赤外遮蔽フィルム、赤外遮蔽フィルムの製造方法、および赤外遮蔽体
【課題】経時的に安定した赤外遮蔽性と、可視光透過率と、さらには柔軟性と、透明性と、を維持できる赤外遮蔽フィルム、その製造方法およびその赤外遮蔽フィルムを設けた赤外遮蔽体を提供することを目的とする。
【解決手段】基材上に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上である赤外遮蔽フィルム。
【解決手段】基材上に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上である赤外遮蔽フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外遮蔽フィルム、赤外遮蔽フィルムの製造方法、および赤外遮蔽体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、省エネルギー対策への関心が高まり、冷房設備にかかる負荷を減らすなどの観点から、建物や車両の窓ガラスに装着させて、太陽光の熱線の透過を遮断する赤外遮蔽フィルムの要望が高まってきている。
【０００３】
赤外遮蔽フィルムの形成方法としては、主には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成からなる積層膜を、蒸着法、スパッタ法などのドライ製膜法を用いて形成する方法が提案されている。しかし、ドライ製膜法は、形成に用いる真空装置等が大型になり、製造コストが高く、大面積化が困難であり、しかも、基材として耐熱性素材に限定される等の課題を抱えている。
【０００４】
特許文献１には、ガラス転移温度と屈折率とが異なる２種類以上のポリマー層を積層して作製した積層膜が開示されている。当該文献には、ポリマーの屈折率が温度変化に伴って変化するため、ポリマー間の屈折率差が変動し、赤外線の反射率が温度により変化する熱線反射膜が開示されている。この技術では、ポリマー間の屈折率差が小さいため、２０〜４０層の積層が必要であり、層数が多いためにコスト面や大面積化が困難である。また、ガラス転移温度の異なるポリマーを積層するため、長期間の使用においては、寒暖差の繰り返しにより内部構造の変形を誘起し、赤外遮蔽性や可視光透過率の低下を起こしやすいという問題がある。
【０００５】
上記のような課題を有しているドライ製膜法に代えて、溶液を塗布して赤外遮蔽フィルムを形成するウエット製膜法は、製造コストが安く、比較的大面積化しやすいという利点がある。
【０００６】
たとえば、特許文献２には、酸化チタン、紫外線硬化型バインダ、熱硬化型バインダおよび有機溶剤から構成される高屈折率塗膜形成用組成物を、スピンコーターを用いた湿式塗布方式により基材上に塗布して透明積層体を形成する方法などが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平６−１１６０８号公報
【特許文献２】特開２００９−８６６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献２に記載の技術では、紫外線硬化型バインダおよび熱硬化型バインダを用いているため、製膜後において、未反応のバインダ（モノマー）が紫外線または熱により硬化してしまい、経時で柔軟性が乏しくなる傾向があった。さらに、未反応のバインダ（モノマー）が経時で分解し、塗膜が変色してしまうという問題もあった。
【０００９】
以上のように、これまで、安定したフィルム性能を示すものが得られていないのが現状である。
【００１０】
そこで、本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、経時的に安定した赤外遮蔽性と、可視光透過率と、さらには柔軟性と、透明性と、を維持できる赤外遮蔽フィルム、その製造方法およびその赤外遮蔽フィルムを設けた赤外遮蔽体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討を行った。その結果、驚くべきことに、高屈折率層と、低屈折率層と、が特定の樹脂を主成分として含む赤外遮蔽フィルムにより、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００１３】
１．基材上に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上である赤外遮蔽フィルム。
【００１４】
２．前記セルロース化合物が、アセチルＣ３〜６アシルセルロースである、上記１．に記載の赤外遮蔽フィルム。
【００１５】
３．前記酸化チタン微粒子の表面がオイルで被覆されてなる、上記１．または２．に記載の赤外遮蔽フィルム。
【００１６】
４．バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、溶媒と、を含む高屈折率層用塗布液と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方と、溶媒と、を含む低屈折率層用塗布液と、を基材に塗布する工程と、塗布液が塗布された前記基材を乾燥する工程と、を含む赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【００１７】
５．前記セルロース化合物が、アセチルＣ３〜６アシルセルロースである、上記４．に記載の赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【００１８】
６．前記高屈折層用塗布液および前記低屈折層用塗布液を、同時重層塗布により基材に塗布する、上記４．または５．に記載の赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【００１９】
７．上記１．〜３．のいずれか１つに記載の赤外遮蔽フィルム、または上記４．〜６．のいずれか１つに記載の製造方法により得られる赤外遮蔽フィルムを、基体の少なくとも一方の面に設けた、赤外遮蔽体。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、経時的に安定した赤外遮蔽性と、可視光透過率と、さらには柔軟性と、透明性と、を維持できる赤外遮蔽フィルム、その製造方法およびその赤外遮蔽フィルムを設けた赤外遮蔽体が提供されうる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
【００２２】
本発明は、基材上に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上である赤外遮蔽フィルムである。かような構成とすることにより、長期間の使用においても赤外遮蔽性、可視光透過性、柔軟性および透明性に優れた赤外遮蔽フィルムを実現することができることを見出した。
【００２３】
すなわち、従来の赤外遮蔽フィルムの製造においては、たとえば、ガラス転移温度の異なるポリマーを積層するが、ポリマー間での屈折率差が低いため層数を増やさなければいけないだけでなく、温度変化による膨張収縮率がポリマー間で異なるため内部変形を起こしやすく、耐久性で問題を抱えていた。
【００２４】
また、別の従来の方法、たとえば、紫外線硬化型バインダと金属酸化物粒子（たとえば、酸化チタン粒子）を含む高屈折率層を形成する手法では、未反応のバインダ（モノマー）が紫外線または熱により硬化してしまうため、経時で柔軟性が乏しく、さらに未反応のバインダ（モノマー）が経時で分解することで、塗膜が変色してしまうという問題を抱えていた。
【００２５】
本発明者は、鋭意検討を進めた結果、特定のバインダの組み合わせにより、経時による内部変形が抑えられると同時に、反応性の物質がフィルム中に残存していないため、経時で柔軟性を維持することができ、さらに、透明性も保持できる赤外遮蔽フィルムを得ることができたのである。
【００２６】
以下、本発明の赤外遮蔽フィルムの構成要素、および本発明を実施するための形態等について詳細に説明する。
【００２７】
［赤外遮蔽フィルム］
本発明の赤外遮蔽フィルムは、基材上に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上であることを一つの特徴とする。さらには、本発明の赤外遮蔽フィルムの光学特性として、ＪＩＳ Ｒ３１０６−１９９８により測定される可視光領域の透過率が５０％以上であり、かつ、波長９００ｎｍ〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。
【００２８】
本発明の赤外遮蔽フィルムは、基材上に、高屈折率層と低屈折率層とからなるユニットを少なくとも１つ積層した構成であればよいが、高屈折率層および低屈折率層の総数の上限としては、１００層以下、すなわち５０ユニット以下であることが好ましい。さらに、層数を減らすことで、生産性が向上し、積層界面での散乱による透明性の減少を抑制することができるため、より好ましくは４０層（２０ユニット）以下であり、さらに好ましくは２０層（１０ユニット）以下である。また、本発明の赤外遮蔽フィルムは、上記ユニットを少なくとも１つ積層した構成であればよく、たとえば、積層膜の最表層や最下層のどちらも高屈折率層または低屈折率層となる積層膜であってもよい。
【００２９】
一般に、赤外遮蔽フィルムにおいては、高屈折率層と低屈折率層の屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができる観点で好ましいが、本発明では、高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットの少なくとも１つにおいて、隣接する該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が０．１以上であることを特徴とし、好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．４以上である。
【００３０】
また、本発明の赤外遮蔽フィルムにおいては、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が０．１以上であることを特徴とするが、高屈折率層と低屈折率層を上記のようにそれぞれ複数層有する場合には、全ての屈折率層が本発明で規定する要件を満たすことが好ましい。ただし、最表層や最下層に関しては、本発明で規定する要件外の構成であってもよい。
【００３１】
特定波長領域の反射率は、隣接する２層（高屈折率層と低屈折率層）の屈折率差と積層数で決まり、屈折率差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。たとえば、赤外遮蔽率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、１００層を超える積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下する。反射率の向上と層数を少なくする観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には１．４０程度が限界である。
【００３２】
本発明において、高屈折率層、低屈折率層の屈折率は、下記の方法に従って求めることができる。
【００３３】
基材上に屈折率を測定する各屈折率層を単層で塗布したサンプルを作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所社製）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率を２５点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。
【００３４】
また、本発明の赤外遮蔽フィルムの全体の厚みは、好ましくは１２〜３１５μｍ、より好ましくは１５〜２００μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍである。このように、本発明の赤外遮蔽フィルムは、従来の赤外遮蔽フィルムと比べてより薄い膜厚で、高い赤外遮蔽率を得ることが可能となる。
【００３５】
本発明の赤外遮蔽フィルムは、基材の下または基材と反対側の最表面層の上に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上を有していてもよい。
【００３６】
［高屈折率層および低屈折率層］
以下に、本発明の赤外遮蔽フィルムを構成する高屈折率層および低屈折率層について説明する。
【００３７】
本発明において、高屈折率層は、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方を含み、低屈折率層は、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含むことを特徴とする。そして、高屈折率層は、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子を含む。
【００３８】
ここで、「主成分」とはバインダ成分の構成材料の合計量１００質量％に占める割合が５０質量％以上であることを意味する。バインダ成分の構成材料の合計量１００質量％に占める主成分（セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂）の割合は、好ましくは９５質量％以上であり、より好ましくは９８質量％以上であり、さらに好ましくは９９質量％以上であり、もっとも好ましくは１００質量％である。
【００３９】
本明細書中、バインダ成分とは、重量平均分子量が１，０００〜３００，０００の高分子化合物を意味する。高分子化合物の分子量としては、１，０００〜２００，０００が好ましく、３，０００〜４０，０００がより好ましい。なお、本明細書において、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した値を採用する。
【００４０】
このとき、高屈折率層と低屈折率層両層とのバインダ成分の主成分としては異なるものを用いなければならず、たとえば、高屈折率層にセルロース化合物を含有した場合は、低屈折率層はポリビニルアセタール樹脂を含有しなければならない。本発明においては、各層には、それぞれバインダ成分として、セルロース化合物のみと、ポリビニルアセタール樹脂のみと、を含有させるのが、製造時の界面混合による屈折率差の低下を防止するのにもっとも好ましい構成であるが、本発明の効果を損なわない範囲で、他方を一部混合してもよいし、他の高分子化合物をバインダ成分として混合してもよい。その混合割合は、バインダ成分全量の０．０１〜５質量％が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜１質量％である。すなわち、ある層（たとえば、高屈折率層）において、セルロース化合物とポリビニルアセタール樹脂とを併用する場合は、セルロース化合物とポリビニルアセタールの合計量のうち、どちらか一方（たとえば、セルロース化合物）を９９．０９〜９５質量％含むことが好ましい。また、その場合、もう一方の層（たとえば、低屈折率層）には、他方（たとえば、ポリビニルアセタール樹脂）を９９．０９〜９５質量％含むことが好ましい。本発明においては、高屈折率層のバインダ成分の主成分としてポリビニルアセタール樹脂を用いるほうが、透明性をより向上させることができるので好ましい。
【００４１】
本発明の赤外遮蔽フィルムにおいて、高屈折率層の好ましい屈折率としては１．８０〜２．５０であり、より好ましくは１．９０〜２．２０である。また、本発明の低屈折率層は、屈折率が１．１０〜１．６０であることが好ましく、１．３０〜１．５５であるのがより好ましく、１．３０〜１．５０がさらに好ましい。
【００４２】
本発明の高屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。また、本発明の低屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。
【００４３】
［高屈折率層］
以下、本発明の高屈折率層の構成成分について述べる。
【００４４】
本発明における高屈折率層は、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方のみを用いることを特徴とする。そして、高屈折率層は、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子を含む。
【００４５】
＜酸化チタン微粒子＞
本発明の高屈折率層は、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子を含む。
【００４６】
高屈折率層における酸化チタン微粒子の含有量としては、高屈折率層全質量（固形分の質量）の１５〜７０質量％であるのが好ましく、２０〜６５質量％であるのがより好ましく、３０〜６０質量％がさらに好ましい。
【００４７】
本発明の高屈折率層に含まれる酸化チタン微粒子は、平均粒径４〜１００ｎｍのルチル型（正方晶形）酸化チタン微粒子であるのが好ましい。さらにその表面がオイルで被覆された酸化チタン微粒子は、経時での赤外遮蔽性および可視光透過性の性能維持ができるためより好ましい。なお、当該平均粒径は体積平均粒径を意味する。
【００４８】
本発明で用いられる酸化チタン微粒子の平均粒径は、４〜５０ｎｍであることが好ましく、４〜３０ｎｍであるのがより好ましい。平均粒径が４〜１００ｎｍであれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる。平均粒径が１００ｎｍを超える酸化チタン粒子は、本発明に限らず高屈折率層に用いるには適正なものといえない。
【００４９】
ここでいう平均粒径とは、媒体中に分散された一次粒子または二次粒子の体積平均粒径であり、レーザー回折／散乱法、動的光散乱法等により測定できる。
【００５０】
具体的には、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。
【００５１】
さらに、本発明で用いられる酸化チタン微粒子は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以下であることをいう。この単分散度は、さらに好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜２０％である。
【００５２】
【数１】
【００５３】
（酸化チタン微粒子の製造方法）
本発明で用いられる酸化チタン微粒子としては、ｐＨが１．０〜３．０で、かつチタン粒子のゼータ電位が正である水系の酸化チタンゾルの表面を、疎水化して有機溶剤に分散可能な状態にしたものを用いることが好ましい。
【００５４】
本発明で用いることのできる水系の酸化チタンゾルの調製方法としては、たとえば、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報等に記載された事項を参照にすることができる。
【００５５】
また、本発明で用いられる酸化チタン微粒子のその他の製造方法については、たとえば、「酸化チタン−物性と応用技術」清野学 ｐ２５５〜２５８（２０００年）技報堂出版株式会社、またはＷＯ２００７／０３９９５３号明細書の段落番号００１１〜００２３の記載の工程（２）の方法を参考にすることができる。
【００５６】
上記工程（２）による製造方法とは、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸物又はアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される、少なくとも１種の塩基性化合物で処理する工程（１）の後に、得られた二酸化チタン分散物を、カルボン酸基含有化合物および無機酸で処理する工程（２）からなる。本発明では、工程（２）により得られた無機酸によりｐＨを１．０〜３．０に調整された酸化チタンの水系ゾルを用いることができる。
【００５７】
上記水系ゾルの表面を該表面と相互作用しうる基を有する低分子の脂肪族化合物で処理して修飾し、表面を疎水性にすることができる。
【００５８】
水系ゾル表面を脂肪族化合物で処理して修飾するには、たとえば、水系ゾル分散液と水系ゾルの表面と相互作用しうる基を有する脂肪族化合物と混合・接触させればよい。
【００５９】
ここで用いられる水系ゾル分散液の分散媒体としては、水、アルコール、水とアルコールの混合溶媒、または水もしくは／およびアルコールとアルコール以外の有機溶媒との混合溶媒などが好適に用いられる。アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどが挙げられる。また有機溶媒としては、トルエン、酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどが好ましく用いられる。
【００６０】
該表面を修飾する低分子化合物としては、該表面と相互作用しうる基を有する脂肪族化合物であれば制限はなく、該表面と相互作用しうる基をもつため混合することによって該表面に結合ないし吸着する。たとえば、カルボキシル基、スルホン酸基、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基などを有する化合物が挙げられる。具体的には酢酸、プロピオン酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、アラキドン酸、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸、グリコール酸、乳酸、酒石酸、グルタル酸、クエン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ブタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、メタンチオール、エタンチオール、ブタンチオール、プロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、ドデシルアミンなどが挙げられるが、カルボキシル基、アミノ基を有する化合物が好ましく用いられる。
【００６１】
酸化チタン微粒子と低分子化合物との使用比率としては、酸化チタン微粒子／低分子化合物の質量比が、１００／１〜１／３００が好ましく、１０／１〜１／１００がより好ましく、５／１〜１／５０がさらに好ましい。
【００６２】
上記で得られた微粒子を有機溶媒に分散させることで、分散液が得られる。ここで有機溶媒としては、沸点約３０〜１５０℃の有機溶媒、たとえば、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を用いることができる。
【００６３】
（表面がオイルで被覆された酸化チタン微粒子の製造方法）
本発明における表面がオイルで被覆された酸化チタン微粒子は、上記で得られた分散液とオイルを一緒にさらに分散することで得られる。酸化チタン微粒子表面は疎水化されているため、オイルと親和性をもち、オイルと混合すると有機媒体中でオイルは該表面に吸着しこれを被覆する。
【００６４】
本発明で被覆とは酸化チタン微粒子表面の８０％以上を覆うことが好ましく、さらに好ましくは９０％以上を覆うことであり、より好ましくは、１００％覆うことである。
【００６５】
これによりオイルにより酸化チタン微粒子表面が効率的に覆われた分散液を安定に得ることができる。
【００６６】
ここで、オイルとしては実質的に水不溶（水中への溶解度５％以下（２５℃））で大気圧における沸点が約１６０℃以上、好ましくは１８０℃以上の高沸点溶媒が用いられる。この高沸点溶媒としては、米国特許第２，３２２，０２７号に記載されているような、たとえば、フタル酸アルキルエステル（ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど）、リン酸エステル（トリフェニルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、ジオクチルブチルフォスフェート）、クエン酸エステル（たとえば、アセチルクエン酸トリブチル）、安息香酸エステル（たとえば、安息香酸オクチル）、アルキルアミド（たとえば、ジエチルラウリルアミド）、脂肪酸エステル類（たとえば、ジブトキシエチルサクシネート、ジエチルアゼレート）、トリメシン酸エステル類（たとえば、トリメシン酸トリブチル）やポリオルガノシロキサンなどが使用できる。特に大気圧における沸点が１８０℃以上であるエステル類、中でもフタル酸アルキルエステル、リン酸エステル等のエステル類が好ましい。
【００６７】
酸化チタン微粒子とオイル（高沸点溶媒）との使用比率としては、酸化チタン微粒子／オイル（高沸点溶媒）の質量比が、１０／１〜１／１０（質量比）が好ましく、５／１〜１／５がより好ましい。
【００６８】
上記分散液を調製する分散機としては、超音波、高速攪拌型のディゾルバー、ホモミキサー、ホモブレンダー、ホモジナイザー、マントンゴーリン、コロイドミル等を用いることができる。
【００６９】
本発明の表面がオイルで被覆された酸化チタン微粒子を用いることで、オイルにより応力緩和され経時での膜の内部構造変化が抑えられ、経時での赤外遮蔽性、可視光透過性の性能がより安定化されたものと推定される。
【００７０】
なお、酸化チタン微粒子が、表面を、修飾および／または被覆された場合であっても、粒径は、用いた酸化チタン微粒子とほぼ同様であり、好ましい粒径の範囲も同様である。
【００７１】
＜バインダ成分＞
本発明の高屈折率層は、バインダ成分の主成分として、セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の一方を含む。
【００７２】
高屈折率層において、バインダ成分は、高屈折率層全質量（固形分の質量）の３０〜８５質量％であるのが好ましく、３５〜８０質量％であるのがより好ましく、４０〜７０質量％であるのがさらに好ましい。
【００７３】
以下にバインダ成分について説明する。
【００７４】
（１）セルロース化合物
本発明において、高屈折率層は、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物を含みうる。
【００７５】
本発明で用いられるセルロース化合物の平均重合度は、特に制限されず、たとえば、５０〜８０００が好ましく、１００〜７０００がより好ましく、２００〜６０００がさらに好ましい。
【００７６】
本発明で用いられるセルロース化合物としては、内部可塑化されたセルロース化合物が好ましく、アルコール、カルボン酸またはイソシアネートで内部可塑化されたセルロース化合物がより好ましい。
【００７７】
よって、内部可塑化されたセルロース化合物としては、セルロースエステル、セルロースカーバメート、セルロースエーテルなどが挙げられる。また、これらのうち、ポリビニルアセタール樹脂と相溶しにくいことから、セルロースエステル、セルロースエーテルが好ましく、セルロースエステルがより好ましい。また、これらのセルロース化合物は、可塑剤とともに用いて外部可塑化を行うこともできるが、セルロース化合物を内部可塑化するのが好ましい。セルロース化合物は、これらの化合物を単独でまたは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７８】
セルロースエステルとしては、有機酸エステルまたは無機酸エステルであってもよい。
【００７９】
有機酸エステルとしては、たとえば、セルロースアルキルカルボン酸エステルまたはセルロース芳香族カルボン酸エステルが挙げられる。セルロースアルキルカルボン酸エステルとしては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースペンタノエート、セルロースヘキサノエート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートペンタノエート、セルロースアセテートヘキサノエートなどのセルロースＣ２〜６アルキルエステル；メチルセルロースアセテート、エチルセルロースアセテートなどのＣ１〜６アルキルセルロースＣ２〜６アルキルエステル；ジクロロメチルセルロースアセテート、トリクロロメチルセルロースプロピオネート、トリフルオロメチルセルロースアセテートなどのＣ１〜６ハロアルキルセルロースＣ１〜６アルキルエステル；などが挙げられる。セルロース芳香族カルボン酸エステルとしては、セルロースフタレート、セルロースベンゾエート、セルロース−４−メチルベンゾエートなどのセルロースＣ７〜１２芳香族エステル；などが挙げられる。
【００８０】
無機酸エステルとしては、リン酸セルロース、硫酸セルロースなどが例示できる。セルロースエステルは、有機酸と無機酸との混合酸エステルであってもよい。
【００８１】
これらのうち、セルロースエステルとしては、セルロースＣ２〜６アルキルエステルが好ましく、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートペンタノエート、セルロースアセテートヘキサノエートなどのアセチルＣ３〜６アシルセルロースがより好ましい。これにより、得られる赤外遮蔽フィルムの透明性をより向上することができる。
【００８２】
セルロースカーバメートとしては、たとえば、セルロースエチルカーバメートなどのセルロースＣ１〜６アルキルカーバメート；セルロースフェニルカーバメートなどのセルロースＣ６〜１２アリールカーバメート；エチルセルロースプロピルカーバメートなどのＣ１〜６アルキルセルロースＣ１〜６アルキルカーバメート（セルロースエーテルカーバメート）；およびエチルセルロースフェニルカーバメートなどのＣ１〜６アルキルセルロースＣ６〜１２アリールカーバメート（セルロースエーテルカーバメート）；などが挙げられる。
【００８３】
これらのうち、セルロースカーバメートとしては、エチルセルロースフェニルカーバメートなどのＣ１〜６アルキルセルロースＣ６〜１２アリールカーバメート（セルロースエーテルカーバメート）が好ましい。
【００８４】
セルロースエーテルとしては、たとえば、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ペンチルセルロースなどのＣ１〜１０アルキルセルロース；シアノエチルセルロース、シアノプロピルセルロースなどのシアノＣ１〜１０アルキルセルロール；ベンジルセルロースなどのＣ６〜１２アリール−Ｃ１〜４アルキルセルロース（アラルキルセルロース）；などが挙げられる。
【００８５】
これらのうち、セルロースエーテルとしては、シアノエチルセルロース、シアノプロピルセルロースなどのシアノＣ１〜１０アルキルアルコールが好ましい。
【００８６】
セルロース化合物の平均置換度は、１〜３が好ましく、１．３〜３がより好ましく、１．５〜３がさらに好ましく、２〜３が特に好ましい。なお、アセチルＣ３〜６アシルセルロースにおける、アセチル基とＣ３〜６アシル基との割合は、たとえば、アセチル／Ｃ３〜６アシル（モル比）＝９０／１０〜５／９５が好ましく、７０／３０〜１０／９０がより好ましく、５０／５０〜１５／８５がさらに好ましい。
【００８７】
セルロース化合物の可塑化は、（ａ）セルロースを、軟質成分としてカルボン酸、アルコールまたはイソシアネートと反応させて、たとえば、プロピル基、プロピオネート基をセルロースに導入し、内部可塑化する方法、（ｂ）セルロース（セルロース化合物）に、可塑剤を添加し、外部可塑化する方法、ならびに（ｃ）これらの方法（ａ）および（ｂ）を組み合わせる方法などが挙げられる。用いられる可塑剤については後述する。
【００８８】
本発明で用いられるセルロース化合物は、セルロースを公知の方法で合成したものでもよいし、市販されているものを用いてもよい。
【００８９】
（２）ポリビニルアセタール樹脂
本発明で用いられるポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールを炭素数１〜１０のアルデヒドでアセタール化して得られるポリビニルアセタール樹脂である。
【００９０】
また、本発明で用いられるポリビニルアセタール樹脂の質量平均分子量は、９０，０００〜４００，０００であることが好ましく、９０，０００〜３７０，０００であることがより好ましく、９０，０００〜３４０，０００であることがさらに好ましい。質量平均分子量が上記範囲であれば、製造時に高屈折率層用塗布液の粘度が高くなりすぎず、塗布性が良好であるし、得られる赤外遮蔽フィルムの性能も良好である。
【００９１】
なお、本明細書中、質量平均分子量は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー(株)製）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量で定義する。
【００９２】
ポリビニルアセタール樹脂としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルエタナール、ポリビニルプロパナール、ポリビニルブチラール（ポリビニルブタナール）、ポリビニルバレラール、ポリビニルヘキサール、ポリビニルヘプタナール、ポリビニル２−エチルヘキサール、ポリビニルシクロヘキサール、ポリビニルグルタール、ポリビニルベンザール、ポリビニル２−メチルベンザール、ポリビニル３−メチルベンザール、ポリビニル４−メチルベンザール、ポリビニルｐ−ヒドロキシベンザール、ポリビニルｍ−ヒドロキシベンザール、ポリビニルフェニルアセタール、ポリビニルβ−フェニルプロパナール等が挙げられる。
【００９３】
これらのうち、Ｃ１〜５アルデヒド（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレルアルデヒド）でアセタール化された樹脂、すなわち、ポリビニルホルマール、ポリビニルエタナール、ポリビニルプロパナール、ポリビニルブチラール、ポリビニルバレラールが好ましく、Ｃ２〜４アルデヒドでアセタール化された樹脂、すなわち、ポリビニルホルマール、ポリビニルエタナール、ポリビニルプロパナール、ポリビニルブチラールがより好ましい。また、必要に応じて２種以上のポリビニルアセタール樹脂を併用してもよい。
【００９４】
本発明で用いられるポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度は、４０〜８５モル％が好ましく、５５〜８０モル％がより好ましく、６０〜７５モル％がさらに好ましい。なお、アセタール化度は、赤外吸収スペクトル（ＩＲ）法により、測定することができる。たとえば、ＦＴ−ＩＲ（堀場製作所社製、ＦＲＥＥＥＸＡＣＴ−ＩＩ、ＦＴ−７２０）を用いて測定することができる。
【００９５】
本発明で用いられるポリビニルアセタール樹脂の水酸基量は、好ましくは１５〜３５モル％である。水酸基量が上記範囲であれば、セルロース化合物との接着性や、得られる赤外遮蔽フィルムの柔軟性が良好である。
【００９６】
ポリビニルアセタール樹脂は、上述のように、ポリビニルアルコールをアルデヒドでアセタール化することにより調製することができる。ポリビニルアルコールは、通常、ポリ酢酸ビニルを鹸化することにより得られ、鹸化度８０〜９９．８モル％のポリビニルアルコールが一般的に用いられる。また、ポリビニルアルコールの重合度は、２００〜４０００が好ましく、５００〜３０００がより好ましく、１０００〜２５００がさらに好ましい。重合度が上記範囲であれば、得られる赤外遮蔽フィルムの柔軟性および耐久性が良好である。
【００９７】
ポリビニルアルコールをアセタール化するためのアルデヒドは、特に限定されないが、たとえば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、アミルアルデヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、２−エチルヘキシルアルデヒド、シクロヘキシルアルデヒド、フルフラール、グリオキザール、グルタルアルデヒド、ベンズアルデヒド、２−メチルベンズアルデヒド、３−メチルベンズアルデヒド、４−メチルベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、β−フェニルプロピオンアルデヒド等が挙げられる。なかでも、Ｃ１〜５のアルデヒド（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、アミルアルデヒド）が好ましく、Ｃ２〜４のアルデヒド（アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド）がより好ましい。また、これらを、それぞれ単独で用いるか、または、これらを併用することが好ましい。
【００９８】
本発明において、ポリビニルアセタール樹脂は、上述の方法で得られたものを用いてもよいし、市販されているものを用いてもよいし、それらを併用してもよい。市販されているポリビニルアセタールの代表例としては、デンカブチラール３０００−１、５０００−Ａ、６０００−Ｃ、６０００−ＣＳ（いずれも商品名：電気化学（株）製）や、エスレックＢＸ−１、ＢＸ−５、ＫＳ−５（いずれも商品名：積水化学（株）製）などが挙げられる。
【００９９】
（３）その他の高分子化合物
本発明において、高屈折率層は、バインダ成分として、上述したセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂以外の高分子化合物も含むことができる。
【０１００】
このような高分子化合物としては、本発明の効果に影響を与えなければ特に制限されないが、たとえば、ポリエステルやポリウレタンなどのポリマー、ポリアクリル酸エステルなどの反応性官能基を含有するポリマーなどが挙げられる。これら高分子化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。また、高分子化合物は合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【０１０１】
（反応性官能基を有するポリマー）
本発明で用いられる反応性官能基を有するポリマーとしては、変性ポリビニルアルコール類（たとえば、末端をカチオン、アニオンまたはノニオン変性をしたもの）、ポリウレタン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体およびそれらの塩が挙げられる。
【０１０２】
なお、上記反応性官能基を有するポリマーが共重合体である場合の共重合体の形態は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体、交互共重合体のいずれであってもよい。
【０１０３】
＜その他の添加剤＞
本発明の高屈折率層には、必要に応じて各種添加剤を用いることができる。
【０１０４】
（１）可塑剤
本発明で用いられる可塑剤としては、たとえば、一塩基性有機酸エステル、多塩基性有機酸エステル等の有機エステル可塑剤や、有機リン酸可塑剤、有機亜リン酸可塑剤等のリン酸可塑剤等が挙げられ、上記可塑剤は液状可塑剤であることが好ましい。
【０１０５】
上記一塩基性有機酸エステルは特に限定されないが、たとえば、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコールと、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプチル酸、ｎ−オクチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−ノニル酸）、デシル酸等の一塩基性有機酸との反応によって得られたグリコールエステル等が挙げられる。なかでも、トリエチレングリコールジカプロン酸エステル、トリエチレングリコール−ジ−２−エチル酪酸エステル、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−オクチル酸エステル、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキシル酸エステル等のトリエチレングリコールジアルキル酸エステル等が好適である。
【０１０６】
上記多塩基性有機酸エステルは特に限定されないが、たとえば、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸等の多塩基性有機酸と、炭素数４〜８の直鎖または分岐構造を有するアルコールとのエステル化合物が挙げられる。なかでも、ジヘキシルアジペート、ジブチルセバシン酸エステル、ジオクチルアゼライン酸エステル、ジブチルカルビトールアジピン酸エステル等が好適である。
【０１０７】
上記有機エステル可塑剤は特に限定されず、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコールジカプリレート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−オクタノエート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、テトラエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、テトラエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジペート、エチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、１，３−プロピレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、１，４−ブチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、ジエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、ジエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、ジプロピレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルペンタノエート、テトラエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、ジエチレングリコールジカプリエート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、テトラエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、トリエチレングリコールジヘプタノエート、テトラエチレングリコールジヘプタノエート、アジピン酸ジヘキシル、アジピン酸ジオクチル、アジピン酸ヘキシルシクロヘキシル、アジピン酸ヘプチルとアジピン酸ノニルとの混合物、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ヘプチルノニル、セバシン酸ジブチル、油変性セバシン酸アルキド、リン酸エステルとアジピン酸エステルとの混合物等が挙げられる。
【０１０８】
上記有機リン酸可塑剤は特に限定されず、たとえば、トリブトキシエチルホスフェート、イソデシルフェニルホスフェート、トリイソプロピルホスフェート等が挙げられる。
【０１０９】
（２）塗布助剤
本発明に用いる塗布助剤としては、たとえば、シロキサン系界面活性剤を用いることが出き、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが好ましい。 ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンの具体例としては、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシドまたはそれらの混合物で変性されたポリジメチルシロキサンが挙げられる。これらのポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンは、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはポリブチレンオキシドの量や混合比率等を適宜、変化させて得られる。
【０１１０】
これらシロキサン系界面活性剤は、市販品として入手することができ、たとえば、ビックケミー社のＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４０、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、信越化学社のＫＦ−９４５、ＫＦ−３５２Ａ、ＫＦ−６４０、ＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−３５４Ｌ、Ｘ−２２−４２７２、Ｘ−２２−６２６６、ＥＦＫＡ社のＥＦＫＡ−３０３０、ＥＦＫＡ−３０３１、ＥＦＫＡ−３０３４、ＥＦＫＡ−３２９９、ＥＦＫＡ−３２３２、ＥＦＫＡ−３２８８、ＥＦＫＡ−３０３３、ＥＦＫＡ−３０３５、ＥＦＫＡ−３５８０、ＥＦＫＡ−３８８３、ＥＦＫＡ−３２３９、ＥＦＫＡ−３２３６、ＥＦＫＡ−３５２２などを挙げることができる。シロキサン系界面活性剤の添加量は、固形分に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％、さらに好ましくは０．０５〜２．０質量％である。
【０１１１】
（３）その他の添加剤
本発明に係る高屈折率層および低屈折率層に適用可能な各種の添加剤を、以下に列挙する（なお、後述する低屈折率層においても適用可能である）。たとえば、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、および特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、および特開平３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、滑剤、赤外線吸収剤、色素、顔料等の公知の各種添加剤などが挙げられる。
【０１１２】
［低屈折率層］
本発明の低屈折率層は、バインダ成分の主成分として、セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方（すなわち、高屈折率層のバインダ成分の主成分とは相違する方）を含む。
【０１１３】
すなわち、本発明の低屈折率層は、高屈折率層と同様に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれかを用いることを特徴とする。このとき、両層のバインダ成分の主成分としては異なるものを用いなければならないため、低屈折率層のバインダ成分の主成分としては、高屈折率層のバインダ成分の主成分とは異なるものを用いるのである。
【０１１４】
低屈折率層において、バインダ成分は、低屈折率層全質量（固形分の質量）の１〜１００質量％であることが好ましく、５〜１００質量％であることがより好ましい。また、低屈折率層が金属酸化物粒子を含む場合、バインダ成分は、低屈折率層全質量（固形分の質量）の１０〜８５質量％であることが好ましく、２０〜６０質量％であるのがより好ましい。
【０１１５】
また、本発明の低屈折率層がバインダ成分として含みうるセルロース化合物、ポリビニルアセタール樹脂、その他の高分子化合物としては、高屈折率層で述べたものと同じものが使用できるため省略する。また、低屈折率層においても、その他添加剤として上述した（１）可塑剤、（２）塗布助剤、（３）その他の添加剤に記載しているものを含有することができる。
【０１１６】
また、低屈折率層においても、バインダ成分としてはセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のみで構成することが、製造時の界面混合による屈折率差の低下を防止するのにもっとも好ましい構成であるが、本発明の効果を損なわない範囲で、他方を一部混合してもよいし、他の高分子化合物を混合してもよい。その混合割合は、バインダ成分全量の０．０１〜５質量％が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜１質量％である。
【０１１７】
また、本発明の低屈折率層は、好ましくは金属酸化物粒子を含む。金属酸化物粒子としては二酸化ケイ素を用いることが好ましく、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等を挙げることができる。有機溶媒に分散させたコロイダルシリカゾルを用いることが特に好ましい。
【０１１８】
本発明において、二酸化ケイ素は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜２０ｎｍであるのがより好ましく、４〜１０ｎｍであるのがさらに好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【０１１９】
本発明の低屈率層で用いられる金属酸化物粒子の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
【０１２０】
特に好ましく用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号パンフレットなどに記載されているものである。
【０１２１】
かようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【０１２２】
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。
【０１２３】
本発明の低屈折率層における金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層全質量（固形分の質量）の１５〜９０質量％であるのが好ましく、４０〜８０質量％がより好ましい。
【０１２４】
［基材］
本発明の赤外遮蔽フィルムに用いられる基材としては、フィルム支持体であることが好ましい。フィルム支持体は、透明であっても不透明であってもよく、種々の樹脂フィルムを用いることができる。その具体例としては、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム（以降ポリエステルと称す）としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや１，４−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールとからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの２種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
【０１２５】
本発明に係る基材の厚みは、１０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは２０〜１５０μｍである。基材は、２枚以上を重ねたものであってもよく、この際、基材の種類は同じでもよいし異なっていてもよい。
【０１２６】
［赤外遮蔽フィルムの製造方法］
本発明の赤外遮蔽フィルムは、基材上に高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットを積層して形成される。本発明の赤外遮蔽フィルムの製造方法は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に塗布、乾燥して積層体を形成することが好ましい。
【０１２７】
すなわち、本発明の赤外遮蔽フィルムが、たとえば、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、溶媒と、を含む高屈折率層用塗布液と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方と、溶媒と、必要により金属酸化物粒子と、を含む低屈折率層用塗布液と、を基材に塗布する工程と、塗布液を塗布された前記基材を乾燥する工程と、を含む製造方法により得られる。
【０１２８】
さらに、高屈折層用塗布液および低屈折層用塗布液が、同時重層塗布により基材に塗布されるのが好ましい。
【０１２９】
さらに具体的には、たとえば、（１）基材上に、高屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成した後、低屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成し、赤外遮蔽フィルムを形成する方法（逐次塗布）；（２）基材上に、低屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成した後、高屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成し、赤外遮蔽フィルムを形成する方法（逐次塗布）；（３）基材上に、高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とを交互に逐次重層塗布した後乾燥して、高屈折率層および低屈折率層を含む赤外遮蔽フィルムを形成する方法（逐次重層塗布）；（４）高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とを同時重層塗布し、乾燥して、高屈折率層および低屈折率層を含む赤外遮蔽フィルムを形成する方法（同時重層塗布）；などが挙げられる。なかでも、フィルムの経時的な柔軟性が安定するため、同時重層塗布法（上記（４））が好ましい。
【０１３０】
塗布方法は、特に制限されず、たとえば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、スライド型カーテン塗布法、または米国特許第２，７６１，４１９号明細書、米国特許第２，７６１，７９１号明細書などに記載のスライドホッパー（スライドビード）塗布法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。
【０１３１】
また、同時重層塗布を行う際の塗布方式としては、エクストルージョンコート法、スライドホッパー（スライドビード）塗布方法、スライド型カーテン塗布方法が好ましく用いられるが、エクストルージョンコート法がより好ましい。
【０１３２】
以下、本発明の好ましい製造方法（塗布方法）である同時重層塗布法について詳細に説明する。
【０１３３】
＜溶媒＞
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。
【０１３４】
前記有機溶媒としては、たとえば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。
【０１３５】
環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましい。
【０１３６】
＜塗布液の濃度＞
高屈折率層用塗布液中のセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の濃度は、１〜１０質量％であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の酸化チタン微粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。
【０１３７】
低屈折率層用塗布液中のセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の濃度は、１〜１０質量％であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の金属酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。
【０１３８】
さらに、高屈折率層および低屈折率層の各成分（セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂、ならびに酸化チタン微粒子または金属酸化物粒子）の含有量が各層の欄で説明した数値範囲となるように、塗布液に各成分を添加することが好ましい。
【０１３９】
＜塗布液の調製方法＞
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、たとえば、セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂、酸化チタン微粒子または金属酸化物粒子および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂、酸化チタン微粒子または金属酸化物粒子および必要に応じて添加されるその他の添加剤の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。
【０１４０】
＜塗布液の粘度＞
スライドホッパー（スライドビード）塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の２５℃における粘度は、５〜１００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓの範囲がより好ましい。また、スライド型カーテン塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の２５℃における粘度は、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲がより好ましい。また、エクストルージョンコート法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の２５℃における粘度は、１００〜１０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、さらに好ましくは３，０００〜８，０００ｍＰａ・ｓである。
【０１４１】
＜塗布および乾燥方法＞
塗布および乾燥方法は、特に制限されないが、基材上に高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、３０℃以上で乾燥することが好ましい。乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられるが、より好ましい乾燥条件は、膜面温度３０〜１００℃の範囲の条件である。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥が好ましく、恒率乾燥部の温度＜減率乾燥部の温度にするのがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は３０〜６０℃、減率乾燥部の温度範囲は５０〜１００℃にするのが好ましい。
【０１４２】
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の塗布厚は、上記で示したような好ましい乾燥時の厚みとなるように塗布すればよい。
【０１４３】
［赤外遮蔽体］
本発明の赤外遮蔽フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルムや、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。
【０１４４】
特に、本発明に係る赤外遮蔽フィルムは、直接または接着剤を介して、ガラスまたはガラス代替の樹脂などの基体に貼合される部材に好適に用いられる。
【０１４５】
すなわち、本発明は、本発明の赤外遮蔽フィルム、または本発明の製造方法により得られる赤外遮蔽フィルムを、基体の少なくとも一方の面に設けた、赤外遮蔽体をも提供する。
【０１４６】
前記基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでもよく、これらを２種以上組み合わせて用いてもよい。本発明で使用されうる基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。
【０１４７】
基体の厚みは特に制限されないが、通常０．１ｍｍ〜５ｃｍである。
【０１４８】
本発明の赤外遮蔽フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、赤外遮蔽フィルムが日光（熱線）入射面側にあるように設置することが好ましい。また、本発明の赤外遮蔽フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明の赤外遮蔽フィルムを、屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性があって好ましい。
【０１４９】
本発明に適用可能な接着剤または粘着剤としては、光硬化性または熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤または粘着剤が挙げられる。
【０１５０】
接着剤または粘着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル粘着剤またはシリコーン粘着剤が好ましい。さらに粘着特性やコストの観点から、アクリル粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、溶剤系およびエマルジョン系アクリル粘着剤が好ましく、溶剤系アクリル粘着剤がより好ましい。溶剤系アクリル粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。
【０１５１】
また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を上記の接着剤または粘着剤として用いてもよい。その具体例としては、例えば、可塑性ポリビニルブチラール（積水化学工業社製、三菱モンサント社製等）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン）、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体（東ソー社製、メルセンＧ）等である。なお、接着層または粘着層には、紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着（粘着）調整剤等を適宜添加配合してもよい。
【実施例】
【０１５２】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量％」を表す。
【０１５３】
（実施例１）
＜酸化チタン微粒子分散液の調製＞
（酸化チタン微粒子分散液１の調製）
２０質量％酸化チタン粒子ゾル（体積平均粒径３５ｎｍ、ルチル型酸化チタン粒子）６０ｇを攪拌しながらプロピオン酸１００ｇを少量ずつ添加した。析出した固形物を酢酸エチルで洗浄後、ｎ−ブタノールとトルエン混合液（１：１）１３５ｇを加え超音波分散して分散液を得た。得られた分散液を攪拌しながらｎ−プロピルアミン５０ｇを少量ずつ添加した。析出した固形物をｎ−ブタノールで洗浄後、酢酸エチル４０ｇを添加して超音波分散して分散液を得た。得られた分散液は１２質量％だった。
【０１５４】
（酸化チタン微粒子分散液２の調製）
上記で得られた分散液１に、さらに、酢酸エチル１０ｇ、トリクレジルフォスフェート２ｇを添加して超音波分散して分散液２を得た。得られた分散液は１０質量％だった。
【０１５５】
（金属酸化物粒子分散液３の調製）
トリクレジルフォスフェートをジオクチルフタレートに変更する以外は酸化チタン微粒子分散液２の調製と同様にして、１０質量％の分散液を得た。
【０１５６】
＜赤外遮蔽フィルムの作製＞
（実施例１−１）
［試料１の作製］
（高屈折率層塗布液１の調製）
下記の添加物（１）〜（４）をこの順序で添加、混合して、高屈折率層塗布液１を調製した。以下、メチルエチルケトンを「ＭＥＫ」と表記した。また、以下の界面活性剤は「ＢＹＫ−３３７（シロキサン系界面活性剤、ビックケミー社製）」を意味する。
（１）酸化チタン微粒子分散液１ １２０ｇ
（２）メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １５０ｇ
（３）５．０質量％エチルセルロースフェニルカーバメートＭＥＫ溶液 ２００ｇ
（４）５．０質量％界面活性剤ＭＥＫ溶液 ０．４０ｇ
（低屈折率層塗布液１の調製）
下記の添加物（１）〜（４）をこの順序で添加、混合して、低屈折率層塗布液１を調製した。
（１）２０質量％コロイダルシリカ ６８ｇ
（２）ＭＥＫ ２４０ｇ
（３）５．０質量％ポリビニルホルマールＭＥＫ溶液 ２００ｇ
（４）５．０質量％界面活性剤ＭＥＫ溶液 ０．６０ｇ
（積層体の形成）
（高屈折率層１の形成）
上記調製した高屈折率層用塗布液１を厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、乾燥膜厚が１３５ｎｍとなる条件で、ワイヤーバーを用いて塗布し、１００℃の温風を吹き付けて乾燥させて、高屈折率層１を形成した。
【０１５７】
〈低屈折率層１の形成〉
次いで、低屈折率層用塗布液１を上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの高屈折率層１上に、乾燥膜厚が１７５ｎｍとなる条件で、ワイヤーバーを用いて塗布し、次いで、１００℃の温風を吹き付けて乾燥させて、低屈折率層１を形成した。
【０１５８】
（赤外遮蔽フィルムの作製）
上記形成した低屈折率層１上に、同様にして高屈折率層１／低屈折率層１から構成されるユニットをさらに５ユニット積層し、それぞれ６層の高屈折率層および低屈折率層（合計１２層）から構成された赤外遮蔽フィルムである試料１を作製した。なお、試料１のフィルム膜厚は５１．９μｍであった。
【０１５９】
（実施例１−２〜１−７）
［試料２〜７の作製］
上記試料１の作製において、高屈折率層、低屈折率層のバインダを表１記載のものに変更する以外は同様にして、試料２〜７を作製した。
【０１６０】
（実施例１−８）
［試料８の作製］
上記試料７の作製において、高屈折率層、低屈折率層のバインダをそれぞれ入れ替える以外は同様にして、試料８を作製した。
【０１６１】
（実施例１−９〜１−１０）
［試料９、１０の作製］
上記試料８の作製において、酸化チタン微粒子分散液１を、酸化チタン微粒子分散液２、３に変更する以外は同様にして、試料９，１０を作製した。
【０１６２】
（実施例１−１１〜１−１２）
［試料１１、１２の作製］
上記試料８、９の作製において、高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液をエクストルージョンコート法にて交互に同時に６層ずつ押出し塗布、乾燥を行い、試料１１，１２を作製した。
【０１６３】
（比較例１−１３）
［試料１３の作製］
上記試料３の作製において、低屈折率層のバインダを高屈折率層と同じセルロースアセテートブチレートにする以外は同様にして、試料１３を作製した。
【０１６４】
（比較例１−１４）
［試料１４の作製］
特開平６−１１６０８号の実施例１に従って高屈折率層と低屈折率層を交互に積層して、試料１４を作成した。
【０１６５】
以下のように作成した。
【０１６６】
高屈折率ポリマー層、低屈折率ポリマー層を以下のように選定した。
【０１６７】
高屈折率ポリマー層：ポリアクリル酸
・ｎ＝１．５２７（２０℃）
・Ｔg＝１０６℃
低屈折率ポリマー層：ポリヒドロキシエチルメタクリレート
・ｎ＝１．５１２（２０℃）
・Ｔg＝５５℃
これを、０．１５μｍ（９００ｎｍ反射）、０．１６５μｍ（１０００ｎｍ反射）、０．１８２μｍ（１１００ｎｍ反射）、０．１９９μｍ（１２００ｎｍ反射）、０．２１５μｍ（１３００ｎｍ反射）、０．２３２μｍ（１４００ｎｍ反射）、０．２４８μｍ（１５００ｎｍ反射）の各膜厚で、各々５０層ずつ高屈折率ポリマー層と低屈折率ポリマー層を交互に積層して試料１４を作製した。
【０１６８】
（比較例１−１５）
［試料１５の作製］
特開２００９−８６６５９号の実施例１および実施例２に従ってＰＥＴベース上に高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ６層ずつ交互に積層して、試料１５を作成した。
【０１６９】
以下のように作成した。
【０１７０】
（分散液Ａの調製）
無機粒子としてルチル型酸化チタン（石原産業株式会社製「ＴＴＯ−５５Ａ」、粒径３０〜５０ｎｍ、水酸化アルミニウム表面処理品、屈折率２．６）を１０９重量部、分散剤としてポリエチレンイミン系ブロックポリマーを１１質量部、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、和光純薬株式会社製）１８０質量部を、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ１４１質量部を用いてビーズミル分散機で２４分間分散させた後、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズに切り替えてビーズミル分散機で１４７分間分散させることにより、分散液Ａを得た。
【０１７１】
（溶液Ａの調製）
バインダ樹脂（バインダ成分）として４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホン（硬化後の屈折率１．６５）を５０質量％、重合開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを０．２５質量％含有するＰＧＭＥＡ溶液を調製し、溶液Ａとした。
【０１７２】
（溶液Ｂの調製）
分散液Ａと溶液Ａの質量混合比１：７の混合液を調製し、溶液Ｂとした。
【０１７３】
（溶液Ｃの調製）
溶液ＢとＰＧＭＥＡの重量混合比１：２の混合液を調製し、溶液Ｃとした。
【０１７４】
（高屈折率層Ａの作成）
溶液Ｃを厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に２ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件でスピンコーター（ミカサ株式会社製１Ｈ−Ｄ７）により塗布した後、１２０℃で１０分間加熱した。その後、出力１８４Ｗ／ｃｍの無電極水銀ランプ（フュージョンＵＶシステムズ社製）を用いて積算光量２．８Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより高屈折率層Ａを得た。膜厚は１３４ｎｍ程度であった。
【０１７５】
高屈折率層Ａをコロナ放電処理（信光電気計装株式会社製コロナ放電表面改質装置）により表面改質した後、１質量％のヒドロキシエチルセルロース（東京化成工業株式会社製）の水溶液を２ｍＬ滴下し、１分間室温で放置した後、５００ｒｐｍ、３０秒のスピンコート条件で塗布した。塗布直後、すぐさま８０℃のホットプレート（アズワン株式会社製ＨＰＤ−３０００）上に試料を置いて１０分間加熱することにより高屈折率層Ａの上に低屈折率層を積層させた。
【０１７６】
さらに、同様な操作により、高屈折率層と低屈折率層をさらにそれぞれ５層ずつ交互に積層して試料１５を作製した。
【０１７７】
＜赤外遮蔽フィルムの評価＞
上記作製した各赤外遮蔽フィルムについて、下記の特性値の測定および性能評価を行った。
【０１７８】
（各層の屈折率の測定）
基材上に屈折率を測定する対象層（高屈折率層、低屈折率層）をそれぞれ単層で塗布したサンプルを作製し、下記の方法に従って、各高屈折率層および低屈折率層の屈折率を求めた。
【０１７９】
分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所社製）を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率の測定結果より、屈折率を求め表１に示した。
【０１８０】
（経時劣化条件）
以下の温度サイクルを経時代用条件とした。
【０１８１】
・温度：低温 −２０℃ 高温 ＋５５℃
・時間：各上下限１０分以上、１サイクル３時間
・温度変化率：上昇・降下ともに１００℃／ｈｒ．
・サイクル数：９０
・風速：２ｍ／ｓ
（可視光透過率および赤外透過率の測定）
上記作製した各赤外遮蔽フィルムについて、上記経時劣化条件で処理後に、屈折率測定で使用した分光光度計（積分球使用、日立製作所社製、Ｕ−４０００型）を用い、各赤外遮蔽フィルムの３００ｎｍ〜２０００ｎｍの領域における透過率を測定した。可視光透過率は５５０ｎｍにおける透過率の値を、赤外透過率は１２００ｎｍにおける透過率の値を用いた。
【０１８２】
（柔軟性の評価）
上記作製した各赤外遮蔽フィルムについて、上記経時劣化条件で処理後に、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１に準拠した屈曲試験法に基づき、屈曲試験機タイプ１（井元製作所社製、型式ＩＭＣ−ＡＯＦ２、マンドレル径φ２０ｍｍ）を用いて、１０００回の屈曲試験を行った後、赤外遮蔽フィルム表面を目視観察し、下記の基準に従って柔軟性を評価した。
【０１８３】
◎：赤外遮蔽フィルム表面に、折り曲げ跡やひび割れは観察されない
○：赤外遮蔽フィルム表面に、わずかに折り曲げ跡が観察される
△：赤外遮蔽フィルム表面に、微小なひび割れが僅かに観察される
×：赤外遮蔽フィルム表面に、明らかなひび割れが多数発生している
（透明性の評価）
作製した各赤外遮蔽フィルムについて、メタルハライドランプ式耐候性試験機（スガ試験機製 Ｍ６Ｔ）により、放射照度１ｋＷ／ｍ２の光を１００時間照射し、照射後における着色状態を目視観察し、下記の基準に従って評価した
◎：着色が全く認められない
○：ほぼ着色が認められない
△：わずかに着色が認められる
×：明らかな着色が認められる
以上により得られた測定結果、評価結果を、表１に示す。
【０１８４】
【表１】
【０１８５】
表１の結果より明らかなように、本発明の赤外遮蔽フィルムは、長期間の使用においても赤外反射性（赤外遮蔽性）、可視光透過性、膜柔軟性および透明性に優れていることが分かる。
【０１８６】
（実施例２）
［赤外反射体１〜１２の作製］
実施例１で作製した試料１〜１２の赤外遮蔽フィルムを用いて赤外遮蔽体１〜１２を作製した。厚さ５ｍｍ、２０ｃｍ×２０ｃｍの透明アクリル樹脂板上に、試料１〜１２の赤外遮蔽フィルムをそれぞれアクリル接着剤で接着して、赤外遮蔽体１〜１２を作製した。
【０１８７】
［評価］
上記作製した本発明の赤外遮蔽体１〜１２は、赤外遮蔽体のサイズが大きいにもかかわらず、容易に利用可能であり、また、本発明の赤外遮蔽フィルムを利用することで、優れた赤外遮蔽性を確認することができた。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外遮蔽フィルム、赤外遮蔽フィルムの製造方法、および赤外遮蔽体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、省エネルギー対策への関心が高まり、冷房設備にかかる負荷を減らすなどの観点から、建物や車両の窓ガラスに装着させて、太陽光の熱線の透過を遮断する赤外遮蔽フィルムの要望が高まってきている。
【０００３】
赤外遮蔽フィルムの形成方法としては、主には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成からなる積層膜を、蒸着法、スパッタ法などのドライ製膜法を用いて形成する方法が提案されている。しかし、ドライ製膜法は、形成に用いる真空装置等が大型になり、製造コストが高く、大面積化が困難であり、しかも、基材として耐熱性素材に限定される等の課題を抱えている。
【０００４】
特許文献１には、ガラス転移温度と屈折率とが異なる２種類以上のポリマー層を積層して作製した積層膜が開示されている。当該文献には、ポリマーの屈折率が温度変化に伴って変化するため、ポリマー間の屈折率差が変動し、赤外線の反射率が温度により変化する熱線反射膜が開示されている。この技術では、ポリマー間の屈折率差が小さいため、２０〜４０層の積層が必要であり、層数が多いためにコスト面や大面積化が困難である。また、ガラス転移温度の異なるポリマーを積層するため、長期間の使用においては、寒暖差の繰り返しにより内部構造の変形を誘起し、赤外遮蔽性や可視光透過率の低下を起こしやすいという問題がある。
【０００５】
上記のような課題を有しているドライ製膜法に代えて、溶液を塗布して赤外遮蔽フィルムを形成するウエット製膜法は、製造コストが安く、比較的大面積化しやすいという利点がある。
【０００６】
たとえば、特許文献２には、酸化チタン、紫外線硬化型バインダ、熱硬化型バインダおよび有機溶剤から構成される高屈折率塗膜形成用組成物を、スピンコーターを用いた湿式塗布方式により基材上に塗布して透明積層体を形成する方法などが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平６−１１６０８号公報
【特許文献２】特開２００９−８６６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献２に記載の技術では、紫外線硬化型バインダおよび熱硬化型バインダを用いているため、製膜後において、未反応のバインダ（モノマー）が紫外線または熱により硬化してしまい、経時で柔軟性が乏しくなる傾向があった。さらに、未反応のバインダ（モノマー）が経時で分解し、塗膜が変色してしまうという問題もあった。
【０００９】
以上のように、これまで、安定したフィルム性能を示すものが得られていないのが現状である。
【００１０】
そこで、本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、経時的に安定した赤外遮蔽性と、可視光透過率と、さらには柔軟性と、透明性と、を維持できる赤外遮蔽フィルム、その製造方法およびその赤外遮蔽フィルムを設けた赤外遮蔽体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討を行った。その結果、驚くべきことに、高屈折率層と、低屈折率層と、が特定の樹脂を主成分として含む赤外遮蔽フィルムにより、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００１３】
１．基材上に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上である赤外遮蔽フィルム。
【００１４】
２．前記セルロース化合物が、アセチルＣ３〜６アシルセルロースである、上記１．に記載の赤外遮蔽フィルム。
【００１５】
３．前記酸化チタン微粒子の表面がオイルで被覆されてなる、上記１．または２．に記載の赤外遮蔽フィルム。
【００１６】
４．バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、溶媒と、を含む高屈折率層用塗布液と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方と、溶媒と、を含む低屈折率層用塗布液と、を基材に塗布する工程と、塗布液が塗布された前記基材を乾燥する工程と、を含む赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【００１７】
５．前記セルロース化合物が、アセチルＣ３〜６アシルセルロースである、上記４．に記載の赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【００１８】
６．前記高屈折層用塗布液および前記低屈折層用塗布液を、同時重層塗布により基材に塗布する、上記４．または５．に記載の赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【００１９】
７．上記１．〜３．のいずれか１つに記載の赤外遮蔽フィルム、または上記４．〜６．のいずれか１つに記載の製造方法により得られる赤外遮蔽フィルムを、基体の少なくとも一方の面に設けた、赤外遮蔽体。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、経時的に安定した赤外遮蔽性と、可視光透過率と、さらには柔軟性と、透明性と、を維持できる赤外遮蔽フィルム、その製造方法およびその赤外遮蔽フィルムを設けた赤外遮蔽体が提供されうる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
【００２２】
本発明は、基材上に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上である赤外遮蔽フィルムである。かような構成とすることにより、長期間の使用においても赤外遮蔽性、可視光透過性、柔軟性および透明性に優れた赤外遮蔽フィルムを実現することができることを見出した。
【００２３】
すなわち、従来の赤外遮蔽フィルムの製造においては、たとえば、ガラス転移温度の異なるポリマーを積層するが、ポリマー間での屈折率差が低いため層数を増やさなければいけないだけでなく、温度変化による膨張収縮率がポリマー間で異なるため内部変形を起こしやすく、耐久性で問題を抱えていた。
【００２４】
また、別の従来の方法、たとえば、紫外線硬化型バインダと金属酸化物粒子（たとえば、酸化チタン粒子）を含む高屈折率層を形成する手法では、未反応のバインダ（モノマー）が紫外線または熱により硬化してしまうため、経時で柔軟性が乏しく、さらに未反応のバインダ（モノマー）が経時で分解することで、塗膜が変色してしまうという問題を抱えていた。
【００２５】
本発明者は、鋭意検討を進めた結果、特定のバインダの組み合わせにより、経時による内部変形が抑えられると同時に、反応性の物質がフィルム中に残存していないため、経時で柔軟性を維持することができ、さらに、透明性も保持できる赤外遮蔽フィルムを得ることができたのである。
【００２６】
以下、本発明の赤外遮蔽フィルムの構成要素、および本発明を実施するための形態等について詳細に説明する。
【００２７】
［赤外遮蔽フィルム］
本発明の赤外遮蔽フィルムは、基材上に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上であることを一つの特徴とする。さらには、本発明の赤外遮蔽フィルムの光学特性として、ＪＩＳ Ｒ３１０６−１９９８により測定される可視光領域の透過率が５０％以上であり、かつ、波長９００ｎｍ〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。
【００２８】
本発明の赤外遮蔽フィルムは、基材上に、高屈折率層と低屈折率層とからなるユニットを少なくとも１つ積層した構成であればよいが、高屈折率層および低屈折率層の総数の上限としては、１００層以下、すなわち５０ユニット以下であることが好ましい。さらに、層数を減らすことで、生産性が向上し、積層界面での散乱による透明性の減少を抑制することができるため、より好ましくは４０層（２０ユニット）以下であり、さらに好ましくは２０層（１０ユニット）以下である。また、本発明の赤外遮蔽フィルムは、上記ユニットを少なくとも１つ積層した構成であればよく、たとえば、積層膜の最表層や最下層のどちらも高屈折率層または低屈折率層となる積層膜であってもよい。
【００２９】
一般に、赤外遮蔽フィルムにおいては、高屈折率層と低屈折率層の屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で赤外反射率を高くすることができる観点で好ましいが、本発明では、高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットの少なくとも１つにおいて、隣接する該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が０．１以上であることを特徴とし、好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．４以上である。
【００３０】
また、本発明の赤外遮蔽フィルムにおいては、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が０．１以上であることを特徴とするが、高屈折率層と低屈折率層を上記のようにそれぞれ複数層有する場合には、全ての屈折率層が本発明で規定する要件を満たすことが好ましい。ただし、最表層や最下層に関しては、本発明で規定する要件外の構成であってもよい。
【００３１】
特定波長領域の反射率は、隣接する２層（高屈折率層と低屈折率層）の屈折率差と積層数で決まり、屈折率差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。たとえば、赤外遮蔽率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、１００層を超える積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下する。反射率の向上と層数を少なくする観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には１．４０程度が限界である。
【００３２】
本発明において、高屈折率層、低屈折率層の屈折率は、下記の方法に従って求めることができる。
【００３３】
基材上に屈折率を測定する各屈折率層を単層で塗布したサンプルを作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所社製）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率を２５点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。
【００３４】
また、本発明の赤外遮蔽フィルムの全体の厚みは、好ましくは１２〜３１５μｍ、より好ましくは１５〜２００μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍである。このように、本発明の赤外遮蔽フィルムは、従来の赤外遮蔽フィルムと比べてより薄い膜厚で、高い赤外遮蔽率を得ることが可能となる。
【００３５】
本発明の赤外遮蔽フィルムは、基材の下または基材と反対側の最表面層の上に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上を有していてもよい。
【００３６】
［高屈折率層および低屈折率層］
以下に、本発明の赤外遮蔽フィルムを構成する高屈折率層および低屈折率層について説明する。
【００３７】
本発明において、高屈折率層は、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方を含み、低屈折率層は、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含むことを特徴とする。そして、高屈折率層は、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子を含む。
【００３８】
ここで、「主成分」とはバインダ成分の構成材料の合計量１００質量％に占める割合が５０質量％以上であることを意味する。バインダ成分の構成材料の合計量１００質量％に占める主成分（セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂）の割合は、好ましくは９５質量％以上であり、より好ましくは９８質量％以上であり、さらに好ましくは９９質量％以上であり、もっとも好ましくは１００質量％である。
【００３９】
本明細書中、バインダ成分とは、重量平均分子量が１，０００〜３００，０００の高分子化合物を意味する。高分子化合物の分子量としては、１，０００〜２００，０００が好ましく、３，０００〜４０，０００がより好ましい。なお、本明細書において、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した値を採用する。
【００４０】
このとき、高屈折率層と低屈折率層両層とのバインダ成分の主成分としては異なるものを用いなければならず、たとえば、高屈折率層にセルロース化合物を含有した場合は、低屈折率層はポリビニルアセタール樹脂を含有しなければならない。本発明においては、各層には、それぞれバインダ成分として、セルロース化合物のみと、ポリビニルアセタール樹脂のみと、を含有させるのが、製造時の界面混合による屈折率差の低下を防止するのにもっとも好ましい構成であるが、本発明の効果を損なわない範囲で、他方を一部混合してもよいし、他の高分子化合物をバインダ成分として混合してもよい。その混合割合は、バインダ成分全量の０．０１〜５質量％が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜１質量％である。すなわち、ある層（たとえば、高屈折率層）において、セルロース化合物とポリビニルアセタール樹脂とを併用する場合は、セルロース化合物とポリビニルアセタールの合計量のうち、どちらか一方（たとえば、セルロース化合物）を９９．０９〜９５質量％含むことが好ましい。また、その場合、もう一方の層（たとえば、低屈折率層）には、他方（たとえば、ポリビニルアセタール樹脂）を９９．０９〜９５質量％含むことが好ましい。本発明においては、高屈折率層のバインダ成分の主成分としてポリビニルアセタール樹脂を用いるほうが、透明性をより向上させることができるので好ましい。
【００４１】
本発明の赤外遮蔽フィルムにおいて、高屈折率層の好ましい屈折率としては１．８０〜２．５０であり、より好ましくは１．９０〜２．２０である。また、本発明の低屈折率層は、屈折率が１．１０〜１．６０であることが好ましく、１．３０〜１．５５であるのがより好ましく、１．３０〜１．５０がさらに好ましい。
【００４２】
本発明の高屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。また、本発明の低屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。
【００４３】
［高屈折率層］
以下、本発明の高屈折率層の構成成分について述べる。
【００４４】
本発明における高屈折率層は、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方のみを用いることを特徴とする。そして、高屈折率層は、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子を含む。
【００４５】
＜酸化チタン微粒子＞
本発明の高屈折率層は、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子を含む。
【００４６】
高屈折率層における酸化チタン微粒子の含有量としては、高屈折率層全質量（固形分の質量）の１５〜７０質量％であるのが好ましく、２０〜６５質量％であるのがより好ましく、３０〜６０質量％がさらに好ましい。
【００４７】
本発明の高屈折率層に含まれる酸化チタン微粒子は、平均粒径４〜１００ｎｍのルチル型（正方晶形）酸化チタン微粒子であるのが好ましい。さらにその表面がオイルで被覆された酸化チタン微粒子は、経時での赤外遮蔽性および可視光透過性の性能維持ができるためより好ましい。なお、当該平均粒径は体積平均粒径を意味する。
【００４８】
本発明で用いられる酸化チタン微粒子の平均粒径は、４〜５０ｎｍであることが好ましく、４〜３０ｎｍであるのがより好ましい。平均粒径が４〜１００ｎｍであれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる。平均粒径が１００ｎｍを超える酸化チタン粒子は、本発明に限らず高屈折率層に用いるには適正なものといえない。
【００４９】
ここでいう平均粒径とは、媒体中に分散された一次粒子または二次粒子の体積平均粒径であり、レーザー回折／散乱法、動的光散乱法等により測定できる。
【００５０】
具体的には、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。
【００５１】
さらに、本発明で用いられる酸化チタン微粒子は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以下であることをいう。この単分散度は、さらに好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜２０％である。
【００５２】
【数１】
【００５３】
（酸化チタン微粒子の製造方法）
本発明で用いられる酸化チタン微粒子としては、ｐＨが１．０〜３．０で、かつチタン粒子のゼータ電位が正である水系の酸化チタンゾルの表面を、疎水化して有機溶剤に分散可能な状態にしたものを用いることが好ましい。
【００５４】
本発明で用いることのできる水系の酸化チタンゾルの調製方法としては、たとえば、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報等に記載された事項を参照にすることができる。
【００５５】
また、本発明で用いられる酸化チタン微粒子のその他の製造方法については、たとえば、「酸化チタン−物性と応用技術」清野学 ｐ２５５〜２５８（２０００年）技報堂出版株式会社、またはＷＯ２００７／０３９９５３号明細書の段落番号００１１〜００２３の記載の工程（２）の方法を参考にすることができる。
【００５６】
上記工程（２）による製造方法とは、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸物又はアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される、少なくとも１種の塩基性化合物で処理する工程（１）の後に、得られた二酸化チタン分散物を、カルボン酸基含有化合物および無機酸で処理する工程（２）からなる。本発明では、工程（２）により得られた無機酸によりｐＨを１．０〜３．０に調整された酸化チタンの水系ゾルを用いることができる。
【００５７】
上記水系ゾルの表面を該表面と相互作用しうる基を有する低分子の脂肪族化合物で処理して修飾し、表面を疎水性にすることができる。
【００５８】
水系ゾル表面を脂肪族化合物で処理して修飾するには、たとえば、水系ゾル分散液と水系ゾルの表面と相互作用しうる基を有する脂肪族化合物と混合・接触させればよい。
【００５９】
ここで用いられる水系ゾル分散液の分散媒体としては、水、アルコール、水とアルコールの混合溶媒、または水もしくは／およびアルコールとアルコール以外の有機溶媒との混合溶媒などが好適に用いられる。アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどが挙げられる。また有機溶媒としては、トルエン、酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどが好ましく用いられる。
【００６０】
該表面を修飾する低分子化合物としては、該表面と相互作用しうる基を有する脂肪族化合物であれば制限はなく、該表面と相互作用しうる基をもつため混合することによって該表面に結合ないし吸着する。たとえば、カルボキシル基、スルホン酸基、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基などを有する化合物が挙げられる。具体的には酢酸、プロピオン酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、アラキドン酸、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸、グリコール酸、乳酸、酒石酸、グルタル酸、クエン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ブタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、メタンチオール、エタンチオール、ブタンチオール、プロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、ドデシルアミンなどが挙げられるが、カルボキシル基、アミノ基を有する化合物が好ましく用いられる。
【００６１】
酸化チタン微粒子と低分子化合物との使用比率としては、酸化チタン微粒子／低分子化合物の質量比が、１００／１〜１／３００が好ましく、１０／１〜１／１００がより好ましく、５／１〜１／５０がさらに好ましい。
【００６２】
上記で得られた微粒子を有機溶媒に分散させることで、分散液が得られる。ここで有機溶媒としては、沸点約３０〜１５０℃の有機溶媒、たとえば、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を用いることができる。
【００６３】
（表面がオイルで被覆された酸化チタン微粒子の製造方法）
本発明における表面がオイルで被覆された酸化チタン微粒子は、上記で得られた分散液とオイルを一緒にさらに分散することで得られる。酸化チタン微粒子表面は疎水化されているため、オイルと親和性をもち、オイルと混合すると有機媒体中でオイルは該表面に吸着しこれを被覆する。
【００６４】
本発明で被覆とは酸化チタン微粒子表面の８０％以上を覆うことが好ましく、さらに好ましくは９０％以上を覆うことであり、より好ましくは、１００％覆うことである。
【００６５】
これによりオイルにより酸化チタン微粒子表面が効率的に覆われた分散液を安定に得ることができる。
【００６６】
ここで、オイルとしては実質的に水不溶（水中への溶解度５％以下（２５℃））で大気圧における沸点が約１６０℃以上、好ましくは１８０℃以上の高沸点溶媒が用いられる。この高沸点溶媒としては、米国特許第２，３２２，０２７号に記載されているような、たとえば、フタル酸アルキルエステル（ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど）、リン酸エステル（トリフェニルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、ジオクチルブチルフォスフェート）、クエン酸エステル（たとえば、アセチルクエン酸トリブチル）、安息香酸エステル（たとえば、安息香酸オクチル）、アルキルアミド（たとえば、ジエチルラウリルアミド）、脂肪酸エステル類（たとえば、ジブトキシエチルサクシネート、ジエチルアゼレート）、トリメシン酸エステル類（たとえば、トリメシン酸トリブチル）やポリオルガノシロキサンなどが使用できる。特に大気圧における沸点が１８０℃以上であるエステル類、中でもフタル酸アルキルエステル、リン酸エステル等のエステル類が好ましい。
【００６７】
酸化チタン微粒子とオイル（高沸点溶媒）との使用比率としては、酸化チタン微粒子／オイル（高沸点溶媒）の質量比が、１０／１〜１／１０（質量比）が好ましく、５／１〜１／５がより好ましい。
【００６８】
上記分散液を調製する分散機としては、超音波、高速攪拌型のディゾルバー、ホモミキサー、ホモブレンダー、ホモジナイザー、マントンゴーリン、コロイドミル等を用いることができる。
【００６９】
本発明の表面がオイルで被覆された酸化チタン微粒子を用いることで、オイルにより応力緩和され経時での膜の内部構造変化が抑えられ、経時での赤外遮蔽性、可視光透過性の性能がより安定化されたものと推定される。
【００７０】
なお、酸化チタン微粒子が、表面を、修飾および／または被覆された場合であっても、粒径は、用いた酸化チタン微粒子とほぼ同様であり、好ましい粒径の範囲も同様である。
【００７１】
＜バインダ成分＞
本発明の高屈折率層は、バインダ成分の主成分として、セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の一方を含む。
【００７２】
高屈折率層において、バインダ成分は、高屈折率層全質量（固形分の質量）の３０〜８５質量％であるのが好ましく、３５〜８０質量％であるのがより好ましく、４０〜７０質量％であるのがさらに好ましい。
【００７３】
以下にバインダ成分について説明する。
【００７４】
（１）セルロース化合物
本発明において、高屈折率層は、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物を含みうる。
【００７５】
本発明で用いられるセルロース化合物の平均重合度は、特に制限されず、たとえば、５０〜８０００が好ましく、１００〜７０００がより好ましく、２００〜６０００がさらに好ましい。
【００７６】
本発明で用いられるセルロース化合物としては、内部可塑化されたセルロース化合物が好ましく、アルコール、カルボン酸またはイソシアネートで内部可塑化されたセルロース化合物がより好ましい。
【００７７】
よって、内部可塑化されたセルロース化合物としては、セルロースエステル、セルロースカーバメート、セルロースエーテルなどが挙げられる。また、これらのうち、ポリビニルアセタール樹脂と相溶しにくいことから、セルロースエステル、セルロースエーテルが好ましく、セルロースエステルがより好ましい。また、これらのセルロース化合物は、可塑剤とともに用いて外部可塑化を行うこともできるが、セルロース化合物を内部可塑化するのが好ましい。セルロース化合物は、これらの化合物を単独でまたは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７８】
セルロースエステルとしては、有機酸エステルまたは無機酸エステルであってもよい。
【００７９】
有機酸エステルとしては、たとえば、セルロースアルキルカルボン酸エステルまたはセルロース芳香族カルボン酸エステルが挙げられる。セルロースアルキルカルボン酸エステルとしては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースペンタノエート、セルロースヘキサノエート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートペンタノエート、セルロースアセテートヘキサノエートなどのセルロースＣ２〜６アルキルエステル；メチルセルロースアセテート、エチルセルロースアセテートなどのＣ１〜６アルキルセルロースＣ２〜６アルキルエステル；ジクロロメチルセルロースアセテート、トリクロロメチルセルロースプロピオネート、トリフルオロメチルセルロースアセテートなどのＣ１〜６ハロアルキルセルロースＣ１〜６アルキルエステル；などが挙げられる。セルロース芳香族カルボン酸エステルとしては、セルロースフタレート、セルロースベンゾエート、セルロース−４−メチルベンゾエートなどのセルロースＣ７〜１２芳香族エステル；などが挙げられる。
【００８０】
無機酸エステルとしては、リン酸セルロース、硫酸セルロースなどが例示できる。セルロースエステルは、有機酸と無機酸との混合酸エステルであってもよい。
【００８１】
これらのうち、セルロースエステルとしては、セルロースＣ２〜６アルキルエステルが好ましく、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートペンタノエート、セルロースアセテートヘキサノエートなどのアセチルＣ３〜６アシルセルロースがより好ましい。これにより、得られる赤外遮蔽フィルムの透明性をより向上することができる。
【００８２】
セルロースカーバメートとしては、たとえば、セルロースエチルカーバメートなどのセルロースＣ１〜６アルキルカーバメート；セルロースフェニルカーバメートなどのセルロースＣ６〜１２アリールカーバメート；エチルセルロースプロピルカーバメートなどのＣ１〜６アルキルセルロースＣ１〜６アルキルカーバメート（セルロースエーテルカーバメート）；およびエチルセルロースフェニルカーバメートなどのＣ１〜６アルキルセルロースＣ６〜１２アリールカーバメート（セルロースエーテルカーバメート）；などが挙げられる。
【００８３】
これらのうち、セルロースカーバメートとしては、エチルセルロースフェニルカーバメートなどのＣ１〜６アルキルセルロースＣ６〜１２アリールカーバメート（セルロースエーテルカーバメート）が好ましい。
【００８４】
セルロースエーテルとしては、たとえば、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ペンチルセルロースなどのＣ１〜１０アルキルセルロース；シアノエチルセルロース、シアノプロピルセルロースなどのシアノＣ１〜１０アルキルセルロール；ベンジルセルロースなどのＣ６〜１２アリール−Ｃ１〜４アルキルセルロース（アラルキルセルロース）；などが挙げられる。
【００８５】
これらのうち、セルロースエーテルとしては、シアノエチルセルロース、シアノプロピルセルロースなどのシアノＣ１〜１０アルキルアルコールが好ましい。
【００８６】
セルロース化合物の平均置換度は、１〜３が好ましく、１．３〜３がより好ましく、１．５〜３がさらに好ましく、２〜３が特に好ましい。なお、アセチルＣ３〜６アシルセルロースにおける、アセチル基とＣ３〜６アシル基との割合は、たとえば、アセチル／Ｃ３〜６アシル（モル比）＝９０／１０〜５／９５が好ましく、７０／３０〜１０／９０がより好ましく、５０／５０〜１５／８５がさらに好ましい。
【００８７】
セルロース化合物の可塑化は、（ａ）セルロースを、軟質成分としてカルボン酸、アルコールまたはイソシアネートと反応させて、たとえば、プロピル基、プロピオネート基をセルロースに導入し、内部可塑化する方法、（ｂ）セルロース（セルロース化合物）に、可塑剤を添加し、外部可塑化する方法、ならびに（ｃ）これらの方法（ａ）および（ｂ）を組み合わせる方法などが挙げられる。用いられる可塑剤については後述する。
【００８８】
本発明で用いられるセルロース化合物は、セルロースを公知の方法で合成したものでもよいし、市販されているものを用いてもよい。
【００８９】
（２）ポリビニルアセタール樹脂
本発明で用いられるポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコールを炭素数１〜１０のアルデヒドでアセタール化して得られるポリビニルアセタール樹脂である。
【００９０】
また、本発明で用いられるポリビニルアセタール樹脂の質量平均分子量は、９０，０００〜４００，０００であることが好ましく、９０，０００〜３７０，０００であることがより好ましく、９０，０００〜３４０，０００であることがさらに好ましい。質量平均分子量が上記範囲であれば、製造時に高屈折率層用塗布液の粘度が高くなりすぎず、塗布性が良好であるし、得られる赤外遮蔽フィルムの性能も良好である。
【００９１】
なお、本明細書中、質量平均分子量は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー(株)製）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量で定義する。
【００９２】
ポリビニルアセタール樹脂としては、ポリビニルホルマール、ポリビニルエタナール、ポリビニルプロパナール、ポリビニルブチラール（ポリビニルブタナール）、ポリビニルバレラール、ポリビニルヘキサール、ポリビニルヘプタナール、ポリビニル２−エチルヘキサール、ポリビニルシクロヘキサール、ポリビニルグルタール、ポリビニルベンザール、ポリビニル２−メチルベンザール、ポリビニル３−メチルベンザール、ポリビニル４−メチルベンザール、ポリビニルｐ−ヒドロキシベンザール、ポリビニルｍ−ヒドロキシベンザール、ポリビニルフェニルアセタール、ポリビニルβ−フェニルプロパナール等が挙げられる。
【００９３】
これらのうち、Ｃ１〜５アルデヒド（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、バレルアルデヒド）でアセタール化された樹脂、すなわち、ポリビニルホルマール、ポリビニルエタナール、ポリビニルプロパナール、ポリビニルブチラール、ポリビニルバレラールが好ましく、Ｃ２〜４アルデヒドでアセタール化された樹脂、すなわち、ポリビニルホルマール、ポリビニルエタナール、ポリビニルプロパナール、ポリビニルブチラールがより好ましい。また、必要に応じて２種以上のポリビニルアセタール樹脂を併用してもよい。
【００９４】
本発明で用いられるポリビニルアセタール樹脂のアセタール化度は、４０〜８５モル％が好ましく、５５〜８０モル％がより好ましく、６０〜７５モル％がさらに好ましい。なお、アセタール化度は、赤外吸収スペクトル（ＩＲ）法により、測定することができる。たとえば、ＦＴ−ＩＲ（堀場製作所社製、ＦＲＥＥＥＸＡＣＴ−ＩＩ、ＦＴ−７２０）を用いて測定することができる。
【００９５】
本発明で用いられるポリビニルアセタール樹脂の水酸基量は、好ましくは１５〜３５モル％である。水酸基量が上記範囲であれば、セルロース化合物との接着性や、得られる赤外遮蔽フィルムの柔軟性が良好である。
【００９６】
ポリビニルアセタール樹脂は、上述のように、ポリビニルアルコールをアルデヒドでアセタール化することにより調製することができる。ポリビニルアルコールは、通常、ポリ酢酸ビニルを鹸化することにより得られ、鹸化度８０〜９９．８モル％のポリビニルアルコールが一般的に用いられる。また、ポリビニルアルコールの重合度は、２００〜４０００が好ましく、５００〜３０００がより好ましく、１０００〜２５００がさらに好ましい。重合度が上記範囲であれば、得られる赤外遮蔽フィルムの柔軟性および耐久性が良好である。
【００９７】
ポリビニルアルコールをアセタール化するためのアルデヒドは、特に限定されないが、たとえば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、アミルアルデヒド、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、２−エチルヘキシルアルデヒド、シクロヘキシルアルデヒド、フルフラール、グリオキザール、グルタルアルデヒド、ベンズアルデヒド、２−メチルベンズアルデヒド、３−メチルベンズアルデヒド、４−メチルベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロキシベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、β−フェニルプロピオンアルデヒド等が挙げられる。なかでも、Ｃ１〜５のアルデヒド（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、アミルアルデヒド）が好ましく、Ｃ２〜４のアルデヒド（アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド）がより好ましい。また、これらを、それぞれ単独で用いるか、または、これらを併用することが好ましい。
【００９８】
本発明において、ポリビニルアセタール樹脂は、上述の方法で得られたものを用いてもよいし、市販されているものを用いてもよいし、それらを併用してもよい。市販されているポリビニルアセタールの代表例としては、デンカブチラール３０００−１、５０００−Ａ、６０００−Ｃ、６０００−ＣＳ（いずれも商品名：電気化学（株）製）や、エスレックＢＸ−１、ＢＸ−５、ＫＳ−５（いずれも商品名：積水化学（株）製）などが挙げられる。
【００９９】
（３）その他の高分子化合物
本発明において、高屈折率層は、バインダ成分として、上述したセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂以外の高分子化合物も含むことができる。
【０１００】
このような高分子化合物としては、本発明の効果に影響を与えなければ特に制限されないが、たとえば、ポリエステルやポリウレタンなどのポリマー、ポリアクリル酸エステルなどの反応性官能基を含有するポリマーなどが挙げられる。これら高分子化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。また、高分子化合物は合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【０１０１】
（反応性官能基を有するポリマー）
本発明で用いられる反応性官能基を有するポリマーとしては、変性ポリビニルアルコール類（たとえば、末端をカチオン、アニオンまたはノニオン変性をしたもの）、ポリウレタン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体およびそれらの塩が挙げられる。
【０１０２】
なお、上記反応性官能基を有するポリマーが共重合体である場合の共重合体の形態は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体、交互共重合体のいずれであってもよい。
【０１０３】
＜その他の添加剤＞
本発明の高屈折率層には、必要に応じて各種添加剤を用いることができる。
【０１０４】
（１）可塑剤
本発明で用いられる可塑剤としては、たとえば、一塩基性有機酸エステル、多塩基性有機酸エステル等の有機エステル可塑剤や、有機リン酸可塑剤、有機亜リン酸可塑剤等のリン酸可塑剤等が挙げられ、上記可塑剤は液状可塑剤であることが好ましい。
【０１０５】
上記一塩基性有機酸エステルは特に限定されないが、たとえば、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコールと、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプチル酸、ｎ−オクチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−ノニル酸）、デシル酸等の一塩基性有機酸との反応によって得られたグリコールエステル等が挙げられる。なかでも、トリエチレングリコールジカプロン酸エステル、トリエチレングリコール−ジ−２−エチル酪酸エステル、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−オクチル酸エステル、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキシル酸エステル等のトリエチレングリコールジアルキル酸エステル等が好適である。
【０１０６】
上記多塩基性有機酸エステルは特に限定されないが、たとえば、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸等の多塩基性有機酸と、炭素数４〜８の直鎖または分岐構造を有するアルコールとのエステル化合物が挙げられる。なかでも、ジヘキシルアジペート、ジブチルセバシン酸エステル、ジオクチルアゼライン酸エステル、ジブチルカルビトールアジピン酸エステル等が好適である。
【０１０７】
上記有機エステル可塑剤は特に限定されず、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコールジカプリレート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−オクタノエート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、テトラエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、テトラエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジペート、エチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、１，３−プロピレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、１，４−ブチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、ジエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、ジエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、ジプロピレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルペンタノエート、テトラエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、ジエチレングリコールジカプリエート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、テトラエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、トリエチレングリコールジヘプタノエート、テトラエチレングリコールジヘプタノエート、アジピン酸ジヘキシル、アジピン酸ジオクチル、アジピン酸ヘキシルシクロヘキシル、アジピン酸ヘプチルとアジピン酸ノニルとの混合物、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ヘプチルノニル、セバシン酸ジブチル、油変性セバシン酸アルキド、リン酸エステルとアジピン酸エステルとの混合物等が挙げられる。
【０１０８】
上記有機リン酸可塑剤は特に限定されず、たとえば、トリブトキシエチルホスフェート、イソデシルフェニルホスフェート、トリイソプロピルホスフェート等が挙げられる。
【０１０９】
（２）塗布助剤
本発明に用いる塗布助剤としては、たとえば、シロキサン系界面活性剤を用いることが出き、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが好ましい。 ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンの具体例としては、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシドまたはそれらの混合物で変性されたポリジメチルシロキサンが挙げられる。これらのポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンは、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはポリブチレンオキシドの量や混合比率等を適宜、変化させて得られる。
【０１１０】
これらシロキサン系界面活性剤は、市販品として入手することができ、たとえば、ビックケミー社のＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４０、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、信越化学社のＫＦ−９４５、ＫＦ−３５２Ａ、ＫＦ−６４０、ＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−３５４Ｌ、Ｘ−２２−４２７２、Ｘ−２２−６２６６、ＥＦＫＡ社のＥＦＫＡ−３０３０、ＥＦＫＡ−３０３１、ＥＦＫＡ−３０３４、ＥＦＫＡ−３２９９、ＥＦＫＡ−３２３２、ＥＦＫＡ−３２８８、ＥＦＫＡ−３０３３、ＥＦＫＡ−３０３５、ＥＦＫＡ−３５８０、ＥＦＫＡ−３８８３、ＥＦＫＡ−３２３９、ＥＦＫＡ−３２３６、ＥＦＫＡ−３５２２などを挙げることができる。シロキサン系界面活性剤の添加量は、固形分に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％、さらに好ましくは０．０５〜２．０質量％である。
【０１１１】
（３）その他の添加剤
本発明に係る高屈折率層および低屈折率層に適用可能な各種の添加剤を、以下に列挙する（なお、後述する低屈折率層においても適用可能である）。たとえば、特開昭５７−７４１９３号公報、特開昭５７−８７９８８号公報、および特開昭６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、および特開平３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、滑剤、赤外線吸収剤、色素、顔料等の公知の各種添加剤などが挙げられる。
【０１１２】
［低屈折率層］
本発明の低屈折率層は、バインダ成分の主成分として、セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方（すなわち、高屈折率層のバインダ成分の主成分とは相違する方）を含む。
【０１１３】
すなわち、本発明の低屈折率層は、高屈折率層と同様に、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれかを用いることを特徴とする。このとき、両層のバインダ成分の主成分としては異なるものを用いなければならないため、低屈折率層のバインダ成分の主成分としては、高屈折率層のバインダ成分の主成分とは異なるものを用いるのである。
【０１１４】
低屈折率層において、バインダ成分は、低屈折率層全質量（固形分の質量）の１〜１００質量％であることが好ましく、５〜１００質量％であることがより好ましい。また、低屈折率層が金属酸化物粒子を含む場合、バインダ成分は、低屈折率層全質量（固形分の質量）の１０〜８５質量％であることが好ましく、２０〜６０質量％であるのがより好ましい。
【０１１５】
また、本発明の低屈折率層がバインダ成分として含みうるセルロース化合物、ポリビニルアセタール樹脂、その他の高分子化合物としては、高屈折率層で述べたものと同じものが使用できるため省略する。また、低屈折率層においても、その他添加剤として上述した（１）可塑剤、（２）塗布助剤、（３）その他の添加剤に記載しているものを含有することができる。
【０１１６】
また、低屈折率層においても、バインダ成分としてはセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のみで構成することが、製造時の界面混合による屈折率差の低下を防止するのにもっとも好ましい構成であるが、本発明の効果を損なわない範囲で、他方を一部混合してもよいし、他の高分子化合物を混合してもよい。その混合割合は、バインダ成分全量の０．０１〜５質量％が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜１質量％である。
【０１１７】
また、本発明の低屈折率層は、好ましくは金属酸化物粒子を含む。金属酸化物粒子としては二酸化ケイ素を用いることが好ましく、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等を挙げることができる。有機溶媒に分散させたコロイダルシリカゾルを用いることが特に好ましい。
【０１１８】
本発明において、二酸化ケイ素は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜２０ｎｍであるのがより好ましく、４〜１０ｎｍであるのがさらに好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【０１１９】
本発明の低屈率層で用いられる金属酸化物粒子の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
【０１２０】
特に好ましく用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号パンフレットなどに記載されているものである。
【０１２１】
かようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【０１２２】
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。
【０１２３】
本発明の低屈折率層における金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層全質量（固形分の質量）の１５〜９０質量％であるのが好ましく、４０〜８０質量％がより好ましい。
【０１２４】
［基材］
本発明の赤外遮蔽フィルムに用いられる基材としては、フィルム支持体であることが好ましい。フィルム支持体は、透明であっても不透明であってもよく、種々の樹脂フィルムを用いることができる。その具体例としては、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム（以降ポリエステルと称す）としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや１，４−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールとからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの２種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
【０１２５】
本発明に係る基材の厚みは、１０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは２０〜１５０μｍである。基材は、２枚以上を重ねたものであってもよく、この際、基材の種類は同じでもよいし異なっていてもよい。
【０１２６】
［赤外遮蔽フィルムの製造方法］
本発明の赤外遮蔽フィルムは、基材上に高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットを積層して形成される。本発明の赤外遮蔽フィルムの製造方法は、高屈折率層と低屈折率層とを交互に塗布、乾燥して積層体を形成することが好ましい。
【０１２７】
すなわち、本発明の赤外遮蔽フィルムが、たとえば、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、溶媒と、を含む高屈折率層用塗布液と、バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方と、溶媒と、必要により金属酸化物粒子と、を含む低屈折率層用塗布液と、を基材に塗布する工程と、塗布液を塗布された前記基材を乾燥する工程と、を含む製造方法により得られる。
【０１２８】
さらに、高屈折層用塗布液および低屈折層用塗布液が、同時重層塗布により基材に塗布されるのが好ましい。
【０１２９】
さらに具体的には、たとえば、（１）基材上に、高屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成した後、低屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成し、赤外遮蔽フィルムを形成する方法（逐次塗布）；（２）基材上に、低屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成した後、高屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成し、赤外遮蔽フィルムを形成する方法（逐次塗布）；（３）基材上に、高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とを交互に逐次重層塗布した後乾燥して、高屈折率層および低屈折率層を含む赤外遮蔽フィルムを形成する方法（逐次重層塗布）；（４）高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とを同時重層塗布し、乾燥して、高屈折率層および低屈折率層を含む赤外遮蔽フィルムを形成する方法（同時重層塗布）；などが挙げられる。なかでも、フィルムの経時的な柔軟性が安定するため、同時重層塗布法（上記（４））が好ましい。
【０１３０】
塗布方法は、特に制限されず、たとえば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、スライド型カーテン塗布法、または米国特許第２，７６１，４１９号明細書、米国特許第２，７６１，７９１号明細書などに記載のスライドホッパー（スライドビード）塗布法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。
【０１３１】
また、同時重層塗布を行う際の塗布方式としては、エクストルージョンコート法、スライドホッパー（スライドビード）塗布方法、スライド型カーテン塗布方法が好ましく用いられるが、エクストルージョンコート法がより好ましい。
【０１３２】
以下、本発明の好ましい製造方法（塗布方法）である同時重層塗布法について詳細に説明する。
【０１３３】
＜溶媒＞
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。
【０１３４】
前記有機溶媒としては、たとえば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。
【０１３５】
環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましい。
【０１３６】
＜塗布液の濃度＞
高屈折率層用塗布液中のセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の濃度は、１〜１０質量％であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の酸化チタン微粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。
【０１３７】
低屈折率層用塗布液中のセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の濃度は、１〜１０質量％であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の金属酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。
【０１３８】
さらに、高屈折率層および低屈折率層の各成分（セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂、ならびに酸化チタン微粒子または金属酸化物粒子）の含有量が各層の欄で説明した数値範囲となるように、塗布液に各成分を添加することが好ましい。
【０１３９】
＜塗布液の調製方法＞
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、たとえば、セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂、酸化チタン微粒子または金属酸化物粒子および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、セルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂、酸化チタン微粒子または金属酸化物粒子および必要に応じて添加されるその他の添加剤の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。
【０１４０】
＜塗布液の粘度＞
スライドホッパー（スライドビード）塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の２５℃における粘度は、５〜１００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓの範囲がより好ましい。また、スライド型カーテン塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の２５℃における粘度は、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲がより好ましい。また、エクストルージョンコート法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の２５℃における粘度は、１００〜１０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、さらに好ましくは３，０００〜８，０００ｍＰａ・ｓである。
【０１４１】
＜塗布および乾燥方法＞
塗布および乾燥方法は、特に制限されないが、基材上に高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、３０℃以上で乾燥することが好ましい。乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられるが、より好ましい乾燥条件は、膜面温度３０〜１００℃の範囲の条件である。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥が好ましく、恒率乾燥部の温度＜減率乾燥部の温度にするのがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は３０〜６０℃、減率乾燥部の温度範囲は５０〜１００℃にするのが好ましい。
【０１４２】
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の塗布厚は、上記で示したような好ましい乾燥時の厚みとなるように塗布すればよい。
【０１４３】
［赤外遮蔽体］
本発明の赤外遮蔽フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルムや、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。
【０１４４】
特に、本発明に係る赤外遮蔽フィルムは、直接または接着剤を介して、ガラスまたはガラス代替の樹脂などの基体に貼合される部材に好適に用いられる。
【０１４５】
すなわち、本発明は、本発明の赤外遮蔽フィルム、または本発明の製造方法により得られる赤外遮蔽フィルムを、基体の少なくとも一方の面に設けた、赤外遮蔽体をも提供する。
【０１４６】
前記基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでもよく、これらを２種以上組み合わせて用いてもよい。本発明で使用されうる基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。
【０１４７】
基体の厚みは特に制限されないが、通常０．１ｍｍ〜５ｃｍである。
【０１４８】
本発明の赤外遮蔽フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、赤外遮蔽フィルムが日光（熱線）入射面側にあるように設置することが好ましい。また、本発明の赤外遮蔽フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明の赤外遮蔽フィルムを、屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性があって好ましい。
【０１４９】
本発明に適用可能な接着剤または粘着剤としては、光硬化性または熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤または粘着剤が挙げられる。
【０１５０】
接着剤または粘着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル粘着剤またはシリコーン粘着剤が好ましい。さらに粘着特性やコストの観点から、アクリル粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、溶剤系およびエマルジョン系アクリル粘着剤が好ましく、溶剤系アクリル粘着剤がより好ましい。溶剤系アクリル粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。
【０１５１】
また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を上記の接着剤または粘着剤として用いてもよい。その具体例としては、例えば、可塑性ポリビニルブチラール（積水化学工業社製、三菱モンサント社製等）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン）、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体（東ソー社製、メルセンＧ）等である。なお、接着層または粘着層には、紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着（粘着）調整剤等を適宜添加配合してもよい。
【実施例】
【０１５２】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量％」を表す。
【０１５３】
（実施例１）
＜酸化チタン微粒子分散液の調製＞
（酸化チタン微粒子分散液１の調製）
２０質量％酸化チタン粒子ゾル（体積平均粒径３５ｎｍ、ルチル型酸化チタン粒子）６０ｇを攪拌しながらプロピオン酸１００ｇを少量ずつ添加した。析出した固形物を酢酸エチルで洗浄後、ｎ−ブタノールとトルエン混合液（１：１）１３５ｇを加え超音波分散して分散液を得た。得られた分散液を攪拌しながらｎ−プロピルアミン５０ｇを少量ずつ添加した。析出した固形物をｎ−ブタノールで洗浄後、酢酸エチル４０ｇを添加して超音波分散して分散液を得た。得られた分散液は１２質量％だった。
【０１５４】
（酸化チタン微粒子分散液２の調製）
上記で得られた分散液１に、さらに、酢酸エチル１０ｇ、トリクレジルフォスフェート２ｇを添加して超音波分散して分散液２を得た。得られた分散液は１０質量％だった。
【０１５５】
（金属酸化物粒子分散液３の調製）
トリクレジルフォスフェートをジオクチルフタレートに変更する以外は酸化チタン微粒子分散液２の調製と同様にして、１０質量％の分散液を得た。
【０１５６】
＜赤外遮蔽フィルムの作製＞
（実施例１−１）
［試料１の作製］
（高屈折率層塗布液１の調製）
下記の添加物（１）〜（４）をこの順序で添加、混合して、高屈折率層塗布液１を調製した。以下、メチルエチルケトンを「ＭＥＫ」と表記した。また、以下の界面活性剤は「ＢＹＫ−３３７（シロキサン系界面活性剤、ビックケミー社製）」を意味する。
（１）酸化チタン微粒子分散液１ １２０ｇ
（２）メチルエチルケトン（ＭＥＫ） １５０ｇ
（３）５．０質量％エチルセルロースフェニルカーバメートＭＥＫ溶液 ２００ｇ
（４）５．０質量％界面活性剤ＭＥＫ溶液 ０．４０ｇ
（低屈折率層塗布液１の調製）
下記の添加物（１）〜（４）をこの順序で添加、混合して、低屈折率層塗布液１を調製した。
（１）２０質量％コロイダルシリカ ６８ｇ
（２）ＭＥＫ ２４０ｇ
（３）５．０質量％ポリビニルホルマールＭＥＫ溶液 ２００ｇ
（４）５．０質量％界面活性剤ＭＥＫ溶液 ０．６０ｇ
（積層体の形成）
（高屈折率層１の形成）
上記調製した高屈折率層用塗布液１を厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、乾燥膜厚が１３５ｎｍとなる条件で、ワイヤーバーを用いて塗布し、１００℃の温風を吹き付けて乾燥させて、高屈折率層１を形成した。
【０１５７】
〈低屈折率層１の形成〉
次いで、低屈折率層用塗布液１を上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの高屈折率層１上に、乾燥膜厚が１７５ｎｍとなる条件で、ワイヤーバーを用いて塗布し、次いで、１００℃の温風を吹き付けて乾燥させて、低屈折率層１を形成した。
【０１５８】
（赤外遮蔽フィルムの作製）
上記形成した低屈折率層１上に、同様にして高屈折率層１／低屈折率層１から構成されるユニットをさらに５ユニット積層し、それぞれ６層の高屈折率層および低屈折率層（合計１２層）から構成された赤外遮蔽フィルムである試料１を作製した。なお、試料１のフィルム膜厚は５１．９μｍであった。
【０１５９】
（実施例１−２〜１−７）
［試料２〜７の作製］
上記試料１の作製において、高屈折率層、低屈折率層のバインダを表１記載のものに変更する以外は同様にして、試料２〜７を作製した。
【０１６０】
（実施例１−８）
［試料８の作製］
上記試料７の作製において、高屈折率層、低屈折率層のバインダをそれぞれ入れ替える以外は同様にして、試料８を作製した。
【０１６１】
（実施例１−９〜１−１０）
［試料９、１０の作製］
上記試料８の作製において、酸化チタン微粒子分散液１を、酸化チタン微粒子分散液２、３に変更する以外は同様にして、試料９，１０を作製した。
【０１６２】
（実施例１−１１〜１−１２）
［試料１１、１２の作製］
上記試料８、９の作製において、高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液をエクストルージョンコート法にて交互に同時に６層ずつ押出し塗布、乾燥を行い、試料１１，１２を作製した。
【０１６３】
（比較例１−１３）
［試料１３の作製］
上記試料３の作製において、低屈折率層のバインダを高屈折率層と同じセルロースアセテートブチレートにする以外は同様にして、試料１３を作製した。
【０１６４】
（比較例１−１４）
［試料１４の作製］
特開平６−１１６０８号の実施例１に従って高屈折率層と低屈折率層を交互に積層して、試料１４を作成した。
【０１６５】
以下のように作成した。
【０１６６】
高屈折率ポリマー層、低屈折率ポリマー層を以下のように選定した。
【０１６７】
高屈折率ポリマー層：ポリアクリル酸
・ｎ＝１．５２７（２０℃）
・Ｔg＝１０６℃
低屈折率ポリマー層：ポリヒドロキシエチルメタクリレート
・ｎ＝１．５１２（２０℃）
・Ｔg＝５５℃
これを、０．１５μｍ（９００ｎｍ反射）、０．１６５μｍ（１０００ｎｍ反射）、０．１８２μｍ（１１００ｎｍ反射）、０．１９９μｍ（１２００ｎｍ反射）、０．２１５μｍ（１３００ｎｍ反射）、０．２３２μｍ（１４００ｎｍ反射）、０．２４８μｍ（１５００ｎｍ反射）の各膜厚で、各々５０層ずつ高屈折率ポリマー層と低屈折率ポリマー層を交互に積層して試料１４を作製した。
【０１６８】
（比較例１−１５）
［試料１５の作製］
特開２００９−８６６５９号の実施例１および実施例２に従ってＰＥＴベース上に高屈折率層と低屈折率層をそれぞれ６層ずつ交互に積層して、試料１５を作成した。
【０１６９】
以下のように作成した。
【０１７０】
（分散液Ａの調製）
無機粒子としてルチル型酸化チタン（石原産業株式会社製「ＴＴＯ−５５Ａ」、粒径３０〜５０ｎｍ、水酸化アルミニウム表面処理品、屈折率２．６）を１０９重量部、分散剤としてポリエチレンイミン系ブロックポリマーを１１質量部、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、和光純薬株式会社製）１８０質量部を、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ１４１質量部を用いてビーズミル分散機で２４分間分散させた後、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズに切り替えてビーズミル分散機で１４７分間分散させることにより、分散液Ａを得た。
【０１７１】
（溶液Ａの調製）
バインダ樹脂（バインダ成分）として４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホン（硬化後の屈折率１．６５）を５０質量％、重合開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを０．２５質量％含有するＰＧＭＥＡ溶液を調製し、溶液Ａとした。
【０１７２】
（溶液Ｂの調製）
分散液Ａと溶液Ａの質量混合比１：７の混合液を調製し、溶液Ｂとした。
【０１７３】
（溶液Ｃの調製）
溶液ＢとＰＧＭＥＡの重量混合比１：２の混合液を調製し、溶液Ｃとした。
【０１７４】
（高屈折率層Ａの作成）
溶液Ｃを厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に２ｍＬ滴下し、１０００ｒｐｍ、３０秒の条件でスピンコーター（ミカサ株式会社製１Ｈ−Ｄ７）により塗布した後、１２０℃で１０分間加熱した。その後、出力１８４Ｗ／ｃｍの無電極水銀ランプ（フュージョンＵＶシステムズ社製）を用いて積算光量２．８Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射することにより高屈折率層Ａを得た。膜厚は１３４ｎｍ程度であった。
【０１７５】
高屈折率層Ａをコロナ放電処理（信光電気計装株式会社製コロナ放電表面改質装置）により表面改質した後、１質量％のヒドロキシエチルセルロース（東京化成工業株式会社製）の水溶液を２ｍＬ滴下し、１分間室温で放置した後、５００ｒｐｍ、３０秒のスピンコート条件で塗布した。塗布直後、すぐさま８０℃のホットプレート（アズワン株式会社製ＨＰＤ−３０００）上に試料を置いて１０分間加熱することにより高屈折率層Ａの上に低屈折率層を積層させた。
【０１７６】
さらに、同様な操作により、高屈折率層と低屈折率層をさらにそれぞれ５層ずつ交互に積層して試料１５を作製した。
【０１７７】
＜赤外遮蔽フィルムの評価＞
上記作製した各赤外遮蔽フィルムについて、下記の特性値の測定および性能評価を行った。
【０１７８】
（各層の屈折率の測定）
基材上に屈折率を測定する対象層（高屈折率層、低屈折率層）をそれぞれ単層で塗布したサンプルを作製し、下記の方法に従って、各高屈折率層および低屈折率層の屈折率を求めた。
【０１７９】
分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所社製）を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率の測定結果より、屈折率を求め表１に示した。
【０１８０】
（経時劣化条件）
以下の温度サイクルを経時代用条件とした。
【０１８１】
・温度：低温 −２０℃ 高温 ＋５５℃
・時間：各上下限１０分以上、１サイクル３時間
・温度変化率：上昇・降下ともに１００℃／ｈｒ．
・サイクル数：９０
・風速：２ｍ／ｓ
（可視光透過率および赤外透過率の測定）
上記作製した各赤外遮蔽フィルムについて、上記経時劣化条件で処理後に、屈折率測定で使用した分光光度計（積分球使用、日立製作所社製、Ｕ−４０００型）を用い、各赤外遮蔽フィルムの３００ｎｍ〜２０００ｎｍの領域における透過率を測定した。可視光透過率は５５０ｎｍにおける透過率の値を、赤外透過率は１２００ｎｍにおける透過率の値を用いた。
【０１８２】
（柔軟性の評価）
上記作製した各赤外遮蔽フィルムについて、上記経時劣化条件で処理後に、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１に準拠した屈曲試験法に基づき、屈曲試験機タイプ１（井元製作所社製、型式ＩＭＣ−ＡＯＦ２、マンドレル径φ２０ｍｍ）を用いて、１０００回の屈曲試験を行った後、赤外遮蔽フィルム表面を目視観察し、下記の基準に従って柔軟性を評価した。
【０１８３】
◎：赤外遮蔽フィルム表面に、折り曲げ跡やひび割れは観察されない
○：赤外遮蔽フィルム表面に、わずかに折り曲げ跡が観察される
△：赤外遮蔽フィルム表面に、微小なひび割れが僅かに観察される
×：赤外遮蔽フィルム表面に、明らかなひび割れが多数発生している
（透明性の評価）
作製した各赤外遮蔽フィルムについて、メタルハライドランプ式耐候性試験機（スガ試験機製 Ｍ６Ｔ）により、放射照度１ｋＷ／ｍ２の光を１００時間照射し、照射後における着色状態を目視観察し、下記の基準に従って評価した
◎：着色が全く認められない
○：ほぼ着色が認められない
△：わずかに着色が認められる
×：明らかな着色が認められる
以上により得られた測定結果、評価結果を、表１に示す。
【０１８４】
【表１】
【０１８５】
表１の結果より明らかなように、本発明の赤外遮蔽フィルムは、長期間の使用においても赤外反射性（赤外遮蔽性）、可視光透過性、膜柔軟性および透明性に優れていることが分かる。
【０１８６】
（実施例２）
［赤外反射体１〜１２の作製］
実施例１で作製した試料１〜１２の赤外遮蔽フィルムを用いて赤外遮蔽体１〜１２を作製した。厚さ５ｍｍ、２０ｃｍ×２０ｃｍの透明アクリル樹脂板上に、試料１〜１２の赤外遮蔽フィルムをそれぞれアクリル接着剤で接着して、赤外遮蔽体１〜１２を作製した。
【０１８７】
［評価］
上記作製した本発明の赤外遮蔽体１〜１２は、赤外遮蔽体のサイズが大きいにもかかわらず、容易に利用可能であり、また、本発明の赤外遮蔽フィルムを利用することで、優れた赤外遮蔽性を確認することができた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、
バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、
バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、
から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、
前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上である赤外遮蔽フィルム。
【請求項２】
前記セルロース化合物が、アセチルＣ３〜６アシルセルロースである、請求項１に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項３】
前記酸化チタン微粒子の表面がオイルで被覆されてなる、請求項１または２に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項４】
バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、溶媒と、を含む高屈折率層用塗布液と、
バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方と、溶媒と、を含む低屈折率層用塗布液と、
を基材に塗布する工程と、
塗布液が塗布された前記基材を乾燥する工程と、
を含む赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記セルロース化合物が、アセチルＣ３〜６アシルセルロースである、請求項４に記載の赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記高屈折層用塗布液および前記低屈折層用塗布液を、同時重層塗布により基材に塗布する、請求項４または５に記載の赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム、または請求項４〜６のいずれか１項に記載の製造方法により得られる赤外遮蔽フィルムを、基体の少なくとも一方の面に設けた、赤外遮蔽体。
【請求項１】
基材上に、
バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、を含む高屈折率層と、
バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方を含む低屈折率層と、
から構成されるユニットを少なくとも１つ有し、
前記高屈折率層と前記低屈折率層との屈折率差は０．１以上である赤外遮蔽フィルム。
【請求項２】
前記セルロース化合物が、アセチルＣ３〜６アシルセルロースである、請求項１に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項３】
前記酸化チタン微粒子の表面がオイルで被覆されてなる、請求項１または２に記載の赤外遮蔽フィルム。
【請求項４】
バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂のいずれか一方と、平均粒径４〜１００ｎｍの酸化チタン微粒子と、溶媒と、を含む高屈折率層用塗布液と、
バインダ成分の主成分としてセルロース化合物またはポリビニルアセタール樹脂の他方と、溶媒と、を含む低屈折率層用塗布液と、
を基材に塗布する工程と、
塗布液が塗布された前記基材を乾燥する工程と、
を含む赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記セルロース化合物が、アセチルＣ３〜６アシルセルロースである、請求項４に記載の赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記高屈折層用塗布液および前記低屈折層用塗布液を、同時重層塗布により基材に塗布する、請求項４または５に記載の赤外遮蔽フィルムの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の赤外遮蔽フィルム、または請求項４〜６のいずれか１項に記載の製造方法により得られる赤外遮蔽フィルムを、基体の少なくとも一方の面に設けた、赤外遮蔽体。
【公開番号】特開２０１２−２４２５００（Ｐ２０１２−２４２５００Ａ）
【公開日】平成２４年１２月１０日（２０１２．１２．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１１０５９２（Ｐ２０１１−１１０５９２）
【出願日】平成２３年５月１７日（２０１１．５．１７）
【出願人】（０００００１２７０）コニカミノルタホールディングス株式会社 (4,463)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１２月１０日（２０１２．１２．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月１７日（２０１１．５．１７）
【出願人】（０００００１２７０）コニカミノルタホールディングス株式会社 (4,463)
【Ｆターム（参考）】
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