親水性基板のパッケージおよびイムノクロマト用試験具
【課題】親水性処理をした基板の親水性を維持するための方法およびパッケージを提供すること。特に、作製コストが比較的安価であり、また生産性にも優れている親水性基板のパッケージを提供すること。
【解決手段】親水性基板のパッケージは、親水性基板と、親水性基板が気密状態で収容
される袋と、を有する。親水性基板は、樹脂を成形してなる基板を有し、該袋 から取り
出した直後の該親水性基板の表面の水接触角が低く維持される。好ましくは、親水性基板は、その表面から突出した複数の突起を有する。
【解決手段】親水性基板のパッケージは、親水性基板と、親水性基板が気密状態で収容
される袋と、を有する。親水性基板は、樹脂を成形してなる基板を有し、該袋 から取り
出した直後の該親水性基板の表面の水接触角が低く維持される。好ましくは、親水性基板は、その表面から突出した複数の突起を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂よりなる複数の微小な突起を備えた親水性基板のパッケージおよびその製造方法に関し、さらにその親水性基板を用いたイムノクロマト用試験具および細胞培養基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂製の基板上に微小の突起（ピラーとも呼ばれる。）を複数設けることにより、複
数の突起による液体の毛細管現象を利用した装置が、特表 ２００５−５３２１５１号公
報（特許文献１）、特表２００９−５４１７３７号公報（特許文献２）、特表２００７−５３０９３８号公報（特許文献３）などに開示されている。
【０００３】
これらの装置においては、血液などの液体を突起間に流すことができるので、突起のある領域に親水性処理、疎水性処理などの処理を施すことにより、液体の分析、分離などの分野で有用とされている。
【０００４】
しかし、実際には、基板上に複数の突起を設けたことに起因する毛細管現象によって液体が流動することが証明されていない。
【０００５】
例えば、特許文献１（特表２００５−５３２１５１号公報）の段落0007では、「流体
に対して毛細管の材料の接触角が９０°未満の場合、材料は親水性と考 えられる。流体
に対して毛細管材料の接触角が９０°を超える場合、その材料は疎水性と考えられる。」と記載されており、このように基板表面を親水性とした場合であっても、材料の接触角が９０°未満の場合には必ずしも液体を突起間に毛細管現象によって流動させることができない。
【０００６】
上記特許文献３（特表２００７−５３０９３８号公報）の段落0056では、「基板に、
親水性の処理又はコーティングが施される。それは、基板に対して、例 えば、ガスプラ
ズマ処理のような酸化処理を施したり、酸化シリコンのような親水性物質や、デキストラン、ポリエチレングリコール、ヘパリン、それらの誘導体のような親水性ポリマーや、洗浄剤や、ポリマーのような生物学的物質でコーティングしたりすることによって、行われる。」と記載されている。
【０００７】
しかし、基板に親水性物質を施したり、親水性ポリマーをコーティングした場合には
、親水性基板の作製コストおよび生産性の点で好ましくない。さらに、基板 にガスプラ
ズマ処理のような酸化処理を施した場合には、親水性基板の作製コストおよび生産性の点では好ましいが、通常のガスプラズマ処理では基板に毛細管現象を付与することはできない。
【０００８】
しかも、ガスプラズマ処理した基板表面の親水性は、時間の経過に伴って大きく低下するため、使用時には液体の十分な流動性が得られない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特表２００５−５３２１５１号公報
【特許文献２】特表２００９−５４１７３７号公報
【特許文献３】特表２００７−５３０９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記の点に着目してなされたものであり、本発明の目的は、基板表面の接触角を大きく低下させることによって基板上に設けた複数の突起による毛細管現象によって液体を流動させることができる親水性基板のパッケージを提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、作製コストが比較的安価であり、また生産性にも優れている親水性基板のパッケージを提供することにある。
【００１２】
本発明のさらに他の目的は、親水性の持続期間が長い親水性基板のパッケージを提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的は、親水性基板を用いたイムノクロマト用試験具、および、細胞培養基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
従って、本発明は以下を提供する。
（項目１）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、該袋から取り出した直後の該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である親水性基板のパッケージ。
（項目２）
前記水接触角が、２〜１５°である項目１に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目３）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後１２日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
（項目４）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後４２日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
（項目５）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、ここで、親水性基板の表面の水接触角が２〜１５°以下である、親水性基板のパッケージ。
（項目６）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、ここで、親水性基板の表面の水接触角が１０°以下である、親水性基板のパッケージ。
（項目７）
前記袋内に、脱酸素剤が前記親水性基板とともに封入される項目１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目８）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、脱酸素剤とを有する親水性基板のパッケージ。
（項目９）
前記袋が酸素不透過性である項目１〜８のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目１０）
前記親水性基板の表面が、赤外吸収スペクトルにおいて、3500/cm付近に吸収を有する
項目１〜９のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目１１）
前記親水性基板の表面が親水性処理されている項目１〜１０のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目１２）
項目１１に記載の親水性基板のパッケージであって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、親水性基板のパッケージ。
（項目１３）
前記樹脂が、ポリカーボネート、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、およびポリスチレンからなる群から選択される透明樹脂である項目１〜１２のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目１４）
該複数の突起は、所定の高さ（Ｈ）、直径（Ｄ）、及び相互間隔を有し、該突起の高さ（Ｈ）は１０〜５０００μｍ、突起の直径（Ｄ）は１０ｎｍ〜５００μｍ、突起間の間隔は0.1μｍ〜1000μｍである項目１〜１３のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケー
ジ。
（項目１５）
表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準備する工程、
該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角を２〜１５°とする工程、および
該親水性処理された基板を袋内に封入する工程、
を包含する親水性基板のパッケージの製造方法。
（項目１６）
さらに、袋内に脱酸素剤を入れる工程、を包含する項目１５に記載の親水性基板のパッケージの製造方法。
（項目１７）
前記袋が、酸素不透過性である項目１５または１６に記載の親水性基板のパッケージの製造方法。
（項目１８）
項目１５〜１７のいずれかに記載の親水性基板のパッケージの製造方法であって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、製造方法。
（項目１９）
表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準備する工程、
該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角を２〜１５°以下とする工程、を包含する樹脂製基板を親水性にする方法。
（項目２０）
項目１９に記載の方法であって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、方法。
（項目２１）
項目２０に記載の方法によって得られた親水性基板。
（項目２２）
項目１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板を有し、該親水性基板の複数の突起間を検体が毛管現象により移動可能であるイムノクロマト用試験具。
（項目２３）
脱酸素剤を備え、かつ、表面が親水性である樹脂製基板を気密状態で収容し得る袋を備える、該基板の表面の親水性を維持するための容器。
（項目２４）
樹脂よりなる基板表面の親水性を維持するための方法であって、該基板を、気密状態で収容される袋内において、脱酸素剤とともに気密状態で配置する工程、を包含する方法。
（項目２５）
項目１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板を有する、細胞培養基板。
（項目２６）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後３６５日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の親水性基板のパッケージによれば、親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有し、該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、 該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、該袋から取り出した直後、および／または、パッケージを製造後１２日間保存した後、および／または、パッケージを製造後２１日間保存した後、および／または、パッケージを製造後４２日間保存した後、および／または、パッケージを製造後３６５日間保存した後の該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下、好ましくは ２〜１５°であるので、基板の表面状態および複数の突起の存在によって毛細管現象を生じさせ、親水性基板上で液体を容易に流動させることができる。そのため、液体を分析用装置内へ導入することが容易となる。また、親水性基板を袋内に封入するので、長期間にわたる親水性基板の親水性を維持することができる。
【００１６】
本発明の親水性基板のパッケージの製造方法によれば、基板を親水性処理して、その表面の水接触角を２０°以下、または、２〜１５°、または、１０°以下とすることができる。この時、基板表面には親水性に寄与する水酸基が形成されたことが例えばFT-IR分析
に より確認できる。そのため、親水性基板の生産性に優れており、また作製コストも比
較的安価である。パッケージは、親水性基板とともに脱酸素剤を含んでもよ い。例えば
、本発明において、親水性基板と、親水性基板が気密状態で収容される袋と、脱酸素剤とを有する親水性基板のパッケージが提供される。
【００１７】
さらに、本発明のイムノクロマト用試験具、および、細胞培養基板は、上記親水性基板を用いるので、安価に作製でき、生産性にも優れている。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の親水性基板の断面図である。
【図２】図１に示す親水性基板の要部の斜視図である。
【図３】ＡＢＳ樹脂からなる親水性基板の赤外吸収スペクトル（以下、ＦＴ−ＩＲという。）を測定したスペクトル図である。
【図４】ＰＣからなる親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図５】アクリル樹脂からなる親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図６】ＰＳからなる親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図７】ＰＭＭＡ親水性基板の親水性の経時変化を示すグラフである。
【図８】Ｆａｌｃｏｎ製セルカルチャープレートのＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図９】Nunclon製組織培養フラスコのＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図１０】プラズマ処理したＰＣからなるシートのＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図１１】コロナ処理したＰＣからなるシートのＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
【００２０】
本発明の親水性基板のパッケージは、親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する。
【００２１】
図１に示すように、該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板１と、該基板１の表面から突出した複数の突起２とを有する。そして、該袋から取り出した直後の該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である。
【００２２】
（基板）
基板の形状は限定するものではないが、通常は矩形の板状である。基板１は、フィル
ムやシート状のものも含む。基板は樹脂を成形して形成される。樹脂として は、ポリエ
ステル、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体）、アクリル樹脂、ＰＣ（ポリカーボネート）、ポリアミド、ＰＳ（ポリスチレン）などの熱可塑性樹脂、生物分解性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを使用することができる。通常は、熱可塑性樹脂が使用される。特に、透明であり、成形性に 優れた非結晶性樹脂が好ましい。
【００２３】
特に好ましい樹脂は、ＰＣ、ＡＢＳ、ＰＭＭＡ（アクリル）、およびＰＳなどの透明樹脂である。
【００２４】
該基板の表面から突出する複数の突起は、樹脂の成形によって形成することができる。該基板は金型を使用した溶融微細転写法によって形成することができる。あるいは、基板は、熱可塑性樹脂シートまたは紫外線硬化樹脂シートを用いて成型によって形成することもできる。
【００２５】
（突起）
図１および図２に示すように、突起２は基体１表面から垂直方向に延びている。
突起の高さ、直径、隣接する突起間の間隔は、樹脂の種類、基板の親水性の程度（接触角）、使用目的などに応じて設定することができるが、典型的には、突起２の高さ（Ｈ）は１０〜５０００μｍ、突起の直径（Ｄ）は１０ｎｍ〜５００μｍ、突起間の間隔は0.1μ
ｍ〜1000μｍが好ましい。
【００２６】
本発明において、突起２の直径Ｄとは、突起の中間位置における相当直径である。な
お、相当直径という語を用いたのは、突起の断面が必ずしも円形ではなく、 楕円、多角
形、非対称形などの場合があるためで、本発明ではこれらを全て包含するために相当直径を用いる。アスペクト比（Ｈ／Ｄ）としては、４以上が好ましく、８から３０がより好ましい
。しかし、構造的な強度の点から１００以下が好ましい。突起部の形状は典型的には、略円柱形状である。突起表面に化学的又は生物学的処理をすることができる。
【００２７】
（水接触角）
本発明において、袋から取り出した直後の親水性基板の表面の水接触角は２０°以下である。好ましい水接触角は２〜１５°であり、さらに好ましくは、２〜１０°である。
【００２８】
親水性基板の表面の水接触角が２０°を越えると、従来技術で説明したように、血液等の液体の流動性が十分ではない。
【００２９】
本発明では、水接触角は、ＪＩＳ Ｒ3257（静滴法、簡易的にθ/2法などとも呼ばれる。）に準拠して測定した。
【００３０】
親水性基板表面の水接触角（本明細書では単に接触角ともいう。）を２０°以下とするには、次の条件で、該基板を親水性処理すればよい。
【００３１】
なお、本明細書において、親水性処理とは、装置内に大気ガスまたはアルゴンなどの
ガスを入れ、真空中でガスを活性化させ基板表面に当てることで、基板表面 に水酸基を
増大させる方式である。使用するガス、電源方式（RF,DCなど）、真空の程度（高真空（10の-3乗Pa程度以上）〜低真空（１〜１００Pa程度））を選択することによって、親水性
処理
条件を調節することができる。
【００３２】
（親水性基板のパッケージの製造方法）
次に、親水性基板のパッケージの製造方法を説明する。
【００３３】
上記のように樹脂を成形して、表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準
備する。次に、該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角 を２０°以
下、または、２〜１５°、または、１０°以下とする。親水性処理の条件は、樹脂の種類に応じて、真空度、投入電力、処理時間を変更すればよい。
【００３４】
一般には、電極と処理対象基板の距離がおよそ1〜300mmで、基板を公転して処理する
場合、投入電力は０．４〜３（KW）、処理時間は １〜３００（秒）、真空度は０．１〜
５０（Pa）である。好ましくは、投入電力は１．６〜２（KW）、処理時間は６０〜１２０（秒）、真空度は５〜２０、特に１０（Pa）である。
【００３５】
以下の実施例および請求項では、公転で処理する場合を例に記載するが、基板を静止させて処理することも可能であり、その場合、処理時間は公転の場合のおおむね、1/5〜1/50にすればよい。
【００３６】
このようにして、表面の水接触角が２０°以下の、より好ましくは１０°以下の親水性基板が得られる。
【００３７】
次に、親水性処理された親水性基板を酸素不透過性の袋内に封入する。例えば、アル
ミ箔などの袋を用いることができる。袋内には空気を封入しても良いが、窒 素、アルゴ
ンなどの不活性気体を封入しても良く、あるいは真空密封しても良い。また、袋内に親水性基板とともに脱酸素剤を入れるのが好ましい。この封入工程によって、親水性基板表面
の水酸基が時間の経過によって減少することを抑制でき、長期間にわたる親水性を親水性基板に付与することができる。
【００３８】
親水性基板を使用するときは、袋から親水性基板を取り出して使用する。
【００３９】
（袋）
親水性基板を収容する袋としては、酸素不透過性の合成樹脂製袋あるいはアルミニウムなどの金属製袋、あるいはそれらを積層した袋を使用するのが好ましい。
【００４０】
（基板表面の親水性を維持するための方法および容器）
本発明においては、基板表面の親水性を維持するための方法および容器が提供される。そのような容器は、脱酸素剤を備え、かつ、表面が親水性である樹脂製基板を気密状態で収容し得る袋を備える容器である。基板は、表面に複数の突起が設けられていてもよい。
【００４１】
本発明においては、さらに、表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板表面の親水性を維持するための方法であって、該基板を、気密状態で収容される袋内において、脱酸素剤とともに気密状態で配置する工程、を包含する方法が提供される。
【００４２】
（イムノクロマト用試験具）
イムノクロマト用試験具は一般に、展開層の一部に固定化抗体が配置されるとともに、その抗体固定化部分よりも点着部寄りの位置に標識抗体が被検査液によって溶出可能な乾燥状態で保持された構成である。
【００４３】
被検査液を点着部に必要量添加すると展開層を浸透していき、被検査液中に検査対象
物質が含まれているときには、その検査対象物質が標識抗体に結合しさらに 固定化抗体
に結合するので、抗体固定化部分の標識抗体を検出することで検査対象物質を検出することが可能である。標識抗体を構成する標識物の一例は金コロイド粒子であり、金コロイド粒子による呈色反応によって目視可能ともなるので、その呈色度合いより、被検査液中における検査対象物質の有無および濃度を検 出（測定）することができる。
【００４４】
本発明のイムノクロマト用試験具では、試験具本体の一部または全部の表面に複数の突起が設けられた領域を形成することができる。それらの領域の水接触角が２０°以下である。
【００４５】
具体的には、複数の突起を有する領域Ａ中を、毛管現象によって移動してきた抗原、
抗体および／または複合体は、領域Ｂに固定された抗体または抗原により捕 捉される。
標識物質を含んだ抗原、抗体および／または複合体が捕捉されると、領域Ｂに生じる呈色として確認することができる。ここで領域Ｂに生じる呈色の色調は、用いるイムノクロマト法（試薬の組合せ）と検体中の測定対象物質の濃度に依存する。例えば、検体中の抗原と試薬パッドＣに保持されていた標識抗体 により形成された複合体を、反応領域におけ
る固定化抗体で捕捉する場合においては、検体中の測定対象物質の濃度が高いと、領域Ｂで捕捉される複合体が増加するため、強い色調の呈色を生じ、検体中の測定対象物質の濃度が低いと、領域Ｂで捕捉される複合体が減少するため、弱い色調の呈色を生じる。
【００４６】
一方、例えば、検体中の抗原と、試薬パッドＣに保持されていた標識抗原との競合反
応において、反応領域で標識抗原を固定化抗体により捕捉する場合において は、検体中
の測定対象物質の濃度が高いと、領域で捕捉される標識抗原が減少するため、弱い色調の呈色を生じ、検体中の測定対象物質の濃度が低いと、領域Ｂで捕捉される標識抗原が増加するため、強い色調の呈色を生じる。
【００４７】
使用できるサンプルとしては、体液、環境流体、プロセス 流体がある。体液としては
、例えば、血液、血漿、血清、リンパ液、尿、唾液、精液、胃液、痰、涙液等がある。環境流体としては、例えば、地上水、地下水、汚泥等がある。プロセス流体としては、例えば、ミルク、乳清、肉汁、栄養溶液、細胞培養媒体等がある。
【００４８】
（細胞培養基板）
本発明の親水性基板、特に、表面に複数の突起が設けられた親水性基板は、細胞培養基板として用いることができる。
【００４９】
細胞としては、ヒト及び又はヒト以外の動物の細胞及び又はそれらに由来する細胞が
挙げられる。ヒト以外の動物としては、特に限定されず、例えば、霊長類 （アカゲザル
など）、マウス、ラット、イヌなどが挙げられる。ヒトの生体組織とより同等の性質・機能を発揮させる観点からは、ヒトの細胞又はそれに由来する細胞が好ましい。
【００５０】
細胞の種類も、特に制限されず、肝細胞、血管内皮細胞、線維芽細胞、表皮細胞、上皮細胞、乳腺細胞、筋細胞、神経細胞、組織幹細胞、胚性幹細胞、骨細胞および免疫細胞等の接着性細胞が挙げられる。細胞は、一種類でもよいし、二種類以上を用いてもよい。
【００５１】
必要に応じて、本発明の基板上には、細胞の他に、細胞外マトリックスを含んでもよ
い。本発明において、細胞外マトリックスは、生体内で細胞の外の空間を充 填し、骨格
的役割、足場を提供する役割、及び又は、生体因子を保持する役割などの機能を果たす生体内物質を含んでもよい。
【実施例】
【００５２】
（実施例１）
（親水性処理）
ＰＣとＡＢＳ樹脂基板を用いて、親水性処理条件と親水性の効果を測定した。親水性処理時間を６０秒とし、装置内の真空度を１０Ｐａとした。
【００５３】
ＰＣ基板は、三菱ガス化学（株）社製および社内成形品を用いた。
【００５４】
ＡＢＳ樹脂基板は、ＵＭＧ ＡＢＳ社製および社内成形品を用いた。
【００５５】
親水性処理条件を５水準（投入電力を0.2kw、0.4kw、0.8kw、1.6kw、2.6kwの５水準：
処理時間および真空度は一定）で処理したサンプルを作製し、接触角の測定を、ＪＩＳ Ｒ3257に準拠して測定したところ、いずれの樹脂基板でも、また、いずれの処理条件でも、接触角は１０°以下であった。
【００５６】
（実施例２）
実施例１の結果から、親水性処理の直後は基板の親水性が優れていることに注目し、その後基板表面を酸素の影響を受けない環境に保存すれば親水性を長期間、維持できると考え、以下の実験を実施した。
【００５７】
図３は、ＡＢＳ樹脂からなる基板を、親水性処理条件（投入電力：2.6kW×６０秒）で
処理し、得られた親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。スペクトル図から、特定の波数（約3500/cm付近）に広いピークが生じることがわかる。
【００５８】
図４は、ＰＣ樹脂からなる基板を、上記と同じ親水性処理条件（投入電力：2.6kW×６
０秒）で処理し、得られた親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。このスペクトル図からも、特定の波数（約3500/cm付近）に広いピークが生じることがわかる
。
【００５９】
図５は、ＰＭＭＡ樹脂からなる基板を、上記とは異なる親水性処理条件（投入電力：1.62kW×120秒）で処理し、得られた親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図であ
る。
【００６０】
図６は、ＰＳからなる基板を、上記と異なる親水性処理条件（投入電力：1.94kW×120
秒）で処理し、得られた親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【００６１】
これらのスペクトル図から、同一の特定の波数（約3500/cm付近）に広いピークが生じ
ることがわかる。ＦＴ−ＩＲ分析で、この波数に生じるピークは水酸基（−ＯＨ）の増大によることが知られている。従って、親水性処理により親水性が向上（接触角１０°以下まで改善）することと、水酸基（-OH）が増大することを確認した。
【００６２】
（比較例１）
Ｆａｌｃｏｎ製セルカルチャープレート（市販品：ＰＳ製）を用い、この製品のＦＴ−ＩＲ分析の結果を図８に示す。
【００６３】
さらに、該製品の水接触角の測定結果は次のとおりであった。
【００６４】
接触角は、本体底面（内側）で39.6°、本体底面（外側）で49.2°、フタ（内側）で81.2°であった。これらの数値は本特許で実現される接触角に比べると格段に大きく、親水性として劣っている。
【００６５】
図８から明らかなように、水酸基の存在が見られなかった。
【００６６】
（比較例２）
Nunclon製組織培養フラスコ（市販品：ＰＳ製）を用い、この製品のＦＴ−ＩＲ分析の
結果を図９に示す。さらに、該製品の水接触角の測定結果は次のとおりであった。
【００６７】
接触角は、本体底面（内側）で４５°、本体底面（外側）で５２°であった。これらの数値は本特許で実現される接触角に比べると格段に大きく、親水性として劣っている。
【００６８】
図９から明らかなように、この製品の表面からも、水酸基の存在が見られなかった。
【００６９】
（比較例３）
ＰＣ、ＰＭＭＡ、ＰＳ、およびＡＢＳからなるサンプルについて、印刷前処理などで用いられる、一般的な親水化処理であるコロナ処理、プラズマ処理を実施した。
【００７０】
コロナ処理およびプラズマ処理の条件は次のとおりである。
【００７１】
コロナ処理条件：３DT社製の装置を使用し、10KV、5m/分を10回照射した。
【００７２】
プラズマ処理条件：３DT社製の装置を使用し、20KV、5m/分を１回照射した。
【００７３】
次に、処理直後のサンプルをアルミニウム箔の袋内に脱酸素剤（Z-30PK、三菱ガス化学（株）製）とともに密封保管した後、１日後、２１日後に、袋から取り出したサンプルについて同様に水接触角を測定した。その結果を表１に示す。
【００７４】
また、処理直後のサンプルのＦＴ−ＩＲ分析の結果を図１０（プラズマ処理、ＰＣシー
ト）、図１１（コロナ処理、ＰＣシート）に示す。
【００７５】
（表１：他の方法の例）
【００７６】
【表１】
これらはいずれも大気中で行う手法であり、接触角が１０°以下のような数値には至らない。その場合のＦＴ−ＩＲも測定したが、−ＯＨ基の増大は観察されなかった。また、２１日後には、親水性は大幅に劣化している。
【００７７】
（実施例３）
ＰＭＭＡからなる基板を、親水性処理条件（投入電力：2.6kW×６０秒）で実施し、得
られた親水性基板の表面の接触角を測定した。
【００７８】
サンプルの接触角は次の条件で放置した後に、それぞれのサンプルについて測定した。
【００７９】
（１）親水性処理直後、（２）親水性処理後のサンプルを大気中保存した後、１２日
、２１日、４２日、および、３６５日経過後、（３）親水性処理後のサンプルをアルミニウム箔の袋内に脱酸素剤（Z-30PK、三菱ガス化学（株）製）とともに密封保管（以下、エージレス保存ともいう。）して親水性基板のパッケージを得た後、大気中で、１２日、２１日、４２日、および、３６５日経過後。
【００８０】
なお、アルミ袋は（株）生産日本社のラミジップアルミ袋AL-Dを用いた。
【００８１】
その結果を図７に示す。
【００８２】
図７からもわかるように、４２日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は約４７°、エージレス保存の基板の接触角は１８．４°であった。そして、３６５日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は５９．０°、エージレス保存の基板の接触角は１８．４°であった。一方、未処理の基板の接触角は８４．６°であった。以上のとおり、パッケージを製造後 ３６５日（１年）間エージレス保存した後の親水性基板の表面の水接触角は２０°以下 であり、エージレス保存のほうが大気中保存に比べて、基板表面の接触角が小さく 維持されていることがわかる。
【００８３】
次に、ＡＢＳ、ＰＣ、ＰＳの各種樹脂について親水性効果があることを示す。上記の各樹脂について、ＰＭＭＡと同様の実験を行った。
【００８４】
その結果は次のとおりである。
ＡＢＳ：４２日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は５６．４°、エージレス保存の基板の接触角は１８．８°であり、３６５日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は６７．４°、エージレス保存の基板の接触角は１８．８°であり、一方、未処理の基板の接触角は９２．４°であった。
ＰＣ：４２日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は５４．６°、エージレス保存の基板の接触角は１６．４°であり、３６５日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は７１．２°、エージレス保存の基板の接触角は１９．０°であり、一方、未処理の基板の接触角は７４．８°であった。
ＰＳ：４２日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は２６．６°、エージレス保存の基板の接触角は１７．８°であり、３６５日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は７８．４°、エージレス保存の基板の接触角は１９．４°であり、一方、未処理の基板の接触角は８１．２°であった。
【００８５】
上記ＰＭＭＡ以外の樹脂についても親水性処理の効果が得られること、およびエージレス保存により親水性が維持されることが確認できた。
【００８６】
（実施例４）
次に、接触角と毛細管現象との関係を示す。
【００８７】
毛細管において、送液開始のための圧力は、次の式１で表される。
【数１】
【００８８】
γ；表面張力（水の場合、0.072Ｎ/ｍ）
r：管の半径（血管を想定すると、γ＝3μｍ）
θ：接触角
従って、ΔＰ（送液開始のための圧力）は、接触角によって次のように変化する。
接触角 ΔＰ
１０° 0.73ＫＰａ（わずかな圧力で流れる）（８５°の場合の1/60）
２０° 2.92ＫＰａ（８５°の場合の1/15）
３０° 6.43ＫＰａ
４０° 11.2ＫＰａ（２０°の場合の３．８倍）（８５°の場合の約1/4）
５０° 17.1ＫＰａ
６０° 24ＫＰａ
８５° 43.8ＫＰａ（流れるためには大きな圧力が必要となる）
以上のことから、接触角が２０°以下であれば、親水性基板上で液体を容易に流動させることができることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明は、液体の分析、分離などの分野で有用である。また、親水性基板を用いてイムノクロマト用試験具に利用することもできる。
【００９０】
さらに、本発明は、微小スケールで様々なサイズの核酸断片をはじめとする物質、例えば細胞、核酸断片、あるいは、アミノ酸・ペプチド・タンパク質などの有機分子、金属イオン、コロイド、ラテックスビーズなどを分離する際などに用いる分離装置としても好適である。
【符号の説明】
【００９１】
１ 基板
２ 突起
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂よりなる複数の微小な突起を備えた親水性基板のパッケージおよびその製造方法に関し、さらにその親水性基板を用いたイムノクロマト用試験具および細胞培養基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂製の基板上に微小の突起（ピラーとも呼ばれる。）を複数設けることにより、複
数の突起による液体の毛細管現象を利用した装置が、特表 ２００５−５３２１５１号公
報（特許文献１）、特表２００９−５４１７３７号公報（特許文献２）、特表２００７−５３０９３８号公報（特許文献３）などに開示されている。
【０００３】
これらの装置においては、血液などの液体を突起間に流すことができるので、突起のある領域に親水性処理、疎水性処理などの処理を施すことにより、液体の分析、分離などの分野で有用とされている。
【０００４】
しかし、実際には、基板上に複数の突起を設けたことに起因する毛細管現象によって液体が流動することが証明されていない。
【０００５】
例えば、特許文献１（特表２００５−５３２１５１号公報）の段落0007では、「流体
に対して毛細管の材料の接触角が９０°未満の場合、材料は親水性と考 えられる。流体
に対して毛細管材料の接触角が９０°を超える場合、その材料は疎水性と考えられる。」と記載されており、このように基板表面を親水性とした場合であっても、材料の接触角が９０°未満の場合には必ずしも液体を突起間に毛細管現象によって流動させることができない。
【０００６】
上記特許文献３（特表２００７−５３０９３８号公報）の段落0056では、「基板に、
親水性の処理又はコーティングが施される。それは、基板に対して、例 えば、ガスプラ
ズマ処理のような酸化処理を施したり、酸化シリコンのような親水性物質や、デキストラン、ポリエチレングリコール、ヘパリン、それらの誘導体のような親水性ポリマーや、洗浄剤や、ポリマーのような生物学的物質でコーティングしたりすることによって、行われる。」と記載されている。
【０００７】
しかし、基板に親水性物質を施したり、親水性ポリマーをコーティングした場合には
、親水性基板の作製コストおよび生産性の点で好ましくない。さらに、基板 にガスプラ
ズマ処理のような酸化処理を施した場合には、親水性基板の作製コストおよび生産性の点では好ましいが、通常のガスプラズマ処理では基板に毛細管現象を付与することはできない。
【０００８】
しかも、ガスプラズマ処理した基板表面の親水性は、時間の経過に伴って大きく低下するため、使用時には液体の十分な流動性が得られない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特表２００５−５３２１５１号公報
【特許文献２】特表２００９−５４１７３７号公報
【特許文献３】特表２００７−５３０９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記の点に着目してなされたものであり、本発明の目的は、基板表面の接触角を大きく低下させることによって基板上に設けた複数の突起による毛細管現象によって液体を流動させることができる親水性基板のパッケージを提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、作製コストが比較的安価であり、また生産性にも優れている親水性基板のパッケージを提供することにある。
【００１２】
本発明のさらに他の目的は、親水性の持続期間が長い親水性基板のパッケージを提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的は、親水性基板を用いたイムノクロマト用試験具、および、細胞培養基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
従って、本発明は以下を提供する。
（項目１）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、該袋から取り出した直後の該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である親水性基板のパッケージ。
（項目２）
前記水接触角が、２〜１５°である項目１に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目３）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後１２日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
（項目４）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後４２日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
（項目５）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、ここで、親水性基板の表面の水接触角が２〜１５°以下である、親水性基板のパッケージ。
（項目６）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、ここで、親水性基板の表面の水接触角が１０°以下である、親水性基板のパッケージ。
（項目７）
前記袋内に、脱酸素剤が前記親水性基板とともに封入される項目１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目８）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、脱酸素剤とを有する親水性基板のパッケージ。
（項目９）
前記袋が酸素不透過性である項目１〜８のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目１０）
前記親水性基板の表面が、赤外吸収スペクトルにおいて、3500/cm付近に吸収を有する
項目１〜９のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目１１）
前記親水性基板の表面が親水性処理されている項目１〜１０のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目１２）
項目１１に記載の親水性基板のパッケージであって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、親水性基板のパッケージ。
（項目１３）
前記樹脂が、ポリカーボネート、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、およびポリスチレンからなる群から選択される透明樹脂である項目１〜１２のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
（項目１４）
該複数の突起は、所定の高さ（Ｈ）、直径（Ｄ）、及び相互間隔を有し、該突起の高さ（Ｈ）は１０〜５０００μｍ、突起の直径（Ｄ）は１０ｎｍ〜５００μｍ、突起間の間隔は0.1μｍ〜1000μｍである項目１〜１３のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケー
ジ。
（項目１５）
表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準備する工程、
該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角を２〜１５°とする工程、および
該親水性処理された基板を袋内に封入する工程、
を包含する親水性基板のパッケージの製造方法。
（項目１６）
さらに、袋内に脱酸素剤を入れる工程、を包含する項目１５に記載の親水性基板のパッケージの製造方法。
（項目１７）
前記袋が、酸素不透過性である項目１５または１６に記載の親水性基板のパッケージの製造方法。
（項目１８）
項目１５〜１７のいずれかに記載の親水性基板のパッケージの製造方法であって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、製造方法。
（項目１９）
表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準備する工程、
該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角を２〜１５°以下とする工程、を包含する樹脂製基板を親水性にする方法。
（項目２０）
項目１９に記載の方法であって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、方法。
（項目２１）
項目２０に記載の方法によって得られた親水性基板。
（項目２２）
項目１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板を有し、該親水性基板の複数の突起間を検体が毛管現象により移動可能であるイムノクロマト用試験具。
（項目２３）
脱酸素剤を備え、かつ、表面が親水性である樹脂製基板を気密状態で収容し得る袋を備える、該基板の表面の親水性を維持するための容器。
（項目２４）
樹脂よりなる基板表面の親水性を維持するための方法であって、該基板を、気密状態で収容される袋内において、脱酸素剤とともに気密状態で配置する工程、を包含する方法。
（項目２５）
項目１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板を有する、細胞培養基板。
（項目２６）
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後３６５日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の親水性基板のパッケージによれば、親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有し、該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、 該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、該袋から取り出した直後、および／または、パッケージを製造後１２日間保存した後、および／または、パッケージを製造後２１日間保存した後、および／または、パッケージを製造後４２日間保存した後、および／または、パッケージを製造後３６５日間保存した後の該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下、好ましくは ２〜１５°であるので、基板の表面状態および複数の突起の存在によって毛細管現象を生じさせ、親水性基板上で液体を容易に流動させることができる。そのため、液体を分析用装置内へ導入することが容易となる。また、親水性基板を袋内に封入するので、長期間にわたる親水性基板の親水性を維持することができる。
【００１６】
本発明の親水性基板のパッケージの製造方法によれば、基板を親水性処理して、その表面の水接触角を２０°以下、または、２〜１５°、または、１０°以下とすることができる。この時、基板表面には親水性に寄与する水酸基が形成されたことが例えばFT-IR分析
に より確認できる。そのため、親水性基板の生産性に優れており、また作製コストも比
較的安価である。パッケージは、親水性基板とともに脱酸素剤を含んでもよ い。例えば
、本発明において、親水性基板と、親水性基板が気密状態で収容される袋と、脱酸素剤とを有する親水性基板のパッケージが提供される。
【００１７】
さらに、本発明のイムノクロマト用試験具、および、細胞培養基板は、上記親水性基板を用いるので、安価に作製でき、生産性にも優れている。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の親水性基板の断面図である。
【図２】図１に示す親水性基板の要部の斜視図である。
【図３】ＡＢＳ樹脂からなる親水性基板の赤外吸収スペクトル（以下、ＦＴ−ＩＲという。）を測定したスペクトル図である。
【図４】ＰＣからなる親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図５】アクリル樹脂からなる親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図６】ＰＳからなる親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図７】ＰＭＭＡ親水性基板の親水性の経時変化を示すグラフである。
【図８】Ｆａｌｃｏｎ製セルカルチャープレートのＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図９】Nunclon製組織培養フラスコのＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図１０】プラズマ処理したＰＣからなるシートのＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【図１１】コロナ処理したＰＣからなるシートのＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
【００２０】
本発明の親水性基板のパッケージは、親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する。
【００２１】
図１に示すように、該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板１と、該基板１の表面から突出した複数の突起２とを有する。そして、該袋から取り出した直後の該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である。
【００２２】
（基板）
基板の形状は限定するものではないが、通常は矩形の板状である。基板１は、フィル
ムやシート状のものも含む。基板は樹脂を成形して形成される。樹脂として は、ポリエ
ステル、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体）、アクリル樹脂、ＰＣ（ポリカーボネート）、ポリアミド、ＰＳ（ポリスチレン）などの熱可塑性樹脂、生物分解性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを使用することができる。通常は、熱可塑性樹脂が使用される。特に、透明であり、成形性に 優れた非結晶性樹脂が好ましい。
【００２３】
特に好ましい樹脂は、ＰＣ、ＡＢＳ、ＰＭＭＡ（アクリル）、およびＰＳなどの透明樹脂である。
【００２４】
該基板の表面から突出する複数の突起は、樹脂の成形によって形成することができる。該基板は金型を使用した溶融微細転写法によって形成することができる。あるいは、基板は、熱可塑性樹脂シートまたは紫外線硬化樹脂シートを用いて成型によって形成することもできる。
【００２５】
（突起）
図１および図２に示すように、突起２は基体１表面から垂直方向に延びている。
突起の高さ、直径、隣接する突起間の間隔は、樹脂の種類、基板の親水性の程度（接触角）、使用目的などに応じて設定することができるが、典型的には、突起２の高さ（Ｈ）は１０〜５０００μｍ、突起の直径（Ｄ）は１０ｎｍ〜５００μｍ、突起間の間隔は0.1μ
ｍ〜1000μｍが好ましい。
【００２６】
本発明において、突起２の直径Ｄとは、突起の中間位置における相当直径である。な
お、相当直径という語を用いたのは、突起の断面が必ずしも円形ではなく、 楕円、多角
形、非対称形などの場合があるためで、本発明ではこれらを全て包含するために相当直径を用いる。アスペクト比（Ｈ／Ｄ）としては、４以上が好ましく、８から３０がより好ましい
。しかし、構造的な強度の点から１００以下が好ましい。突起部の形状は典型的には、略円柱形状である。突起表面に化学的又は生物学的処理をすることができる。
【００２７】
（水接触角）
本発明において、袋から取り出した直後の親水性基板の表面の水接触角は２０°以下である。好ましい水接触角は２〜１５°であり、さらに好ましくは、２〜１０°である。
【００２８】
親水性基板の表面の水接触角が２０°を越えると、従来技術で説明したように、血液等の液体の流動性が十分ではない。
【００２９】
本発明では、水接触角は、ＪＩＳ Ｒ3257（静滴法、簡易的にθ/2法などとも呼ばれる。）に準拠して測定した。
【００３０】
親水性基板表面の水接触角（本明細書では単に接触角ともいう。）を２０°以下とするには、次の条件で、該基板を親水性処理すればよい。
【００３１】
なお、本明細書において、親水性処理とは、装置内に大気ガスまたはアルゴンなどの
ガスを入れ、真空中でガスを活性化させ基板表面に当てることで、基板表面 に水酸基を
増大させる方式である。使用するガス、電源方式（RF,DCなど）、真空の程度（高真空（10の-3乗Pa程度以上）〜低真空（１〜１００Pa程度））を選択することによって、親水性
処理
条件を調節することができる。
【００３２】
（親水性基板のパッケージの製造方法）
次に、親水性基板のパッケージの製造方法を説明する。
【００３３】
上記のように樹脂を成形して、表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準
備する。次に、該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角 を２０°以
下、または、２〜１５°、または、１０°以下とする。親水性処理の条件は、樹脂の種類に応じて、真空度、投入電力、処理時間を変更すればよい。
【００３４】
一般には、電極と処理対象基板の距離がおよそ1〜300mmで、基板を公転して処理する
場合、投入電力は０．４〜３（KW）、処理時間は １〜３００（秒）、真空度は０．１〜
５０（Pa）である。好ましくは、投入電力は１．６〜２（KW）、処理時間は６０〜１２０（秒）、真空度は５〜２０、特に１０（Pa）である。
【００３５】
以下の実施例および請求項では、公転で処理する場合を例に記載するが、基板を静止させて処理することも可能であり、その場合、処理時間は公転の場合のおおむね、1/5〜1/50にすればよい。
【００３６】
このようにして、表面の水接触角が２０°以下の、より好ましくは１０°以下の親水性基板が得られる。
【００３７】
次に、親水性処理された親水性基板を酸素不透過性の袋内に封入する。例えば、アル
ミ箔などの袋を用いることができる。袋内には空気を封入しても良いが、窒 素、アルゴ
ンなどの不活性気体を封入しても良く、あるいは真空密封しても良い。また、袋内に親水性基板とともに脱酸素剤を入れるのが好ましい。この封入工程によって、親水性基板表面
の水酸基が時間の経過によって減少することを抑制でき、長期間にわたる親水性を親水性基板に付与することができる。
【００３８】
親水性基板を使用するときは、袋から親水性基板を取り出して使用する。
【００３９】
（袋）
親水性基板を収容する袋としては、酸素不透過性の合成樹脂製袋あるいはアルミニウムなどの金属製袋、あるいはそれらを積層した袋を使用するのが好ましい。
【００４０】
（基板表面の親水性を維持するための方法および容器）
本発明においては、基板表面の親水性を維持するための方法および容器が提供される。そのような容器は、脱酸素剤を備え、かつ、表面が親水性である樹脂製基板を気密状態で収容し得る袋を備える容器である。基板は、表面に複数の突起が設けられていてもよい。
【００４１】
本発明においては、さらに、表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板表面の親水性を維持するための方法であって、該基板を、気密状態で収容される袋内において、脱酸素剤とともに気密状態で配置する工程、を包含する方法が提供される。
【００４２】
（イムノクロマト用試験具）
イムノクロマト用試験具は一般に、展開層の一部に固定化抗体が配置されるとともに、その抗体固定化部分よりも点着部寄りの位置に標識抗体が被検査液によって溶出可能な乾燥状態で保持された構成である。
【００４３】
被検査液を点着部に必要量添加すると展開層を浸透していき、被検査液中に検査対象
物質が含まれているときには、その検査対象物質が標識抗体に結合しさらに 固定化抗体
に結合するので、抗体固定化部分の標識抗体を検出することで検査対象物質を検出することが可能である。標識抗体を構成する標識物の一例は金コロイド粒子であり、金コロイド粒子による呈色反応によって目視可能ともなるので、その呈色度合いより、被検査液中における検査対象物質の有無および濃度を検 出（測定）することができる。
【００４４】
本発明のイムノクロマト用試験具では、試験具本体の一部または全部の表面に複数の突起が設けられた領域を形成することができる。それらの領域の水接触角が２０°以下である。
【００４５】
具体的には、複数の突起を有する領域Ａ中を、毛管現象によって移動してきた抗原、
抗体および／または複合体は、領域Ｂに固定された抗体または抗原により捕 捉される。
標識物質を含んだ抗原、抗体および／または複合体が捕捉されると、領域Ｂに生じる呈色として確認することができる。ここで領域Ｂに生じる呈色の色調は、用いるイムノクロマト法（試薬の組合せ）と検体中の測定対象物質の濃度に依存する。例えば、検体中の抗原と試薬パッドＣに保持されていた標識抗体 により形成された複合体を、反応領域におけ
る固定化抗体で捕捉する場合においては、検体中の測定対象物質の濃度が高いと、領域Ｂで捕捉される複合体が増加するため、強い色調の呈色を生じ、検体中の測定対象物質の濃度が低いと、領域Ｂで捕捉される複合体が減少するため、弱い色調の呈色を生じる。
【００４６】
一方、例えば、検体中の抗原と、試薬パッドＣに保持されていた標識抗原との競合反
応において、反応領域で標識抗原を固定化抗体により捕捉する場合において は、検体中
の測定対象物質の濃度が高いと、領域で捕捉される標識抗原が減少するため、弱い色調の呈色を生じ、検体中の測定対象物質の濃度が低いと、領域Ｂで捕捉される標識抗原が増加するため、強い色調の呈色を生じる。
【００４７】
使用できるサンプルとしては、体液、環境流体、プロセス 流体がある。体液としては
、例えば、血液、血漿、血清、リンパ液、尿、唾液、精液、胃液、痰、涙液等がある。環境流体としては、例えば、地上水、地下水、汚泥等がある。プロセス流体としては、例えば、ミルク、乳清、肉汁、栄養溶液、細胞培養媒体等がある。
【００４８】
（細胞培養基板）
本発明の親水性基板、特に、表面に複数の突起が設けられた親水性基板は、細胞培養基板として用いることができる。
【００４９】
細胞としては、ヒト及び又はヒト以外の動物の細胞及び又はそれらに由来する細胞が
挙げられる。ヒト以外の動物としては、特に限定されず、例えば、霊長類 （アカゲザル
など）、マウス、ラット、イヌなどが挙げられる。ヒトの生体組織とより同等の性質・機能を発揮させる観点からは、ヒトの細胞又はそれに由来する細胞が好ましい。
【００５０】
細胞の種類も、特に制限されず、肝細胞、血管内皮細胞、線維芽細胞、表皮細胞、上皮細胞、乳腺細胞、筋細胞、神経細胞、組織幹細胞、胚性幹細胞、骨細胞および免疫細胞等の接着性細胞が挙げられる。細胞は、一種類でもよいし、二種類以上を用いてもよい。
【００５１】
必要に応じて、本発明の基板上には、細胞の他に、細胞外マトリックスを含んでもよ
い。本発明において、細胞外マトリックスは、生体内で細胞の外の空間を充 填し、骨格
的役割、足場を提供する役割、及び又は、生体因子を保持する役割などの機能を果たす生体内物質を含んでもよい。
【実施例】
【００５２】
（実施例１）
（親水性処理）
ＰＣとＡＢＳ樹脂基板を用いて、親水性処理条件と親水性の効果を測定した。親水性処理時間を６０秒とし、装置内の真空度を１０Ｐａとした。
【００５３】
ＰＣ基板は、三菱ガス化学（株）社製および社内成形品を用いた。
【００５４】
ＡＢＳ樹脂基板は、ＵＭＧ ＡＢＳ社製および社内成形品を用いた。
【００５５】
親水性処理条件を５水準（投入電力を0.2kw、0.4kw、0.8kw、1.6kw、2.6kwの５水準：
処理時間および真空度は一定）で処理したサンプルを作製し、接触角の測定を、ＪＩＳ Ｒ3257に準拠して測定したところ、いずれの樹脂基板でも、また、いずれの処理条件でも、接触角は１０°以下であった。
【００５６】
（実施例２）
実施例１の結果から、親水性処理の直後は基板の親水性が優れていることに注目し、その後基板表面を酸素の影響を受けない環境に保存すれば親水性を長期間、維持できると考え、以下の実験を実施した。
【００５７】
図３は、ＡＢＳ樹脂からなる基板を、親水性処理条件（投入電力：2.6kW×６０秒）で
処理し、得られた親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。スペクトル図から、特定の波数（約3500/cm付近）に広いピークが生じることがわかる。
【００５８】
図４は、ＰＣ樹脂からなる基板を、上記と同じ親水性処理条件（投入電力：2.6kW×６
０秒）で処理し、得られた親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。このスペクトル図からも、特定の波数（約3500/cm付近）に広いピークが生じることがわかる
。
【００５９】
図５は、ＰＭＭＡ樹脂からなる基板を、上記とは異なる親水性処理条件（投入電力：1.62kW×120秒）で処理し、得られた親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図であ
る。
【００６０】
図６は、ＰＳからなる基板を、上記と異なる親水性処理条件（投入電力：1.94kW×120
秒）で処理し、得られた親水性基板のＦＴ−ＩＲを測定したスペクトル図である。
【００６１】
これらのスペクトル図から、同一の特定の波数（約3500/cm付近）に広いピークが生じ
ることがわかる。ＦＴ−ＩＲ分析で、この波数に生じるピークは水酸基（−ＯＨ）の増大によることが知られている。従って、親水性処理により親水性が向上（接触角１０°以下まで改善）することと、水酸基（-OH）が増大することを確認した。
【００６２】
（比較例１）
Ｆａｌｃｏｎ製セルカルチャープレート（市販品：ＰＳ製）を用い、この製品のＦＴ−ＩＲ分析の結果を図８に示す。
【００６３】
さらに、該製品の水接触角の測定結果は次のとおりであった。
【００６４】
接触角は、本体底面（内側）で39.6°、本体底面（外側）で49.2°、フタ（内側）で81.2°であった。これらの数値は本特許で実現される接触角に比べると格段に大きく、親水性として劣っている。
【００６５】
図８から明らかなように、水酸基の存在が見られなかった。
【００６６】
（比較例２）
Nunclon製組織培養フラスコ（市販品：ＰＳ製）を用い、この製品のＦＴ−ＩＲ分析の
結果を図９に示す。さらに、該製品の水接触角の測定結果は次のとおりであった。
【００６７】
接触角は、本体底面（内側）で４５°、本体底面（外側）で５２°であった。これらの数値は本特許で実現される接触角に比べると格段に大きく、親水性として劣っている。
【００６８】
図９から明らかなように、この製品の表面からも、水酸基の存在が見られなかった。
【００６９】
（比較例３）
ＰＣ、ＰＭＭＡ、ＰＳ、およびＡＢＳからなるサンプルについて、印刷前処理などで用いられる、一般的な親水化処理であるコロナ処理、プラズマ処理を実施した。
【００７０】
コロナ処理およびプラズマ処理の条件は次のとおりである。
【００７１】
コロナ処理条件：３DT社製の装置を使用し、10KV、5m/分を10回照射した。
【００７２】
プラズマ処理条件：３DT社製の装置を使用し、20KV、5m/分を１回照射した。
【００７３】
次に、処理直後のサンプルをアルミニウム箔の袋内に脱酸素剤（Z-30PK、三菱ガス化学（株）製）とともに密封保管した後、１日後、２１日後に、袋から取り出したサンプルについて同様に水接触角を測定した。その結果を表１に示す。
【００７４】
また、処理直後のサンプルのＦＴ−ＩＲ分析の結果を図１０（プラズマ処理、ＰＣシー
ト）、図１１（コロナ処理、ＰＣシート）に示す。
【００７５】
（表１：他の方法の例）
【００７６】
【表１】
これらはいずれも大気中で行う手法であり、接触角が１０°以下のような数値には至らない。その場合のＦＴ−ＩＲも測定したが、−ＯＨ基の増大は観察されなかった。また、２１日後には、親水性は大幅に劣化している。
【００７７】
（実施例３）
ＰＭＭＡからなる基板を、親水性処理条件（投入電力：2.6kW×６０秒）で実施し、得
られた親水性基板の表面の接触角を測定した。
【００７８】
サンプルの接触角は次の条件で放置した後に、それぞれのサンプルについて測定した。
【００７９】
（１）親水性処理直後、（２）親水性処理後のサンプルを大気中保存した後、１２日
、２１日、４２日、および、３６５日経過後、（３）親水性処理後のサンプルをアルミニウム箔の袋内に脱酸素剤（Z-30PK、三菱ガス化学（株）製）とともに密封保管（以下、エージレス保存ともいう。）して親水性基板のパッケージを得た後、大気中で、１２日、２１日、４２日、および、３６５日経過後。
【００８０】
なお、アルミ袋は（株）生産日本社のラミジップアルミ袋AL-Dを用いた。
【００８１】
その結果を図７に示す。
【００８２】
図７からもわかるように、４２日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は約４７°、エージレス保存の基板の接触角は１８．４°であった。そして、３６５日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は５９．０°、エージレス保存の基板の接触角は１８．４°であった。一方、未処理の基板の接触角は８４．６°であった。以上のとおり、パッケージを製造後 ３６５日（１年）間エージレス保存した後の親水性基板の表面の水接触角は２０°以下 であり、エージレス保存のほうが大気中保存に比べて、基板表面の接触角が小さく 維持されていることがわかる。
【００８３】
次に、ＡＢＳ、ＰＣ、ＰＳの各種樹脂について親水性効果があることを示す。上記の各樹脂について、ＰＭＭＡと同様の実験を行った。
【００８４】
その結果は次のとおりである。
ＡＢＳ：４２日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は５６．４°、エージレス保存の基板の接触角は１８．８°であり、３６５日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は６７．４°、エージレス保存の基板の接触角は１８．８°であり、一方、未処理の基板の接触角は９２．４°であった。
ＰＣ：４２日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は５４．６°、エージレス保存の基板の接触角は１６．４°であり、３６５日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は７１．２°、エージレス保存の基板の接触角は１９．０°であり、一方、未処理の基板の接触角は７４．８°であった。
ＰＳ：４２日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は２６．６°、エージレス保存の基板の接触角は１７．８°であり、３６５日後の各放置条件での接触角を測定したところ、大気中保存の基板の接触角は７８．４°、エージレス保存の基板の接触角は１９．４°であり、一方、未処理の基板の接触角は８１．２°であった。
【００８５】
上記ＰＭＭＡ以外の樹脂についても親水性処理の効果が得られること、およびエージレス保存により親水性が維持されることが確認できた。
【００８６】
（実施例４）
次に、接触角と毛細管現象との関係を示す。
【００８７】
毛細管において、送液開始のための圧力は、次の式１で表される。
【数１】
【００８８】
γ；表面張力（水の場合、0.072Ｎ/ｍ）
r：管の半径（血管を想定すると、γ＝3μｍ）
θ：接触角
従って、ΔＰ（送液開始のための圧力）は、接触角によって次のように変化する。
接触角 ΔＰ
１０° 0.73ＫＰａ（わずかな圧力で流れる）（８５°の場合の1/60）
２０° 2.92ＫＰａ（８５°の場合の1/15）
３０° 6.43ＫＰａ
４０° 11.2ＫＰａ（２０°の場合の３．８倍）（８５°の場合の約1/4）
５０° 17.1ＫＰａ
６０° 24ＫＰａ
８５° 43.8ＫＰａ（流れるためには大きな圧力が必要となる）
以上のことから、接触角が２０°以下であれば、親水性基板上で液体を容易に流動させることができることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明は、液体の分析、分離などの分野で有用である。また、親水性基板を用いてイムノクロマト用試験具に利用することもできる。
【００９０】
さらに、本発明は、微小スケールで様々なサイズの核酸断片をはじめとする物質、例えば細胞、核酸断片、あるいは、アミノ酸・ペプチド・タンパク質などの有機分子、金属イオン、コロイド、ラテックスビーズなどを分離する際などに用いる分離装置としても好適である。
【符号の説明】
【００９１】
１ 基板
２ 突起
【特許請求の範囲】
【請求項１】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、該袋から取り出した直後の該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である親水性基板のパッケージ。
【請求項２】
前記水接触角が、２〜１５°である請求項１に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項３】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後１２日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【請求項４】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後４２日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【請求項５】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、ここで、親水性基板の表面の水接触角が２〜１５°以下である、親水性基板のパッケージ。
【請求項６】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、ここで、親水性基板の表面の水接触角が１０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【請求項７】
前記袋内に、脱酸素剤が前記親水性基板とともに封入される請求項１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項８】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、脱酸素剤とを有する親水性基板のパッケージ。
【請求項９】
前記袋が酸素不透過性である請求項１〜８のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項１０】
前記親水性基板の表面が、赤外吸収スペクトルにおいて、3500/cm付近に吸収を有する
請求項１〜９のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項１１】
前記親水性基板の表面が親水性処理されている請求項１〜１０のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項１２】
請求項１１に記載の親水性基板のパッケージであって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、親水性基板のパッケージ。
【請求項１３】
前記樹脂が、ポリカーボネート、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、およびポリスチレンからなる群から選択される透明樹脂である請求項１〜１２のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項１４】
該複数の突起は、所定の高さ（Ｈ）、直径（Ｄ）、及び相互間隔を有し、該突起の高さ（Ｈ）は１０〜５０００μｍ、突起の直径（Ｄ）は１０ｎｍ〜５００μｍ、突起間の間隔は0.1μｍ〜1000μｍである請求項１〜１３のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケ
ージ。
【請求項１５】
表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準備する工程、
該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角を２〜１５°とする工程、および
該親水性処理された基板を袋内に封入する工程、
を包含する親水性基板のパッケージの製造方法。
【請求項１６】
さらに、袋内に脱酸素剤を入れる工程、を包含する請求項１５に記載の親水性基板のパッケージの製造方法。
【請求項１７】
前記袋が、酸素不透過性である請求項１５または１６に記載の親水性基板のパッケージの製造方法。
【請求項１８】
請求項１５〜１７のいずれかに記載の親水性基板のパッケージの製造方法であって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、製造方法。
【請求項１９】
表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準備する工程、
該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角を２〜１５°以下とする工程、を包含する樹脂製基板を親水性にする方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法であって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の方法によって得られた親水性基板。
【請求項２２】
請求項１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板を有し、該親水性基板の複数の突起間を検体が毛管現象により移動可能であるイムノクロマト用試験具。
【請求項２３】
脱酸素剤を備え、かつ、表面が親水性である樹脂製基板を気密状態で収容し得る袋を備える、該基板の表面の親水性を維持するための容器。
【請求項２４】
樹脂よりなる基板表面の親水性を維持するための方法であって、該基板を、気密状態で収容される袋内において、脱酸素剤とともに気密状態で配置する工程、を包含する方法。
【請求項２５】
請求項１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板を有する、細胞培養基板。
【請求項２６】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後３６５日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【請求項１】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、該袋から取り出した直後の該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である親水性基板のパッケージ。
【請求項２】
前記水接触角が、２〜１５°である請求項１に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項３】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後１２日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【請求項４】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後４２日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【請求項５】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、ここで、親水性基板の表面の水接触角が２〜１５°以下である、親水性基板のパッケージ。
【請求項６】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、ここで、親水性基板の表面の水接触角が１０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【請求項７】
前記袋内に、脱酸素剤が前記親水性基板とともに封入される請求項１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項８】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、脱酸素剤とを有する親水性基板のパッケージ。
【請求項９】
前記袋が酸素不透過性である請求項１〜８のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項１０】
前記親水性基板の表面が、赤外吸収スペクトルにおいて、3500/cm付近に吸収を有する
請求項１〜９のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項１１】
前記親水性基板の表面が親水性処理されている請求項１〜１０のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項１２】
請求項１１に記載の親水性基板のパッケージであって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、親水性基板のパッケージ。
【請求項１３】
前記樹脂が、ポリカーボネート、ＡＢＳ樹脂、アクリル樹脂、およびポリスチレンからなる群から選択される透明樹脂である請求項１〜１２のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケージ。
【請求項１４】
該複数の突起は、所定の高さ（Ｈ）、直径（Ｄ）、及び相互間隔を有し、該突起の高さ（Ｈ）は１０〜５０００μｍ、突起の直径（Ｄ）は１０ｎｍ〜５００μｍ、突起間の間隔は0.1μｍ〜1000μｍである請求項１〜１３のいずれかの項に記載の親水性基板のパッケ
ージ。
【請求項１５】
表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準備する工程、
該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角を２〜１５°とする工程、および
該親水性処理された基板を袋内に封入する工程、
を包含する親水性基板のパッケージの製造方法。
【請求項１６】
さらに、袋内に脱酸素剤を入れる工程、を包含する請求項１５に記載の親水性基板のパッケージの製造方法。
【請求項１７】
前記袋が、酸素不透過性である請求項１５または１６に記載の親水性基板のパッケージの製造方法。
【請求項１８】
請求項１５〜１７のいずれかに記載の親水性基板のパッケージの製造方法であって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、製造方法。
【請求項１９】
表面に複数の突起が設けられた樹脂よりなる基板を準備する工程、
該基板を親水性処理して、その親水性基板の表面の水接触角を２〜１５°以下とする工程、を包含する樹脂製基板を親水性にする方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法であって、
ここで、基板を公転させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１〜３００（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）であり、
ここで、基板を静止させる場合の前記親水性処理の条件が、投入電力が０．４〜３（KW）、処理時間が１／５０〜６０（秒）、真空度が０．１〜５０（Pa）である、方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の方法によって得られた親水性基板。
【請求項２２】
請求項１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板を有し、該親水性基板の複数の突起間を検体が毛管現象により移動可能であるイムノクロマト用試験具。
【請求項２３】
脱酸素剤を備え、かつ、表面が親水性である樹脂製基板を気密状態で収容し得る袋を備える、該基板の表面の親水性を維持するための容器。
【請求項２４】
樹脂よりなる基板表面の親水性を維持するための方法であって、該基板を、気密状態で収容される袋内において、脱酸素剤とともに気密状態で配置する工程、を包含する方法。
【請求項２５】
請求項１〜６のいずれかの項に記載の親水性基板を有する、細胞培養基板。
【請求項２６】
親水性基板と、該親水性基板が気密状態で収容される袋と、を有する親水性基板のパッケージであって、
該親水性基板は、樹脂を成形してなる基板と、該基板の表面から突出した複数の突起とを有し、
ここで、該パッケージを製造後３６５日間保存した後に、該袋から取り出した該親水性基板の表面の水接触角が２０°以下である、親水性基板のパッケージ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図７】
【公開番号】特開２０１２−２８０６（Ｐ２０１２−２８０６Ａ）
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１１２８７６（Ｐ２０１１−１１２８７６）
【出願日】平成２３年５月１９日（２０１１．５．１９）
【出願人】（０００２２５７４０）南部化成株式会社 (41)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月１９日（２０１１．５．１９）
【出願人】（０００２２５７４０）南部化成株式会社 (41)
【Ｆターム（参考）】
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