回路、Ｔｒ１，Ｔｒ２…トランジスタ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表示領域内に設けられた複数の第１電極と、
前記複数の第１電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、
前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、
前記表示領域に設けられると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上面および前記補助電極の上面に設けられた第２電極と
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記補助電極は矩形形状を有し、
前記隔壁は、前記補助電極の一辺に沿って設けられている
請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記補助電極は矩形形状を有し、
前記隔壁は、前記補助電極の三辺を囲んで設けられている
請求項１記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１電極は矩形形状を有すると共に行列状に配列されており、
前記補助電極は、前記第１電極の行間かつ列間の領域に設けられている
請求項１記載の表示装置。
【請求項５】
前記隔壁は絶縁性材料により構成されている
請求項１記載の表示装置。
【請求項６】
基板の表示領域内に複数の第１電極を形成する工程と、
前記複数の第１電極の間の電極間領域に補助電極を形成する工程と、
前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って隔壁を形成する工程と、
前記表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を前記有機層から露出させる工程と、
前記有機層の上面に第２電極を形成すると共に、前記隔壁および前記補助電極の前記有機層から露出した領域を前記第２電極により被覆する工程と
を含む表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記第２電極を、前記基板と蒸発源とを平行にした状態で形成する
請求項６記載の表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記有機層を形成する工程において、前記基板の進行方向を、前記隔壁の裏側の側面から前記補助電極に沿う側面に向かう方向とする
請求項６記載の表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記有機層を形成する工程において、前記有機層の材料を前記隔壁の前記補助電極に沿う側面の反対側の上方から入射させる
請求項６記載の表示装置の製造方法。
【請求項１】
基板の表示領域内に設けられた複数の第１電極と、
前記複数の第１電極の間の電極間領域に設けられた補助電極と、
前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って設けられた隔壁と、
前記表示領域に設けられると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を露出させている、発光層を含む有機層と、
前記有機層の上面および前記補助電極の上面に設けられた第２電極と
を備えた表示装置。
【請求項２】
前記補助電極は矩形形状を有し、
前記隔壁は、前記補助電極の一辺に沿って設けられている
請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記補助電極は矩形形状を有し、
前記隔壁は、前記補助電極の三辺を囲んで設けられている
請求項１記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１電極は矩形形状を有すると共に行列状に配列されており、
前記補助電極は、前記第１電極の行間かつ列間の領域に設けられている
請求項１記載の表示装置。
【請求項５】
前記隔壁は絶縁性材料により構成されている
請求項１記載の表示装置。
【請求項６】
基板の表示領域内に複数の第１電極を形成する工程と、
前記複数の第１電極の間の電極間領域に補助電極を形成する工程と、
前記電極間領域に、前記補助電極の外形線の一部に沿って隔壁を形成する工程と、
前記表示領域に、発光層を含む有機層を斜め蒸着法により形成すると共に、前記隔壁の前記補助電極に沿う側面および前記補助電極の上面を前記有機層から露出させる工程と、
前記有機層の上面に第２電極を形成すると共に、前記隔壁および前記補助電極の前記有機層から露出した領域を前記第２電極により被覆する工程と
を含む表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記第２電極を、前記基板と蒸発源とを平行にした状態で形成する
請求項６記載の表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記有機層を形成する工程において、前記基板の進行方向を、前記隔壁の裏側の側面から前記補助電極に沿う側面に向かう方向とする
請求項６記載の表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記有機層を形成する工程において、前記有機層の材料を前記隔壁の前記補助電極に沿う側面の反対側の上方から入射させる
請求項６記載の表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【公開番号】特開２０１２−２０９０９５（Ｐ２０１２−２０９０９５Ａ）
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−７３０７５（Ｐ２０１１−７３０７５）
【出願日】平成２３年３月２９日（２０１１．３．２９）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月２５日（２０１２．１０．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月２９日（２０１１．３．２９）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【Ｆターム（参考）】
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