複合微粒子、分散液、分散液の製造方法、インクジェット記録体及びインクジェット記録体の製造方法
【課題】共存可能な成分の選択範囲が広く汎用性の高い複合微粒子とその分散液、及び該分散液の製造方法を提供することを課題とする。また、かかる複合微粒子を用いることにより、高い品質を備えるインクジェット記録体及びインクジェット記録体の製造方法を提供する。
【解決手段】水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が正であるカチオン性微粒子と該カチオン性微粒子の表面に担持されたアニオン性化合物とからなり、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負である複合微粒子を、インクジェット記録体の塗工層に配合する。
【解決手段】水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が正であるカチオン性微粒子と該カチオン性微粒子の表面に担持されたアニオン性化合物とからなり、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負である複合微粒子を、インクジェット記録体の塗工層に配合する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カチオン性顔料とアニオン性化合物との複合微粒子、この複合微粒子の分散液、該分散液の製造方法、並びにインクジェット記録体及びインクジェット記録体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクを微細なノズルから噴出して記録体に画像を形成させるインクジェット記録方式は、記録時の騒音が少ないこと、カラー化が容易であること、高速記録が可能であること、また、他の印刷装置より安価であること等の理由から、端末用プリンタ、ファクシミリ、プロッタ、あるいは帳票印刷等で広く利用されている。
【０００３】
インクジェット記録方式に使用するインクジェット記録体としては、染料系インクによる印刷を対象としたものが多い。この染料系インクは、紫外線照射、あるいは酸素、オゾンとの接触により染料が変色するなど耐候性、退色性が劣るため、印刷物が経時的に変色したり脱色したりするなどの欠点がある。このような問題は、印刷物が屋外において使用される場合に顕著である。
このため、インクジェット記録方式においても、耐候性に優れた顔料系インクが使用されるようになっている。しかしながら、顔料粒子は、通常１０〜５００ｎｍの粒子径を有する粒子であり、印刷後記録部位を指などで擦ると、顔料粒子が除かれて色落ちしやすいという問題、すなわた、耐擦過性が低いという問題があった。
この顔料系インク使用時の耐擦過性の問題に対処するため、酸化物粒子表面にカチオン性化合物を担持したカチオン性微粒子を、インクジェット記録体のインク受容層に用いることが提案されている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２０００−０３７９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１のようなカチオン性微粒子は、その分散液にアニオン性化合物を加えると凝集を生じてしまう等、アニオン性化合物と共に用いることが困難である。そのため、例えばインクジェット記録体の光沢層を形成するためにこのカチオン性微粒子を含有する塗布液を使用する場合、離型剤としてはカチオン性離型剤しか選択できない。このように、特許文献１のようなカチオン性微粒子は、共存させて使用できる成分に制約を有するものであった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、共存可能な成分の選択範囲が広く汎用性の高い複合微粒子とその分散液、及び該分散液の製造方法を提供することを課題とする。また、かかる複合微粒子を用いることにより、高い品質を備えるインクジェット記録体及びインクジェット記録体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
［１］水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が正であるカチオン性微粒子と該カチオン性微粒子の表面に担持されたアニオン性化合物とからなり、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負であることを特徴とする複合微粒子。
［２］アニオン性化合物がカルボン酸系化合物である［１］に記載の複合微粒子。
［３］カチオン性微粒子が、シリカ微粒子の表面にカチオン性化合物を担持したカチオン性シリカである［１］または［２］に記載の複合微粒子。
【０００６】
［４］［１］〜［３］の何れかに記載の複合微粒子を水系の分散媒に分散させたことを特徴とする分散液。
［５］前記複合微粒子のゼータ電位が−１０〜−１５０ｍＶである［４］に記載の分散液。
【０００７】
［６］［４］または［５］に記載の分散液の製造方法であって、
カチオン性微粒子とアニオン性化合物とを水系の分散媒中で混合して凝集物を形成させる凝集工程と、
該凝集物を前記分散媒中で機械的手段により粉砕する粉砕工程を有することを特徴とする分散液の製造方法。
【０００８】
［７］［１］〜［３］の何れかに記載の複合微粒子を含有する塗工層が設けられたことを特徴とするインクジェット記録体。
［８］前記複合微粒子を含有する塗工層が、前記複合微粒子を水に分散させた分散液を含む塗布液によって形成された［７］に記載のインクジェット記録体。
［９］前記複合微粒子を含有する塗工層が最表層に設けられている［７］または［８］に記載のインクジェット記録体。
［１０］前記複合微粒子を含有する塗工層が、アニオン性離型剤を含有する［９］に記載のインクジェット記録体。
［１１］非透気性または低透気性の支持体上にインク受容層を設けてなる基材の前記インク受容層上に、前記複合微粒子を含有する塗工層が設けられている［７］から［１０］の何れかに記載のインクジェット記録体。
【０００９】
［１２］支持体上にインク受容層を設けてなる基材の、前記インク受容層上に、［１］〜［３］の何れかに記載の複合微粒子およびアニオン性離型剤を含有する塗布液を供給し、
前記基材を、光沢ロールとプレスロールとの間を、前記塗布液が光沢ロールに接触するように通過させてプレス塗工して光沢層を形成し、
前記光沢層が湿潤状態又は半乾燥状態にあるうちに、該光沢層を光沢ロールから剥離することを特徴とするインクジェット記録体の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
［１］〜［３］の複合微粒子は、カチオン性微粒子の顔料系インク使用時の耐擦過性が強いという性質を有しながら、アニオン性化合物と共存可能であり、汎用性が高い。
［４］、［５］の分散液は、カチオン性微粒子の顔料系インク使用時の耐擦過性が強いという性質を有しながら、アニオン性微粒子の分散液としての性質を持つので、アニオン性化合物を添加した場合にも凝集することがなく、汎用性が高い。
［６］の分散液の製造方法によれば、上記汎用性の高い分散液を得ることができる。
［７］〜［１１］のインクジェット記録体は、上記汎用性の高い複合粒子を用いるため、塗工層の組成を自由に調整することができる。そのため、所望の性能を有する塗工層を得やすく、高い品質を備えることができる。
［１２］のインクジェット記録体の製造方法によれば、品質の高いインクジェット記録体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
［複合微粒子］
本発明の複合微粒子は、カチオン性微粒子の表面にアニオン性化合物が担持された複合微粒子である。この複合微粒子は、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負である。
【００１２】
（カチオン性微粒子）
本発明の複合微粒子を構成するカチオン微粒子は、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が正である。
カチオン性微粒子としては、アルミニウム酸化物、アルミニウム酸化物の水和物、カチオン性シリカを好適に使用できる。
アルミニウム酸化物、アルミニウム酸化物の水和物は、解こう剤として用いる酢酸の臭気などの使用上の問題があるため、特に、カチオン性シリカが好ましい。
【００１３】
（カチオン性シリカ）
カチオン性シリカは、シリカ微粒子の表面にカチオン性化合物を担持したカチオン性の微粒子である。シリカ微粒子は本来アニオン性であるが、水系の分散媒中でカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理することによりカチオン性の分散液とすることができる（特開２００４−０５０８１１号公報等参照。）。
【００１４】
シリカ微粒子としては、気相法シリカ、湿式法シリカ等の合成シリカが好ましく、特にインクジェット紙として、光沢性が得られることから、湿式法シリカが好ましい。
シリカ微粒子に担持させるカチオン性化合物としては、カチオン性ポリマー、水溶性多価金属化合物、あるいはシランカップリング剤が用いられる。これらのカチオン性化合物の中でも特にカチオン性ポリマー及び水溶性多価金属化合物が好ましい。
【００１５】
本発明に用いられるカチオン性ポリマーとしては、ポリエチレンポリアミンおよびポリプロピレンポリアミンなどのポリアルキレンポリアミン類、およびそれらの誘導体類、第２級アミノ基、第３級アミノ基、および／または第４級アンモニウム基を有するアクリル系樹脂、ポリビニルアミン、ポリビニルアミジン、５員環アミジン類、例えばジシアンジアミド−ホルマリン重縮合物などのジシアン系カチオン樹脂、ジシアンジアミド−ジエチレントリアミン重縮合物などのポリアミン系カチオン樹脂、エポクロルヒドリン−ジメチルアミン付加重合物、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド−ＳＯ２共重合物、ジアリルアミン−ＳＯ２共重合物、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド重合物、アリルアミン塩の重合物、ジアルキルアミノエチル（メタ）アクリレート４級アンモニウム塩重合物、アクリルアミド−ジアリルアミン塩共重合物が挙げられる。
これらの中でも、分散性からカチオン性ポリマーが好ましく、特に、第１級、第２級、第３級アミン基を有するカチオン樹脂は分散性が良好であることから好ましい。５員環を形成しているアミジン化合物が最も良好である。
カチオン性ポリマーの分子量は特に限定しないが、分散性と分散安定性から１万〜１０万が好ましい。更に好ましくは２万〜７万である。分子量が小さすぎると分散性が悪く、分子量が大きすぎると分散安定性が劣ることがある。
【００１６】
シリカ微粒子とカチオン性ポリマーの質量比は特に限定しないが、１００：１〜３０が好ましく、１００：２〜１５がより好ましい。カチオン性ポリマーの含有量が少なすぎると、分散液系全体のカチオン性が弱い、あるいは、分散液系全体がカチオン性にならない。すなわち、イオン交換水に分散して分散液とした際のゼータ電位が１０ｍV以下になる。その場合、分散しても短時間で再凝集するおそれがある。
一方、カチオン性ポリマーの含有量が多すぎると、インクジェット記録体に用いる場合、顔料に担持されないカチオン性化合物が単体として存在、つまり、不純物として存在するおそれがある。
【００１７】
本発明に用いられる水溶性多価金属化合物としては、カルシウム、バリウム、マンガン、銅、コバルト、ニッケル、アルミニウム、鉄、亜鉛、ジルコニウム、チタン、クロム、マグネシウム、タングステン、モリブデンの化合物が挙げられ、これらの金属の水溶性塩として用いることができる。なお、水溶性とは常温常圧下で水に１質量％以上溶解することを意味する。
【００１８】
具体的には例えば、酢酸カルシウム、塩化カルシウム、ギ酸カルシウム、硫酸カルシウム、酢酸バリウム、硫酸バリウム、リン酸バリウム、塩化マンガン、酢酸マンガン、ギ酸マンガンニ水和物、硫酸マンガンアンモニウム六水和物、塩化第二銅、塩化アンモニウム銅（ＩＩ）ニ水和物、硫酸銅、塩化コバルト、チオシアン酸コバルト、硫酸コバルト、硫酸ニッケル六水和物、塩化ニッケル六水和物、酢酸ニッケル四水和物、硫酸ニッケルアンモニウム六水和物、アミド硫酸ニッケル四水和物、硫酸アルミニウム、亜硫酸アルミニウム、チオ硫酸アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム九水和物、塩化アルミニウム六水和物、ポリ酢酸アルミニウム、およびポリ乳酸アルミニウム、臭化第一鉄、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、臭化亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛六水和物、硫酸亜鉛、酢酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、炭酸ジルコニウム・アンモニウム、炭酸ジルコニウム・カリウム、硫酸ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、塩化ジルコニウム八水和物、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、塩化チタン、硫酸チタン、酢酸クロム、硫酸クロム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム六水和物、クエン酸マグネシウム九水和物、りんタングステン酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムタングステン、１２タングストりん酸ｎ水和物、１２タングストけい酸２６水和物、塩化モリブデン、１２モリブドりん酸ｎ水和物等が挙げられる。
【００１９】
これらの中でも特に、ポリ塩化アルミニウム、ポリ酢酸アルミニウム、およびポリ乳酸アルミニウムなどのポリアルミニウム塩が好ましい。
具体的には、多木化学社製、タキバイン＃１５００やＰＡＣ２５０Ａ等、浅田化学社製、ポリ水酸化アルミニウム（Ｐａｈｏ）、また、理研グリーン社製、ピュラケムＷＴ、などが挙げられる。これらの塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物は、特公平３−２４９０７号、同平３−４２５９１号、同２０００−３７９４６号、同２００２−８６８９３号、同２００３−２７６３１５号公報等にも記載されている。
上記した水溶性多価金属塩化合物の添加量は、無機微粒子に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましい。
【００２０】
シリカ微粒子と水溶性多価金属塩化合物の質量比は特に限定しないが、１００：０．１〜１５の範囲が好ましい。水溶性多価金属塩化合物の含有量が少なすぎると、分散液系全体のカチオン性が弱い、あるいは、分散液系全体がカチオン性にならない。すなわち、イオン交換水に分散して分散液とした際のゼータ電位が１０ｍV以下になる。その場合、分散しても短時間で再凝集するおそれがある。
一方、カチオン性化合物の含有量が多すぎると、インクジェット記録体に用いる場合、顔料に担持されない水溶性多価金属塩化合物が単体として存在、つまり、不純物として存在するおそれがある。
【００２１】
本発明に用いられるシランカップリング剤としては、特開２０００−２３３５７２号公報に記載されており、それらの中からカチオン性のものを用いることができる。シランカップリング剤の添加量は、無機微粒子に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましい。
【００２２】
シリカ微粒子をカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理するにあたり、分散媒としては、水系の分散媒を用いる。なお、本発明において水系の分散媒とは、水または水を主体とする分散媒を意味する。水系の分散媒には、少量の有機溶剤（エタノール等の低級アルコールや酢酸エチル等の低沸点溶剤）を含んでもよい。その場合、有機溶剤は全分散媒に対して２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましい。
【００２３】
シリカ微粒子をカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理するにあたり、機械的手段としては、ビーズミル、超音波ホモジナイザー、圧力式ホモジナイザー、液流衝突式ホモジナイザー、ナノマイザー、アルティマイザー、高速回転ミル、ローラミル、容器駆動媒体ミル、媒体撹拌ミル、ジェットミル、サンドグライダー等を用いることができる。
中でも、ビーズミル、超音波ホモジナイザー、圧力式ホモジナイザー、または液流衝突式ホモジナイザー、ナノマイザー、アルティマイザーを用いることが好ましい。特に不純物の混入を最小限に抑えられることから液流衝突式ホモジナイザー、ナノマイザー、アルティマイザーを用いることが好ましい。
【００２４】
（アルミニウム酸化物）
アルミニウム酸化物（アルミナ）としては、周知のように、約８種の変態が知られている。すなわち、一般にギブサイト、バイヤライトまたはベーマイトなどの水酸化アルミニウムの加熱によりχ→κ→α、γ→δ→θ→α、η→θ→α、ρ→η→θ→αまたは擬γ→θ→αの様に各種の中間アルミナを経てα−アルミナに遷移し、粒成長することが知られている（例えば電気化学、28巻，ｐ302，船木・清水；アルミナ水和物およびアルミナについて、アルミナ水和物の熱変化例参照）。
また、塩化アルミニウムや硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウムなどのアルミニウム塩の熱分解によっても無定形アルミナからγ−、δ−またはθ−などの中間アルミナを経てα−アルミナに遷移することがわかっている（例えば、鉱物学雑誌19巻1号ｐ21、ｐ41参照）。分散質となるアルミナは、実質的にγ、η、δ、ρ、χ、θ、κ、およびα−アルミナから選ばれた単一または複数の結晶からなる酸化アルミニウムである。
本発明においては、インクジェット紙として、透明性、光沢性、インク吸収性のバランスから、少なくともα、δ、θ、γ結晶を含むことが好ましい。
【００２５】
アルミニウム酸化物は、水系の分散媒中で機械的手段により粉砕処理することにより分散液とすることができる。機械的手段としては、上述のシリカ微粒子をカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理する際と同等の手段を採用できる。
分散媒中には、酢酸、硝酸、乳酸、塩酸等の酸を添加することが好ましい。これにより、効率よく分散させることができる。特に、特開平７−８９７１７号公報に記載されているように、酸の存在下に陽イオン交換樹脂と接触させながら分散させることが好ましい。
【００２６】
（アルミニウム酸化物の水和物）
アルミニウム酸化物の水和物（アルミナの水和物）としては、ギブサイト型、ベーマイト型、擬ベーマイト型、バイヤライト型、ジアスポア型の各種結晶型のものが挙げられるが、本発明においては、インクジェット紙として、透明性、光沢性、インク吸収性のバランスから、ギブサイト型、ベーマイト型、擬ベーマイト型であることが好ましい。
アルミニウム酸化物の水和物は、水系の分散媒中で分散、粉砕、解叩処理することにより分散液とすることができる。
【００２７】
（アニオン性化合物）
本発明の複合微粒子を構成するアニオン性化合物としては、カルボン酸系化合物、スルホン酸系化合物、リン酸系化合物、エステル系化合物、またはこれらの塩が挙げられる。中でもカルボン酸系化合物が好ましく、さらにポリマーまたはその塩がより好ましい。
本発明の複合微粒子を構成するアニオン性化合物は、単独の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００２８】
カルボン酸系化合物としては、炭素数が６以上、３０以下である脂肪酸、ダイマー酸等、及びそれらのナトリウム塩、カリウム塩のような金属塩類、それらのアンモニウム塩、アミン塩であればよい。
具体例としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、リンゴ酸、酒石酸、シクロプロパンジカルボン酸等の脂肪族飽和ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸等の脂肪族不飽和ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、カルボキシフェニル酢酸、カルボキシフェニルプロピオン酸、フェニレンジ酢酸等の芳香族ジカルボン酸、トリカルバリル酸、トリメリト酸等の３価以上のポリカルボン酸等が挙げられる。
イタコン酸またはその塩の具体的例としては、日本純薬社製、ジュリマーＡＣ−７０Ｎが挙げられる。
【００２９】
カルボン酸のポリマーまたはその塩としては、アクリル酸ホモポリマー、アクリル酸−マレイン酸共重合体、α−ヒドロキシアクリル酸ホモポリマー、Ｃ5オレフィン−マレイン酸共重合体、イソブチレン−マレイン酸共重合体等、及びこれらのアルカリ金属塩もしくはアンモニウム塩、アミン塩が好ましく、アクリル酸ホモポリマー、アクリル酸−マレイン酸共重合体であることが特に好ましい。
【００３０】
具体的には、花王社製、ポイズ540、ポイズ530、ポイズ521、ポイズ520、日本パーオキサイド社製、ペールプラック250、ペールプラック1200、ペールプラック5000、日本ゼオン社製、クインフロー540、クインフロー542、クインフロー543、クインフロー560、クインフロー640、クインフロー750、東亞合成社製アロンT-40(M)、クラレ社製イソバン06、イソバン04、イソバン600、日本触媒社製アクアリックDL100等が挙げられる。
【００３１】
スルホン酸系化合物の具体例としては、例えば、ジフェニルエーテルスルホン酸、ｎ−ブチルベンゼンスルホン酸等のアルキルベンゼンスルホン酸、アルキルスルホン酸、ｎ−アミルベンゼンスルホン酸、ｎ−オクチルベンゼンスルホン酸、ｎ−ドデシルベンゼンスルホン酸、ｎ−オクタデシルベンゼンスルホン酸、ｎ−ジブチルベンゼンスルホン酸、及びアルキルナフタレンスルホン酸、ｉｓｏ−プロピルナフタレンスルホン酸、ドデシルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、無置換キナクリドン、ジメチルキナクリドン、ジクロロキナクリドン等を公知の方法により濃硫酸等と反応させることで合成できるキナクリドンスルホン酸類、等が挙げられる。また、それらのナトリウム塩、カリウム塩のような金属塩類、それらのアンモニウム塩などが挙げられる。
【００３２】
スルホン酸のポリマーまたはその塩としては、スチレンスルホン酸ポリマー及びこのアルカリ金属塩もしくはアンモニウム塩、アミン塩があり、具体的には、ライオン社製、ポリティーＰＳ−１９００、特開２０００−２２６４１６号公報に記載のスルホン酸基を有するポリマーが挙げられる。
【００３３】
エステル系化合物の具体例としては、アルキル硫酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキル硫酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸、トリスチレン化フェノール硫酸エステル、ポリオキシアルキレンジスチレン化フェノール硫酸エステル、酢酸ビニル，アクリル酸メチル，アクリル酸エチル，アクリル酸プロピル，アクリル酸ブチル，アクリル酸ヘキシル，アクリル酸オクチル，アクリル酸ラウリル，アクリル酸ベンジル，アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル，メタクリル酸メチル，メタクリル酸エチル，メタクリル酸プロピル，メタクリル酸ブチル，メタクリル酸ヘキシル，メタクリル酸オクチル，メタクリル酸ラウリル，メタクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル，フマル酸メチル，フマル酸エチル，フマル酸プロピル，フマル酸ブチル，フマル酸ジメチル，フマル酸ジエチル，フマル酸ジプロピル，フマル酸ジブチル，マレイン酸メチル，マレイン酸エチル，マレイン酸プロピル，マレイン酸ブチル，マレイン酸ジメチル，マレイン酸ジエチル，マレイン酸ジプロピル，マレイン酸ジブチル、アルキルリン酸エステル、ポリオキシアルキレンリン酸エステルなどが挙げられる。また、それらのナトリウム塩、カリウム塩のような金属塩類、それらのアンモニウム塩などが挙げられる。
【００３４】
（質量比等）
本発明の複合粒子は、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負である。カチオン性微粒子とアニオン性化合物の質量比は特に限定しないが、１００：１〜５０の範囲が好ましく、更に好ましくは１００：２〜３０である。
【００３５】
アニオン性化合物の含有量が少なすぎると、分散液系全体のアニオン性が弱い、あるいは、分散液系全体がアニオン性にならない。すなわち、イオン交換水に分散して分散液とした際のゼータ電位が−１０ｍVより大きくなる。その場合、分散しても短時間で再凝集するおそれがある。
【００３６】
一方、アニオン性化合物の含有量が多すぎると、インクジェット記録体に用いる場合、顔料に担持されないアニオン性化合物が単体として存在、つまり、不純物として存在するおそれがある。
【００３７】
カチオン性微粒子の平均粒子径（二次粒子の場合は、二次粒子径）は、１０〜８００ｎｍであることが好ましく、１５〜５００ｎｍであることがより好ましい。また、複合微粒子の平均粒子径（二次粒子の場合は、二次粒子径）は、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１５〜８００ｎｍであることがより好ましい。
本発明の複合粒子は、分散液の状態で用いることが好ましい。ただし、分散媒を除去して、粉体の状態で用いることもできる。
【００３８】
［分散液］
本発明の分散液は、本発明の複合微粒子を水系の分散媒に分散させたものである。分散液中の複合微粒子のゼータ電位は−１０〜−１５０ｍＶであることが好ましく、−２０〜−１２０ｍＶであることがより好ましい。
負の絶対値を１０ｍＶ以上とすることにより、アニオン性化合物との共存がより容易となる。
【００３９】
［分散液の製造方法］
本発明の分散液の製造方法は、カチオン性微粒子とアニオン性化合物とを水系の分散媒中で混合して凝集物を形成させる凝集工程と、
該凝集物を前記分散媒中で機械的手段により粉砕する粉砕工程を有することを特徴とする。
【００４０】
（凝集工程）
凝集工程では、カチオン性微粒子とアニオン性化合物とを水系の分散媒中で混合する。具体的には、アニオン性化合物にカチオン性微粒子の分散液を添加、あるいは、カチオン性微粒子の分散液にアニオン性化合物を添加するという手順である。
【００４１】
（分散工程）
分散工程では、凝集工程で形成された凝集物を水系の分散媒中で機械的手段により粉砕する。機械的手段としては、上述のシリカ微粒子をカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理する際と同等の手段を採用できる。
【００４２】
［インクジェット記録体］
本発明のインクジェット記録体の具体的な構成に特に限定はなく、例えば、支持体上にインク受容層が一層または多層形成されたものとすることができる。また、インク受容層の上にさらに光沢層が形成されたものとすることができる。
本発明のインクジェット記録体は、本発明の複合微粒子を含有する塗工層が設けられたものである。この本発明の複合微粒子を含有する塗工層は、上記インク受容層の全部または一部であってもよいし、光沢層であってもよい。なかでも、最表層（記録面側）に当該塗工層が存在することが好ましく、特に光沢層として存在することが好ましい。
【００４３】
本発明の複合微粒子を含有する塗工層の塗料は、カチオン性微粒子の顔料系インク使用時の耐擦過性が強いという性質を有しながら、アニオン性化合物も共存させることができ、同時多層塗工装置、例えば、複数個の塗布液供給口を有する多層式スロットダイコーター、多層式スライドビードコーター、及び多層式カーテンダイコーターで塗工する際に、アニオン性微粒子を有する塗工層の塗料との凝集による塗工不良を発生させることなく塗工することも可能なので、任意の塗工方法で、様々な要請に応じた塗工層を任意に設計することが可能である。
中でも、最表層に当該塗工層を利用すると、顔料系インク使用時の耐擦過性に優れたインクジェット記録体とすることかできる。
さらに、最表層が光沢層であれば、アニオン性の離型剤を共存させることができるので、光沢層形成時に優れた離型性も備えることができ、高品質の光沢層を容易に形成できる。
光沢層に本発明の複合微粒子を利用する場合の好ましい構成は、支持体上にインク受容層が設けられた基材に、光沢層が形成されたものである。この場合、支持体とインク受容層の間に架橋剤含有層を設けることもできる。以下に、この好ましい構成について詳述する。
【００４４】
（支持体）
支持体としては、銀塩写真並みの光沢を得ることができることから、非透気性支持体又は低透気性支持体を用いることが好ましい。支持体として非透気性支持体又は低透気性支持体を用いれば、インク中の溶媒の浸透を防止できるので、コックリングを抑えることができる。その結果、印字物の外観を良好にできる上に、コックリングした記録体と記録ヘッドとの接触による記録用紙の汚損や破れ又は記録ヘッドの故障を防止することができる。
これに対し、紙基材などの透気性支持体を用いた場合には、印字した際にインク中に含まれる水分等の溶媒の影響で支持体が伸びて波打ってコックリングが生じることがあるが、本発明における支持体が透気性支持体であっても差し支えない。
【００４５】
低透気性支持体又は非透気性支持体とは、透気度が５００秒以上、好ましくは１０００秒以上である支持体を意味する。透気性は、一般に、紙や不織布などの多孔性を評価する項目として知られている透気度によって表される。透気度は、空気１００ｍｌが面積６４５ｍｍ２の試験片を通過するのに要する時間で表され、ＪＩＳ Ｐ ８１１７（紙及び板紙の透気度試験方法）に規定されている。
【００４６】
具体的な低透気性支持体又は非透気性支持体としては、例えば、セロハン、ポリエチレン、ポリプロピレン、軟質ポリ塩化ビニル、硬質ポリ塩化ビニル、ポリエステル等のフィルム類が挙げられる。また、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンで紙などの基材表面を被覆した樹脂被覆紙、金属フォイル、ポリプロピレンを延伸し、特殊加工を施した合成紙などのシート類が例示される。支持体は、その上に形成されるインク受容層や光沢層の形成方法、或いは、使用される用途などに応じて、上記例示のものの中から適宜選択される。
上記支持体の中でも、写真調のインクジェット記録体にするためには、合成紙、樹脂被覆紙が好ましく、とりわけ、酸化チタンを練り込んだ樹脂被覆紙、所謂ＲＣ紙からなる支持体は、仕上がった外観が写真印画紙と同等であるため、特に好ましく用いられる。
合成紙としては、炭酸カルシウムなどの無機顔料を含有するポリプロピレン樹脂を押出し、二軸延伸して得られる合成紙が好ましく、表面に凹凸のないスキン層を有する合成紙が特に好ましい。
【００４７】
支持体が、ポリエチレン層が基材を被覆した樹脂被覆紙の場合、ポリエチレン層の塗工量は、３〜５０ｇ／ｍ２が好ましく、５〜３０ｇ／ｍ２がより好ましい。ポリエチレン層の塗工量が３ｇ／ｍ２未満の場合は、樹脂被覆時にポリエチレンの穴等の欠陥が多くなりやすく、厚みのコントロールに困難がある場合が多く、平滑性も得にくくなる。逆に５０ｇ／ｍ２を超えると、コストが増加する割には、得られる効果が小さく、不経済である。
また、インク受容層との接着性を高めるために、樹脂層表面にコロナ放電処理を施したり、アンカーコート層を設けたりすることが好ましい。
【００４８】
また、樹脂被覆紙の基材として紙を用いる場合、紙基材としては、木材パルプを主材料として製造されたものが好ましく用いられる。木材パルプは、各種化学パルプ、機械パルプ、再生パルプ等を適宜使用することができ、これらのパルプは紙力や平滑性、抄紙適性等を調整するために、叩解機により叩解度を調整できる。叩解度は、特に限定されないが、一般に２５０〜５５０ｍｌ（ＣＳＦ：ＪＩＳ−Ｐ−８１２１）程度が好ましい範囲である。またいわゆるＥＣＦ、ＴＣＦパルプ等の塩素フリーパルプも好ましく使用できる。また、必要に応じて、木材パルプに顔料を添加することができる。顔料としては、タルク、炭酸カルシウム、クレー、カオリン、焼成カオリン、シリカ、ゼオライト等が好ましく使用される。顔料の添加により、不透明性や平滑度を高めることができるが、過剰に添加すると、紙力が低下する場合があるから、顔料の添加量は、対木材パルプ１〜２０質量％程度が好ましい。
【００４９】
なお、支持体は、蛍光染料、蛍光顔料などの蛍光増白剤により色目が調節されたものであってもよいし、帯電防止層が設けられたものであっても構わない。また、支持体は透明であってもよいし不透明であってもよい。
【００５０】
（インク受容層）
インク受容層は、支持体上に形成されている層であって、主としてインク中の染料や顔料の色素を固定するとともに、インク中の溶媒を吸収する層である。
インク受容層は一層であってもよいし多層であってもよい。インク受容層の少なくとも一層は、顔料等の微粒子と接着剤とを含有することが好ましい。
【００５１】
微粒子としては、例えば、コロイダルシリカ、無定形シリカ、酸化チタン、硫酸バリウム、カオリン、クレー、焼成クレー、酸化亜鉛、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、アルミナ、コロイダルシリカ、ゼオライト（天然ゼオライト、合成ゼオライト）、セピオライト、スメクタイト、合成スメクタイト、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、珪藻土、スチレン系プラスチックピグメント、ハイドロタルサイト、尿素樹脂系プラスチックピグメント、ベンゾグアナミン系プラスチックピグメント等の透明又は白色の微粒子などが挙げられ、１種もしくはそれ以上を併用することができる。
【００５２】
接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、カチオン変性ＰＶＡ、シリル変性ＰＶＡ等の変性ＰＶＡなどのＰＶＡ類、ポリビニルアセタール、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドなどの水溶性樹脂や、カゼイン、大豆タンパク、合成タンパク質類、デンプン、カルボキシメチルセルロースやメチルセルロースなどのセルロース誘導体、あるいは、例えば、（メタ）アクリル酸エステルの（共）重合体、スチレン樹脂、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、エポキシ系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸（共）重合体、メラミン系樹脂、尿素系樹脂又はオレフィン系樹脂などのような、一般に塗布紙分野で公知公用の各種接着剤が挙げられる。また、感温点以下の温度領域では親水性を示し、感温点より高い温度領域では疎水性を示す感温性高分子化合物なども使用できる。これらは、適宜併用することもできる。
【００５３】
また、インク受容層にはカチオン性化合物が含まれていることが好ましい。カチオン性化合物としては、例えば、１）ポリエチレンポリアミンやポリプロピレンポリアミンなどのポリアルキレンポリアミン類またはその誘導体、２）第２級アミノ基、第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を有するアクリル重合体、３）ポリビニルアミンおよびポリビニルアミジン類、４）ジシアンジアミド・ホルマリン共重合体に代表されるジシアン系カチオン性化合物、５）ジシアンジアミド・ポリエチレンアミン共重合体に代表されるポリアミン系カチオン性化合物、６）エピクロルヒドリン・ジメチルアミン共重合体、７）ジアリルジメチルアンモニウム−ＳＯ２重縮合体、８）ジアリルアミン塩・ＳＯ２重縮合体、９）ジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体、１０）ジアリルジメチルアンモニウムクロライド−アクリルアミド共重合体、１１）アリルアミン塩の共重合体、１２）ジアルキルアミノエチル（メタ）アクリレート４級塩共重合体、１３）アクリルアミド・ジアリルアミン共重合体、１４）５員環アミジン構造を有するカチオン性樹脂等の公知のカチオン性化合物等が例示される。
中でも、５員環アミジン構造を有するポリビニルアミン共重合物４級アンモニウム塩酸塩、ポリアリルアミンの一部または全部の塩酸塩、アミノ基の一部がメトキシカルボニル変性されたポリアリルアミンの一部または全部の塩酸塩はインク吸収性光沢性、画像の鮮明性に優れているので好ましい。
【００５４】
また、インク受容層の接着剤がＰＶＡ類の場合、インク受容層中に架橋剤を適宜添加してもよい。これにより、インク受容層の塗工量を増やすことができる。
ＰＶＡ類の架橋剤としては、例えば、ホウ素化合物、ジルコニウム化合物、アルミニウム化合物、クロム化合物等の多価金属化合物、エポキシ化合物、グリシジル化合物、ジヒドラジド化合物、アルデヒド化合物、アミン化合物、メチロール化合物等が挙げられる。これらの架橋剤の中でも、増粘またはゲル化の進行が速いことから、ホウ素化合物が好ましく、硼酸および／または硼砂がより好ましい。
硼酸としては、オルト硼酸、メタ硼酸、次硼酸、四硼酸、五硼酸等が挙げられる。硼酸の中では、オルト硼酸と四硼酸二ナトリウムが好ましい。硼砂とは、ナトリウムの含水硼酸塩鉱物であり、その組成はＮａ２Ｂ４Ｏ７・10Ｈ2Ｏである。実質的にはＮａ２Ｂ4Ｏ７（四硼酸二ナトリウム）が架橋剤成分である。
【００５５】
また、インク受容層には、必要に応じて、一般的に塗工紙の製造において使用される各種顔料、分散剤、増粘剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の保存性向上剤、界面活性剤、消泡剤、着色剤、蛍光増白剤、帯電防止剤、防腐剤等の各種助剤を適宜添加してもよい。
【００５６】
（架橋剤含有層）
インク受容層の接着剤がＰＶＡ類の場合、支持体とインク受容層の間に架橋剤、増粘剤および界面活性剤を有する架橋剤含有層を設けることが出来る。これにより、インク受容層の塗工量を増やすことができる。
【００５７】
ＰＶＡ類の架橋剤としては、上記インク受容層中に添加する場合と同様に、ホウ素化合物、ジルコニウム化合物、アルミニウム化合物、クロム化合物等の多価金属化合物、エポキシ化合物、グリシジル化合物、ジヒドラジド化合物、アルデヒド化合物、アミン化合物、メチロール化合物等が挙げられる。これらの架橋剤の中でも、増粘またはゲル化の進行が速いことから、ホウ素化合物が好ましく、硼酸および／または硼砂がより好ましい。
硼酸としては、オルト硼酸、メタ硼酸、次硼酸、四硼酸、五硼酸等が挙げられる。硼酸の中では、オルト硼酸と四硼酸二ナトリウムが好ましい。
【００５８】
増粘剤は、これを添加することにより架橋剤含有層用塗布液の粘度が増大するものであればよく、特に限定されないが、例えば、ゼラチン、バイオガム、セルロース誘導体、グアーガム類、アルギン酸ソーダ、ポリアクリル酸等が挙げられる。
【００５９】
バイオガムとしては、例えば、キサンタンガム、ウエランガム、ジェランガム等が挙げられる。セルロース誘導体としては、例えば、カチオン化セルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルセルロース等が挙げられる。グアーガム類としては、例えば、グアーガム、ヒドロキシプロピル化グアーガム、カチオン化グアーガム等が挙げられる。
【００６０】
セルロース誘導体は、増粘効果が比較的高く、ゲル化強度が比較的低いというバランスの点で優れており好ましい。セルロース誘導体の重合度は、架橋剤含有層用塗布液の粘度調製が比較的容易である点で５００〜２０００が好ましく、８００〜１８００がより好ましい。
【００６１】
増粘剤によって、架橋剤含有層用塗布液の粘度を所定の範囲となるように調整できる。架橋剤含有層用塗布液の粘度の所定の範囲としては、４〜５００ｍＰａ・ｓが好ましい。
架橋剤含有層における増粘剤の含有量に特に限定はないが、少量の添加で所定の粘度に達する場合は、粘度調整が難しいため好ましくない。一方、増粘剤の添加量が多すぎると架橋剤の効果を阻害するため好ましくない。したがって、架橋剤に対して1〜１００質量％の範囲内で増粘剤を含有することが好ましい。換言すれば、1〜１００質量％の範囲内の含有量で所定の粘度とできる増粘剤を用いることが好ましい。
【００６２】
架橋剤含有層は、界面活性剤を含有することにより、支持体表面に塗工する際におけるハジキが抑えられ、塗工面が均一な架橋剤含有層とすることができる。
界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤が挙げられる。
【００６３】
アニオン系界面活性剤としては、硫酸エステル塩系、スルホン酸塩系、リン酸エステル塩系等が挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、例えば、アミン塩系、４級アンモニウム塩系等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、例えば、アセチレングリコール系、ポリエチレングリコール系、多価アルコール系、等が挙げられる。これらの中でも、アセチレングリコール系界面活性剤は、界面活性効果が高い一方、消泡性を有しているため好ましい。
【００６４】
架橋剤含有層中の界面活性剤の含有量は、架橋剤に対して０．００１〜１０質量％であることが好ましい。界面活性剤の含有量が０．００１質量％未満でも、１０質量％を超えても、支持体表面に塗工する際に塗布液のハジキが発生するので好ましくない。
【００６５】
架橋剤含有層には、架橋剤の効果を阻害しない限り、ポリビニルアセタール、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドなどの水溶性樹脂や、カゼイン、大豆タンパク、合成タンパク質類、デンプン、カルボキシメチルセルロースやメチルセルロースなどのセルロース誘導体、あるいは、例えば、（メタ）アクリル酸エステルの（共）重合体、スチレン樹脂、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、エポキシ系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸（共）重合体、メラミン系樹脂、尿素系樹脂又はオレフィン系樹脂などのような、一般に塗布紙分野で公知公用の各種接着剤を適宜含有してもよい。また、必要に応じて、一般的に塗工紙の製造において使用される各種顔料、分散剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の保存性向上剤、消泡剤、着色剤、蛍光増白剤、帯電防止剤、防腐剤等の各種助剤を添加することもできる。
【００６６】
（光沢層）
光沢層には、本発明の複合微粒子およびアニオン性離型剤が含まれる。アニオン性離型剤の含有量は、微粒子１００質量部に対して１〜１５質量部であることが好ましい。このような範囲とすることで、光沢層形成時に光沢ロールからより剥離しやすくなる。
【００６７】
微粒子としては、本発明の効果を損なわない範囲で、他のアニオン性微粒子を含有してもよい。例えば、コロイダルシリカ、気相法シリカ、カオリン、焼成カオリン等の透明または白色顔料が例示される。これらの中でも、コロイダルシリカ、気相法シリカは、優れた光沢が得られるので好ましい。
【００６８】
アニオン性離型剤としては、ステアリン酸、オレイン酸、パルミチン酸等の脂肪酸等、及びこれらのアルカリ金属塩もしくはアンモニウム塩、アミン塩が挙げられる。
中でも、下式（１）で表される化合物を使用することが好ましい。
【００６９】
【化１】
【００７０】
ただし、式（１）中、Ｒ１は炭素数８〜２８のアルキル基又はアルケニル基を表し、例えば、オレイル基、ステアリル基、ラウリル基、パルミチル基、ミリスチル基などが挙げられる。これらの中でも、離型性が長時間保たれることから、オレイル基、ステアリル基が好ましい。
Ｒ２〜Ｒ５は、Ｈ又は炭素数１〜４のアルキル基（すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基）を表し、中でも、Ｈが好ましい。また、Ｒ２〜Ｒ５はそれぞれ同じであってもよいし異なっていてもよいが、Ｒ２〜Ｒ４がいずれも同じであることが好ましい。
上記式（１）の離型剤は、特に離型性が良好で且つインク吸収性を阻害しない、優れた離型剤である。
【００７１】
式（１）の具体例として、オレイン酸アンモニウム、ステアリン酸アンモニウム、ラウリン酸アンモニウム、パルミチン酸アンモニウム、ミリスチン酸アンモニウム、オレイン酸テトラメチルアンモニウム、ステアリン酸テトラメチルアンモニウム、ラウリン酸テトラメチルアンモニウム、パルミチン酸テトラメチルアンモニウム、ミリスチン酸テトラメチルアンモニウム、オレイン酸テトラエチルアンモニウム、ステアリン酸テトラエチルアンモニウム、ラウリン酸テトラエチルアンモニウム、パルミチン酸テトラエチルアンモニウム、ミリスチン酸テトラエチルアンモニウム、オレイン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム、ステアリン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム、ラウリン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム、パルミチン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム、ミリスチン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム等が挙げられる。
これらの中でも、離型性が特に優れる点で、オレイン酸アンモニウムが好ましい。
【００７２】
光沢層には、インク吸収性を阻害しない限り、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、カチオン変性ＰＶＡ、シリル変性ＰＶＡ等の変性ＰＶＡなどのＰＶＡ類、カルボン酸系化合物、スルホン酸系化合物、リン酸系化合物、エステル系化合物、またはこれらの塩などのアニオン性化合物、ポリビニルアセタール、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドなどの水溶性樹脂や、カゼイン、大豆タンパク、合成タンパク質類、酸化でんぷん、エステル化デンプン等のデンプン類、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルセルロース等などのセルロース誘導体、グアーガム類、（メタ）アクリル酸エステルの（共）重合体、スチレン樹脂、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、エポキシ系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸（共）重合体、メラミン系樹脂、尿素系樹脂又はオレフィン系樹脂などのような、一般に塗布紙分野で公知公用の各種添加剤接着剤を適宜含有してもよい。
各種添加剤の中でも、カルボン酸系化合物、スルホン酸系化合物、リン酸系化合物、エステル系化合物、またはこれらの塩などのアニオン性化合物、カゼイン、大豆タンパク、合成タンパク質類、酸化でんぷん、エステル化デンプン等のデンプン類、セルロース誘導体、エチレン−酢酸ビニル共重合体は、鏡面ロールからの離型性がよいので好ましい。
また、必要に応じて、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の保存性向上剤、界面活性剤、消泡剤、帯電防止剤、防腐剤、着色剤、蛍光増白剤、分散剤、増粘剤等の各種助剤を添加することもできる。
【００７３】
［インクジェット記録体の製造方法］
支持体上にインク受容層が設けられた基材に、本発明の複合微粒子を含む光沢層が形成されたインクジェット記録体の製造方法について、図１を参照しつつ説明する。係る構成のインクジェット記録体の製造方法では、まず、支持体１１上にインク受容層１２を設けてなる基材１０を用意する。
【００７４】
（基材の作成）
支持体１１上にインク受容層１２が設けられた基材１０を得るには、溶媒中に、上述したインク受容層の成分を分散させた塗布液を支持体に塗工し、乾燥させる。インク受容層１２用の塗布液の溶媒としては、特に限定はないが、塗工適性などの理由で、水が好ましい。
インク受容層１２の塗工量の合計は、５〜７０ｇ／ｍ２が好ましく、１０〜５０ｇ／ｍ２がより好ましく、１５〜４０ｇ／ｍ２が更に好ましい。また、塗工層の厚みの合計は、７〜１０５μｍが好ましく、１５〜７５μｍがより好ましく、２２〜６０μｍがさらに好ましい。塗工量が５ｇ／ｍ２未満の場合、光沢層が十分に形成できない可能性があるのみならず、インク吸収性が低下し、記録適性が劣る場合があり、塗工量が７０ｇ／ｍ２を超えると、塗工層の強度が低下し、記録用紙の断裁加工時や、プリンタでの記録体の搬送時に、トラブルを起こしやすくなるおそれがある。
塗工工程は１回でもよく、また、複数回行ってもよい。塗工工程を複数回行うと、インク受容層を多層とすることもできる。また、塗布液を複数回に分けて塗工することで、ひび割れの発生を抑制しながら多くの塗布液を塗工することができ、インク受容層のインク吸収容量を大きくすることができる。
【００７５】
インク受容層１２の接着剤がＰＶＡ類の場合、インク受容層１２に架橋剤を添加することにより、ひび割れを抑制しながらインク受容層１２の塗工量を増すことができ、インク受容層１２のインク吸収容量を大きくすることができる。
この場合、あらかじめ、インク受容層１２用の塗布液中に架橋剤とを混合すると、時間の経過とともにＰＶＡ類と架橋剤との反応による塗布液の粘度上昇が起こり、きれいなインク受容層を形成できない可能性がある。このため、インク受容層１２用の塗布液に架橋剤を添加する場合は、塗布液を、ＰＶＡ類成分を含む液と、架橋剤成分を含む液との少なくとも２液、必要に応じて複数の液に分けておき、塗工時に連続混合して塗布液を供給、塗工することが好ましい。
連続混合で均一に混合するために、それぞれの液をタンク（釜）に供給しながら攪拌機で攪拌してもよいが、攪拌の強さによっては塗布液中に空気を巻き込み泡が発生し、インク受容層のひび割れの原因となる場合がある。塗布液中に泡を発生させることなく均一に混合するには、インライン型の回転式ミキサー等の動的連続混合機、スタティックミキサー等の静的連続混合機等の混合機を用いることが好ましい。
また、インク受容層１２を多層とし、その多層の間に架橋剤の水溶液を塗布することによって、インク受容層１２に架橋剤を添加することもできる。
【００７６】
インク受容層１２の塗工装置としては、ブレードコーター、エアナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーター、スプレーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、リンプコーター、スライドビードコーター、多層式スロットダイコーター、多層式スライドダイコーター、及び多層式カーテンダイコーター等、各種公知の塗工装置が利用できる。特に、ダイコーターやカーテンコーター、スライドビードコーター、多層式スロットダイコーター、多層式スライドダイコーター、及び多層式カーテンダイコーターは、塗工量の均一性に優れるため、特に高精細な記録を目的とする光沢タイプのインクジェット記録体には、好ましい塗工方法である。
塗膜の乾燥方法としては、特に限定はないが、従来から公知公用の熱風乾燥、ガスヒーター乾燥、高周波乾燥、電気ヒーター乾燥、赤外線ヒーター乾燥、レーザー乾燥、電子線乾燥等の各種加熱乾燥方式が適宜採用される。
【００７７】
また、インク受容層１２の接着剤がＰＶＡ類の場合、支持体１１とインク受容層１２の間に架橋剤含有層を形成してもよい。これにより、ひび割れを抑制しながらインク受容層１２の塗工量を増すことができ、インク受容層１２のインク吸収容量を大きくすることができる。
【００７８】
支持体１１とインク受容層１２の間に架橋剤含有層を形成するには、インク受容層１２の形成に先立ち、溶媒中に、上述した架橋剤含有層の含有成分を分散あるいは溶解させた塗布液を支持体に塗工し、乾燥させる。架橋剤含有層用の塗布液の溶媒としては、特に限定はないが、塗工適性などの理由で、水が好ましい。
架橋剤含有層の塗工量は、０．１〜３．０ｇ／ｍ２が好ましい。塗工量が０．１ｇ／ｍ２未満の場合、架橋剤含有層が十分に形成できない可能性があるのみならず、架橋剤としての効果が弱いため、インク受容層１２の塗工量を増やすことが出来ない場合がある。一方、塗工量が３．０ｇ／ｍ２を超えると、架橋剤含有層上にインク受容層１２の塗布液を塗工する際に、インク受容層１２の塗布液が塗工直後から架橋によって増粘し、塗工を行うのが難しくなるおそれがある。
【００７９】
架橋剤含有層の塗工装置としては、ブレードコーター、エアナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーター、スプレーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、リンプコーター、スライドビードコーター、多層式スロットダイコーター、多層式スライドダイコーター、及び多層式カーテンダイコーター等、各種公知の塗工装置が利用できる。
塗膜の乾燥方法としては、特に限定はないが、従来から公知公用の熱風乾燥、ガスヒーター乾燥、高周波乾燥、電気ヒーター乾燥、赤外線ヒーター乾燥、レーザー乾燥、電子線乾燥等の各種加熱乾燥方式が適宜採用される。
【００８０】
（光沢層の形成）
次に、基材１０のインク受容層１２上に光沢層３０を形成する。基材１０上に光沢層３０を形成するには、溶媒中に、上述した光沢層の成分を分散させた塗布液を基材１０にプレス塗工する。光沢層３０用の塗布液の溶媒としては、特に限定はないが、塗工適性などの理由で、水が好ましい。
【００８１】
塗布液のプレス塗工は、インク受容層１２に塗布された塗布液が湿潤状態又は半乾燥状態にあるうちに、基材１０を、光沢ロール２１とプレスロール２２との間を通過させてプレス塗工することにより行われる。
【００８２】
光沢ロール２１の表面温度は、乾燥条件等の操業性、インク受容層１２への密着性、光沢層表面の光沢性から、４０〜１３０℃の範囲が好ましく、７０〜１２０℃の範囲がより好ましい。光沢ロール２１の表面温度が、４０℃未満の場合は、インクジェット記録体の表面強度が低下するおそれや、インク受容層１２の接着剤が軟化し難く、インク受容層１２への密着性が悪化したりする。１３０℃を超える場合は、インク受容層１２の接着剤の成膜が進みすぎるためインク吸収性が低下したり、塗布液が沸騰し、光沢面が悪化するおそれがある。
光沢ロール２１は、耐熱性が高く、優れた鏡面性が得られることから、金属ロールであることが好ましい。また、表面の平均線中心粗さが１０μｍ以下であることが好ましい。
【００８３】
プレスロール２２の材質は特に制限されないが、光沢ロールによって加熱されることから、耐熱樹脂が好ましい。
プレスロール２２によるプレスは、光沢ロール２１とプレスロール２２の間の線圧が、好ましくは５０〜３５００Ｎ／ｃｍ、より好ましくは２００〜３０００Ｎ／ｃｍになるように行うことが好ましい。光沢ロール２１とプレスロール２２の間の線圧が、５０Ｎ／ｃｍ未満の場合は、線圧が均一になり難く光沢性が低下したり、光沢層のインク受容層１２に対する密着性が低下し、表面がひび割れたりするおそれがあり、３５００Ｎ／ｃｍを超える場合は、過度の圧力でプレスするためにインク受容層１２および光沢層の空隙を破壊するためにインク吸収性が低下するおそれがある。
【００８４】
光沢層の塗布量は、乾燥質量として、０．０１〜３ｇ／ｍ２が好ましく、０．０３〜２ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０５〜１ｇ／ｍ２が更に好ましい。塗布量が０．０１ｇ／ｍ２未満の場合は、十分な光沢層を形成することが困難なために、光沢度が低くなりやすい。また、塗布量が３ｇ／ｍ２を超えると、光沢度は得やすいが、インク吸収性や記録濃度が低下しやすい。
また、光沢層に微粒子としてコロイダルシリカやアルミナ等の一次粒子を用いる場合にはインク吸収速度が低くなりやすいため、光沢層の厚みが０．０２〜４μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがより好ましい。また、インク吸収容量とインク吸収速度との兼ね合いから、光沢層の厚みがインク受容層１２全体の厚みの１／１０以下であることが好ましく、１／２０以下であることがより好ましい。
【００８５】
なお、プレス塗工は、図１に示す方法で行わなくてもよい。すなわち、光沢ロール２１とプレスロール２２とを左右に並べて配置し、光沢ロール２１とプレスロール２２との接線の上部に塗布液溜まりを形成して、縦方向に基材１０を通過させたが、例えば、光沢ロールとプレスロールを上下に並べて配置し、インク受容層上に塗布液を供給して、横方向に積層体を通過させてもよい。
【００８６】
また、インク受容層、光沢層等の塗工層の形成方法は、上述のように塗布液を塗工する方法に限定されない。例えば、特開平１１−２５４８１７号公報に記載されているように、粉体状の塗工層成分を混合したものを乾式塗工し、これを加熱溶融して定着させることによっても形成できる。
【実施例】
【００８７】
以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、もちろんこれらに限定されるものではない。なお、例中の「部」および「％」は、特に断わらない限りそれぞれ質量部および質量％を示す。
【００８８】
［実施例１］
（紙支持体の作成）
ＣＳＦ（ＪＩＳ Ｐ ８１２１）が２５０ｍＬまで叩解した針葉樹晒クラフトパルプ（ＮＢＫＰ）と、ＣＳＦが２５０ｍＬまで叩解した広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ）とを、質量比２：８の割合で混合し、濃度０．５％のパルプスラリーを調製した。このパルプスラリー中に、パルプ絶乾質量に対し、カチオン化澱粉２．０％、アルキルケテンダイマー０．４％、アニオン化ポリアクリルアミド樹脂０．１％、ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリン樹脂０．７％を添加し、十分に攪拌して抄紙用パルプスラリーを調製した。上記組成のパルプスラリーを長網抄紙機で抄紙し、得られた湿紙をドライヤー、サイズプレス、マシンカレンダーを通し、坪量１８０ｇ／ｍ２、密度１．０ｇ／ｃｍ３の原紙を製造した。上記サイズプレス工程に用いたサイズプレス液は、カルボキシル変性ポリビニルアルコールと塩化ナトリウムとを２：１の質量比で混合し、これを水に加えて過熱溶解し、濃度５％に調製したものであり、このサイズプレス液を未サイズプレス原紙の両面に、合計で２５ｍｌ／ｍ２の塗布量になるように塗布して、サイズプレス原紙を作製した。
【００８９】
（ポリオレフィン樹脂組成物１の調製）
長鎖型低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９２６ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２０ｇ／１０分）３５部、低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９１９ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２ｇ／１０分）５０部、アナターゼ型二酸化チタン（商品名：Ａ−２２０、石原産業社製）１５部、ステアリン酸亜鉛０．１部、酸化防止剤（商品名：Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０、チバガイギー社製）０．０３部、群青（商品名：青口群青ＮＯ．２０００、第一化成社製）０．０９部、蛍光増白剤（商品名：ＵＶＩＴＥＸ ＯＢ、チバガイギー社製）０．３部を混合し、ポリオレフィン樹脂組成物１を調製した。
【００９０】
（ポリオレフィン樹脂組成物２の調製）
高密度ポリエチレン樹脂（密度０．９５４ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２０ｇ／１０分）６５部、低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９１９ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２ｇ／１０分）３５部を溶融混合し、ポリオレフィン樹脂組成物２を調製した。
【００９１】
（樹脂被覆した支持体の作成）
前記紙支持体の両面に、コロナ放電処理を施した後、バンバリーミキサーで混合分散したポリオレフィン樹脂組成物１を、紙支持体のフェルト面側に塗工量２０ｇ／ｍ２となるように、ポリオレフィン樹脂組成物２を、紙支持体のワイヤー側に、塗工量２５ｇ／ｍ２となるように、Ｔ型ダイを有する溶融押出し機（溶融温度３２０℃）で塗布し、フェルト面側を鏡面のクーリングロール、ワイヤー面側を粗面のクーリングロールで冷却固化して、平滑度（王研式、Ｊ．ＴＡＰＰＩ Ｎｏ．５）が６０００秒、不透明度（ＪＩＳ Ｐ ８１３８）が９３％の樹脂被覆した支持体を作製した。
【００９２】
（第２インク受容層用塗布液の調製）
湿式法合成非晶質シリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ７０３Ａ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）１００部、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１４５、重合度：４５００、ケン化度：９９％、クラレ社製）の７％水溶液５１部、水６部からなる組成物を混合攪拌して第２インク受容層用塗布液を調製した。
【００９３】
（第２インク受容層の塗工）
第２インク受容層用塗布液をダイコーターで乾燥塗工量が２０ｇ／ｍ２となるように、樹脂被覆した支持体上に、塗布乾燥して第２インク受容層を設けた。厚みは３０μｍであった。
【００９４】
（第１インク受容層用塗布液Ａの調製）
気相法シリカ（商品名：レオロシールＱＳ−３０、平均一次粒子径９ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、トクヤマ社製）をホモミキサーによりイオン交換水中において分散粉砕する工程と、その後に、ナノマイザー（商品名：ナノマイザー、ナノマイザー社製）を用いて粉砕分散する工程との組み合わせを繰り返し、得られた分散液を分級して、平均二次粒子径８０ｎｍの１０％分散液を調整した。この分散液のシリカ固形分換算１００部に、カチオン性化合物として、５員環アミジン構造を有するポリビニルアミン共重合体アンモニウム塩酸塩（商品名：ハイマックスＳＣ−７００Ｍ、分子量：３万、ハイモ社製）１１部（固形分換算）を添加し、増粘した凝集体分散液を得た。この増粘した凝集体分散液を、再度、ホモミキサーにより分散し、さらにナノマイザーを用いて、粉砕分散を繰り返し、平均二次粒子径が２００ｎｍの１０％カチオン化シリカ分散液を調製した。次いで、このカチオン化シリカ分散液１００部にポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１４５、重合度：４５００、ケン化度：９９％、クラレ社製）の７％水溶液２６部、水２２部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ａを調製した。
【００９５】
（第１インク受容層の塗工）
第２インク受容層に、０．５％硼砂水をバーコーターで２０ｇ／ｍ２塗布後、第１インク受容層用塗布液Ａをダイコーターで乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ２となるように、塗布乾燥して第１インク受容層を設けた。厚みは１８μｍであった。
【００９６】
（カチオン性顔料分散液１の調製）
ポリ塩化アルミニウム５０％水溶液（商品名：タキバイン＃１５００、多木化学社製）４０部をイオン交換水４００部で希釈して、攪拌しながら、３０℃に昇温した。次いで、アニオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：カタロイドＳＩ−５０、平均一次粒子径：２５ｎｍ、触媒化成工業社製）５００部をイオン交換水７００部で希釈した後、上記ポリ塩化アルミニウム水溶液に、１分あたり８部の割合で、攪拌しながら、添加した。添加後、温度を３５℃に保持して、1時間攪拌した。次いで、対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、２００ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返した後、イオン交換水を加え、平均粒子径が３５ｎｍの１６％カチオン性顔料分散液１を調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で１％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は５２．９ｍＶであった。
【００９７】
（複合微粒子分散液Ａの調製）
前記カチオン性顔料分散液１をイオン交換水で１０％に希釈し、この分散液４５９部を、アニオン性化合物アクリル酸−マレイン酸共重合体のナトリウム塩（商品名：ポイズ５２０、花王社製）５％水溶液８３部中に、攪拌しながら投入し、さらに１４部のイオン交換水を添加した後、ホモミキサー（回転速度：１５００ｒｐｍ）で３０分ほど分散した。その分散液を対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、１５０ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が４０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ａを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４０．０ｍＶであった。
【００９８】
（光沢層用塗布液Ａの調製）
複合微粒子分散液Ａ １６３部、オレイン酸アンモニウム（商品名：ＤＥＦ−１１６Ｔ、日新化学研究所社製）２部、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物（商品名：オルフィンＥ１００４、日信化学社製）７部、水８２７部からなる組成物を混合攪拌して光沢層用塗布液Ａを調製した。
【００９９】
（インクジェット記録体の作成）
樹脂被覆した支持体にインク受容層を設けた基材上に、光沢層用塗布液Ａを図１の装置を用いて、塗布し、同時に、表面温度１００℃としたクロム鍍金仕上げした鏡面ドラムに線圧２０００Ｎ／ｃｍで圧接し、直ちに鏡面ロールより離型し、ドライヤーで乾燥して光沢層を設け、インクジェット記録体を作製した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１００】
［実施例２］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｂを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作製した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１０１】
（複合微粒子分散液Ｂの調製）
前記カチオン性顔料分散液１をイオン交換水で１０％に希釈し、この分散液４６７部を、アニオン性化合物アクリル酸ホモポリマーのナトリウム塩（商品名：ポイズ５３０、花王社製）５％水溶液６５部中に、攪拌しながら投入し、さらに２３部のイオン交換水を添加した後、ホモミキサー（回転速度：１５００ｒｐｍ）で３０分ほど分散した。その分散液を対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、１５０ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が４０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｂを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５４．７ｍＶであった。
【０１０２】
（光沢層用塗布液Ｂの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｂを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｂを調製した。
【０１０３】
［実施例３］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｃを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１０４】
（カチオン性顔料分散液２の調製）
アニオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：カタロイドＳＩ−５０、平均一次粒子径：２５ｎｍ、触媒化成工業社製）をイオン交換水で２０％に希釈し、
この分散液５００部を、カチオン性化合物ジアリルアミン系重合物（商品名：ＰＡＳ−Ｈ−１０Ｌ、分子量：約２０万、４級アンモニウム、日東紡社製）５％水溶液１００部中に、攪拌しながら投入し、さらに１８部のイオン交換水を添加した後、ホモミキサー（回転速度：１５００ｒｐｍ）で３０分ほど分散した。その分散液を対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、１５０ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が３０ｎｍの１７％カチオン性顔料分散液２を調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で１％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は５５．１ｍＶであった。
【０１０５】
（複合微粒子分散液Ｃの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性顔料分散液２を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が３５ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｃを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４９．４ｍＶであった。
【０１０６】
（光沢層用塗布液Ｃの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｃを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｃを調製した。
【０１０７】
［実施例４］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｄを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１０８】
（複合微粒子分散液Ｄの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：スノーテックスＡＫ−Ｌ、平均一次粒子径：４５ｎｍ、日産化学工業社製）を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が５０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｄを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５３．７ｍＶであった。
【０１０９】
（光沢層用塗布液Ｄの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｄを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｄを調製した。
【０１１０】
［実施例５］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｅを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１１１】
（複合微粒子分散液Ｅの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４０００Ｃ、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が４０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｅを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５５．２ｍＶであった。
【０１１２】
（光沢層用塗布液Ｅの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｅを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｅを調製した。
【０１１３】
［実施例６］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｆを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１１４】
（複合微粒子分散液Ｆの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４００１、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が４０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｆを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４５．５ｍＶであった。
【０１１５】
（光沢層用塗布液Ｆの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｆを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｆを調製した。
【０１１６】
［実施例７］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｇを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１１７】
（カチオン性顔料分散液３の調製）
イオン交換水３１７５部に０．２％塩酸水溶液５００部を加え、攪拌しながら、γ結晶のアルミナ粉体（商品名：ＡＫＰ−Ｇ０１５、平均一次粒子径：１５ｎｍ、平均粒子径：２．４μｍ、住友化学社製）５００部を加え分散したのち、攪拌しながら８０℃に昇温した。次いで、攪拌しながら、強酸性陽イオン交換樹脂（商品名：バイオレックスＭＳ２−５０１、バイオラット社製）２５００部を徐々に添加し、８０℃に保持しながら、１０時間攪拌を行った。その後、室温まで冷却した後、イオン交換樹脂を取り除き、さらに、濃縮を行い、平均粒子径が１１０ｎｍの１２％カチオン性顔料分散液３を調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は５２．１ｍＶであった。
【０１１８】
（複合微粒子分散液Ｇの調製）
カチオン性顔料分散液１の１０％分散液４６７部のかわりに、カチオン性顔料分散液３の１０％分散液４５５部、アニオン性化合物アクリル酸ホモポリマーのナトリウム塩５％水溶液を６５部のかわりに、９１部、イオン交換水を２３部のかわりに、１０部を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が１２０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｇを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４３．７ｍＶであった。
【０１１９】
（光沢層用塗布液Ｇの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｇを１６３部を用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｇを調製した。
【０１２０】
［実施例８］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｈを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１２１】
（複合微粒子分散液Ｈの調製）
擬ベーマイトゾル（商品名：カタロイドＡＳ−３、平均一次粒子径：９ｎｍ、平均粒子径：２００ｎｍ、触媒化成工業社製）４６３部を、アニオン性化合物アクリル酸ホモポリマーのナトリウム塩の５％水溶液５９部中に、攪拌しながら投入し、さらに４９部のイオン交換水を添加した後、ホモミキサー（回転速度：１５００ｒｐｍ）で３０分ほど分散し、平均粒子径が３００ｎｍの７％複合微粒子分散液Ｈを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−３９．３ｍＶであった。
【０１２２】
（光沢層用塗布液Ｈの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｈを２１０部、水を８２７部のかわりに、７８１部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｈを調製した。
【０１２３】
［実施例９］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｉを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１２４】
（複合微粒子分散液Ｉの調製）
複合微粒子分散液Ｈを対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、１５０ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が１１０ｎｍの７％複合微粒子分散液Ｉを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４８．１ｍＶであった。
【０１２５】
（光沢層用塗布液Ｉの調製）
複合微粒子分散液Ｈを２１０部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｉを２１０部用いた以外は、実施例８の光沢層塗布液Ｈの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｉを調製した。
【０１２６】
［実施例１０］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｊを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１２７】
（カチオン性顔料分散液４の調製）
θ結晶６０％、γ結晶２０％、δ結晶２０％の気相法アルミナゾル（商品名：ＣＡＢ−Ｏ−ＳＰＥＲＳＥ ＰＧ ００３、平均一次粒子径：２０ｎｍ、平均粒子径：１５０ｎｍ、ＣＡＢＯＴ社製）を対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、２００ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が１００ｎｍの４０％カチオン性顔料分散液４を調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は６１．５ｍＶであった。
【０１２８】
（複合微粒子分散液Ｊの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性顔料分散液４を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が１０５ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｊを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５８．６ｍＶであった。
【０１２９】
（光沢層用塗布液Ｊの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｊを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｊを調製した。
【０１３０】
［実施例１１］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｋを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１３１】
（光沢層用塗布液Ｋの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｃを１２２部と複合微粒子分散液Ｇを４１部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｋを調製した。
【０１３２】
［実施例１２］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｌを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１３３】
（光沢層用塗布液Ｌの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｆを１２２部と複合微粒子分散液Ｇを４１部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｌを調製した。
【０１３４】
[実施例１３]
第１インク受容層用塗布液Ａのかわりに、下記第１インク受容層用塗布液Ｂを用いた以外は、実施例６と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。第１インク受容層の乾燥塗工量は１０ｇ／ｍ２、厚みは１８μｍであった。
【０１３５】
（第１インク受容層用塗布液Ｂの調製）
気相法シリカ（商品名：アエロジル３００、平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、日本アエロジル社製）１００部、５０モル％メトキシカルボニル変性ポリアリルアミン塩酸塩（質量平均分子量約１．５万）の２０％水溶液５０部と、イオン交換水４９７部とを混合した。これにより得られた混合物を攪拌装置により分散した後、ナノマイザーを用いて粉砕分散処理した。次いで、得られた処理液に、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１４５、クラレ社製、ケン化度９９％、平均重合度４，５００）の７％水溶液２８３部、水３６８部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ｂを得た。
【０１３６】
[実施例１４]
第１インク受容層用塗布液Ａのかわりに、下記第１インク受容層用塗布液Ｃを用いた以外は、実施例６と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。第１インク受容層の乾燥塗工量は１０ｇ／ｍ２、厚みは１７μｍであった。
【０１３７】
（第１インク受容層用塗布液Ｃの調製）
気相法シリカ（商品名：アエロジル３００、平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、日本アエロジル社製）１００部、５０モル％メトキシカルボニル変性ポリアリルアミン塩酸塩（質量平均分子量約１．５万）の２０％水溶液５０部と、イオン交換水４９７部とを混合した。これにより得られた混合物を攪拌装置により分散した後、ナノマイザーを用いて粉砕分散処理した。次いで、得られた処理液に、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２４５、クラレ社製、ケン化度８８％、平均重合度４，５００）の７％水溶液３４６部、水３４９部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ｃを得た。
【０１３８】
[実施例１５]
（架橋剤含有層用塗布液の調製）
５０℃の温水８７４部にカチオン化セルロース（商品名：ポイズＣ−１５０Ｌ、花王社製、平均重合度１，５００）１部を攪拌しながら投入し溶解した後、硼砂を５０部攪拌しながら投入し溶解した。さらに、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物（商品名：オルフィンＥ１００４、日信化学社製）の０．１％水溶液７５部を混合攪拌して架橋剤含有層用塗布液を調製した。
【０１３９】
（架橋剤含有層の塗工）
架橋剤含有層用塗布液をバーコーターで乾燥塗工量が１．２ｇ／ｍ２となるように、樹脂被覆した支持体上に塗布乾燥して架橋剤含有層を設けた。
【０１４０】
（第１インク受容層用塗布液Ｄの調製）
気相法シリカ（商品名：アエロジル３００、平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、日本アエロジル社製）１００部、５０モル％メトキシカルボニル変性ポリアリルアミン塩酸塩（質量平均分子量約１．５万）の２０％水溶液５０部と、イオン交換水４９７部とを混合した。これにより得られた混合物を攪拌装置により分散した後、ナノマイザーを用いて粉砕分散処理した。次いで、得られた処理液に、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２４５、クラレ社製、ケン化度８８％、平均重合度４，５００）の８％水溶液３０２部、水９部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ｄを得た。
【０１４１】
（第１インク受容層の塗工）
架橋剤含有層を設けた、樹脂被覆した支持体上に、第１インク受容層用塗布液Ｄをダイコーターで乾燥塗工量が３０ｇ／ｍ２となるように、塗布乾燥して第１インク受容層を設けた。厚みは５１μｍであった。
【０１４２】
（インクジェット記録体の作成）
樹脂被覆した支持体に、架橋剤含有層及びインク受容層を順次設けた基材上に、上記光沢層用塗布液Ｆを図１の装置を用いて、塗布し、同時に、表面温度１００℃としたクロム鍍金仕上げした鏡面ドラムに線圧２０００Ｎ／ｃｍで圧接し、直ちに鏡面ロールより離型し、ドライヤーで乾燥して光沢層を設け、インクジェット記録体を作製した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１４３】
[実施例１６]
（第１インク受容層用塗布液Ｅの微粒子成分液の調製）
気相法シリカ（商品名：アエロジル３００、平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、日本アエロジル社製）１００部、５０モル％メトキシカルボニル変性ポリアリルアミン塩酸塩（質量平均分子量約１．５万）の２０％水溶液５０部と、イオン交換水４９７部とを混合した。これにより得られた混合物を攪拌装置により分散した後、ナノマイザーを用いて粉砕分散処理した。次いで、得られた処理液に水７６部を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ｅの微粒子成分液を得た。
【０１４４】
（第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液の調製）
ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２３５、クラレ社製、ケン化度８８％、平均重合度３，５００）の７％水溶液３４６部、水６８部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液を得た。
【０１４５】
（第１インク受容層用塗布液Ｅの架橋剤成分液の調製）
５０℃の温水１０１部に硼酸を２部攪拌しながら投入、溶解し第１インク受容層用塗布液Ｅの架橋剤成分液を調製した。
【０１４６】
（第１インク受容層用塗布液Ｅの調製）
第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液、第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液、第１インク受容層用塗布液Ｅの架橋剤成分液を下記の質量比率でスタティックミキサーに連続供給して混合し、第１インク受容層用塗布液Ｅを調製した。スタティックミキサーは、１８エレメントを２本接続し使用した。
（各成分液の質量比率）
第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液 ７
第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液 ４
第１インク受容層用塗布液Ｅの架橋剤成分液 １
【０１４７】
（第１インク受容層の塗工）
樹脂被覆した支持体上に、第１インク受容層用塗布液Ｅをダイコーターで乾燥塗工量が２３ｇ／ｍ２となるように、塗布乾燥して第１インク受容層を設けた。厚みは３９μｍであった。
【０１４８】
（インクジェット記録体の作成）
樹脂被覆した支持体にインク受容層を設けた基材上に、上記光沢層用塗布液Ｆを図１の装置を用いて、塗布し、同時に、表面温度１００℃としたクロム鍍金仕上げした鏡面ドラムに線圧２０００Ｎ／ｃｍで圧接し、直ちに鏡面ロールより離型し、ドライヤーで乾燥して光沢層を設け、インクジェット記録体を作製した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１４９】
[実施例１７]
第１インク受容層用塗布液Ｄのかわりに、上記第１インク受容層用塗布液Ｅを用いた以外は、実施例１５と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。第１インク受容層の乾燥塗工量は３２ｇ／ｍ２、厚みは５４μｍであった。
【０１５０】
[実施例１８]
光沢層用塗布液Ｆのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｘを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１５１】
（カゼイン溶液の調製）
５０℃の温水２２６部に２７％アンモニア水溶液４部を混合攪拌した後、カゼイン（商品名：ラクチックカゼイン、ニュージーランド産）４０部４０部をさらに混合攪拌してカゼイン溶液を調製した。
【０１５２】
（光沢層用塗布液Ｘの調製）
複合微粒子分散液Ｆ ４４６部、オレイン酸アンモニウム（商品名：ＤＥＦ−１１６Ｔ、日新化学研究所社製）５部、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物（商品名：オルフィンＥ１００４、日信化学社製）２０部、上記カゼイン溶液２７部、水２５０２部からなる組成物を混合攪拌して光沢層用塗布液Ｘを調製した。
【０１５３】
［比較例１］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｍを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１５４】
（光沢層用塗布液Ｍの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、アニオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：スノーテックスＯＬ、平均一次粒子径：４５ｎｍ、日産化学工業社製）を７０部、水を８２７部用いるかわりに、９２１部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｍを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５１．９ｍＶであった。
【０１５５】
［比較例２］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｎを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１５６】
（光沢層用塗布液Ｎの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部のかわりに、アニオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４０００Ａ、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）を３７部、水を８２７部のかわりに、９５４部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｎを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５１．６ｍＶであった。
【０１５７】
［比較例３］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｏを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１５８】
（光沢層用塗布液Ｏの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部のかわりに、アニオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：カタロイドＳＩ−４５Ｐ、平均一次粒子径：４５ｎｍ、触媒化成工業社製）を３６部、水を８２７部のかわりに、９５５部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｏを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４５．１ｍＶであった。
【０１５９】
［比較例４］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｐを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６０】
（光沢層用塗布液Ｐの調製）
カチオン性顔料分散液１ ８９部、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド（商品名：コータミン８６Ｗ、花王社製）３部、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物（商品名：オルフィンＥ１００４、日信化学社製）７部、水９０１部からなる組成物を混合攪拌して光沢層用塗布液Ｐを調製した。
【０１６１】
［比較例５］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｑを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６２】
（光沢層用塗布液Ｑの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性顔料分散液２を８４部、水を９０１部のかわりに、９０６部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｑを調製した。
【０１６３】
［比較例６］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｒを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６４】
（光沢層用塗布液Ｒの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：スノーテックスＡＫ−Ｌ、平均一次粒子径：４５ｎｍ、日産化学工業社製）を６８部、水を９０１部のかわりに、９２２部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｒを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は５１．１ｍＶであった。
【０１６５】
［比較例７］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｓを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６６】
（光沢層用塗布液Ｓの調製）
カチオン性顔料分散液１ ８９部のかわりに、カチオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４０００Ｃ、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）３６部、水を９０１部のかわりに、９５５部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｓを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は４９．９ｍＶであった。
【０１６７】
［比較例８］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｔを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６８】
（光沢層用塗布液Ｔの調製）
カチオン性顔料分散液１ ８９部のかわりに、カチオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４００１、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）３６部、水を９０１部のかわりに、９５５部を用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｔを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は４６．３ｍＶであった。
【０１６９】
［比較例９］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、光沢層用塗布液Ｕを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１７０】
（光沢層用塗布液Ｕの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性顔料分散液３を１１９部、水を９０１部のかわりに、８７１部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｕを調製した。
【０１７１】
［比較例１０］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｖを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１７２】
（光沢層用塗布液Ｖの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性の擬ベーマイトのゾル（商品名：カタロイドＡＳ−３、平均一次粒子径：９ｎｍ、平均粒子径：２００ｎｍ、触媒化成工業社製）１７８部、水を９０１部のかわりに、８１２部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｖを調製した。上記擬ベーマイトのゾルをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は３６．２ｍＶであった。
【０１７３】
［比較例１１］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｗを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１７４】
（光沢層用塗布液Ｗの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性顔料分散液４を３６部、水を９０１部のかわりに、９５５部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｗを調製した。
【０１７５】
［評価方法］
前記各実施例および比較例について、離型性、２０度表面光沢度、７５度表面光沢度、インク吸収性、印字濃度、顔料インク耐擦過性を評価した結果を表１に示した。各評価については、下記の方法で行った。
【０１７６】
（離型性）
光沢層形成時において、鏡面ロールからの離型性について官能評価を行った。
○：問題なく連続操業が可能である。
△：操業途中で鏡面ロールの汚れが発生する頻度が高く、実用上問題あり。
×：操業途中で鏡面ロールの汚れが発生する頻度がかなり高く、実用上問題あり。
【０１７７】
（２０度表面光沢度）
ＪＩＳ Ｚ ８７４１に記載の方法で、インクジェット記録体の２０度表面光沢度を測定した。
【０１７８】
（７５度表面光沢度）
ＪＩＳ Ｐ ８１４２に記載の方法で、インクジェット記録体の７５度表面光沢度を測定した。
【０１７９】
（インク吸収性）
インク吸収性は、染料インクジェットプリンターＰＩＸＵＳ ｉＰ４１００（キヤノン社製）を使用し、インクジェット記録体にグリーン色ベタ印字を行い、そのベタ印字部のインク吸収性を目視観察し、官能評価を行った。
◎：ベタ印字部にムラが見られず、良好な状態。
○：ベタ印字部にムラが若干見られるが、実用上問題なし。
△：ベタ印字部にムラが多少見られ、使用状況によっては問題あり。
【０１８０】
（印字濃度）
印字濃度は、染料インクジェットプリンターＰＭ−Ｇ８２０（セイコーエプソン社製）および染料インクジェットプリンターＰＩＸＵＳ ｉＰ８６００（キヤノン社製）を使用し、それぞれのプリンターで、インクジェット記録体に黒ベタ印字を行い、２４時間放置後、そのベタ印字部をグレタグマクベス反射濃度計（グレタグマクベス社製、ＲＤ−１９I）を用いて印字濃度を測定し、５点測定の平均印字濃度を算出した。
【０１８１】
（顔料インク耐擦過性）
顔料インク耐擦過性は、顔料インクジェットプリンターＰＸ−Ｇ９２０（セイコーエプソン社製）を使用し、インクジェット記録体に黒ベタ印字を行い、印字直後、そのベタ印字部を、指で５回擦り、官能評価を行った。
◎：ベタ印字部のインクが取れず、良好な状態。
○：ベタ印字部のインクがほとんど取れず、実用上問題なし。
×：ベタ印字部のインクが取れやすく、実用上問題あり。
【０１８２】
【表１】
【０１８３】
表１に示すように、実施例のインクジェット記録体は、いずれも、光沢層形成時において、鏡面ロールからの離型性に優れると共に、顔料インク耐擦過性も良好であり、かつ、他の印字適性も良好であった。
これに対し、光沢層にアニオン性顔料を用いた比較例１〜３では、顔料インク耐擦過性に問題があった。また、光沢層にカチオン性顔料を用いた比較例４〜１１では、カチオン性の離型剤しか使用できないため、光沢層形成時において、鏡面ロールからの離型性に問題があった。
【図面の簡単な説明】
【０１８４】
【図１】本発明のインクジェット記録体の製造方法の一実施形態を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１８５】
１ インクジェット記録体、１０ 基材、１１ 支持体、１２ インク受容層、２１ 光沢ロール、２２ プレスロール、３０ 光沢層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カチオン性顔料とアニオン性化合物との複合微粒子、この複合微粒子の分散液、該分散液の製造方法、並びにインクジェット記録体及びインクジェット記録体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクを微細なノズルから噴出して記録体に画像を形成させるインクジェット記録方式は、記録時の騒音が少ないこと、カラー化が容易であること、高速記録が可能であること、また、他の印刷装置より安価であること等の理由から、端末用プリンタ、ファクシミリ、プロッタ、あるいは帳票印刷等で広く利用されている。
【０００３】
インクジェット記録方式に使用するインクジェット記録体としては、染料系インクによる印刷を対象としたものが多い。この染料系インクは、紫外線照射、あるいは酸素、オゾンとの接触により染料が変色するなど耐候性、退色性が劣るため、印刷物が経時的に変色したり脱色したりするなどの欠点がある。このような問題は、印刷物が屋外において使用される場合に顕著である。
このため、インクジェット記録方式においても、耐候性に優れた顔料系インクが使用されるようになっている。しかしながら、顔料粒子は、通常１０〜５００ｎｍの粒子径を有する粒子であり、印刷後記録部位を指などで擦ると、顔料粒子が除かれて色落ちしやすいという問題、すなわた、耐擦過性が低いという問題があった。
この顔料系インク使用時の耐擦過性の問題に対処するため、酸化物粒子表面にカチオン性化合物を担持したカチオン性微粒子を、インクジェット記録体のインク受容層に用いることが提案されている（特許文献１）。
【特許文献１】特開２０００−０３７９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１のようなカチオン性微粒子は、その分散液にアニオン性化合物を加えると凝集を生じてしまう等、アニオン性化合物と共に用いることが困難である。そのため、例えばインクジェット記録体の光沢層を形成するためにこのカチオン性微粒子を含有する塗布液を使用する場合、離型剤としてはカチオン性離型剤しか選択できない。このように、特許文献１のようなカチオン性微粒子は、共存させて使用できる成分に制約を有するものであった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、共存可能な成分の選択範囲が広く汎用性の高い複合微粒子とその分散液、及び該分散液の製造方法を提供することを課題とする。また、かかる複合微粒子を用いることにより、高い品質を備えるインクジェット記録体及びインクジェット記録体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
［１］水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が正であるカチオン性微粒子と該カチオン性微粒子の表面に担持されたアニオン性化合物とからなり、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負であることを特徴とする複合微粒子。
［２］アニオン性化合物がカルボン酸系化合物である［１］に記載の複合微粒子。
［３］カチオン性微粒子が、シリカ微粒子の表面にカチオン性化合物を担持したカチオン性シリカである［１］または［２］に記載の複合微粒子。
【０００６】
［４］［１］〜［３］の何れかに記載の複合微粒子を水系の分散媒に分散させたことを特徴とする分散液。
［５］前記複合微粒子のゼータ電位が−１０〜−１５０ｍＶである［４］に記載の分散液。
【０００７】
［６］［４］または［５］に記載の分散液の製造方法であって、
カチオン性微粒子とアニオン性化合物とを水系の分散媒中で混合して凝集物を形成させる凝集工程と、
該凝集物を前記分散媒中で機械的手段により粉砕する粉砕工程を有することを特徴とする分散液の製造方法。
【０００８】
［７］［１］〜［３］の何れかに記載の複合微粒子を含有する塗工層が設けられたことを特徴とするインクジェット記録体。
［８］前記複合微粒子を含有する塗工層が、前記複合微粒子を水に分散させた分散液を含む塗布液によって形成された［７］に記載のインクジェット記録体。
［９］前記複合微粒子を含有する塗工層が最表層に設けられている［７］または［８］に記載のインクジェット記録体。
［１０］前記複合微粒子を含有する塗工層が、アニオン性離型剤を含有する［９］に記載のインクジェット記録体。
［１１］非透気性または低透気性の支持体上にインク受容層を設けてなる基材の前記インク受容層上に、前記複合微粒子を含有する塗工層が設けられている［７］から［１０］の何れかに記載のインクジェット記録体。
【０００９】
［１２］支持体上にインク受容層を設けてなる基材の、前記インク受容層上に、［１］〜［３］の何れかに記載の複合微粒子およびアニオン性離型剤を含有する塗布液を供給し、
前記基材を、光沢ロールとプレスロールとの間を、前記塗布液が光沢ロールに接触するように通過させてプレス塗工して光沢層を形成し、
前記光沢層が湿潤状態又は半乾燥状態にあるうちに、該光沢層を光沢ロールから剥離することを特徴とするインクジェット記録体の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
［１］〜［３］の複合微粒子は、カチオン性微粒子の顔料系インク使用時の耐擦過性が強いという性質を有しながら、アニオン性化合物と共存可能であり、汎用性が高い。
［４］、［５］の分散液は、カチオン性微粒子の顔料系インク使用時の耐擦過性が強いという性質を有しながら、アニオン性微粒子の分散液としての性質を持つので、アニオン性化合物を添加した場合にも凝集することがなく、汎用性が高い。
［６］の分散液の製造方法によれば、上記汎用性の高い分散液を得ることができる。
［７］〜［１１］のインクジェット記録体は、上記汎用性の高い複合粒子を用いるため、塗工層の組成を自由に調整することができる。そのため、所望の性能を有する塗工層を得やすく、高い品質を備えることができる。
［１２］のインクジェット記録体の製造方法によれば、品質の高いインクジェット記録体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
［複合微粒子］
本発明の複合微粒子は、カチオン性微粒子の表面にアニオン性化合物が担持された複合微粒子である。この複合微粒子は、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負である。
【００１２】
（カチオン性微粒子）
本発明の複合微粒子を構成するカチオン微粒子は、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が正である。
カチオン性微粒子としては、アルミニウム酸化物、アルミニウム酸化物の水和物、カチオン性シリカを好適に使用できる。
アルミニウム酸化物、アルミニウム酸化物の水和物は、解こう剤として用いる酢酸の臭気などの使用上の問題があるため、特に、カチオン性シリカが好ましい。
【００１３】
（カチオン性シリカ）
カチオン性シリカは、シリカ微粒子の表面にカチオン性化合物を担持したカチオン性の微粒子である。シリカ微粒子は本来アニオン性であるが、水系の分散媒中でカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理することによりカチオン性の分散液とすることができる（特開２００４−０５０８１１号公報等参照。）。
【００１４】
シリカ微粒子としては、気相法シリカ、湿式法シリカ等の合成シリカが好ましく、特にインクジェット紙として、光沢性が得られることから、湿式法シリカが好ましい。
シリカ微粒子に担持させるカチオン性化合物としては、カチオン性ポリマー、水溶性多価金属化合物、あるいはシランカップリング剤が用いられる。これらのカチオン性化合物の中でも特にカチオン性ポリマー及び水溶性多価金属化合物が好ましい。
【００１５】
本発明に用いられるカチオン性ポリマーとしては、ポリエチレンポリアミンおよびポリプロピレンポリアミンなどのポリアルキレンポリアミン類、およびそれらの誘導体類、第２級アミノ基、第３級アミノ基、および／または第４級アンモニウム基を有するアクリル系樹脂、ポリビニルアミン、ポリビニルアミジン、５員環アミジン類、例えばジシアンジアミド−ホルマリン重縮合物などのジシアン系カチオン樹脂、ジシアンジアミド−ジエチレントリアミン重縮合物などのポリアミン系カチオン樹脂、エポクロルヒドリン−ジメチルアミン付加重合物、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド−ＳＯ２共重合物、ジアリルアミン−ＳＯ２共重合物、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド重合物、アリルアミン塩の重合物、ジアルキルアミノエチル（メタ）アクリレート４級アンモニウム塩重合物、アクリルアミド−ジアリルアミン塩共重合物が挙げられる。
これらの中でも、分散性からカチオン性ポリマーが好ましく、特に、第１級、第２級、第３級アミン基を有するカチオン樹脂は分散性が良好であることから好ましい。５員環を形成しているアミジン化合物が最も良好である。
カチオン性ポリマーの分子量は特に限定しないが、分散性と分散安定性から１万〜１０万が好ましい。更に好ましくは２万〜７万である。分子量が小さすぎると分散性が悪く、分子量が大きすぎると分散安定性が劣ることがある。
【００１６】
シリカ微粒子とカチオン性ポリマーの質量比は特に限定しないが、１００：１〜３０が好ましく、１００：２〜１５がより好ましい。カチオン性ポリマーの含有量が少なすぎると、分散液系全体のカチオン性が弱い、あるいは、分散液系全体がカチオン性にならない。すなわち、イオン交換水に分散して分散液とした際のゼータ電位が１０ｍV以下になる。その場合、分散しても短時間で再凝集するおそれがある。
一方、カチオン性ポリマーの含有量が多すぎると、インクジェット記録体に用いる場合、顔料に担持されないカチオン性化合物が単体として存在、つまり、不純物として存在するおそれがある。
【００１７】
本発明に用いられる水溶性多価金属化合物としては、カルシウム、バリウム、マンガン、銅、コバルト、ニッケル、アルミニウム、鉄、亜鉛、ジルコニウム、チタン、クロム、マグネシウム、タングステン、モリブデンの化合物が挙げられ、これらの金属の水溶性塩として用いることができる。なお、水溶性とは常温常圧下で水に１質量％以上溶解することを意味する。
【００１８】
具体的には例えば、酢酸カルシウム、塩化カルシウム、ギ酸カルシウム、硫酸カルシウム、酢酸バリウム、硫酸バリウム、リン酸バリウム、塩化マンガン、酢酸マンガン、ギ酸マンガンニ水和物、硫酸マンガンアンモニウム六水和物、塩化第二銅、塩化アンモニウム銅（ＩＩ）ニ水和物、硫酸銅、塩化コバルト、チオシアン酸コバルト、硫酸コバルト、硫酸ニッケル六水和物、塩化ニッケル六水和物、酢酸ニッケル四水和物、硫酸ニッケルアンモニウム六水和物、アミド硫酸ニッケル四水和物、硫酸アルミニウム、亜硫酸アルミニウム、チオ硫酸アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム九水和物、塩化アルミニウム六水和物、ポリ酢酸アルミニウム、およびポリ乳酸アルミニウム、臭化第一鉄、塩化第一鉄、塩化第二鉄、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、臭化亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛六水和物、硫酸亜鉛、酢酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、炭酸ジルコニウム・アンモニウム、炭酸ジルコニウム・カリウム、硫酸ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、塩化ジルコニウム八水和物、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、塩化チタン、硫酸チタン、酢酸クロム、硫酸クロム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム六水和物、クエン酸マグネシウム九水和物、りんタングステン酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムタングステン、１２タングストりん酸ｎ水和物、１２タングストけい酸２６水和物、塩化モリブデン、１２モリブドりん酸ｎ水和物等が挙げられる。
【００１９】
これらの中でも特に、ポリ塩化アルミニウム、ポリ酢酸アルミニウム、およびポリ乳酸アルミニウムなどのポリアルミニウム塩が好ましい。
具体的には、多木化学社製、タキバイン＃１５００やＰＡＣ２５０Ａ等、浅田化学社製、ポリ水酸化アルミニウム（Ｐａｈｏ）、また、理研グリーン社製、ピュラケムＷＴ、などが挙げられる。これらの塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物は、特公平３−２４９０７号、同平３−４２５９１号、同２０００−３７９４６号、同２００２−８６８９３号、同２００３−２７６３１５号公報等にも記載されている。
上記した水溶性多価金属塩化合物の添加量は、無機微粒子に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましい。
【００２０】
シリカ微粒子と水溶性多価金属塩化合物の質量比は特に限定しないが、１００：０．１〜１５の範囲が好ましい。水溶性多価金属塩化合物の含有量が少なすぎると、分散液系全体のカチオン性が弱い、あるいは、分散液系全体がカチオン性にならない。すなわち、イオン交換水に分散して分散液とした際のゼータ電位が１０ｍV以下になる。その場合、分散しても短時間で再凝集するおそれがある。
一方、カチオン性化合物の含有量が多すぎると、インクジェット記録体に用いる場合、顔料に担持されない水溶性多価金属塩化合物が単体として存在、つまり、不純物として存在するおそれがある。
【００２１】
本発明に用いられるシランカップリング剤としては、特開２０００−２３３５７２号公報に記載されており、それらの中からカチオン性のものを用いることができる。シランカップリング剤の添加量は、無機微粒子に対して０．１〜１０質量％の範囲が好ましい。
【００２２】
シリカ微粒子をカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理するにあたり、分散媒としては、水系の分散媒を用いる。なお、本発明において水系の分散媒とは、水または水を主体とする分散媒を意味する。水系の分散媒には、少量の有機溶剤（エタノール等の低級アルコールや酢酸エチル等の低沸点溶剤）を含んでもよい。その場合、有機溶剤は全分散媒に対して２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましい。
【００２３】
シリカ微粒子をカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理するにあたり、機械的手段としては、ビーズミル、超音波ホモジナイザー、圧力式ホモジナイザー、液流衝突式ホモジナイザー、ナノマイザー、アルティマイザー、高速回転ミル、ローラミル、容器駆動媒体ミル、媒体撹拌ミル、ジェットミル、サンドグライダー等を用いることができる。
中でも、ビーズミル、超音波ホモジナイザー、圧力式ホモジナイザー、または液流衝突式ホモジナイザー、ナノマイザー、アルティマイザーを用いることが好ましい。特に不純物の混入を最小限に抑えられることから液流衝突式ホモジナイザー、ナノマイザー、アルティマイザーを用いることが好ましい。
【００２４】
（アルミニウム酸化物）
アルミニウム酸化物（アルミナ）としては、周知のように、約８種の変態が知られている。すなわち、一般にギブサイト、バイヤライトまたはベーマイトなどの水酸化アルミニウムの加熱によりχ→κ→α、γ→δ→θ→α、η→θ→α、ρ→η→θ→αまたは擬γ→θ→αの様に各種の中間アルミナを経てα−アルミナに遷移し、粒成長することが知られている（例えば電気化学、28巻，ｐ302，船木・清水；アルミナ水和物およびアルミナについて、アルミナ水和物の熱変化例参照）。
また、塩化アルミニウムや硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウムなどのアルミニウム塩の熱分解によっても無定形アルミナからγ−、δ−またはθ−などの中間アルミナを経てα−アルミナに遷移することがわかっている（例えば、鉱物学雑誌19巻1号ｐ21、ｐ41参照）。分散質となるアルミナは、実質的にγ、η、δ、ρ、χ、θ、κ、およびα−アルミナから選ばれた単一または複数の結晶からなる酸化アルミニウムである。
本発明においては、インクジェット紙として、透明性、光沢性、インク吸収性のバランスから、少なくともα、δ、θ、γ結晶を含むことが好ましい。
【００２５】
アルミニウム酸化物は、水系の分散媒中で機械的手段により粉砕処理することにより分散液とすることができる。機械的手段としては、上述のシリカ微粒子をカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理する際と同等の手段を採用できる。
分散媒中には、酢酸、硝酸、乳酸、塩酸等の酸を添加することが好ましい。これにより、効率よく分散させることができる。特に、特開平７−８９７１７号公報に記載されているように、酸の存在下に陽イオン交換樹脂と接触させながら分散させることが好ましい。
【００２６】
（アルミニウム酸化物の水和物）
アルミニウム酸化物の水和物（アルミナの水和物）としては、ギブサイト型、ベーマイト型、擬ベーマイト型、バイヤライト型、ジアスポア型の各種結晶型のものが挙げられるが、本発明においては、インクジェット紙として、透明性、光沢性、インク吸収性のバランスから、ギブサイト型、ベーマイト型、擬ベーマイト型であることが好ましい。
アルミニウム酸化物の水和物は、水系の分散媒中で分散、粉砕、解叩処理することにより分散液とすることができる。
【００２７】
（アニオン性化合物）
本発明の複合微粒子を構成するアニオン性化合物としては、カルボン酸系化合物、スルホン酸系化合物、リン酸系化合物、エステル系化合物、またはこれらの塩が挙げられる。中でもカルボン酸系化合物が好ましく、さらにポリマーまたはその塩がより好ましい。
本発明の複合微粒子を構成するアニオン性化合物は、単独の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００２８】
カルボン酸系化合物としては、炭素数が６以上、３０以下である脂肪酸、ダイマー酸等、及びそれらのナトリウム塩、カリウム塩のような金属塩類、それらのアンモニウム塩、アミン塩であればよい。
具体例としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、リンゴ酸、酒石酸、シクロプロパンジカルボン酸等の脂肪族飽和ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸等の脂肪族不飽和ジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、カルボキシフェニル酢酸、カルボキシフェニルプロピオン酸、フェニレンジ酢酸等の芳香族ジカルボン酸、トリカルバリル酸、トリメリト酸等の３価以上のポリカルボン酸等が挙げられる。
イタコン酸またはその塩の具体的例としては、日本純薬社製、ジュリマーＡＣ−７０Ｎが挙げられる。
【００２９】
カルボン酸のポリマーまたはその塩としては、アクリル酸ホモポリマー、アクリル酸−マレイン酸共重合体、α−ヒドロキシアクリル酸ホモポリマー、Ｃ5オレフィン−マレイン酸共重合体、イソブチレン−マレイン酸共重合体等、及びこれらのアルカリ金属塩もしくはアンモニウム塩、アミン塩が好ましく、アクリル酸ホモポリマー、アクリル酸−マレイン酸共重合体であることが特に好ましい。
【００３０】
具体的には、花王社製、ポイズ540、ポイズ530、ポイズ521、ポイズ520、日本パーオキサイド社製、ペールプラック250、ペールプラック1200、ペールプラック5000、日本ゼオン社製、クインフロー540、クインフロー542、クインフロー543、クインフロー560、クインフロー640、クインフロー750、東亞合成社製アロンT-40(M)、クラレ社製イソバン06、イソバン04、イソバン600、日本触媒社製アクアリックDL100等が挙げられる。
【００３１】
スルホン酸系化合物の具体例としては、例えば、ジフェニルエーテルスルホン酸、ｎ−ブチルベンゼンスルホン酸等のアルキルベンゼンスルホン酸、アルキルスルホン酸、ｎ−アミルベンゼンスルホン酸、ｎ−オクチルベンゼンスルホン酸、ｎ−ドデシルベンゼンスルホン酸、ｎ−オクタデシルベンゼンスルホン酸、ｎ−ジブチルベンゼンスルホン酸、及びアルキルナフタレンスルホン酸、ｉｓｏ−プロピルナフタレンスルホン酸、ドデシルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、無置換キナクリドン、ジメチルキナクリドン、ジクロロキナクリドン等を公知の方法により濃硫酸等と反応させることで合成できるキナクリドンスルホン酸類、等が挙げられる。また、それらのナトリウム塩、カリウム塩のような金属塩類、それらのアンモニウム塩などが挙げられる。
【００３２】
スルホン酸のポリマーまたはその塩としては、スチレンスルホン酸ポリマー及びこのアルカリ金属塩もしくはアンモニウム塩、アミン塩があり、具体的には、ライオン社製、ポリティーＰＳ−１９００、特開２０００−２２６４１６号公報に記載のスルホン酸基を有するポリマーが挙げられる。
【００３３】
エステル系化合物の具体例としては、アルキル硫酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキル硫酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸、トリスチレン化フェノール硫酸エステル、ポリオキシアルキレンジスチレン化フェノール硫酸エステル、酢酸ビニル，アクリル酸メチル，アクリル酸エチル，アクリル酸プロピル，アクリル酸ブチル，アクリル酸ヘキシル，アクリル酸オクチル，アクリル酸ラウリル，アクリル酸ベンジル，アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル，メタクリル酸メチル，メタクリル酸エチル，メタクリル酸プロピル，メタクリル酸ブチル，メタクリル酸ヘキシル，メタクリル酸オクチル，メタクリル酸ラウリル，メタクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル，フマル酸メチル，フマル酸エチル，フマル酸プロピル，フマル酸ブチル，フマル酸ジメチル，フマル酸ジエチル，フマル酸ジプロピル，フマル酸ジブチル，マレイン酸メチル，マレイン酸エチル，マレイン酸プロピル，マレイン酸ブチル，マレイン酸ジメチル，マレイン酸ジエチル，マレイン酸ジプロピル，マレイン酸ジブチル、アルキルリン酸エステル、ポリオキシアルキレンリン酸エステルなどが挙げられる。また、それらのナトリウム塩、カリウム塩のような金属塩類、それらのアンモニウム塩などが挙げられる。
【００３４】
（質量比等）
本発明の複合粒子は、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負である。カチオン性微粒子とアニオン性化合物の質量比は特に限定しないが、１００：１〜５０の範囲が好ましく、更に好ましくは１００：２〜３０である。
【００３５】
アニオン性化合物の含有量が少なすぎると、分散液系全体のアニオン性が弱い、あるいは、分散液系全体がアニオン性にならない。すなわち、イオン交換水に分散して分散液とした際のゼータ電位が−１０ｍVより大きくなる。その場合、分散しても短時間で再凝集するおそれがある。
【００３６】
一方、アニオン性化合物の含有量が多すぎると、インクジェット記録体に用いる場合、顔料に担持されないアニオン性化合物が単体として存在、つまり、不純物として存在するおそれがある。
【００３７】
カチオン性微粒子の平均粒子径（二次粒子の場合は、二次粒子径）は、１０〜８００ｎｍであることが好ましく、１５〜５００ｎｍであることがより好ましい。また、複合微粒子の平均粒子径（二次粒子の場合は、二次粒子径）は、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１５〜８００ｎｍであることがより好ましい。
本発明の複合粒子は、分散液の状態で用いることが好ましい。ただし、分散媒を除去して、粉体の状態で用いることもできる。
【００３８】
［分散液］
本発明の分散液は、本発明の複合微粒子を水系の分散媒に分散させたものである。分散液中の複合微粒子のゼータ電位は−１０〜−１５０ｍＶであることが好ましく、−２０〜−１２０ｍＶであることがより好ましい。
負の絶対値を１０ｍＶ以上とすることにより、アニオン性化合物との共存がより容易となる。
【００３９】
［分散液の製造方法］
本発明の分散液の製造方法は、カチオン性微粒子とアニオン性化合物とを水系の分散媒中で混合して凝集物を形成させる凝集工程と、
該凝集物を前記分散媒中で機械的手段により粉砕する粉砕工程を有することを特徴とする。
【００４０】
（凝集工程）
凝集工程では、カチオン性微粒子とアニオン性化合物とを水系の分散媒中で混合する。具体的には、アニオン性化合物にカチオン性微粒子の分散液を添加、あるいは、カチオン性微粒子の分散液にアニオン性化合物を添加するという手順である。
【００４１】
（分散工程）
分散工程では、凝集工程で形成された凝集物を水系の分散媒中で機械的手段により粉砕する。機械的手段としては、上述のシリカ微粒子をカチオン性化合物の存在下で機械的手段により粉砕処理する際と同等の手段を採用できる。
【００４２】
［インクジェット記録体］
本発明のインクジェット記録体の具体的な構成に特に限定はなく、例えば、支持体上にインク受容層が一層または多層形成されたものとすることができる。また、インク受容層の上にさらに光沢層が形成されたものとすることができる。
本発明のインクジェット記録体は、本発明の複合微粒子を含有する塗工層が設けられたものである。この本発明の複合微粒子を含有する塗工層は、上記インク受容層の全部または一部であってもよいし、光沢層であってもよい。なかでも、最表層（記録面側）に当該塗工層が存在することが好ましく、特に光沢層として存在することが好ましい。
【００４３】
本発明の複合微粒子を含有する塗工層の塗料は、カチオン性微粒子の顔料系インク使用時の耐擦過性が強いという性質を有しながら、アニオン性化合物も共存させることができ、同時多層塗工装置、例えば、複数個の塗布液供給口を有する多層式スロットダイコーター、多層式スライドビードコーター、及び多層式カーテンダイコーターで塗工する際に、アニオン性微粒子を有する塗工層の塗料との凝集による塗工不良を発生させることなく塗工することも可能なので、任意の塗工方法で、様々な要請に応じた塗工層を任意に設計することが可能である。
中でも、最表層に当該塗工層を利用すると、顔料系インク使用時の耐擦過性に優れたインクジェット記録体とすることかできる。
さらに、最表層が光沢層であれば、アニオン性の離型剤を共存させることができるので、光沢層形成時に優れた離型性も備えることができ、高品質の光沢層を容易に形成できる。
光沢層に本発明の複合微粒子を利用する場合の好ましい構成は、支持体上にインク受容層が設けられた基材に、光沢層が形成されたものである。この場合、支持体とインク受容層の間に架橋剤含有層を設けることもできる。以下に、この好ましい構成について詳述する。
【００４４】
（支持体）
支持体としては、銀塩写真並みの光沢を得ることができることから、非透気性支持体又は低透気性支持体を用いることが好ましい。支持体として非透気性支持体又は低透気性支持体を用いれば、インク中の溶媒の浸透を防止できるので、コックリングを抑えることができる。その結果、印字物の外観を良好にできる上に、コックリングした記録体と記録ヘッドとの接触による記録用紙の汚損や破れ又は記録ヘッドの故障を防止することができる。
これに対し、紙基材などの透気性支持体を用いた場合には、印字した際にインク中に含まれる水分等の溶媒の影響で支持体が伸びて波打ってコックリングが生じることがあるが、本発明における支持体が透気性支持体であっても差し支えない。
【００４５】
低透気性支持体又は非透気性支持体とは、透気度が５００秒以上、好ましくは１０００秒以上である支持体を意味する。透気性は、一般に、紙や不織布などの多孔性を評価する項目として知られている透気度によって表される。透気度は、空気１００ｍｌが面積６４５ｍｍ２の試験片を通過するのに要する時間で表され、ＪＩＳ Ｐ ８１１７（紙及び板紙の透気度試験方法）に規定されている。
【００４６】
具体的な低透気性支持体又は非透気性支持体としては、例えば、セロハン、ポリエチレン、ポリプロピレン、軟質ポリ塩化ビニル、硬質ポリ塩化ビニル、ポリエステル等のフィルム類が挙げられる。また、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンで紙などの基材表面を被覆した樹脂被覆紙、金属フォイル、ポリプロピレンを延伸し、特殊加工を施した合成紙などのシート類が例示される。支持体は、その上に形成されるインク受容層や光沢層の形成方法、或いは、使用される用途などに応じて、上記例示のものの中から適宜選択される。
上記支持体の中でも、写真調のインクジェット記録体にするためには、合成紙、樹脂被覆紙が好ましく、とりわけ、酸化チタンを練り込んだ樹脂被覆紙、所謂ＲＣ紙からなる支持体は、仕上がった外観が写真印画紙と同等であるため、特に好ましく用いられる。
合成紙としては、炭酸カルシウムなどの無機顔料を含有するポリプロピレン樹脂を押出し、二軸延伸して得られる合成紙が好ましく、表面に凹凸のないスキン層を有する合成紙が特に好ましい。
【００４７】
支持体が、ポリエチレン層が基材を被覆した樹脂被覆紙の場合、ポリエチレン層の塗工量は、３〜５０ｇ／ｍ２が好ましく、５〜３０ｇ／ｍ２がより好ましい。ポリエチレン層の塗工量が３ｇ／ｍ２未満の場合は、樹脂被覆時にポリエチレンの穴等の欠陥が多くなりやすく、厚みのコントロールに困難がある場合が多く、平滑性も得にくくなる。逆に５０ｇ／ｍ２を超えると、コストが増加する割には、得られる効果が小さく、不経済である。
また、インク受容層との接着性を高めるために、樹脂層表面にコロナ放電処理を施したり、アンカーコート層を設けたりすることが好ましい。
【００４８】
また、樹脂被覆紙の基材として紙を用いる場合、紙基材としては、木材パルプを主材料として製造されたものが好ましく用いられる。木材パルプは、各種化学パルプ、機械パルプ、再生パルプ等を適宜使用することができ、これらのパルプは紙力や平滑性、抄紙適性等を調整するために、叩解機により叩解度を調整できる。叩解度は、特に限定されないが、一般に２５０〜５５０ｍｌ（ＣＳＦ：ＪＩＳ−Ｐ−８１２１）程度が好ましい範囲である。またいわゆるＥＣＦ、ＴＣＦパルプ等の塩素フリーパルプも好ましく使用できる。また、必要に応じて、木材パルプに顔料を添加することができる。顔料としては、タルク、炭酸カルシウム、クレー、カオリン、焼成カオリン、シリカ、ゼオライト等が好ましく使用される。顔料の添加により、不透明性や平滑度を高めることができるが、過剰に添加すると、紙力が低下する場合があるから、顔料の添加量は、対木材パルプ１〜２０質量％程度が好ましい。
【００４９】
なお、支持体は、蛍光染料、蛍光顔料などの蛍光増白剤により色目が調節されたものであってもよいし、帯電防止層が設けられたものであっても構わない。また、支持体は透明であってもよいし不透明であってもよい。
【００５０】
（インク受容層）
インク受容層は、支持体上に形成されている層であって、主としてインク中の染料や顔料の色素を固定するとともに、インク中の溶媒を吸収する層である。
インク受容層は一層であってもよいし多層であってもよい。インク受容層の少なくとも一層は、顔料等の微粒子と接着剤とを含有することが好ましい。
【００５１】
微粒子としては、例えば、コロイダルシリカ、無定形シリカ、酸化チタン、硫酸バリウム、カオリン、クレー、焼成クレー、酸化亜鉛、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、アルミナ、コロイダルシリカ、ゼオライト（天然ゼオライト、合成ゼオライト）、セピオライト、スメクタイト、合成スメクタイト、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、珪藻土、スチレン系プラスチックピグメント、ハイドロタルサイト、尿素樹脂系プラスチックピグメント、ベンゾグアナミン系プラスチックピグメント等の透明又は白色の微粒子などが挙げられ、１種もしくはそれ以上を併用することができる。
【００５２】
接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、カチオン変性ＰＶＡ、シリル変性ＰＶＡ等の変性ＰＶＡなどのＰＶＡ類、ポリビニルアセタール、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドなどの水溶性樹脂や、カゼイン、大豆タンパク、合成タンパク質類、デンプン、カルボキシメチルセルロースやメチルセルロースなどのセルロース誘導体、あるいは、例えば、（メタ）アクリル酸エステルの（共）重合体、スチレン樹脂、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、エポキシ系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸（共）重合体、メラミン系樹脂、尿素系樹脂又はオレフィン系樹脂などのような、一般に塗布紙分野で公知公用の各種接着剤が挙げられる。また、感温点以下の温度領域では親水性を示し、感温点より高い温度領域では疎水性を示す感温性高分子化合物なども使用できる。これらは、適宜併用することもできる。
【００５３】
また、インク受容層にはカチオン性化合物が含まれていることが好ましい。カチオン性化合物としては、例えば、１）ポリエチレンポリアミンやポリプロピレンポリアミンなどのポリアルキレンポリアミン類またはその誘導体、２）第２級アミノ基、第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を有するアクリル重合体、３）ポリビニルアミンおよびポリビニルアミジン類、４）ジシアンジアミド・ホルマリン共重合体に代表されるジシアン系カチオン性化合物、５）ジシアンジアミド・ポリエチレンアミン共重合体に代表されるポリアミン系カチオン性化合物、６）エピクロルヒドリン・ジメチルアミン共重合体、７）ジアリルジメチルアンモニウム−ＳＯ２重縮合体、８）ジアリルアミン塩・ＳＯ２重縮合体、９）ジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合体、１０）ジアリルジメチルアンモニウムクロライド−アクリルアミド共重合体、１１）アリルアミン塩の共重合体、１２）ジアルキルアミノエチル（メタ）アクリレート４級塩共重合体、１３）アクリルアミド・ジアリルアミン共重合体、１４）５員環アミジン構造を有するカチオン性樹脂等の公知のカチオン性化合物等が例示される。
中でも、５員環アミジン構造を有するポリビニルアミン共重合物４級アンモニウム塩酸塩、ポリアリルアミンの一部または全部の塩酸塩、アミノ基の一部がメトキシカルボニル変性されたポリアリルアミンの一部または全部の塩酸塩はインク吸収性光沢性、画像の鮮明性に優れているので好ましい。
【００５４】
また、インク受容層の接着剤がＰＶＡ類の場合、インク受容層中に架橋剤を適宜添加してもよい。これにより、インク受容層の塗工量を増やすことができる。
ＰＶＡ類の架橋剤としては、例えば、ホウ素化合物、ジルコニウム化合物、アルミニウム化合物、クロム化合物等の多価金属化合物、エポキシ化合物、グリシジル化合物、ジヒドラジド化合物、アルデヒド化合物、アミン化合物、メチロール化合物等が挙げられる。これらの架橋剤の中でも、増粘またはゲル化の進行が速いことから、ホウ素化合物が好ましく、硼酸および／または硼砂がより好ましい。
硼酸としては、オルト硼酸、メタ硼酸、次硼酸、四硼酸、五硼酸等が挙げられる。硼酸の中では、オルト硼酸と四硼酸二ナトリウムが好ましい。硼砂とは、ナトリウムの含水硼酸塩鉱物であり、その組成はＮａ２Ｂ４Ｏ７・10Ｈ2Ｏである。実質的にはＮａ２Ｂ4Ｏ７（四硼酸二ナトリウム）が架橋剤成分である。
【００５５】
また、インク受容層には、必要に応じて、一般的に塗工紙の製造において使用される各種顔料、分散剤、増粘剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の保存性向上剤、界面活性剤、消泡剤、着色剤、蛍光増白剤、帯電防止剤、防腐剤等の各種助剤を適宜添加してもよい。
【００５６】
（架橋剤含有層）
インク受容層の接着剤がＰＶＡ類の場合、支持体とインク受容層の間に架橋剤、増粘剤および界面活性剤を有する架橋剤含有層を設けることが出来る。これにより、インク受容層の塗工量を増やすことができる。
【００５７】
ＰＶＡ類の架橋剤としては、上記インク受容層中に添加する場合と同様に、ホウ素化合物、ジルコニウム化合物、アルミニウム化合物、クロム化合物等の多価金属化合物、エポキシ化合物、グリシジル化合物、ジヒドラジド化合物、アルデヒド化合物、アミン化合物、メチロール化合物等が挙げられる。これらの架橋剤の中でも、増粘またはゲル化の進行が速いことから、ホウ素化合物が好ましく、硼酸および／または硼砂がより好ましい。
硼酸としては、オルト硼酸、メタ硼酸、次硼酸、四硼酸、五硼酸等が挙げられる。硼酸の中では、オルト硼酸と四硼酸二ナトリウムが好ましい。
【００５８】
増粘剤は、これを添加することにより架橋剤含有層用塗布液の粘度が増大するものであればよく、特に限定されないが、例えば、ゼラチン、バイオガム、セルロース誘導体、グアーガム類、アルギン酸ソーダ、ポリアクリル酸等が挙げられる。
【００５９】
バイオガムとしては、例えば、キサンタンガム、ウエランガム、ジェランガム等が挙げられる。セルロース誘導体としては、例えば、カチオン化セルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルセルロース等が挙げられる。グアーガム類としては、例えば、グアーガム、ヒドロキシプロピル化グアーガム、カチオン化グアーガム等が挙げられる。
【００６０】
セルロース誘導体は、増粘効果が比較的高く、ゲル化強度が比較的低いというバランスの点で優れており好ましい。セルロース誘導体の重合度は、架橋剤含有層用塗布液の粘度調製が比較的容易である点で５００〜２０００が好ましく、８００〜１８００がより好ましい。
【００６１】
増粘剤によって、架橋剤含有層用塗布液の粘度を所定の範囲となるように調整できる。架橋剤含有層用塗布液の粘度の所定の範囲としては、４〜５００ｍＰａ・ｓが好ましい。
架橋剤含有層における増粘剤の含有量に特に限定はないが、少量の添加で所定の粘度に達する場合は、粘度調整が難しいため好ましくない。一方、増粘剤の添加量が多すぎると架橋剤の効果を阻害するため好ましくない。したがって、架橋剤に対して1〜１００質量％の範囲内で増粘剤を含有することが好ましい。換言すれば、1〜１００質量％の範囲内の含有量で所定の粘度とできる増粘剤を用いることが好ましい。
【００６２】
架橋剤含有層は、界面活性剤を含有することにより、支持体表面に塗工する際におけるハジキが抑えられ、塗工面が均一な架橋剤含有層とすることができる。
界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤が挙げられる。
【００６３】
アニオン系界面活性剤としては、硫酸エステル塩系、スルホン酸塩系、リン酸エステル塩系等が挙げられる。カチオン系界面活性剤としては、例えば、アミン塩系、４級アンモニウム塩系等が挙げられる。ノニオン系界面活性剤としては、例えば、アセチレングリコール系、ポリエチレングリコール系、多価アルコール系、等が挙げられる。これらの中でも、アセチレングリコール系界面活性剤は、界面活性効果が高い一方、消泡性を有しているため好ましい。
【００６４】
架橋剤含有層中の界面活性剤の含有量は、架橋剤に対して０．００１〜１０質量％であることが好ましい。界面活性剤の含有量が０．００１質量％未満でも、１０質量％を超えても、支持体表面に塗工する際に塗布液のハジキが発生するので好ましくない。
【００６５】
架橋剤含有層には、架橋剤の効果を阻害しない限り、ポリビニルアセタール、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドなどの水溶性樹脂や、カゼイン、大豆タンパク、合成タンパク質類、デンプン、カルボキシメチルセルロースやメチルセルロースなどのセルロース誘導体、あるいは、例えば、（メタ）アクリル酸エステルの（共）重合体、スチレン樹脂、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、エポキシ系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸（共）重合体、メラミン系樹脂、尿素系樹脂又はオレフィン系樹脂などのような、一般に塗布紙分野で公知公用の各種接着剤を適宜含有してもよい。また、必要に応じて、一般的に塗工紙の製造において使用される各種顔料、分散剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の保存性向上剤、消泡剤、着色剤、蛍光増白剤、帯電防止剤、防腐剤等の各種助剤を添加することもできる。
【００６６】
（光沢層）
光沢層には、本発明の複合微粒子およびアニオン性離型剤が含まれる。アニオン性離型剤の含有量は、微粒子１００質量部に対して１〜１５質量部であることが好ましい。このような範囲とすることで、光沢層形成時に光沢ロールからより剥離しやすくなる。
【００６７】
微粒子としては、本発明の効果を損なわない範囲で、他のアニオン性微粒子を含有してもよい。例えば、コロイダルシリカ、気相法シリカ、カオリン、焼成カオリン等の透明または白色顔料が例示される。これらの中でも、コロイダルシリカ、気相法シリカは、優れた光沢が得られるので好ましい。
【００６８】
アニオン性離型剤としては、ステアリン酸、オレイン酸、パルミチン酸等の脂肪酸等、及びこれらのアルカリ金属塩もしくはアンモニウム塩、アミン塩が挙げられる。
中でも、下式（１）で表される化合物を使用することが好ましい。
【００６９】
【化１】
【００７０】
ただし、式（１）中、Ｒ１は炭素数８〜２８のアルキル基又はアルケニル基を表し、例えば、オレイル基、ステアリル基、ラウリル基、パルミチル基、ミリスチル基などが挙げられる。これらの中でも、離型性が長時間保たれることから、オレイル基、ステアリル基が好ましい。
Ｒ２〜Ｒ５は、Ｈ又は炭素数１〜４のアルキル基（すなわち、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基）を表し、中でも、Ｈが好ましい。また、Ｒ２〜Ｒ５はそれぞれ同じであってもよいし異なっていてもよいが、Ｒ２〜Ｒ４がいずれも同じであることが好ましい。
上記式（１）の離型剤は、特に離型性が良好で且つインク吸収性を阻害しない、優れた離型剤である。
【００７１】
式（１）の具体例として、オレイン酸アンモニウム、ステアリン酸アンモニウム、ラウリン酸アンモニウム、パルミチン酸アンモニウム、ミリスチン酸アンモニウム、オレイン酸テトラメチルアンモニウム、ステアリン酸テトラメチルアンモニウム、ラウリン酸テトラメチルアンモニウム、パルミチン酸テトラメチルアンモニウム、ミリスチン酸テトラメチルアンモニウム、オレイン酸テトラエチルアンモニウム、ステアリン酸テトラエチルアンモニウム、ラウリン酸テトラエチルアンモニウム、パルミチン酸テトラエチルアンモニウム、ミリスチン酸テトラエチルアンモニウム、オレイン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム、ステアリン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム、ラウリン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム、パルミチン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム、ミリスチン酸テトラｎ−ブチルアンモニウム等が挙げられる。
これらの中でも、離型性が特に優れる点で、オレイン酸アンモニウムが好ましい。
【００７２】
光沢層には、インク吸収性を阻害しない限り、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、カチオン変性ＰＶＡ、シリル変性ＰＶＡ等の変性ＰＶＡなどのＰＶＡ類、カルボン酸系化合物、スルホン酸系化合物、リン酸系化合物、エステル系化合物、またはこれらの塩などのアニオン性化合物、ポリビニルアセタール、ポリエチレンイミン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドなどの水溶性樹脂や、カゼイン、大豆タンパク、合成タンパク質類、酸化でんぷん、エステル化デンプン等のデンプン類、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルセルロース等などのセルロース誘導体、グアーガム類、（メタ）アクリル酸エステルの（共）重合体、スチレン樹脂、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、エポキシ系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸（共）重合体、メラミン系樹脂、尿素系樹脂又はオレフィン系樹脂などのような、一般に塗布紙分野で公知公用の各種添加剤接着剤を適宜含有してもよい。
各種添加剤の中でも、カルボン酸系化合物、スルホン酸系化合物、リン酸系化合物、エステル系化合物、またはこれらの塩などのアニオン性化合物、カゼイン、大豆タンパク、合成タンパク質類、酸化でんぷん、エステル化デンプン等のデンプン類、セルロース誘導体、エチレン−酢酸ビニル共重合体は、鏡面ロールからの離型性がよいので好ましい。
また、必要に応じて、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の保存性向上剤、界面活性剤、消泡剤、帯電防止剤、防腐剤、着色剤、蛍光増白剤、分散剤、増粘剤等の各種助剤を添加することもできる。
【００７３】
［インクジェット記録体の製造方法］
支持体上にインク受容層が設けられた基材に、本発明の複合微粒子を含む光沢層が形成されたインクジェット記録体の製造方法について、図１を参照しつつ説明する。係る構成のインクジェット記録体の製造方法では、まず、支持体１１上にインク受容層１２を設けてなる基材１０を用意する。
【００７４】
（基材の作成）
支持体１１上にインク受容層１２が設けられた基材１０を得るには、溶媒中に、上述したインク受容層の成分を分散させた塗布液を支持体に塗工し、乾燥させる。インク受容層１２用の塗布液の溶媒としては、特に限定はないが、塗工適性などの理由で、水が好ましい。
インク受容層１２の塗工量の合計は、５〜７０ｇ／ｍ２が好ましく、１０〜５０ｇ／ｍ２がより好ましく、１５〜４０ｇ／ｍ２が更に好ましい。また、塗工層の厚みの合計は、７〜１０５μｍが好ましく、１５〜７５μｍがより好ましく、２２〜６０μｍがさらに好ましい。塗工量が５ｇ／ｍ２未満の場合、光沢層が十分に形成できない可能性があるのみならず、インク吸収性が低下し、記録適性が劣る場合があり、塗工量が７０ｇ／ｍ２を超えると、塗工層の強度が低下し、記録用紙の断裁加工時や、プリンタでの記録体の搬送時に、トラブルを起こしやすくなるおそれがある。
塗工工程は１回でもよく、また、複数回行ってもよい。塗工工程を複数回行うと、インク受容層を多層とすることもできる。また、塗布液を複数回に分けて塗工することで、ひび割れの発生を抑制しながら多くの塗布液を塗工することができ、インク受容層のインク吸収容量を大きくすることができる。
【００７５】
インク受容層１２の接着剤がＰＶＡ類の場合、インク受容層１２に架橋剤を添加することにより、ひび割れを抑制しながらインク受容層１２の塗工量を増すことができ、インク受容層１２のインク吸収容量を大きくすることができる。
この場合、あらかじめ、インク受容層１２用の塗布液中に架橋剤とを混合すると、時間の経過とともにＰＶＡ類と架橋剤との反応による塗布液の粘度上昇が起こり、きれいなインク受容層を形成できない可能性がある。このため、インク受容層１２用の塗布液に架橋剤を添加する場合は、塗布液を、ＰＶＡ類成分を含む液と、架橋剤成分を含む液との少なくとも２液、必要に応じて複数の液に分けておき、塗工時に連続混合して塗布液を供給、塗工することが好ましい。
連続混合で均一に混合するために、それぞれの液をタンク（釜）に供給しながら攪拌機で攪拌してもよいが、攪拌の強さによっては塗布液中に空気を巻き込み泡が発生し、インク受容層のひび割れの原因となる場合がある。塗布液中に泡を発生させることなく均一に混合するには、インライン型の回転式ミキサー等の動的連続混合機、スタティックミキサー等の静的連続混合機等の混合機を用いることが好ましい。
また、インク受容層１２を多層とし、その多層の間に架橋剤の水溶液を塗布することによって、インク受容層１２に架橋剤を添加することもできる。
【００７６】
インク受容層１２の塗工装置としては、ブレードコーター、エアナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーター、スプレーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、リンプコーター、スライドビードコーター、多層式スロットダイコーター、多層式スライドダイコーター、及び多層式カーテンダイコーター等、各種公知の塗工装置が利用できる。特に、ダイコーターやカーテンコーター、スライドビードコーター、多層式スロットダイコーター、多層式スライドダイコーター、及び多層式カーテンダイコーターは、塗工量の均一性に優れるため、特に高精細な記録を目的とする光沢タイプのインクジェット記録体には、好ましい塗工方法である。
塗膜の乾燥方法としては、特に限定はないが、従来から公知公用の熱風乾燥、ガスヒーター乾燥、高周波乾燥、電気ヒーター乾燥、赤外線ヒーター乾燥、レーザー乾燥、電子線乾燥等の各種加熱乾燥方式が適宜採用される。
【００７７】
また、インク受容層１２の接着剤がＰＶＡ類の場合、支持体１１とインク受容層１２の間に架橋剤含有層を形成してもよい。これにより、ひび割れを抑制しながらインク受容層１２の塗工量を増すことができ、インク受容層１２のインク吸収容量を大きくすることができる。
【００７８】
支持体１１とインク受容層１２の間に架橋剤含有層を形成するには、インク受容層１２の形成に先立ち、溶媒中に、上述した架橋剤含有層の含有成分を分散あるいは溶解させた塗布液を支持体に塗工し、乾燥させる。架橋剤含有層用の塗布液の溶媒としては、特に限定はないが、塗工適性などの理由で、水が好ましい。
架橋剤含有層の塗工量は、０．１〜３．０ｇ／ｍ２が好ましい。塗工量が０．１ｇ／ｍ２未満の場合、架橋剤含有層が十分に形成できない可能性があるのみならず、架橋剤としての効果が弱いため、インク受容層１２の塗工量を増やすことが出来ない場合がある。一方、塗工量が３．０ｇ／ｍ２を超えると、架橋剤含有層上にインク受容層１２の塗布液を塗工する際に、インク受容層１２の塗布液が塗工直後から架橋によって増粘し、塗工を行うのが難しくなるおそれがある。
【００７９】
架橋剤含有層の塗工装置としては、ブレードコーター、エアナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーター、スプレーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、リンプコーター、スライドビードコーター、多層式スロットダイコーター、多層式スライドダイコーター、及び多層式カーテンダイコーター等、各種公知の塗工装置が利用できる。
塗膜の乾燥方法としては、特に限定はないが、従来から公知公用の熱風乾燥、ガスヒーター乾燥、高周波乾燥、電気ヒーター乾燥、赤外線ヒーター乾燥、レーザー乾燥、電子線乾燥等の各種加熱乾燥方式が適宜採用される。
【００８０】
（光沢層の形成）
次に、基材１０のインク受容層１２上に光沢層３０を形成する。基材１０上に光沢層３０を形成するには、溶媒中に、上述した光沢層の成分を分散させた塗布液を基材１０にプレス塗工する。光沢層３０用の塗布液の溶媒としては、特に限定はないが、塗工適性などの理由で、水が好ましい。
【００８１】
塗布液のプレス塗工は、インク受容層１２に塗布された塗布液が湿潤状態又は半乾燥状態にあるうちに、基材１０を、光沢ロール２１とプレスロール２２との間を通過させてプレス塗工することにより行われる。
【００８２】
光沢ロール２１の表面温度は、乾燥条件等の操業性、インク受容層１２への密着性、光沢層表面の光沢性から、４０〜１３０℃の範囲が好ましく、７０〜１２０℃の範囲がより好ましい。光沢ロール２１の表面温度が、４０℃未満の場合は、インクジェット記録体の表面強度が低下するおそれや、インク受容層１２の接着剤が軟化し難く、インク受容層１２への密着性が悪化したりする。１３０℃を超える場合は、インク受容層１２の接着剤の成膜が進みすぎるためインク吸収性が低下したり、塗布液が沸騰し、光沢面が悪化するおそれがある。
光沢ロール２１は、耐熱性が高く、優れた鏡面性が得られることから、金属ロールであることが好ましい。また、表面の平均線中心粗さが１０μｍ以下であることが好ましい。
【００８３】
プレスロール２２の材質は特に制限されないが、光沢ロールによって加熱されることから、耐熱樹脂が好ましい。
プレスロール２２によるプレスは、光沢ロール２１とプレスロール２２の間の線圧が、好ましくは５０〜３５００Ｎ／ｃｍ、より好ましくは２００〜３０００Ｎ／ｃｍになるように行うことが好ましい。光沢ロール２１とプレスロール２２の間の線圧が、５０Ｎ／ｃｍ未満の場合は、線圧が均一になり難く光沢性が低下したり、光沢層のインク受容層１２に対する密着性が低下し、表面がひび割れたりするおそれがあり、３５００Ｎ／ｃｍを超える場合は、過度の圧力でプレスするためにインク受容層１２および光沢層の空隙を破壊するためにインク吸収性が低下するおそれがある。
【００８４】
光沢層の塗布量は、乾燥質量として、０．０１〜３ｇ／ｍ２が好ましく、０．０３〜２ｇ／ｍ２がより好ましく、０．０５〜１ｇ／ｍ２が更に好ましい。塗布量が０．０１ｇ／ｍ２未満の場合は、十分な光沢層を形成することが困難なために、光沢度が低くなりやすい。また、塗布量が３ｇ／ｍ２を超えると、光沢度は得やすいが、インク吸収性や記録濃度が低下しやすい。
また、光沢層に微粒子としてコロイダルシリカやアルミナ等の一次粒子を用いる場合にはインク吸収速度が低くなりやすいため、光沢層の厚みが０．０２〜４μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがより好ましい。また、インク吸収容量とインク吸収速度との兼ね合いから、光沢層の厚みがインク受容層１２全体の厚みの１／１０以下であることが好ましく、１／２０以下であることがより好ましい。
【００８５】
なお、プレス塗工は、図１に示す方法で行わなくてもよい。すなわち、光沢ロール２１とプレスロール２２とを左右に並べて配置し、光沢ロール２１とプレスロール２２との接線の上部に塗布液溜まりを形成して、縦方向に基材１０を通過させたが、例えば、光沢ロールとプレスロールを上下に並べて配置し、インク受容層上に塗布液を供給して、横方向に積層体を通過させてもよい。
【００８６】
また、インク受容層、光沢層等の塗工層の形成方法は、上述のように塗布液を塗工する方法に限定されない。例えば、特開平１１−２５４８１７号公報に記載されているように、粉体状の塗工層成分を混合したものを乾式塗工し、これを加熱溶融して定着させることによっても形成できる。
【実施例】
【００８７】
以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、もちろんこれらに限定されるものではない。なお、例中の「部」および「％」は、特に断わらない限りそれぞれ質量部および質量％を示す。
【００８８】
［実施例１］
（紙支持体の作成）
ＣＳＦ（ＪＩＳ Ｐ ８１２１）が２５０ｍＬまで叩解した針葉樹晒クラフトパルプ（ＮＢＫＰ）と、ＣＳＦが２５０ｍＬまで叩解した広葉樹晒クラフトパルプ（ＬＢＫＰ）とを、質量比２：８の割合で混合し、濃度０．５％のパルプスラリーを調製した。このパルプスラリー中に、パルプ絶乾質量に対し、カチオン化澱粉２．０％、アルキルケテンダイマー０．４％、アニオン化ポリアクリルアミド樹脂０．１％、ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリン樹脂０．７％を添加し、十分に攪拌して抄紙用パルプスラリーを調製した。上記組成のパルプスラリーを長網抄紙機で抄紙し、得られた湿紙をドライヤー、サイズプレス、マシンカレンダーを通し、坪量１８０ｇ／ｍ２、密度１．０ｇ／ｃｍ３の原紙を製造した。上記サイズプレス工程に用いたサイズプレス液は、カルボキシル変性ポリビニルアルコールと塩化ナトリウムとを２：１の質量比で混合し、これを水に加えて過熱溶解し、濃度５％に調製したものであり、このサイズプレス液を未サイズプレス原紙の両面に、合計で２５ｍｌ／ｍ２の塗布量になるように塗布して、サイズプレス原紙を作製した。
【００８９】
（ポリオレフィン樹脂組成物１の調製）
長鎖型低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９２６ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２０ｇ／１０分）３５部、低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９１９ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２ｇ／１０分）５０部、アナターゼ型二酸化チタン（商品名：Ａ−２２０、石原産業社製）１５部、ステアリン酸亜鉛０．１部、酸化防止剤（商品名：Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０、チバガイギー社製）０．０３部、群青（商品名：青口群青ＮＯ．２０００、第一化成社製）０．０９部、蛍光増白剤（商品名：ＵＶＩＴＥＸ ＯＢ、チバガイギー社製）０．３部を混合し、ポリオレフィン樹脂組成物１を調製した。
【００９０】
（ポリオレフィン樹脂組成物２の調製）
高密度ポリエチレン樹脂（密度０．９５４ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２０ｇ／１０分）６５部、低密度ポリエチレン樹脂（密度０．９１９ｇ／ｃｍ３、メルトインデックス２ｇ／１０分）３５部を溶融混合し、ポリオレフィン樹脂組成物２を調製した。
【００９１】
（樹脂被覆した支持体の作成）
前記紙支持体の両面に、コロナ放電処理を施した後、バンバリーミキサーで混合分散したポリオレフィン樹脂組成物１を、紙支持体のフェルト面側に塗工量２０ｇ／ｍ２となるように、ポリオレフィン樹脂組成物２を、紙支持体のワイヤー側に、塗工量２５ｇ／ｍ２となるように、Ｔ型ダイを有する溶融押出し機（溶融温度３２０℃）で塗布し、フェルト面側を鏡面のクーリングロール、ワイヤー面側を粗面のクーリングロールで冷却固化して、平滑度（王研式、Ｊ．ＴＡＰＰＩ Ｎｏ．５）が６０００秒、不透明度（ＪＩＳ Ｐ ８１３８）が９３％の樹脂被覆した支持体を作製した。
【００９２】
（第２インク受容層用塗布液の調製）
湿式法合成非晶質シリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ７０３Ａ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）１００部、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１４５、重合度：４５００、ケン化度：９９％、クラレ社製）の７％水溶液５１部、水６部からなる組成物を混合攪拌して第２インク受容層用塗布液を調製した。
【００９３】
（第２インク受容層の塗工）
第２インク受容層用塗布液をダイコーターで乾燥塗工量が２０ｇ／ｍ２となるように、樹脂被覆した支持体上に、塗布乾燥して第２インク受容層を設けた。厚みは３０μｍであった。
【００９４】
（第１インク受容層用塗布液Ａの調製）
気相法シリカ（商品名：レオロシールＱＳ−３０、平均一次粒子径９ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、トクヤマ社製）をホモミキサーによりイオン交換水中において分散粉砕する工程と、その後に、ナノマイザー（商品名：ナノマイザー、ナノマイザー社製）を用いて粉砕分散する工程との組み合わせを繰り返し、得られた分散液を分級して、平均二次粒子径８０ｎｍの１０％分散液を調整した。この分散液のシリカ固形分換算１００部に、カチオン性化合物として、５員環アミジン構造を有するポリビニルアミン共重合体アンモニウム塩酸塩（商品名：ハイマックスＳＣ−７００Ｍ、分子量：３万、ハイモ社製）１１部（固形分換算）を添加し、増粘した凝集体分散液を得た。この増粘した凝集体分散液を、再度、ホモミキサーにより分散し、さらにナノマイザーを用いて、粉砕分散を繰り返し、平均二次粒子径が２００ｎｍの１０％カチオン化シリカ分散液を調製した。次いで、このカチオン化シリカ分散液１００部にポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１４５、重合度：４５００、ケン化度：９９％、クラレ社製）の７％水溶液２６部、水２２部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ａを調製した。
【００９５】
（第１インク受容層の塗工）
第２インク受容層に、０．５％硼砂水をバーコーターで２０ｇ／ｍ２塗布後、第１インク受容層用塗布液Ａをダイコーターで乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ２となるように、塗布乾燥して第１インク受容層を設けた。厚みは１８μｍであった。
【００９６】
（カチオン性顔料分散液１の調製）
ポリ塩化アルミニウム５０％水溶液（商品名：タキバイン＃１５００、多木化学社製）４０部をイオン交換水４００部で希釈して、攪拌しながら、３０℃に昇温した。次いで、アニオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：カタロイドＳＩ−５０、平均一次粒子径：２５ｎｍ、触媒化成工業社製）５００部をイオン交換水７００部で希釈した後、上記ポリ塩化アルミニウム水溶液に、１分あたり８部の割合で、攪拌しながら、添加した。添加後、温度を３５℃に保持して、1時間攪拌した。次いで、対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、２００ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返した後、イオン交換水を加え、平均粒子径が３５ｎｍの１６％カチオン性顔料分散液１を調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で１％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は５２．９ｍＶであった。
【００９７】
（複合微粒子分散液Ａの調製）
前記カチオン性顔料分散液１をイオン交換水で１０％に希釈し、この分散液４５９部を、アニオン性化合物アクリル酸−マレイン酸共重合体のナトリウム塩（商品名：ポイズ５２０、花王社製）５％水溶液８３部中に、攪拌しながら投入し、さらに１４部のイオン交換水を添加した後、ホモミキサー（回転速度：１５００ｒｐｍ）で３０分ほど分散した。その分散液を対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、１５０ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が４０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ａを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４０．０ｍＶであった。
【００９８】
（光沢層用塗布液Ａの調製）
複合微粒子分散液Ａ １６３部、オレイン酸アンモニウム（商品名：ＤＥＦ−１１６Ｔ、日新化学研究所社製）２部、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物（商品名：オルフィンＥ１００４、日信化学社製）７部、水８２７部からなる組成物を混合攪拌して光沢層用塗布液Ａを調製した。
【００９９】
（インクジェット記録体の作成）
樹脂被覆した支持体にインク受容層を設けた基材上に、光沢層用塗布液Ａを図１の装置を用いて、塗布し、同時に、表面温度１００℃としたクロム鍍金仕上げした鏡面ドラムに線圧２０００Ｎ／ｃｍで圧接し、直ちに鏡面ロールより離型し、ドライヤーで乾燥して光沢層を設け、インクジェット記録体を作製した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１００】
［実施例２］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｂを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作製した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１０１】
（複合微粒子分散液Ｂの調製）
前記カチオン性顔料分散液１をイオン交換水で１０％に希釈し、この分散液４６７部を、アニオン性化合物アクリル酸ホモポリマーのナトリウム塩（商品名：ポイズ５３０、花王社製）５％水溶液６５部中に、攪拌しながら投入し、さらに２３部のイオン交換水を添加した後、ホモミキサー（回転速度：１５００ｒｐｍ）で３０分ほど分散した。その分散液を対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、１５０ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が４０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｂを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５４．７ｍＶであった。
【０１０２】
（光沢層用塗布液Ｂの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｂを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｂを調製した。
【０１０３】
［実施例３］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｃを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１０４】
（カチオン性顔料分散液２の調製）
アニオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：カタロイドＳＩ−５０、平均一次粒子径：２５ｎｍ、触媒化成工業社製）をイオン交換水で２０％に希釈し、
この分散液５００部を、カチオン性化合物ジアリルアミン系重合物（商品名：ＰＡＳ−Ｈ−１０Ｌ、分子量：約２０万、４級アンモニウム、日東紡社製）５％水溶液１００部中に、攪拌しながら投入し、さらに１８部のイオン交換水を添加した後、ホモミキサー（回転速度：１５００ｒｐｍ）で３０分ほど分散した。その分散液を対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、１５０ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が３０ｎｍの１７％カチオン性顔料分散液２を調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で１％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は５５．１ｍＶであった。
【０１０５】
（複合微粒子分散液Ｃの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性顔料分散液２を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が３５ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｃを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４９．４ｍＶであった。
【０１０６】
（光沢層用塗布液Ｃの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｃを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｃを調製した。
【０１０７】
［実施例４］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｄを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１０８】
（複合微粒子分散液Ｄの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：スノーテックスＡＫ−Ｌ、平均一次粒子径：４５ｎｍ、日産化学工業社製）を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が５０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｄを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５３．７ｍＶであった。
【０１０９】
（光沢層用塗布液Ｄの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｄを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｄを調製した。
【０１１０】
［実施例５］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｅを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１１１】
（複合微粒子分散液Ｅの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４０００Ｃ、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が４０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｅを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５５．２ｍＶであった。
【０１１２】
（光沢層用塗布液Ｅの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｅを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｅを調製した。
【０１１３】
［実施例６］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｆを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１１４】
（複合微粒子分散液Ｆの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性の一次粒子に分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４００１、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が４０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｆを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４５．５ｍＶであった。
【０１１５】
（光沢層用塗布液Ｆの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｆを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｆを調製した。
【０１１６】
［実施例７］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｇを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１１７】
（カチオン性顔料分散液３の調製）
イオン交換水３１７５部に０．２％塩酸水溶液５００部を加え、攪拌しながら、γ結晶のアルミナ粉体（商品名：ＡＫＰ−Ｇ０１５、平均一次粒子径：１５ｎｍ、平均粒子径：２．４μｍ、住友化学社製）５００部を加え分散したのち、攪拌しながら８０℃に昇温した。次いで、攪拌しながら、強酸性陽イオン交換樹脂（商品名：バイオレックスＭＳ２−５０１、バイオラット社製）２５００部を徐々に添加し、８０℃に保持しながら、１０時間攪拌を行った。その後、室温まで冷却した後、イオン交換樹脂を取り除き、さらに、濃縮を行い、平均粒子径が１１０ｎｍの１２％カチオン性顔料分散液３を調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は５２．１ｍＶであった。
【０１１８】
（複合微粒子分散液Ｇの調製）
カチオン性顔料分散液１の１０％分散液４６７部のかわりに、カチオン性顔料分散液３の１０％分散液４５５部、アニオン性化合物アクリル酸ホモポリマーのナトリウム塩５％水溶液を６５部のかわりに、９１部、イオン交換水を２３部のかわりに、１０部を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が１２０ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｇを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４３．７ｍＶであった。
【０１１９】
（光沢層用塗布液Ｇの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｇを１６３部を用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｇを調製した。
【０１２０】
［実施例８］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｈを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１２１】
（複合微粒子分散液Ｈの調製）
擬ベーマイトゾル（商品名：カタロイドＡＳ−３、平均一次粒子径：９ｎｍ、平均粒子径：２００ｎｍ、触媒化成工業社製）４６３部を、アニオン性化合物アクリル酸ホモポリマーのナトリウム塩の５％水溶液５９部中に、攪拌しながら投入し、さらに４９部のイオン交換水を添加した後、ホモミキサー（回転速度：１５００ｒｐｍ）で３０分ほど分散し、平均粒子径が３００ｎｍの７％複合微粒子分散液Ｈを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−３９．３ｍＶであった。
【０１２２】
（光沢層用塗布液Ｈの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｈを２１０部、水を８２７部のかわりに、７８１部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｈを調製した。
【０１２３】
［実施例９］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｉを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１２４】
（複合微粒子分散液Ｉの調製）
複合微粒子分散液Ｈを対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、１５０ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が１１０ｎｍの７％複合微粒子分散液Ｉを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４８．１ｍＶであった。
【０１２５】
（光沢層用塗布液Ｉの調製）
複合微粒子分散液Ｈを２１０部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｉを２１０部用いた以外は、実施例８の光沢層塗布液Ｈの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｉを調製した。
【０１２６】
［実施例１０］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｊを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１２７】
（カチオン性顔料分散液４の調製）
θ結晶６０％、γ結晶２０％、δ結晶２０％の気相法アルミナゾル（商品名：ＣＡＢ−Ｏ−ＳＰＥＲＳＥ ＰＧ ００３、平均一次粒子径：２０ｎｍ、平均粒子径：１５０ｎｍ、ＣＡＢＯＴ社製）を対向衝突型粉砕分散装置アルティマイザーシステム（型番：ＨＪＰ−２５００５、スギノマシン社製）を用いて、２００ＭＰａの圧力で粉砕分散作業を繰り返し、平均粒子径が１００ｎｍの４０％カチオン性顔料分散液４を調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は６１．５ｍＶであった。
【０１２８】
（複合微粒子分散液Ｊの調製）
カチオン性顔料分散液１のかわりに、カチオン性顔料分散液４を用いた以外は、実施例２の複合微粒子分散液Ｂの調製と同様の方法で、平均粒子径が１０５ｎｍの９％複合微粒子分散液Ｊを調製した。この分散液をゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．０５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５８．６ｍＶであった。
【０１２９】
（光沢層用塗布液Ｊの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｊを１６３部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｊを調製した。
【０１３０】
［実施例１１］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｋを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１３１】
（光沢層用塗布液Ｋの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｃを１２２部と複合微粒子分散液Ｇを４１部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｋを調製した。
【０１３２】
［実施例１２］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｌを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１３３】
（光沢層用塗布液Ｌの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、複合微粒子分散液Ｆを１２２部と複合微粒子分散液Ｇを４１部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｌを調製した。
【０１３４】
[実施例１３]
第１インク受容層用塗布液Ａのかわりに、下記第１インク受容層用塗布液Ｂを用いた以外は、実施例６と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。第１インク受容層の乾燥塗工量は１０ｇ／ｍ２、厚みは１８μｍであった。
【０１３５】
（第１インク受容層用塗布液Ｂの調製）
気相法シリカ（商品名：アエロジル３００、平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、日本アエロジル社製）１００部、５０モル％メトキシカルボニル変性ポリアリルアミン塩酸塩（質量平均分子量約１．５万）の２０％水溶液５０部と、イオン交換水４９７部とを混合した。これにより得られた混合物を攪拌装置により分散した後、ナノマイザーを用いて粉砕分散処理した。次いで、得られた処理液に、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１４５、クラレ社製、ケン化度９９％、平均重合度４，５００）の７％水溶液２８３部、水３６８部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ｂを得た。
【０１３６】
[実施例１４]
第１インク受容層用塗布液Ａのかわりに、下記第１インク受容層用塗布液Ｃを用いた以外は、実施例６と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。第１インク受容層の乾燥塗工量は１０ｇ／ｍ２、厚みは１７μｍであった。
【０１３７】
（第１インク受容層用塗布液Ｃの調製）
気相法シリカ（商品名：アエロジル３００、平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、日本アエロジル社製）１００部、５０モル％メトキシカルボニル変性ポリアリルアミン塩酸塩（質量平均分子量約１．５万）の２０％水溶液５０部と、イオン交換水４９７部とを混合した。これにより得られた混合物を攪拌装置により分散した後、ナノマイザーを用いて粉砕分散処理した。次いで、得られた処理液に、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２４５、クラレ社製、ケン化度８８％、平均重合度４，５００）の７％水溶液３４６部、水３４９部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ｃを得た。
【０１３８】
[実施例１５]
（架橋剤含有層用塗布液の調製）
５０℃の温水８７４部にカチオン化セルロース（商品名：ポイズＣ−１５０Ｌ、花王社製、平均重合度１，５００）１部を攪拌しながら投入し溶解した後、硼砂を５０部攪拌しながら投入し溶解した。さらに、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物（商品名：オルフィンＥ１００４、日信化学社製）の０．１％水溶液７５部を混合攪拌して架橋剤含有層用塗布液を調製した。
【０１３９】
（架橋剤含有層の塗工）
架橋剤含有層用塗布液をバーコーターで乾燥塗工量が１．２ｇ／ｍ２となるように、樹脂被覆した支持体上に塗布乾燥して架橋剤含有層を設けた。
【０１４０】
（第１インク受容層用塗布液Ｄの調製）
気相法シリカ（商品名：アエロジル３００、平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、日本アエロジル社製）１００部、５０モル％メトキシカルボニル変性ポリアリルアミン塩酸塩（質量平均分子量約１．５万）の２０％水溶液５０部と、イオン交換水４９７部とを混合した。これにより得られた混合物を攪拌装置により分散した後、ナノマイザーを用いて粉砕分散処理した。次いで、得られた処理液に、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２４５、クラレ社製、ケン化度８８％、平均重合度４，５００）の８％水溶液３０２部、水９部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ｄを得た。
【０１４１】
（第１インク受容層の塗工）
架橋剤含有層を設けた、樹脂被覆した支持体上に、第１インク受容層用塗布液Ｄをダイコーターで乾燥塗工量が３０ｇ／ｍ２となるように、塗布乾燥して第１インク受容層を設けた。厚みは５１μｍであった。
【０１４２】
（インクジェット記録体の作成）
樹脂被覆した支持体に、架橋剤含有層及びインク受容層を順次設けた基材上に、上記光沢層用塗布液Ｆを図１の装置を用いて、塗布し、同時に、表面温度１００℃としたクロム鍍金仕上げした鏡面ドラムに線圧２０００Ｎ／ｃｍで圧接し、直ちに鏡面ロールより離型し、ドライヤーで乾燥して光沢層を設け、インクジェット記録体を作製した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１４３】
[実施例１６]
（第１インク受容層用塗布液Ｅの微粒子成分液の調製）
気相法シリカ（商品名：アエロジル３００、平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ、日本アエロジル社製）１００部、５０モル％メトキシカルボニル変性ポリアリルアミン塩酸塩（質量平均分子量約１．５万）の２０％水溶液５０部と、イオン交換水４９７部とを混合した。これにより得られた混合物を攪拌装置により分散した後、ナノマイザーを用いて粉砕分散処理した。次いで、得られた処理液に水７６部を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液Ｅの微粒子成分液を得た。
【０１４４】
（第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液の調製）
ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２３５、クラレ社製、ケン化度８８％、平均重合度３，５００）の７％水溶液３４６部、水６８部からなる組成物を混合攪拌して、第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液を得た。
【０１４５】
（第１インク受容層用塗布液Ｅの架橋剤成分液の調製）
５０℃の温水１０１部に硼酸を２部攪拌しながら投入、溶解し第１インク受容層用塗布液Ｅの架橋剤成分液を調製した。
【０１４６】
（第１インク受容層用塗布液Ｅの調製）
第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液、第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液、第１インク受容層用塗布液Ｅの架橋剤成分液を下記の質量比率でスタティックミキサーに連続供給して混合し、第１インク受容層用塗布液Ｅを調製した。スタティックミキサーは、１８エレメントを２本接続し使用した。
（各成分液の質量比率）
第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液 ７
第１インク受容層用塗布液ＥのＰＶＡ類成分液 ４
第１インク受容層用塗布液Ｅの架橋剤成分液 １
【０１４７】
（第１インク受容層の塗工）
樹脂被覆した支持体上に、第１インク受容層用塗布液Ｅをダイコーターで乾燥塗工量が２３ｇ／ｍ２となるように、塗布乾燥して第１インク受容層を設けた。厚みは３９μｍであった。
【０１４８】
（インクジェット記録体の作成）
樹脂被覆した支持体にインク受容層を設けた基材上に、上記光沢層用塗布液Ｆを図１の装置を用いて、塗布し、同時に、表面温度１００℃としたクロム鍍金仕上げした鏡面ドラムに線圧２０００Ｎ／ｃｍで圧接し、直ちに鏡面ロールより離型し、ドライヤーで乾燥して光沢層を設け、インクジェット記録体を作製した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１４９】
[実施例１７]
第１インク受容層用塗布液Ｄのかわりに、上記第１インク受容層用塗布液Ｅを用いた以外は、実施例１５と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。第１インク受容層の乾燥塗工量は３２ｇ／ｍ２、厚みは５４μｍであった。
【０１５０】
[実施例１８]
光沢層用塗布液Ｆのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｘを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１５１】
（カゼイン溶液の調製）
５０℃の温水２２６部に２７％アンモニア水溶液４部を混合攪拌した後、カゼイン（商品名：ラクチックカゼイン、ニュージーランド産）４０部４０部をさらに混合攪拌してカゼイン溶液を調製した。
【０１５２】
（光沢層用塗布液Ｘの調製）
複合微粒子分散液Ｆ ４４６部、オレイン酸アンモニウム（商品名：ＤＥＦ−１１６Ｔ、日新化学研究所社製）５部、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物（商品名：オルフィンＥ１００４、日信化学社製）２０部、上記カゼイン溶液２７部、水２５０２部からなる組成物を混合攪拌して光沢層用塗布液Ｘを調製した。
【０１５３】
［比較例１］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｍを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１５４】
（光沢層用塗布液Ｍの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部用いるかわりに、アニオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：スノーテックスＯＬ、平均一次粒子径：４５ｎｍ、日産化学工業社製）を７０部、水を８２７部用いるかわりに、９２１部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｍを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５１．９ｍＶであった。
【０１５５】
［比較例２］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｎを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１５６】
（光沢層用塗布液Ｎの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部のかわりに、アニオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４０００Ａ、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）を３７部、水を８２７部のかわりに、９５４部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｎを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−５１．６ｍＶであった。
【０１５７】
［比較例３］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｏを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１５８】
（光沢層用塗布液Ｏの調製）
複合微粒子分散液Ａを１６３部のかわりに、アニオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：カタロイドＳＩ−４５Ｐ、平均一次粒子径：４５ｎｍ、触媒化成工業社製）を３６部、水を８２７部のかわりに、９５５部用いた以外は、実施例１の光沢層塗布液Ａの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｏを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は−４５．１ｍＶであった。
【０１５９】
［比較例４］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｐを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６０】
（光沢層用塗布液Ｐの調製）
カチオン性顔料分散液１ ８９部、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド（商品名：コータミン８６Ｗ、花王社製）３部、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物（商品名：オルフィンＥ１００４、日信化学社製）７部、水９０１部からなる組成物を混合攪拌して光沢層用塗布液Ｐを調製した。
【０１６１】
［比較例５］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｑを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６２】
（光沢層用塗布液Ｑの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性顔料分散液２を８４部、水を９０１部のかわりに、９０６部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｑを調製した。
【０１６３】
［比較例６］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｒを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６４】
（光沢層用塗布液Ｒの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：スノーテックスＡＫ−Ｌ、平均一次粒子径：４５ｎｍ、日産化学工業社製）を６８部、水を９０１部のかわりに、９２２部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｒを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は５１．１ｍＶであった。
【０１６５】
［比較例７］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｓを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６６】
（光沢層用塗布液Ｓの調製）
カチオン性顔料分散液１ ８９部のかわりに、カチオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４０００Ｃ、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）３６部、水を９０１部のかわりに、９５５部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｓを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は４９．９ｍＶであった。
【０１６７】
［比較例８］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｔを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１６８】
（光沢層用塗布液Ｔの調製）
カチオン性顔料分散液１ ８９部のかわりに、カチオン性の一次粒子の状態で分散しているコロイダルシリカ（商品名：Ｓｙｌｏｊｅｔ４００１、平均一次粒子径：３５ｎｍ、ＧＲＡＣＥ Ｄａｖｉｓｏｎ社製）３６部、水を９０１部のかわりに、９５５部を用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｔを調製した。上記コロイダルシリカをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は４６．３ｍＶであった。
【０１６９】
［比較例９］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、光沢層用塗布液Ｕを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１７０】
（光沢層用塗布液Ｕの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性顔料分散液３を１１９部、水を９０１部のかわりに、８７１部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｕを調製した。
【０１７１】
［比較例１０］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｖを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１７２】
（光沢層用塗布液Ｖの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性の擬ベーマイトのゾル（商品名：カタロイドＡＳ−３、平均一次粒子径：９ｎｍ、平均粒子径：２００ｎｍ、触媒化成工業社製）１７８部、水を９０１部のかわりに、８１２部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｖを調製した。上記擬ベーマイトのゾルをゼータ電位測定装置（型番：ＺＥＴＡＳＩＺＥＲ ２０００、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）を用いてイオン交換水で０．５％に希釈した後、測定したところ、ゼータ電位は３６．２ｍＶであった。
【０１７３】
［比較例１１］
光沢層用塗布液Ａのかわりに、下記の光沢層用塗布液Ｗを用いた以外は、実施例１と同様の方法でインクジェット記録体を作成した。光沢層の厚みは０．２μｍであった。
【０１７４】
（光沢層用塗布液Ｗの調製）
カチオン性顔料分散液１を８９部用いるかわりに、カチオン性顔料分散液４を３６部、水を９０１部のかわりに、９５５部用いた以外は、比較例４の光沢層塗布液Ｐの調製と同様の方法で光沢層用塗布液Ｗを調製した。
【０１７５】
［評価方法］
前記各実施例および比較例について、離型性、２０度表面光沢度、７５度表面光沢度、インク吸収性、印字濃度、顔料インク耐擦過性を評価した結果を表１に示した。各評価については、下記の方法で行った。
【０１７６】
（離型性）
光沢層形成時において、鏡面ロールからの離型性について官能評価を行った。
○：問題なく連続操業が可能である。
△：操業途中で鏡面ロールの汚れが発生する頻度が高く、実用上問題あり。
×：操業途中で鏡面ロールの汚れが発生する頻度がかなり高く、実用上問題あり。
【０１７７】
（２０度表面光沢度）
ＪＩＳ Ｚ ８７４１に記載の方法で、インクジェット記録体の２０度表面光沢度を測定した。
【０１７８】
（７５度表面光沢度）
ＪＩＳ Ｐ ８１４２に記載の方法で、インクジェット記録体の７５度表面光沢度を測定した。
【０１７９】
（インク吸収性）
インク吸収性は、染料インクジェットプリンターＰＩＸＵＳ ｉＰ４１００（キヤノン社製）を使用し、インクジェット記録体にグリーン色ベタ印字を行い、そのベタ印字部のインク吸収性を目視観察し、官能評価を行った。
◎：ベタ印字部にムラが見られず、良好な状態。
○：ベタ印字部にムラが若干見られるが、実用上問題なし。
△：ベタ印字部にムラが多少見られ、使用状況によっては問題あり。
【０１８０】
（印字濃度）
印字濃度は、染料インクジェットプリンターＰＭ−Ｇ８２０（セイコーエプソン社製）および染料インクジェットプリンターＰＩＸＵＳ ｉＰ８６００（キヤノン社製）を使用し、それぞれのプリンターで、インクジェット記録体に黒ベタ印字を行い、２４時間放置後、そのベタ印字部をグレタグマクベス反射濃度計（グレタグマクベス社製、ＲＤ−１９I）を用いて印字濃度を測定し、５点測定の平均印字濃度を算出した。
【０１８１】
（顔料インク耐擦過性）
顔料インク耐擦過性は、顔料インクジェットプリンターＰＸ−Ｇ９２０（セイコーエプソン社製）を使用し、インクジェット記録体に黒ベタ印字を行い、印字直後、そのベタ印字部を、指で５回擦り、官能評価を行った。
◎：ベタ印字部のインクが取れず、良好な状態。
○：ベタ印字部のインクがほとんど取れず、実用上問題なし。
×：ベタ印字部のインクが取れやすく、実用上問題あり。
【０１８２】
【表１】
【０１８３】
表１に示すように、実施例のインクジェット記録体は、いずれも、光沢層形成時において、鏡面ロールからの離型性に優れると共に、顔料インク耐擦過性も良好であり、かつ、他の印字適性も良好であった。
これに対し、光沢層にアニオン性顔料を用いた比較例１〜３では、顔料インク耐擦過性に問題があった。また、光沢層にカチオン性顔料を用いた比較例４〜１１では、カチオン性の離型剤しか使用できないため、光沢層形成時において、鏡面ロールからの離型性に問題があった。
【図面の簡単な説明】
【０１８４】
【図１】本発明のインクジェット記録体の製造方法の一実施形態を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１８５】
１ インクジェット記録体、１０ 基材、１１ 支持体、１２ インク受容層、２１ 光沢ロール、２２ プレスロール、３０ 光沢層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が正であるカチオン性微粒子と該カチオン性微粒子の表面に担持されたアニオン性化合物とからなり、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負であることを特徴とする複合微粒子。
【請求項２】
アニオン性化合物がカルボン酸系化合物である請求項１に記載の複合微粒子。
【請求項３】
カチオン性微粒子が、シリカ微粒子の表面にカチオン性化合物を担持したカチオン性シリカである請求項１または請求項２に記載の複合微粒子。
【請求項４】
請求項１から請求項３の何れかに記載の複合微粒子を水系の分散媒に分散させたことを特徴とする分散液。
【請求項５】
前記複合微粒子のゼータ電位が−１０〜−１５０ｍＶである請求項４に記載の分散液。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の分散液の製造方法であって、
カチオン性微粒子とアニオン性化合物とを水系の分散媒中で混合して凝集物を形成させる凝集工程と、
該凝集物を前記分散媒中で機械的手段により粉砕する粉砕工程を有することを特徴とする分散液の製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項３の何れかに記載の複合微粒子を含有する塗工層が設けられたことを特徴とするインクジェット記録体。
【請求項８】
前記複合微粒子を含有する塗工層が、前記複合微粒子を水に分散させた分散液を含む塗布液によって形成された請求項７に記載のインクジェット記録体。
【請求項９】
前記複合微粒子を含有する塗工層が最表層に設けられている請求項７または請求項８に記載のインクジェット記録体。
【請求項１０】
前記複合微粒子を含有する塗工層が、アニオン性離型剤を含有する請求項９に記載のインクジェット記録体。
【請求項１１】
非透気性または低透気性の支持体上にインク受容層を設けてなる基材の前記インク受容層上に、前記複合微粒子を含有する塗工層が設けられている請求項７から請求項１０の何れかに記載のインクジェット記録体。
【請求項１２】
支持体上にインク受容層を設けてなる基材の、前記インク受容層上に、請求項１から請求項３の何れかに記載の複合微粒子およびアニオン性離型剤を含有する塗布液を供給し、
前記基材を、光沢ロールとプレスロールとの間を、前記塗布液が光沢ロールに接触するように通過させてプレス塗工して光沢層を形成し、
前記光沢層が湿潤状態又は半乾燥状態にあるうちに、該光沢層を光沢ロールから剥離することを特徴とするインクジェット記録体の製造方法。
【請求項１】
水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が正であるカチオン性微粒子と該カチオン性微粒子の表面に担持されたアニオン性化合物とからなり、水中に分散して分散液とした際のゼータ電位が負であることを特徴とする複合微粒子。
【請求項２】
アニオン性化合物がカルボン酸系化合物である請求項１に記載の複合微粒子。
【請求項３】
カチオン性微粒子が、シリカ微粒子の表面にカチオン性化合物を担持したカチオン性シリカである請求項１または請求項２に記載の複合微粒子。
【請求項４】
請求項１から請求項３の何れかに記載の複合微粒子を水系の分散媒に分散させたことを特徴とする分散液。
【請求項５】
前記複合微粒子のゼータ電位が−１０〜−１５０ｍＶである請求項４に記載の分散液。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載の分散液の製造方法であって、
カチオン性微粒子とアニオン性化合物とを水系の分散媒中で混合して凝集物を形成させる凝集工程と、
該凝集物を前記分散媒中で機械的手段により粉砕する粉砕工程を有することを特徴とする分散液の製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項３の何れかに記載の複合微粒子を含有する塗工層が設けられたことを特徴とするインクジェット記録体。
【請求項８】
前記複合微粒子を含有する塗工層が、前記複合微粒子を水に分散させた分散液を含む塗布液によって形成された請求項７に記載のインクジェット記録体。
【請求項９】
前記複合微粒子を含有する塗工層が最表層に設けられている請求項７または請求項８に記載のインクジェット記録体。
【請求項１０】
前記複合微粒子を含有する塗工層が、アニオン性離型剤を含有する請求項９に記載のインクジェット記録体。
【請求項１１】
非透気性または低透気性の支持体上にインク受容層を設けてなる基材の前記インク受容層上に、前記複合微粒子を含有する塗工層が設けられている請求項７から請求項１０の何れかに記載のインクジェット記録体。
【請求項１２】
支持体上にインク受容層を設けてなる基材の、前記インク受容層上に、請求項１から請求項３の何れかに記載の複合微粒子およびアニオン性離型剤を含有する塗布液を供給し、
前記基材を、光沢ロールとプレスロールとの間を、前記塗布液が光沢ロールに接触するように通過させてプレス塗工して光沢層を形成し、
前記光沢層が湿潤状態又は半乾燥状態にあるうちに、該光沢層を光沢ロールから剥離することを特徴とするインクジェット記録体の製造方法。
【図１】
【公開番号】特開２００７−３８６４３（Ｐ２００７−３８６４３Ａ）
【公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１４０２６６（Ｐ２００６−１４０２６６）
【出願日】平成１８年５月１９日（２００６．５．１９）
【出願人】（０００１２２２９８）王子製紙株式会社 (2,055)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年５月１９日（２００６．５．１９）
【出願人】（０００１２２２９８）王子製紙株式会社 (2,055)
【Ｆターム（参考）】
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