近接場光素子、記録ヘッド及び情報記録再生装置、並びに近接場光素子の製造方法及び記録ヘッドの製造方法
【課題】摩耗や破損等が生じ難く、伝播光と近接場光との相互変換を安定して行うこと。
【解決手段】近接場光Ｓと伝播光Ｌとの相互変換を行う素子であって、伝播光を内部で伝播させる伝播部５０と、該伝播部に被膜された膜体５２と、を備え、伝播部のうち対象物に対向する先端部には、伝播光（光束）の光軸Ｏ方向に垂直な先端面５０ａと、先端面に連設され、前記相互変換を行う開口面５０ｂと、が形成され、膜体が先端面上に全面に亘って被膜され、開口面が先端面と共通の輪郭線を有すると共に伝播光の光軸に対して傾斜している近接場光素子４０を提供する。
【解決手段】近接場光Ｓと伝播光Ｌとの相互変換を行う素子であって、伝播光を内部で伝播させる伝播部５０と、該伝播部に被膜された膜体５２と、を備え、伝播部のうち対象物に対向する先端部には、伝播光（光束）の光軸Ｏ方向に垂直な先端面５０ａと、先端面に連設され、前記相互変換を行う開口面５０ｂと、が形成され、膜体が先端面上に全面に亘って被膜され、開口面が先端面と共通の輪郭線を有すると共に伝播光の光軸に対して傾斜している近接場光素子４０を提供する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接場光と伝播光との相互変換を行う近接場光素子、これを具備する記録ヘッド及び情報記録再生装置、並びに近接場光素子の製造方法及び記録ヘッドの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の磁気記録媒体（以下、ディスクという）は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最少限に抑えるために、保磁力の強いものがディスクとして採用され始めている。そのため、ディスクに情報を記録することが困難になりつつある。
【０００３】
そこで、上記不具合を解消するために、光を集光したスポット光、或いは近接場光を利用して磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間にディスクへの書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式の情報記録再生装置が提供されている。
特に、近接場光を利用する場合には、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における光学情報を扱うことが可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図ることが可能とされている。
【０００４】
ハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供されているが、その１つとして近接場光を利用して加熱を行うヘッドが知られている（特許文献１参照）。この特許文献１に記載の記録ヘッドは、入射光の波長以下の大きさを持つ微小開口を有し、この微小開口に入射光を照射することによって近接場光を発生させる近接場光発生素子を備えている。
【０００５】
上記近接場光発生素子は、スライダの対向面（ディスクの表面に対向する面）に形成された錐台状の素子であり、対向面に接する底面と、該底面に対して所定角度を持って傾斜した端面（頂面）と、底面と端面とを結ぶ側面と、を有している。特に、端面が底面に対して傾斜しているので、端面を画成する輪郭の一部分が底面からの距離が最も離れた最大距離輪郭部とされている。そのため、この最大距離輪郭部がディスクに対して最も近接した部分となる。
従って、上記最大距離輪郭部の近傍で発生した近接場光を主に利用してディスクを局所的に加熱することができ、必要最小限な微小領域だけを集中的に加熱することが可能とされている。
【０００６】
ところで上記近接場光発生素子は、近接場光と伝播光との相互変換を行う近接場光素子の１つであり、入射光（伝播光）を近接場光に変換している。これに対して、近接場光を検出する近接場光素子も知られている。例えば、ＳＮＯＭ（走査型近接場光顕微鏡）に用いられるプローブとして、先細りの先端部で光を受光し、近接場光を検出するものが知られている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２００９／０４４８４２号パンフレット
【特許文献２】特開平１０−１７０５２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで上記特許文献１に記載の近接場光発生素子は、ディスク上を浮上走行するスライダの対向面に形成されているので、ディスク上で発生する空気流との摩擦やディスクとの衝突等の影響によって負荷を受け易い。特に、端面における上記最大距離輪郭部はその影響を顕著に受け易く、摩耗や破損等の不具合が生じ易いものと考えられる。そのため、ディスクの加熱を安定して行うことが難しいうえ、記録ヘッドの寿命の短命化に繋がる恐れもあった。
また上記特許文献１には、端面の一部が底面に対して平行（ディスクに対して平行）な平行面とされた構造も開示されているが、この場合には平行面が全面に亘って摩耗等する恐れがあり、やはり上記と同様の問題を招いてしまう。
【０００９】
更に、上記特許文献１に記載の近接場光発生素子は、ディスク上を浮上走行するスライダの対向面に設けられているうえ、その形状が錐台状であり、この錐台状の頂面である端面を光の波長以下のサイズに形成する必要があるので製造が困難であると考えられる。
近接場光発生素子は、フォトリソグラフィ技術等の半導体製造技術を利用しながらスライダと共に一体的な製造が可能とされるものであるが、端面を高精度に作り込むには例えばフォトマスクの高精度な位置合わせやエッチングの正確な制御等を行う必要があるので、手間がかかり製造が難しい。特に、端面を傾斜させたりその一部を平行面にしたりする必要があるので、製造の困難性が顕著であった。
従って、できるだけ簡便な方法で近接場光発生素子を製造し、製造効率の向上化が望まれている。
【００１０】
また、特許文献２に記載のプローブの場合においても、サンプルをスキャンした際に、先端部が摩耗し易く、やはり寿命の短命化に繋がる恐れがあった。
更に、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）技術を用いて製造できることが知られているが、工程数が多く製造し難いことが問題であり、やはり製造効率の向上化が望まれている。
【００１１】
本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、摩耗や破損等が生じ難く、伝播光と近接場光との相互変換を安定して行うことができる近接場光素子、これを具備する記録ヘッド及び情報記録再生装置、並びに近接場光素子の製造方法及び記録ヘッドの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、前記課題を解決するために以下の手段を提供する。
（１）本発明に係る近接場光素子は、近接場光と伝播光との相互変換を行う近接場光素子であって、前記伝播光を内部で伝播させる伝播部と、該伝播部に被膜された膜体と、を備え、前記伝播部のうち対象物に対向する先端部には、前記伝播光の光軸方向に垂直な先端面と、前記先端面に連設され、前記相互変換を行う開口面と、が形成され、前記膜体が、前記先端面上に全面に亘って被膜され、前記開口面が、前記先端面と共通の輪郭線を有すると共に前記伝播光の光軸に対して傾斜していることを特徴とする。
【００１３】
本発明に係る近接場光素子によれば、磁気記録媒体や試料等の対象物に対向する伝播部の先端部に、先端面及び開口面が形成されているので、対象物との間に生じる摩擦や衝撃等を開口面よりも優先して先端面で吸収し易い。よって、開口面自体に摩耗や破損等が生じ難い。一方、先端面は膜体によって保護されているので、やはり先端面についても摩耗や破損等が生じ難い。従って、耐久性を向上でき寿命の延命化に繋げることができる。
また、上記したように開口面に摩耗や破損等が生じ難いので、近接場光と伝播光との相互交換（例えば、伝播光を近接場光に変換して開口面から局在化させた状態で発生させたり、対象物側に発生した近接場光を開口面から検出して伝播光に変換したりする等）を安定して行うことができる。
【００１４】
（２）上記本発明に係る近接場光素子において、前記膜体が前記伝播光を遮光する金属膜であっても良い。
【００１５】
この場合には、膜体が伝播部の先端面を単に保護するだけでなく伝播光を遮光するので、伝播光が先端面から漏れ光として外部に漏れ出てしまうことを抑制することができる。従って、損失少なく近接場光と伝播光との相互交換を行える。
【００１６】
（３）上記本発明に係る近接場光素子において、前記膜体が、前記伝播光の入射によって表面プラズモンを励起させると共に、そのエネルギーを前記近接場光に変換する金属膜であっても良い。
【００１７】
この場合には、伝播光を近接場光に変換し、開口面から対象物側に発生させることができる。特に、伝播光の入射によって金属膜である膜体の表面に表面プラズモンが励起される。そして、この表面プラズモンのエネルギーが近接場光に変換され。開口面、特に輪郭線の近傍に強度が強くなった高エネルギーの近接場光として局在化させることができる。
【００１８】
（４）上記本発明に係る近接場光素子において、前記膜体が、前記先端面に加え、前記伝播部のうち前記伝播光が入射される入射部分及び前記開口面を除く残りの部分にも被膜されていても良い。
【００１９】
この場合には、伝播光の漏れを効果的に抑制して伝播効率を高めることができるうえ、伝播光のエネルギーを無駄なく近接場光の発生に費やすことが可能である。
【００２０】
（５）上記本発明に係る近接場光素子において、前記伝播部の少なくとも一部が、前記先端面に平行な断面積が前記先端部に向かうにしたがって漸次小さくなっても良い。
【００２１】
この場合には、例えば、伝播光を先端部に向けて伝播させる場合には、伝播光を集光させながら伝播せることができる。従って、伝播光を変換し、近接場光として開口面から発生させる場合には、近接場光の発生効率を高め易い。
【００２２】
（６）本発明に係る記録ヘッドは、前記対象物が磁気記録媒体とされ、上記本発明に係る近接場光素子と、一定方向に回転する前記磁気記録媒体の表面に、該磁気記録媒体の回転方向下流側に流出端面が向いた状態で対向配置されるスライダと、該スライダの前記流出端面側に配設され、主磁極及び補助磁極を有し、両磁極の間に記録磁界を発生させる記録素子と、を備え、前記近接場光素子が、前記スライダの前記流出端面側に配設され、前記開口面から前記近接場光を発生させる素子であることを特徴とする。
【００２３】
本発明に係る記録ヘッドによれば、伝播光を伝播部の開口面から近接場光として外部に局在化させた状態で発生させることができるので、この局在化した近接場光と記録素子で発生された記録磁界とを協働させて、磁気記録媒体に各種の情報の書き込みを行うことができる。特に、磁気記録媒体に対して最も近接している輪郭線の近傍に近接場光を強く局在化させ易いので、磁気記録媒体の所望する箇所を局所的に且つ安定的に加熱することが可能である。従って、高密度で且つ高い信頼性で記録を行うことができる。
【００２４】
また、伝播部に形成された先端面を利用して、磁気記録媒体の回転に伴って発生する空気流との摩擦や磁気記録媒体との接触による衝撃等を開口面よりも優先して吸収することができる。従って、開口面、特に輪郭線近傍に近接場光を安定に局在化させることができ、安定した加熱性能を確保することができると共に、記録ヘッドの延命化に繋げることができる。
【００２５】
（７）上記本発明に係る記録ヘッドにおいて、前記先端面及び前記開口面が、前記磁気記録媒体の移動方向に沿って配設され、前記先端面が、前記開口面よりも上記移動方向のリーディング側に配設されていても良い。
【００２６】
この場合には、先端面が開口面よりも回転移動する磁気記録媒体のリーディング側（上流側）に配設されているので、特に空気流との接触による摩擦を先端面で効果的に吸収し易く、開口面に影響を与え難い。
【００２７】
（８）本発明に係る情報記録再生装置は、上記本発明に係る記録ヘッドと、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、該磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを支持するサスペンションと、前記伝播部に前記伝播光を入射させる光源と、前記磁気記録媒体の外側に配置されたピボット軸と、該ピボット軸の回りを回転可能に形成されると共に、前記サスペンションを支持するアーム部を有するキャリッジと、を備えていることを特徴とする。
【００２８】
本発明に係る情報記録再生装置によれば、上記記録ヘッドを備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応した高品質な装置にすることができる。
【００２９】
（９）本発明に係る近接場光素子の製造方法は、上記本発明の近接場光素子の製造方法であって、前記伝播部を形成する伝播部形成工程と、前記先端面に前記膜体を被膜させる被膜工程と、前記先端面を含む前記伝播部の一部を切削加工して前記開口面を形成する切削工程を行うことを特徴とする。
【００３０】
本発明に係る製造方法によれば、まず、開口面を作り込むことなく伝播部を形成した後、先端面に膜体を被膜させる工程を行う。その後、先端面を含む伝播部の一部を切削加工（例えば、ダイシング等を利用した切断による切削加工や、研磨による切削加工）して開口面を形成する。これにより、膜体によって被膜された先端面と開口面とが形成された先端部を有する近接場光素子を製造することができる。
特に、伝播部を形成する段階では開口面を形成する必要がないので、特別な手法を用いることなく通常の半導体製造技術等を利用しながら伝播部を形成することが可能である。そして、その後に切断や研磨等の各種の切削加工により開口面を形成するので、例えばエッチングを正確に制御する等の複雑な作業工程を経る必要がない。従って、容易に製造することができ製造効率の向上化及び低コスト化を図り易い。
【００３１】
（１０）本発明に係る記録ヘッドの製造方法は、上記本発明の記録ヘッドの製造方法であって、積層面が前記流出端面とされたスライダ用ウエハに対して、複数の記録素子を具備する記録素子層、及び複数の伝播部を具備する近接場光素子層を積層し、これらが一体となったウエハ体を作製する積層工程と、前記ウエハ体を複数の前記記録ヘッドに個片化する個片化工程と、を備え、前記積層工程が、複数の前記記録素子を所定配列で配設した状態で前記記録素子層を積層する第１積層工程と、前記記録素子に対応するように前記所定配列で複数の前記伝播部を配設した状態で前記近接場光素子層を積層する第２積層工程と、を備え、前記第２積層工程が、前記先端面が積層方向に対して平行となるように、前記伝播部を複数形成する伝播部形成工程と、前記先端面に前記膜体を被膜させる被膜工程と、を備え、前記個片化工程の際、前記先端面を露出させた状態で前記ウエハ体を個片化すると共に、前記先端面を含む前記伝播部の一部を切削加工して前記開口面を形成する切削工程を行うことを特徴とする。
【００３２】
本発明に係る製造方法によれば、まず後にスライダとなるスライダ用ウエハに対して記録素子層及び近接場光素子層を積層してウエハ体を作製した後、このウエハ体をダイシング等により複数に分断して個片化することで、一度に複数の記録ヘッドを製造することができる。
特に、積層工程における第２積層工程を行う際、第１積層工程で所定配列に配設した複数の記録素子に対応させて同じ所定配列で複数の伝播部を配設するが、この段階では伝播部に開口面を形成する必要がない。即ち、先端面が積層方向に対して平行になるように伝播部を横に寝かせた状態で形成した後、先端面に膜体を被膜させる工程を行う。
従って、積層工程時に開口面を考慮する必要がないので、特別な手法を用いることなく通常のフォトリソグラフィ技術等の半導体製造技術を利用しながら積層工程を簡便に行うことができる。
【００３３】
そして、ウエハ体を個片化する段階で開口面を形成する作業を同時に行う。即ち、先端面を露出させるようにウエハ体を個片化すると共に、その先端面を含む伝播部の一部を切削加工（例えば、ダイシング等を利用した切断による切削加工や、研磨による切削加工）して開口面を形成する。その結果、膜体によって被膜された先端面と開口面とが形成された伝播部を具備する記録ヘッドを製造することができる。
【００３４】
上記したように、ウエハ体を個片化する段階で開口面を形成する方法であるので、従来のようにエッチングを正確に制御する等の複雑なフォトリソグラフィ技術等を用いる必要性がない。従って、記録ヘッドを容易に製造することができ、製造効率の向上化及び低コスト化を図り易い。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、摩耗や破損等が生じ難く、伝播光と近接場光との相互変換を安定して行うことができると共に、容易に製造が可能であり製造効率の向上化及び低コスト化を図り易い。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明に係る情報記録再生装置の実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１に示すヘッドジンバルアセンブリの斜視図である。
【図３】図２に示すジンバルの平面図である。
【図４】図３に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図５】図４に示す記録ヘッド周辺を拡大した断面図である。
【図６】図５に示す記録ヘッドの流出端面側をさらに拡大した斜視図である。
【図７】図６に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図８】図６に示す近接場光発生素子と主磁極との位置関係を示す模式図である。
【図９】図１に示すターミナル基板の平面図である。
【図１０】図６に示す記録ヘッドを製造する際の流れを示す工程図である。
【図１１】図１０（ｃ）に示す状態におけるスライダ用ウエハの平面図である。
【図１２】図１１に示す伝播部の一部を切断して開口面を形成している状態を示す図である。
【図１３】記録ヘッドの変形例を示す図であって、伝播部の入射部分及び開口面を除く部分にも金属膜が被膜されている状態を示す図である。
【図１４】記録ヘッドの変形例を示す図であって、伝播部に対して主磁極が傾斜し、主磁極の先端面が伝播部の開口面に対して平行に配置されている状態を示す図である。
【図１５】記録ヘッドの変形例を示す図であって、開口面が大きく形成されている伝播部と主磁極との関係を示す図である。
【図１６】伝播部の開口面を形成する際の変形例を示す図である。
【図１７】記録ヘッドの製造方法の変形例を示す図であって、スライダ用ウエハの平面図である。
【図１８】図１７に示す伝播部の一部を切断して開口面を形成している状態を示す図である。
【図１９】記録ヘッドの製造方法の別の変形例を示す図であって、スライダ用ウエハの平面図である。
【図２０】図１９に示す伝播部の一部を切断して開口面を形成している状態を示す図である。
【図２１】伝播部と主磁極との位置関係の変形例を示す図である。
【図２２】伝播部と主磁極との位置関係の別の変形例を示す図である。
【図２３】伝播部の変形例を示す図であって、断面視台形状に形成された伝播部の斜視図である。
【図２４】伝播部の変形例を示す図であって、円柱状に形成された伝播部の斜視図である。
【図２５】伝播部の変形例を示す図であって、全長に亘り、先端平坦面に向かうにしたがって漸次先細り状に形成された伝播部の斜視図である。
【図２６】伝播部の変形例を示す図であって、他端側の部分が、先端平坦面に向かうにしたがって漸次先細り状に形成された伝播部の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、本発明に係る情報記録再生装置の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、本実施形態の情報記録再生装置は、垂直記録層を有するディスク（対象物、磁気記録媒体）に対して、垂直記録方式で書き込みを行う装置として説明する。
【００３８】
（情報記録再生装置）
図１に示すように、本実施形態の情報記録再生装置１は、キャリッジ１１と、キャリッジ１１の基端側から光電気複合配線３３を介して光束（伝播光）Ｌ（図７参照）を供給するレーザ光源２０と、キャリッジ１１の先端側に支持されたヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）１２と、ヘッドジンバルアセンブリ１２をディスク面Ｄ１（ディスクＤの表面）に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ６と、ディスクＤを所定の方向に向けて回転させるスピンドルモータ７と、情報に応じて変調した電流をヘッドジンバルアセンブリ１２の記録ヘッド２に対して供給する制御部５と、これら各構成品を内部に収容するハウジング９と、を備えている。
【００３９】
ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料からなる上部開口部を有する箱型形状のものであり、上面視四角形状の底部９ａと、底部９ａの周縁において底部９ａに対して鉛直方向に立設する周壁（不図示）とで構成されている。そして、周壁に囲まれた内側には、上述した各構成品を収容する凹部が形成される。
なお、図１においては、説明を分かりやすくするため、ハウジング９の周囲を取り囲む周壁を省略している。
【００４０】
ハウジング９には、該ハウジング９の上部開口部を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。底部９ａの略中心には、上記スピンドルモータ７が取り付けられており、該スピンドルモータ７に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定されている。
【００４１】
ディスクＤの外側で、底部９ａの一つの隅角部には、上述したアクチュエータ６が取り付けられている。このアクチュエータ６には、ピボット軸１０を中心に水平面（ＸＹ方向）内で回動可能なキャリッジ１１が取り付けられている。
このキャリッジ１１は、基端部から先端部に向けて（ディスクＤ方向に向けて）延設されたアーム部１４と、基端部を介してアーム部１４を片持ち状に支持する基部１５とが、削り出し加工等により一体形成されたものである。
基部１５は、略直方体形状に形成されたものであり、ピボット軸１０回りに回動可能に支持されている。つまり、基部１５はピボット軸１０を介してアクチュエータ６に連結されており、このピボット軸１０がキャリッジ１１の回転中心となっている。
【００４２】
アーム部１４は、基部１５におけるアクチュエータ６が取り付けられた側面１５ａと反対側の側面（隅角部の反対側の側面）１５ｂにおいて、基部１５の上面の面方向（ＸＹ方向）と平行に延出する平板状のものであり、基部１５の高さ方向（Ｚ方向）に沿って３枚延出している。
具体的には、アーム部１４は、基端部から先端部に向かうにしたがって先細るテーパ形状に形成されており、各アーム部１４間に、ディスクＤが挟み込まれるように配置されている。つまり、アーム部１４とディスクＤとが、交互に配置可能に構成されており、アクチュエータ６の駆動によってアーム部１４がディスク面Ｄ１に平行な方向（ＸＹ方向）に移動可能とされている。
なお、キャリッジ１１及びヘッドジンバルアセンブリ１２は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ６の駆動によって、ディスクＤ上から退避可能とされている。
【００４３】
ヘッドジンバルアセンブリ１２は、後述する記録ヘッド２にレーザ光源２０からの光束Ｌを導いて近接場光Ｓ（図７参照）を発生させ、該近接場光Ｓを利用してディスクＤに各種情報を記録再生させるものである。
図２から図５に示すように、本実施形態のヘッドジンバルアセンブリ１２は、上記記録ヘッド２をディスクＤから浮上させる機能を有しており、該記録ヘッド２と、金属性材料により薄い板状に形成され、ディスク面Ｄ１に平行なＸＹ方向に移動可能なサスペンション３と、記録ヘッド２をディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態、即ち２軸を中心として捻れることができるようにサスペンション３の下面に固定させるジンバル手段１６と、を備えている。
【００４４】
記録ヘッド２は、ディスクＤとサスペンション３との間に配置された状態で、サスペンション３の下面に後述するジンバル１７を挟んで支持されている。
図５から図７に示すように、この記録ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離だけ浮上した状態でディスクＤに対向配置され、ディスク面Ｄ１に対向する浮上面２ａを有するスライダ６０と、スライダ６０の流出端面（先端面）６０ａ側に配設された、近接場光発生素子（近接場光素子）４０、記録素子４１、再生素子４２と、を備えている。
【００４５】
なお、上記スライダ６０は、該スライダ６０からディスクＤを見たときに、ディスクＤの回転方向下流側（トレイリング側）に流出端面６０ａが位置するように、ディスクＤに対向配置されている。また、この流出端面６０ａに対して向かい合う面は、ディスクＤの回転方向上流側（リーディング側）に位置する流入端面として機能する。よって、ディスクＤの回転時、回転するディスクＤによって発生した空気は、流入端面側から浮上面２ａに沿って流れた後、流出端面６０ａ側から抜けるように流動する。
【００４６】
なお、記録ヘッド２は、スライダ６０の流出端面６０ａ側が最もディスク面Ｄ１に近接した状態でディスクＤ上を浮上する。従って、スライダ６０の流出端面６０ａ側に上記各構成品が配置されていることで、これらを可能な限りディスク面Ｄ１に近づけることができ、ディスクＤの保磁力を効率良く低下させてディスクＤへの書き込みが容易とされている。
【００４７】
ところで、本実施形態においては、スライダ６０の流出端面６０ａに近接場光発生素子４０が固定されており、記録素子４１及び再生素子４２が近接場光発生素子４０の後述するクラッド５１内に組み込まれた状態で配設されている。具体的には、記録素子４１及び再生素子４２は、スライダ６０の流出端面６０ａと近接場光発生素子４０の後述する伝播部５０との間に位置するようにクラッド５１内に組み込まれている。この際、再生素子４２がスライダ６０の流出端面６０ａに固定され、この再生素子４２に隣接して並ぶように記録素子４１が固定されている。
【００４８】
スライダ６０は、石英ガラス等の光透過性材料や、ＡｌＴｉＣ（アルチック）等のセラミック等によって直方体状に形成されている。また、スライダ６０は、浮上面２ａをディスクＤ側に向けた状態で、ジンバル１７（図３参照）を介してサスペンション３（図３参照）の先端にぶら下がるように支持されている。
【００４９】
再生素子４２は、ディスクＤから漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜である。この再生素子４２には、後述する電気配線３１を介して制御部５（図１参照）からバイアス電流が供給されている。これにより制御部５は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができ、この電圧の変化から信号の再生を行うことが可能とされている。
【００５０】
記録素子４１は、スライダ６０の流出端面６０ａ側に位置する補助磁極４５と、磁気回路４６を介して補助磁極４５に接続され、ディスクＤに対して垂直な記録磁界を補助磁極４５との間で発生させる主磁極４７と、磁気回路４６を中心として該磁気回路４６の周囲を渦巻状に巻回されたコイル４８と、を備えている。
【００５１】
両磁極４５、４７及び磁気回路４６は、磁束密度が高い高飽和磁束密度（Ｂｓ）材料（例えば、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金等）により形成されている。また、コイル４８は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、磁気回路４６との間、両磁極４５、４７との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁層４９によってモールドされている。つまり、両磁極４５、４７、磁気回路４６及びコイル４８は、絶縁層４９によって支持された状態となっている。また、コイル４８には情報に応じて変調された電流が制御部５から供給される。
なお、主磁極４７及び補助磁極４５は、ディスクＤに対向する端面がスライダ６０の浮上面と面一となるように設計されている。
【００５２】
近接場光発生素子４０は、図６から図８に示すように、後述する光導波路３２から入射された光束ＬをディスクＤ側に向けて伝播させる伝播部５０と、該伝播部５０を内部に閉じ込めるクラッド５１と、で構成される略板状の素子であって、上記したようにスライダ６０の流出端面６０ａに固定されている。
伝播部５０は、本実施形態ではスライダ６０の流出端面６０ａに沿ってディスク面Ｄ１に直交するＺ方向に延在した四角柱状に形成され、一端側がスライダ６０の上方に向き、他端側（先端部側）がディスクＤに向いた状態で主磁極４７の近傍に隣接している。伝播部５０の他端側における端面は、内部を伝播する光束Ｌの光軸Ｏ（図７参照）に垂直で、且つディスク面Ｄ１に対して平行に対向する先端平坦面（先端面）５０ａとされており、スライダ６０の浮上面２ａに対して面一とされている。伝播部５０は、一端側から内部に入射された光束Ｌをこの先端平坦面５０ａに向けて伝播させている。
【００５３】
また、伝播部５０には、上記先端平坦面５０ａに連設され、伝播されてきた光束Ｌを近接場光Ｓに変換し、該近接場光Ｓを外部に発生させる開口面５０ｂが形成されている。図８に示すように、この開口面５０ｂは伝播部５０の他端側における角部に形成され、先端平坦面５０ａと共通の輪郭線Ｍを有すると共に、先端平坦面５０ａとのなす角度θ１が鈍角となるように先端平坦面５０ａに対して傾斜している。即ち、開口面５０ｂは光束Ｌの光軸Ｏに対して傾斜している。なおこの開口面５０ｂは、先端平坦面５０ａの面積よりも面積が小さいうえ、光束Ｌの波長以下のサイズとされた微小開口であり、図示の例では平面視三角形状とされている。
【００５４】
開口面５０ｂのより具体的な位置としては、先端平坦面５０ａと開口面５０ｂとがディスクＤの移動方向Ｎに沿って並び、先端平坦面５０ａが開口面５０ｂよりも上記移動方向Ｎのリーディング側に位置するように配設されている。
【００５５】
ところで、伝播部５０の上記先端平坦面５０ａには、図６から図８に示すように、全面に亘って例えばアルミニウム膜等の金属膜（膜体）５２が被膜されている。この金属膜５２は、先端平坦面５０ａを保護する保護膜として機能すると共に、伝播部５０内を伝播されてきた光束Ｌを遮光する遮光膜として機能する。
なお、図８は、伝播部５０と主磁極４７との位置関係を模式的に示した図であり、両者のサイズは正確に図示していない。後に示す図１３、図１４、図２０及び図２１についても同様である。
【００５６】
なお、本実施形態の伝播部５０は、クラッド５１の屈折率よりも高い屈折率の材料からなり、クラッド５１との屈折率の違いから光束Ｌを全反射条件で導くコアとされている。このクラッド５１は、コアである伝播部５０に密着して該伝播部５０を内部に閉じ込めている。
【００５７】
また、クラッド５１及びコアとして使用される材料の組み合わせの一例を記載すると、例えば、石英（ＳｉＯ２）でコアを形成し、フッ素をドープした石英でクラッド５１を形成する組み合わせが考えられる。この場合には、光束Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コアの屈折率が１．４７となり、クラッド５１の屈折率が１．４７未満となるので好ましい組み合わせである。また、ゲルマニウムをドープした石英でコアを形成し、石英（ＳｉＯ２）でクラッド５１を形成する組み合わせも考えられる。この場合には、光束Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コアの屈折率が１．４７より大きくなり、クラッド５１の屈折率が１．４７となるのでやはり好ましい組み合わせである。
【００５８】
特に、コアとクラッド５１との屈折率差が大きいほど、コア内に光束Ｌを閉じ込める力が大きくなるので、コアに酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５：波長が５５０ｎｍのときに屈折率が２．１６）を用い、クラッド５１に石英等を用いて、両者の屈折率差を大きくすることがより好ましい。また、赤外領域の光束Ｌを利用する場合には、赤外光に対して透明な材料であるシリコン（Ｓｉ：屈折率が約４）でコアを形成することも有効である。
【００５９】
また、図２から図５に示すように、スライダ６０の下面は上述したようにディスク面Ｄ１に対向する浮上面２ａとされ、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から浮上するための圧力を発生させる面であり、ＡＢＳ（Air Bearing Surface）と呼ばれている。具体的には、スライダ６０をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧とスライダ６０をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧とを調整して、スライダ６０を最適な状態で浮上させるように設計されている。
スライダ６０は、この浮上面２ａによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けていると共に、サスペンション３によってディスクＤ側に押さえ付けられる力を受けている。そしてスライダ６０は、この両者の力のバランスによって、ディスク面Ｄ１から浮上している。
【００６０】
図２及び図３に示すように、サスペンション３は、上面視略四角状に形成されたベースプレート２２と、ベースプレート２２の先端側にヒンジ板２３を介して連結された平面視略三角状のロードビーム２４と、で構成されている。
【００６１】
ベースプレート２２は、ステンレス等の厚みの薄い金属材料によって構成されており、基端側には厚さ方向に貫通する開口２２ａが形成されている。そして、この開口２２ａを介してベースプレート２２がアーム部１４の先端に固定されている。
ベースプレート２２の下面には、ステンレス等の金属材料により構成されたシート状の上記ヒンジ板２３が配置されている。このヒンジ板２３は、ベースプレート２２の下面の全面に亘って形成された平板状の板材であり、その先端部分はベースプレート２２の先端からベースプレート２２の長手方向に沿って延出する延出部２３ａとして形成されている。この延出部２３ａは、ヒンジ板２３の幅方向両端部から２本延出しており、その先端部分にロードビーム２４が連結されている。
【００６２】
ロードビーム２４は、ベースプレート２２と同様にステンレス等の厚みの薄い金属材料によって形成されており、その基端がベースプレート２２の先端との間に間隙を有した状態でヒンジ板２３に連結されている。
これにより、サスペンション３は、ベースプレート２２とロードビーム２４との間を中心に屈曲して、ディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に向けて撓み易くなっている。
【００６３】
また、サスペンション３上には、フレクシャ２５が設けられている。
このフレクシャ２５は、ステンレス等の金属材料により形成されたシート状のものであり、シート状に形成されることで厚さ方向に撓み変形可能に構成されている。また、このフレクシャ２５は、ロードビーム２４の先端側に固定され、外形が上面視略五角形状に形成されたジンバル１７と、ジンバル１７より幅狭に形成され、ジンバル１７の基端からサスペンション３上に沿って延在する支持体１８とで構成されている。
【００６４】
ジンバル１７は、中間付近から先端にかけてディスク面Ｄ１に向けて厚さ方向に僅かながら反るように形成されている。そして、この反りが加わった先端側がロードビーム２４に接触しないように、基端側から略中間付近にかけてロードビーム２４に固定されている。また、この浮いた状態のジンバル１７の先端側には、周囲がコ形状に刳り貫かれた切欠部２６が形成されており、この切欠部２６に囲まれた部分には連結部１７ａによって片持ち状に支持されたパッド部１７ｂが形成されている。
つまり、このパッド部１７ｂは、連結部１７ａによってジンバル１７の先端側から基端側に向けて張出し形成されており、その周囲に切欠部２６を備えている。
【００６５】
これにより、パッド部１７ｂはジンバル１７の厚さ方向に撓み易くなっており、このパッド部１７ｂのみがサスペンション３の下面と平行になるように角度調整されている。そして、このパッド部１７ｂ上に上述した記録ヘッド２が載置固定されている。つまり、記録ヘッド２は、パッド部１７ｂを介してロードビーム２４にぶら下がった状態となっている。
【００６６】
また、図３及び図４に示すように、ロードビーム２４の先端には、パッド部１７ｂ及び記録ヘッド２の略中心に向かって突出する突起部１９が形成されている。この突起部１９の先端は、丸みを帯びた状態となっている。そして突起部１９は、記録ヘッド２がディスクＤから受ける風圧によりロードビーム２４側に浮上したときに、パッド部１７ｂの表面（上面）に点接触するようになっている。
つまり、突起部１９は、ジンバル１７のパッド部１７ｂを介して、記録ヘッド２を支持すると共に、ディスク面Ｄ１に向けて（Ｚ方向に向けて）記録ヘッド２に荷重を付与する。そして、突起部１９とパッド部１７ｂとの接触点（支持点）が、突起部１９による記録ヘッド２の荷重点とされている。
なお、これら突起部１９とパッド部１７ｂを有するジンバル１７とが、ジンバル手段１６を構成している。
【００６７】
図２に示す支持体１８は、ジンバル１７に一体形成されたシート状のものであり、サスペンション３上をアーム部１４に向かって延設されている。つまり、支持体１８は、サスペンション３が変形した際にサスペンション３の変形に追従するように構成されている。また、この支持体１８は、アーム部１４上から側面に回りこんで、キャリッジ１１の基部１５に至るまで引き回されている。
【００６８】
図１及び図９に示すように、キャリッジ１１の基部１５における側面１５ｃには、ターミナル基板３０が配置されている。このターミナル基板３０は、ハウジング９に設けられた制御部５と記録ヘッド２とを電気的に接続する際の中継点となるものであり、その表面には、各種制御回路（不図示）が形成されている。
制御部５とターミナル基板３０とは、可撓性を有するフラットケーブル４により電気的に接続されている一方、ターミナル基板３０と記録ヘッド２とは、電気配線３１により接続されている。この電気配線３１は、各キャリッジ１１に設けられた記録ヘッド２に対応して３組設けられており、フラットケーブル４を介して制御部５から出力された信号が、電気配線３１を介して記録ヘッド２に出力される。
【００６９】
ターミナル基板３０上には、記録ヘッド２の伝播部５０に向けて光束Ｌを供給する上記レーザ光源２０が配置されている。レーザ光源２０は、フラットケーブル４を介して制御部５から出力された信号を受信し、この信号に基づいて光束Ｌを出射するものであり、各アーム部１４に設けられた記録ヘッド２に対応して基部１５の高さ方向（Ｚ方向）に沿って３個配列されている。各レーザ光源２０の出射側には、出射された光束Ｌを記録ヘッド２まで導く光導波路３２が接続されている。
【００７０】
図２及び図３に示すように、光導波路３２と電気配線３１とは、レーザ光源２０と記録ヘッド２との間において、その基端側から先端に至るまで一体的に形成された光電気複合配線３３として構成されている。
この光電気複合配線３３は、ターミナル基板３０の表面からアーム部１４の側面を通って、アーム部１４上に引き回されている。具体的には、光電気複合配線３３は、アーム部１４及びサスペンション３上において、フレクシャ２５の支持体１８上に配置されており、該支持体１８を間に挟んだ状態でサスペンション３の先端まで引き回されている。
【００７１】
そして、光電気複合配線３３は、サスペンション３の先端、即ちジンバル１７の中間位置において電気配線３１と光導波路３２とに分岐している。
具体的には、光導波路３２は、光電気複合配線３３の先端側における分岐地点からジンバル１７の長手方向に沿って延在しており、ジンバル１７の切欠部２６を跨いで記録ヘッド２の流入端側に直接接続されている。光導波路３２は、光電気複合配線３３の分岐地点においてジンバル１７の下面から離間されており、分岐地点から記録ヘッド２の流入端側に向かうにつれ、パッド部１７ｂとジンバル１７との間を架け渡すように僅かながら浮いた状態で延在している。
つまり、ジンバル１７の下面において、光導波路３２は略直線的（曲率半径が略無限大）に延在した状態で、記録ヘッド２の幅方向（Ｘ方向）中央部から記録ヘッド２の流入端側に引き回されている。
【００７２】
一方、上記分岐地点において、電気配線３１はジンバル１７の外周部分に向けて屈曲されており、ジンバル１７の外周部分、つまり切欠部２６の外側から引き回されている。そして、切欠部２６の外側から引き回された電気配線３１は、連結部１７ａ上を通って記録ヘッド２の流出端面６０ａ側に接続されている。即ち、電気配線３１は、スライダ６０の流出端面６０ａ側に設けられた再生素子４２と記録素子４１とのそれぞれに対して、記録ヘッド２の外部から直接接続されている。
【００７３】
なお、光導波路３２の構成材料は、上記した近接場光発生素子４０のコア（伝播部５０）及びクラッド５１と同様の材料を用いることも可能であるが、本実施形態では以下に示すような樹脂材料が好適に用いられている。
例えばＰＭＭＡ（メタクリル酸メチル樹脂）により、厚さが３〜１０μｍでコア３２ａを形成し、フッ素含有重合体により、厚さが数十μｍでクラッド３２ｂを形成する組み合わせが考えられる。また、コア３２ａ及びクラッド３２ｂをともにエポキシ樹脂（例えば、コア屈折率１．５２２〜１．５２３、クラッド屈折率１．５１８〜１．５１９）で構成したり、フッ素化ポリイミドで構成したりすることも可能である。この場合、コア３２ａとクラッド３２ｂとを構成する樹脂材料の配合等を調整して、両者の屈折率差を大きくすることが好ましい。例えば、フッ素化ポリイミドの場合、フッ素含有量を調整したり、放射光等のエネルギー照射によって、屈折率を制御したりすることができる。このように、光導波路３２の構成材料に樹脂材料を用いることで、光電気複合配線３３を半導体プロセスにより製造することが可能である。
【００７４】
ところで、図６及び図７に示すように、光導波路３２の先端面は斜めにカットされたミラー面３５とされており、レーザ光源２０によって導入された光束Ｌを、該光束Ｌの向きが略９０度変わるように反射させている。これにより、ミラー面３５で反射された光束Ｌが、記録ヘッド２の近接場光発生素子４０を構成する伝播部５０内に導入可能とされている。なお、ミラー面３５は、少なくともコア３２ａを含む領域にアルミ等からなる反射板を蒸着法等により形成するような構成としても構わない。
【００７５】
（情報記録再生方法）
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する手順について説明する。
【００７６】
まず、スピンドルモータ７を駆動させてディスクＤを所定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ６を作動させて、ピボット軸１０を回転中心としてキャリッジ１１を回動させ、キャリッジ１１を介してヘッドジンバルアセンブリ１２をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、図１に示すように、ディスクＤ上の所望する位置に記録ヘッド２を位置させることができる。
【００７７】
この際、記録ヘッド２は、サスペンション３によって支持されていると共に所定の力でディスクＤ側に押さえ付けられている。また、これと同時に記録ヘッド２は、浮上面２ａを利用して、回転するディスクＤによって生じる風圧の影響を受けて浮上する力を受けている。この両者の力のバランスによって、記録ヘッド２はディスクＤ上から離間した位置に浮上している。
しかも記録ヘッド２は、風圧を受けてサスペンション３側に押されるので、記録ヘッド２を固定するジンバル１７のパッド部１７ｂとサスペンション３に形成された突起部１９とが、点接触した状態となる。そして、この浮上する力は、突起部１９を介してサスペンション３に伝わり、該サスペンション３をディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に向けて撓ませるように作用する。これにより、上記したように記録ヘッド２は浮上する。
【００７８】
ここで、情報の記録を行う場合、制御部５はレーザ光源２０を作動させると共に、情報に応じて変調した電流をコイル４８に供給して記録素子４１を作動させる。
レーザ光源２０が作動すると、光導波路３２に光束Ｌを入射させる。すると、この光束Ｌは、光導波路３２のコア３２ａ内を先端側に向かって進んだ後、図７に示すように、ミラー面３５で反射されて近接場光発生素子４０の伝播部５０内に導入される。伝播部５０内に導入された光束Ｌは、ディスクＤ側に位置する先端平坦面５０ａに向かって例えばクラッド５１との界面との間で反射を繰り返しながら伝播部５０内を確実に伝播する。
【００７９】
ここで、伝播部５０には先端平坦面５０ａに連設して開口面５０ｂが形成されているので、図７及び図８に示すように、先端平坦面５０ａまで伝播してきた光束Ｌを開口面５０ｂから近接場光Ｓとして外部に局在化した状態で発生させることができる。これにより、ディスクＤはこの近接場光Ｓによって局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。
【００８０】
一方、制御部５によってコイル４８に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁気回路４６内に磁界を発生させるので、主磁極４７と補助磁極４５との間にディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。
【００８１】
その結果、伝播部５０の開口面５０ｂに局在化した状態で発生された近接場光Ｓと、記録素子４１で発生された記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。
【００８２】
次に、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、再生素子４２がディスクＤから漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、再生素子４２の電圧が変化する。これにより制御部５は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部５は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、情報の再生を行うことができる。
上述したように、記録ヘッド２を利用してディスクＤに対して各種の情報を記録再生することができる。
【００８３】
特に、本実施形態の記録ヘッド２によれば、図８に示すように、開口面５０ｂが先端平坦面５０ａと共通の輪郭線Ｍを有し、先端平坦面５０ａとのなす角度θ１が鈍角となるように先端平坦面５０ａに対して傾斜しているので、開口面５０ｂ自体を先端平坦面５０ａよりもディスクＤに近づけてしまうことを防止しつつ、ディスクＤに対して極力近接させることができる。従って、近接場光ＳをディスクＤに効果的に作用させて加熱を効率良く行い易い。
しかも、ディスクＤに対して最も近接している輪郭線Ｍの近傍に近接場光Ｓを強く局在化させ易いので、ディスクＤの所望する箇所を局所的に且つ安定的に加熱することが可能である。これらのことにより、高密度で且つ高い信頼性で記録を行うことができる。
【００８４】
また、伝播部５０に形成された先端平坦面５０ａを利用して、記録ヘッド２の走行中にディスクＤの回転に伴って発生する空気流との摩擦やディスクＤとの接触による衝撃等を開口面５０ｂよりも優先して吸収することができる。よって、開口面５０ｂ自体に摩耗や破損等が生じ難い。一方、先端平坦面５０ａは金属膜５２によって保護されているので、やはり先端平坦面５０ａについても摩耗や破損等が生じ難い。
従って、開口面５０ｂ、特に輪郭線Ｍ近傍に近接場光Ｓを安定に局在化させることができ、安定した加熱性能を確保できる。また、耐久性が向上するので記録ヘッド２の延命化に繋げることができる。
特に、本実施形態では、先端平坦面５０ａが開口面５０ｂよりもディスクＤのリーディング側に配設されているので、空気流との接触による摩耗を先端平坦面５０ａで特に吸収し易く、開口面５０ｂに影響を与え難い。
【００８５】
また、先端平坦面５０ａに被膜されている金属膜５２は、単に先端平坦面５０ａを保護しているだけでなく、伝播部５０内を伝播してくる光束Ｌを遮光する機能も果している。そのため、光束Ｌが先端平坦面５０ａで漏れ光として外部に漏れでてしまうことを抑制でき、光束Ｌを効率良く近接場光Ｓの発生に寄与させることができる。従って、ディスクＤを効率良く加熱することができる。また、先端平坦面５０ａからの漏れ光を抑制できるので、この漏れ光に起因する誤記録等を防止することができる。
これらのことからも、書き込みの信頼性を高めることができる。
【００８６】
そして、本実施形態の情報記録再生装置１は、上述した記録ヘッド２を備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応した高品質な装置にすることができる。
【００８７】
（記録ヘッドの製造方法）
次に、上述した記録ヘッド２の製造方法の一例について説明する。
本実施形態の製造方法は、積層面が流出端面６０ａとされ、後にスライダ６０となるスライダ用ウエハ７０に対して、複数の記録素子４１を具備する記録素子層７１、及び複数の伝播部５０を具備する近接場光発生素子層（近接場光素子層）７２を積層し、これらが一体となったウエハ体８０（図１０（ｅ）参照）を作製する積層工程と、このウエハ体８０を複数の記録ヘッド２に個片化する個片化工程と、を行って製造を行う方法である。
【００８８】
まず、図１０（ａ）に示すように、スライダ用ウエハ７０の流出端面６０ａ上に半導体技術を利用して、複数の再生素子４２及び記録素子４１がそれぞれ所定配列で配設された再生素子層７３、記録素子層７１を順に積層する第１積層工程を行う。なお、これら再生素子層７３及び記録素子層７１において、再生素子４２及び記録素子４１の図示を省略している。
【００８９】
次いで、上記記録素子層７１上に、複数の記録素子４１に対応するように上記所定配列で複数の伝播部５０を配設した状態で近接場光発生素子層７２を積層する第２積層工程を行う。
具体的には、まず図１０（ｂ）に示すように、記録素子層７１上にクラッド層７４を積層する。次に、図１０（ｃ）に示すように、このクラッド層７４上に先端平坦面５０ａが積層方向に対して平行となるように伝播部５０を上記所定配列で複数形成する伝播部形成工程を行う。
なお、上記所定配列とは、図１１に示すように、スライダ用ウエハ７０のオリフラ（オリエンテーションフラット）に平行なＸ方向、及び該Ｘ方向と積層方向であるＺ方向とに対してそれぞれ直交するＹ方向に沿って行列に並び、且つ、伝播部５０の長手方向がＹ方向に対して角度θ２で傾いた配列とされている。
【００９０】
次に、図１０（ｄ）に示すように、複数の伝播部５０の先端平坦面５０ａに金属膜５２を被膜させる被膜工程を行う。次に、図１０（ｅ）に示すように、複数の伝播部５０を覆うようにクラッド層７４を再度積層する。これにより、先端平坦面５０ａに金属膜５２が被膜された伝播部５０をクラッド層７４内に閉じ込めた近接場光発生素子層７２を、記録素子層７１上に作り込むことができる。
【００９１】
そして、この時点でウエハ体８０が作製され、ウエハ体８０を作製する上記積層工程が終了する。特に、この積層工程を行う段階では、伝播部５０に開口面５０ｂを形成する必要がなく、開口面５０ｂを考慮しながら各工程を行う必要がない。従って、特別な手法を用いることなく通常のフォトリソグラフィ技術等の半導体製造技術を利用しながら簡便に積層工程を行うことができる。
【００９２】
次いで、ウエハ体８０を個片化する上記個片化工程を行う。この際、先端平坦面５０ａを露出させた状態でウエハ体８０を個片化すると共に、先端平坦面５０ａを含む伝播部５０の一部を切削加工して開口面５０ｂを形成する切削工程を行う。
具体的には、図示しないダイシングブレードを利用して、図１１に示す切断線Ｐでウエハ体８０を大きく切り分けて複数のバーＢに一旦分割する。この際、図１２に示すように、ダイシングブレードをＸ方向に沿って配設すると共に、このＸ方向に平行な軸回りに回転させて寝かせた状態にしながら伝播部５０の上側の一部を切断面Ｃでカットする。
この切断による切削加工により、１つのバーＢに設けられた複数の伝播部５０に同時に開口面５０ｂを形成することができる。その後、各バーＢを再度伝播部５０に応じて切断し、研磨加工等によりサイズ調整しながら先端平坦面５０ａを露出させることで、複数の記録ヘッド２を一度に複数製造することができる。
【００９３】
上記した製造方法によれば、ウエハ体８０を個片化する段階で開口面５０ｂを形成する方法であるので、従来のようにエッチングを正確に制御する等の複雑なフォトリソグラフィ技術等を用いる必要性がない。従って、記録ヘッド２を容易に製造することができ、製造効率の向上化及び低コスト化を図り易い。
【００９４】
なお、上記製造方法において、ダイシングブレードを利用して開口面５０ｂを形成する際、クラッド層７４も一部切断され、図６に示すようにクラッド５１にカット面５１ａが形成されてしまうが、記録再生に何ら影響を与えるものではない。
【００９５】
なお、上記製造方法において、ウエハ体８０を、ダイシングブレードを利用して開口面５０ｂを形成することなく個片化し、その後、研磨による切削加工によって開口面５０ｂを形成しても構わない。いずれにしても、ウエハ体８０を個片化する際、ダイシングブレードによる切断や研磨等と同時に開口面５０ｂを形成すれば良い。
【００９６】
また、上記製造方法において、積層工程時、スライダ用ウエハ７０に再生素子層７３、記録素子層７１及び近接場光発生素子層７２を順に積層したが、この積層順番に限定されるものではない。いずれの積層順番であってもウエハ体８０が作製されれば構わない。
例えば、クラッド層７４上に伝播部５０を形成した後、金属膜５２を被膜させ、その後再度クラッド層７４を積層することで最初に近接場光発生素子層７２を作り、その上に記録素子層７１、再生素子層７３及びスライダ用ウエハ７０を順に積層する順番でも構わない。
【００９７】
また、上記実施形態において、先端平坦面５０ａに金属膜５２を被膜させ、該金属膜５２に先端平坦面５０ａの保護機能と光束Ｌの遮光機能とを兼用させたが、少なくとも先端平坦面５０ａの保護を行えれば良い。その場合には、金属膜５２ではなく非導電性の膜体であっても良い。
また、上記保護機能と上記遮光機能とを具備する金属膜５２の場合、図１３に示すように、開口面５０ｂ及び光束Ｌが入射される入射部分５０ｃを除いて、伝播部５０の残りの部分をこの金属膜５２で被膜すると良い。こうすることで、伝播中における光束Ｌの漏れを効果的に抑制して伝播効率を高めることができるので、入射された光束Ｌのエネルギーを無駄なく近接場光Ｓの発生に費やすこと可能である。
特に、この場合には伝播部５０を閉じ込めるクラッド５１を具備しなくても構わない。なお、クラッド５１は、本発明では必須な構成ではなく具備しなくても構わない。
【００９８】
更には、上記保護機能と上記遮光機能とに加え、光束Ｌの入射によって表面プラズモンを励起させると共にそのエネルギーを近接場光Ｓに変換させる近接場光増強膜としての機能を金属膜５２に発揮させても構わない。この場合の金属膜５２としては、例えば金膜等が挙げられる。
この場合、先端平坦面５０ａに光束Ｌが入射すると、金属膜５２の表面に表面プラズモンが励起され、そのエネルギーが近接場光Ｓに変換されて開口面５０ｂ、特に輪郭線Ｍの近傍に強度が強くなった高エネルギーの近接場光Ｓとして局在化される。従って、光束Ｌの入射エネルギーを有効に利用して高密度な記録を効果的に行うことが可能となる。
【００９９】
なお、近接場光増強膜としての機能を具備する金属膜５２を、先端平坦面５０ａ以外の開口面５０ｂに接する伝播部５０の外面に形成しても構わない。こうすることで、金属膜５２が形成された外面と開口面５０ｂとの共通の輪郭線の近傍付近にも近接場光Ｓを局在化させることが可能となる。
【０１００】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【０１０１】
例えば、上記実施形態では、スライダ６０を浮上させた空気浮上タイプの情報記録再生装置１を例に挙げて説明したが、この場合に限られず、ディスク面Ｄ１に対向配置されていればディスクＤとスライダ６０とが接触していても構わない。つまり、本発明の記録ヘッド２は、コンタクトスライダタイプのヘッドであっても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。
【０１０２】
また、上記実施形態では、アーム部１４の片面側のみにヘッドジンバルアセンブリ１２が設けられている構成について説明したが、各ディスクＤ間に差し入れられるアーム部１４の両面に、各ディスクＤに対向するようにそれぞれヘッドジンバルアセンブリ１２を設けるような構成も可能である。
この場合には、アーム部１４の両面側に設けられたヘッドジンバルアセンブリ１２の各記録ヘッド２により、各記録ヘッド２に対向するディスク面Ｄ１の情報の記録再生を行うことができる。つまり、１つのアーム部１４により２枚のディスクＤの情報を記録再生することができるため、情報記録再生装置１の記録容量の増加及び装置の小型化を図ることができる。
【０１０３】
また、上記実施形態では、光束Ｌを導入するレーザ光源２０をキャリッジ１１の基部１５に取り付けられたターミナル基板３０に配設させた構成としたが、この位置に限定されるものではない。例えば、スライダ６０の上面に配設し、記録ヘッド２に一体的に搭載させても構わない。こうすることで、光導波路３２をキャリッジ１１から引き回す必要がないうえ、浮上時におけるスライダ６０の動きが光導波路３２によって阻害され難いので、より好ましい。
【０１０４】
また、上記実施形態では、スライダ６０の流出端面６０ａから順に、再生素子４２、記録素子４１、近接場光発生素子４０を配置した構成としたが、この順番に限定されるものではない。例えば、流出端面６０ａ側から順に、近接場光発生素子４０、記録素子４１、再生素子４２を配置した構成としても構わない。
【０１０５】
また、上記実施形態では、主磁極４７及び補助磁極４５を伝播部５０の長手方向と平行に配設したが、この場合に限られず、伝播部５０の開口面５０ｂの形状やその形成位置等に応じて、伝播部５０の長手方向に対して適宜傾斜させた状態にしても構わない。
例えば、図１４に示すように、主磁極４７の先端面４７ａが伝播部５０の開口面５０ｂに対して平行となるように、伝播部５０の長手方向に対して主磁極４７を傾斜させても構わない。この場合であっても同様の作用効果を奏効することができる。特にこの場合には、主磁極４７の先端面４７ａを画成する輪郭線のうち最もディスクＤ側に位置する部分４７ｂから集中的に記録磁界を発生させることが可能であると考えられるので、記録磁界をより高強度にでき書き込み信頼性が向上するものと考えられる。
【０１０６】
また、上記実施形態において、図１５に示すように、先端平坦面５０ａの略半分の面積をカットした状態（先端平坦面５０ａの形状が平面視略三角形状となった状態）で開口面５０ｂを大きく形成しても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏効することができる。特にこの場合には、先端平坦面５０ａと開口面５０ｂとの共通の輪郭線Ｍを主磁極４７側に近づけることができるので、近接場光Ｓで加熱した領域に記録磁界を効率良く作用させ易くなるものと考えられる。従って、書き込みの信頼性が向上するものと考えられる。
【０１０７】
ここで、図１５に示す伝播部５０具備する記録ヘッド２を製造する場合の変形例を簡単に説明する。
例えば、図１１に示す所定配列で伝播部５０を形成した後、図１６に示すように、ダイシングブレードを先ほどとは逆向きに寝かせた状態にしながら伝播部５０の下側の一部を切断面Ｃでカットすることで開口面５０ｂを形成しても構わない。
このように製造した場合であっても、図１５に示す伝播部５０を具備する記録ヘッド２を製造することができる。
【０１０８】
また、製造方法の別の変形例としては、図１７に示すように、伝播部形成工程の際、オリフラに平行なＸ方向及びＹ方向に沿って行列に並び、且つ伝播部５０の長手方向がＹ方向に対して平行で、さらに稜線Ｒを上方に向けた状態で伝播部５０を形成する。
そして、個片化工程の際に、図１８に示すように、ダイシングブレードをＸ方向に沿って配設させると共に、このＸ方向に平行な軸回りに回転させて寝かせた状態にしながら伝播部５０の上記稜線Ｒを含む上側の一部を切断面Ｃでカットする。
このように製造した場合であっても、図１５に示す伝播部５０を具備する記録ヘッド２を製造することができる。
【０１０９】
また、製造方法のさらに別の変形例としては、図１９に示すように伝播部形成工程の際、Ｙ方向に所定距離だけずらしながらＸ方向に並ばせ、即ち図中のＫ方向に沿って並ばせ、且つ伝播部５０の長手方向がＹ方向に対して平行となるように伝播部５０を形成する。
そして、個片化工程の際に、図２０に示すようにダイシングブレードを上記Ｋ方向に沿って配置させると共に、このＫ方向に平行な軸回りに回転させて寝かせた状態にしながら伝播部５０の上側の一部を切断面Ｃでカットする。
このように製造した場合であっても、図１５に示す伝播部５０を具備する記録ヘッド２を製造することができる。
【０１１０】
また、図１４では、主磁極４７を伝播部５０の長手方向に対して傾斜させた変形例を示したが、図２１に示すように、伝播部５０の長手方向に平行とされた主磁極４７をスライダ６０の流出端面６０ａに平行なＸ方向に沿って伝播部５０に並ぶように並列配置させても構わないし、図２２に示すように、伝播部５０の長手方向に平行とされた主磁極４７を伝播部５０に対して角度を付けた状態で並列配置させても構わない。
なお、これらの場合には、伝播部５０の開口面５０ｂの切削加工に伴って主磁極４７の一部も切削加工され、その先端面４７ａの少なくとも一部が開口面５０ｂに対して平行になるものと考えられるが、十分に書き込みを行うことが可能である。
【０１１１】
また、上記実施形態では伝播部５０を四角柱として説明したが、この形状に限定されるものではなく柱状であれば良い。例えば、図２３に示すように断面視台形状の伝播部５０であっても構わないし、図２４に示すように円柱状の伝播部５０であっても構わないし、その他、例えば断面視多角形状、断面視楕円状や断面視半円状等の柱状に形成された伝播部５０としても良い。
【０１１２】
また、上記実施形態において、ディスクＤに平行な断面積が先端平坦面５０ａに向かうにしたがって漸次小さくなるように伝播部５０を形成しても構わない。
例えば、図２５に示すように、伝播部５０の全体が先端平坦面５０ａに向けて先細りとなるように形成しても構わないし、図２６に示すように伝播部５０の他端側だけが先端平坦面５０ａに向けて先細りとなるように形成しても構わない。
このように構成することで、伝播部５０内に入射した光束Ｌを先端平坦面５０ａに向けて伝播させる際に、光束Ｌを集光させながら伝播させることが可能である。従って、近接場光Ｓの発生効率をより高め易い。
【０１１３】
なお、上記実施形態では、近接場光素子として記録ヘッド２に具備され、伝播光である光束Ｌを近接場光Ｓに変換する近接場光発生素子４０を例に挙げて説明したが、この場合に限定されるものではない。伝播光と近接場光とを相互変換させる素子であれば良く、近接場光を検出し、その近接場光を光に変換する素子であっても構わない。
例えば、ＳＮＯＭ（走査型近接場光顕微鏡）に用いられるプローブに適用しても構わない。なお、この場合には例えば試料サンプル等が対象物となる。
【符号の説明】
【０１１４】
Ｄ…ディスク（対象物、磁気記録媒体）
Ｄ１…ディスク面（磁気記録媒体の表面）
Ｍ…輪郭線
Ｌ…光束（伝播光）
Ｏ…光束の光軸
Ｓ…近接場光
１…情報記録再生装置
２…記録ヘッド
３…サスペンション
１０…ピボット軸
１１…キャリッジ
１４…アーム部
２０…レーザ光源（光源）
４０…近接場光発生素子（近接場光素子）
４１…記録素子
４５…補助磁極
４７…主磁極
５０…伝播部
５０ａ…伝播部の先端平坦面（先端面）
５０ｂ…伝播部の開口面
５０ｃ…伝播部の入射部分
５２…金属膜（膜体）
６０…スライダ
６０ａ…スライダの流出端面
７０…スライダ用ウエハ
７１…記録素子層
７２…近接場光発生素子層（近接場光素子層）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接場光と伝播光との相互変換を行う近接場光素子、これを具備する記録ヘッド及び情報記録再生装置、並びに近接場光素子の製造方法及び記録ヘッドの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の磁気記録媒体（以下、ディスクという）は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最少限に抑えるために、保磁力の強いものがディスクとして採用され始めている。そのため、ディスクに情報を記録することが困難になりつつある。
【０００３】
そこで、上記不具合を解消するために、光を集光したスポット光、或いは近接場光を利用して磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間にディスクへの書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式の情報記録再生装置が提供されている。
特に、近接場光を利用する場合には、従来の光学系において限界とされていた光の波長以下となる領域における光学情報を扱うことが可能となる。よって、従来の光情報記録再生装置等を超える記録ビットの高密度化を図ることが可能とされている。
【０００４】
ハイブリッド磁気記録方式による記録ヘッドとしては、各種のものが提供されているが、その１つとして近接場光を利用して加熱を行うヘッドが知られている（特許文献１参照）。この特許文献１に記載の記録ヘッドは、入射光の波長以下の大きさを持つ微小開口を有し、この微小開口に入射光を照射することによって近接場光を発生させる近接場光発生素子を備えている。
【０００５】
上記近接場光発生素子は、スライダの対向面（ディスクの表面に対向する面）に形成された錐台状の素子であり、対向面に接する底面と、該底面に対して所定角度を持って傾斜した端面（頂面）と、底面と端面とを結ぶ側面と、を有している。特に、端面が底面に対して傾斜しているので、端面を画成する輪郭の一部分が底面からの距離が最も離れた最大距離輪郭部とされている。そのため、この最大距離輪郭部がディスクに対して最も近接した部分となる。
従って、上記最大距離輪郭部の近傍で発生した近接場光を主に利用してディスクを局所的に加熱することができ、必要最小限な微小領域だけを集中的に加熱することが可能とされている。
【０００６】
ところで上記近接場光発生素子は、近接場光と伝播光との相互変換を行う近接場光素子の１つであり、入射光（伝播光）を近接場光に変換している。これに対して、近接場光を検出する近接場光素子も知られている。例えば、ＳＮＯＭ（走査型近接場光顕微鏡）に用いられるプローブとして、先細りの先端部で光を受光し、近接場光を検出するものが知られている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２００９／０４４８４２号パンフレット
【特許文献２】特開平１０−１７０５２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで上記特許文献１に記載の近接場光発生素子は、ディスク上を浮上走行するスライダの対向面に形成されているので、ディスク上で発生する空気流との摩擦やディスクとの衝突等の影響によって負荷を受け易い。特に、端面における上記最大距離輪郭部はその影響を顕著に受け易く、摩耗や破損等の不具合が生じ易いものと考えられる。そのため、ディスクの加熱を安定して行うことが難しいうえ、記録ヘッドの寿命の短命化に繋がる恐れもあった。
また上記特許文献１には、端面の一部が底面に対して平行（ディスクに対して平行）な平行面とされた構造も開示されているが、この場合には平行面が全面に亘って摩耗等する恐れがあり、やはり上記と同様の問題を招いてしまう。
【０００９】
更に、上記特許文献１に記載の近接場光発生素子は、ディスク上を浮上走行するスライダの対向面に設けられているうえ、その形状が錐台状であり、この錐台状の頂面である端面を光の波長以下のサイズに形成する必要があるので製造が困難であると考えられる。
近接場光発生素子は、フォトリソグラフィ技術等の半導体製造技術を利用しながらスライダと共に一体的な製造が可能とされるものであるが、端面を高精度に作り込むには例えばフォトマスクの高精度な位置合わせやエッチングの正確な制御等を行う必要があるので、手間がかかり製造が難しい。特に、端面を傾斜させたりその一部を平行面にしたりする必要があるので、製造の困難性が顕著であった。
従って、できるだけ簡便な方法で近接場光発生素子を製造し、製造効率の向上化が望まれている。
【００１０】
また、特許文献２に記載のプローブの場合においても、サンプルをスキャンした際に、先端部が摩耗し易く、やはり寿命の短命化に繋がる恐れがあった。
更に、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）技術を用いて製造できることが知られているが、工程数が多く製造し難いことが問題であり、やはり製造効率の向上化が望まれている。
【００１１】
本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、摩耗や破損等が生じ難く、伝播光と近接場光との相互変換を安定して行うことができる近接場光素子、これを具備する記録ヘッド及び情報記録再生装置、並びに近接場光素子の製造方法及び記録ヘッドの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、前記課題を解決するために以下の手段を提供する。
（１）本発明に係る近接場光素子は、近接場光と伝播光との相互変換を行う近接場光素子であって、前記伝播光を内部で伝播させる伝播部と、該伝播部に被膜された膜体と、を備え、前記伝播部のうち対象物に対向する先端部には、前記伝播光の光軸方向に垂直な先端面と、前記先端面に連設され、前記相互変換を行う開口面と、が形成され、前記膜体が、前記先端面上に全面に亘って被膜され、前記開口面が、前記先端面と共通の輪郭線を有すると共に前記伝播光の光軸に対して傾斜していることを特徴とする。
【００１３】
本発明に係る近接場光素子によれば、磁気記録媒体や試料等の対象物に対向する伝播部の先端部に、先端面及び開口面が形成されているので、対象物との間に生じる摩擦や衝撃等を開口面よりも優先して先端面で吸収し易い。よって、開口面自体に摩耗や破損等が生じ難い。一方、先端面は膜体によって保護されているので、やはり先端面についても摩耗や破損等が生じ難い。従って、耐久性を向上でき寿命の延命化に繋げることができる。
また、上記したように開口面に摩耗や破損等が生じ難いので、近接場光と伝播光との相互交換（例えば、伝播光を近接場光に変換して開口面から局在化させた状態で発生させたり、対象物側に発生した近接場光を開口面から検出して伝播光に変換したりする等）を安定して行うことができる。
【００１４】
（２）上記本発明に係る近接場光素子において、前記膜体が前記伝播光を遮光する金属膜であっても良い。
【００１５】
この場合には、膜体が伝播部の先端面を単に保護するだけでなく伝播光を遮光するので、伝播光が先端面から漏れ光として外部に漏れ出てしまうことを抑制することができる。従って、損失少なく近接場光と伝播光との相互交換を行える。
【００１６】
（３）上記本発明に係る近接場光素子において、前記膜体が、前記伝播光の入射によって表面プラズモンを励起させると共に、そのエネルギーを前記近接場光に変換する金属膜であっても良い。
【００１７】
この場合には、伝播光を近接場光に変換し、開口面から対象物側に発生させることができる。特に、伝播光の入射によって金属膜である膜体の表面に表面プラズモンが励起される。そして、この表面プラズモンのエネルギーが近接場光に変換され。開口面、特に輪郭線の近傍に強度が強くなった高エネルギーの近接場光として局在化させることができる。
【００１８】
（４）上記本発明に係る近接場光素子において、前記膜体が、前記先端面に加え、前記伝播部のうち前記伝播光が入射される入射部分及び前記開口面を除く残りの部分にも被膜されていても良い。
【００１９】
この場合には、伝播光の漏れを効果的に抑制して伝播効率を高めることができるうえ、伝播光のエネルギーを無駄なく近接場光の発生に費やすことが可能である。
【００２０】
（５）上記本発明に係る近接場光素子において、前記伝播部の少なくとも一部が、前記先端面に平行な断面積が前記先端部に向かうにしたがって漸次小さくなっても良い。
【００２１】
この場合には、例えば、伝播光を先端部に向けて伝播させる場合には、伝播光を集光させながら伝播せることができる。従って、伝播光を変換し、近接場光として開口面から発生させる場合には、近接場光の発生効率を高め易い。
【００２２】
（６）本発明に係る記録ヘッドは、前記対象物が磁気記録媒体とされ、上記本発明に係る近接場光素子と、一定方向に回転する前記磁気記録媒体の表面に、該磁気記録媒体の回転方向下流側に流出端面が向いた状態で対向配置されるスライダと、該スライダの前記流出端面側に配設され、主磁極及び補助磁極を有し、両磁極の間に記録磁界を発生させる記録素子と、を備え、前記近接場光素子が、前記スライダの前記流出端面側に配設され、前記開口面から前記近接場光を発生させる素子であることを特徴とする。
【００２３】
本発明に係る記録ヘッドによれば、伝播光を伝播部の開口面から近接場光として外部に局在化させた状態で発生させることができるので、この局在化した近接場光と記録素子で発生された記録磁界とを協働させて、磁気記録媒体に各種の情報の書き込みを行うことができる。特に、磁気記録媒体に対して最も近接している輪郭線の近傍に近接場光を強く局在化させ易いので、磁気記録媒体の所望する箇所を局所的に且つ安定的に加熱することが可能である。従って、高密度で且つ高い信頼性で記録を行うことができる。
【００２４】
また、伝播部に形成された先端面を利用して、磁気記録媒体の回転に伴って発生する空気流との摩擦や磁気記録媒体との接触による衝撃等を開口面よりも優先して吸収することができる。従って、開口面、特に輪郭線近傍に近接場光を安定に局在化させることができ、安定した加熱性能を確保することができると共に、記録ヘッドの延命化に繋げることができる。
【００２５】
（７）上記本発明に係る記録ヘッドにおいて、前記先端面及び前記開口面が、前記磁気記録媒体の移動方向に沿って配設され、前記先端面が、前記開口面よりも上記移動方向のリーディング側に配設されていても良い。
【００２６】
この場合には、先端面が開口面よりも回転移動する磁気記録媒体のリーディング側（上流側）に配設されているので、特に空気流との接触による摩擦を先端面で効果的に吸収し易く、開口面に影響を与え難い。
【００２７】
（８）本発明に係る情報記録再生装置は、上記本発明に係る記録ヘッドと、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、該磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを支持するサスペンションと、前記伝播部に前記伝播光を入射させる光源と、前記磁気記録媒体の外側に配置されたピボット軸と、該ピボット軸の回りを回転可能に形成されると共に、前記サスペンションを支持するアーム部を有するキャリッジと、を備えていることを特徴とする。
【００２８】
本発明に係る情報記録再生装置によれば、上記記録ヘッドを備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応した高品質な装置にすることができる。
【００２９】
（９）本発明に係る近接場光素子の製造方法は、上記本発明の近接場光素子の製造方法であって、前記伝播部を形成する伝播部形成工程と、前記先端面に前記膜体を被膜させる被膜工程と、前記先端面を含む前記伝播部の一部を切削加工して前記開口面を形成する切削工程を行うことを特徴とする。
【００３０】
本発明に係る製造方法によれば、まず、開口面を作り込むことなく伝播部を形成した後、先端面に膜体を被膜させる工程を行う。その後、先端面を含む伝播部の一部を切削加工（例えば、ダイシング等を利用した切断による切削加工や、研磨による切削加工）して開口面を形成する。これにより、膜体によって被膜された先端面と開口面とが形成された先端部を有する近接場光素子を製造することができる。
特に、伝播部を形成する段階では開口面を形成する必要がないので、特別な手法を用いることなく通常の半導体製造技術等を利用しながら伝播部を形成することが可能である。そして、その後に切断や研磨等の各種の切削加工により開口面を形成するので、例えばエッチングを正確に制御する等の複雑な作業工程を経る必要がない。従って、容易に製造することができ製造効率の向上化及び低コスト化を図り易い。
【００３１】
（１０）本発明に係る記録ヘッドの製造方法は、上記本発明の記録ヘッドの製造方法であって、積層面が前記流出端面とされたスライダ用ウエハに対して、複数の記録素子を具備する記録素子層、及び複数の伝播部を具備する近接場光素子層を積層し、これらが一体となったウエハ体を作製する積層工程と、前記ウエハ体を複数の前記記録ヘッドに個片化する個片化工程と、を備え、前記積層工程が、複数の前記記録素子を所定配列で配設した状態で前記記録素子層を積層する第１積層工程と、前記記録素子に対応するように前記所定配列で複数の前記伝播部を配設した状態で前記近接場光素子層を積層する第２積層工程と、を備え、前記第２積層工程が、前記先端面が積層方向に対して平行となるように、前記伝播部を複数形成する伝播部形成工程と、前記先端面に前記膜体を被膜させる被膜工程と、を備え、前記個片化工程の際、前記先端面を露出させた状態で前記ウエハ体を個片化すると共に、前記先端面を含む前記伝播部の一部を切削加工して前記開口面を形成する切削工程を行うことを特徴とする。
【００３２】
本発明に係る製造方法によれば、まず後にスライダとなるスライダ用ウエハに対して記録素子層及び近接場光素子層を積層してウエハ体を作製した後、このウエハ体をダイシング等により複数に分断して個片化することで、一度に複数の記録ヘッドを製造することができる。
特に、積層工程における第２積層工程を行う際、第１積層工程で所定配列に配設した複数の記録素子に対応させて同じ所定配列で複数の伝播部を配設するが、この段階では伝播部に開口面を形成する必要がない。即ち、先端面が積層方向に対して平行になるように伝播部を横に寝かせた状態で形成した後、先端面に膜体を被膜させる工程を行う。
従って、積層工程時に開口面を考慮する必要がないので、特別な手法を用いることなく通常のフォトリソグラフィ技術等の半導体製造技術を利用しながら積層工程を簡便に行うことができる。
【００３３】
そして、ウエハ体を個片化する段階で開口面を形成する作業を同時に行う。即ち、先端面を露出させるようにウエハ体を個片化すると共に、その先端面を含む伝播部の一部を切削加工（例えば、ダイシング等を利用した切断による切削加工や、研磨による切削加工）して開口面を形成する。その結果、膜体によって被膜された先端面と開口面とが形成された伝播部を具備する記録ヘッドを製造することができる。
【００３４】
上記したように、ウエハ体を個片化する段階で開口面を形成する方法であるので、従来のようにエッチングを正確に制御する等の複雑なフォトリソグラフィ技術等を用いる必要性がない。従って、記録ヘッドを容易に製造することができ、製造効率の向上化及び低コスト化を図り易い。
【発明の効果】
【００３５】
本発明によれば、摩耗や破損等が生じ難く、伝播光と近接場光との相互変換を安定して行うことができると共に、容易に製造が可能であり製造効率の向上化及び低コスト化を図り易い。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明に係る情報記録再生装置の実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１に示すヘッドジンバルアセンブリの斜視図である。
【図３】図２に示すジンバルの平面図である。
【図４】図３に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図５】図４に示す記録ヘッド周辺を拡大した断面図である。
【図６】図５に示す記録ヘッドの流出端面側をさらに拡大した斜視図である。
【図７】図６に示すＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図８】図６に示す近接場光発生素子と主磁極との位置関係を示す模式図である。
【図９】図１に示すターミナル基板の平面図である。
【図１０】図６に示す記録ヘッドを製造する際の流れを示す工程図である。
【図１１】図１０（ｃ）に示す状態におけるスライダ用ウエハの平面図である。
【図１２】図１１に示す伝播部の一部を切断して開口面を形成している状態を示す図である。
【図１３】記録ヘッドの変形例を示す図であって、伝播部の入射部分及び開口面を除く部分にも金属膜が被膜されている状態を示す図である。
【図１４】記録ヘッドの変形例を示す図であって、伝播部に対して主磁極が傾斜し、主磁極の先端面が伝播部の開口面に対して平行に配置されている状態を示す図である。
【図１５】記録ヘッドの変形例を示す図であって、開口面が大きく形成されている伝播部と主磁極との関係を示す図である。
【図１６】伝播部の開口面を形成する際の変形例を示す図である。
【図１７】記録ヘッドの製造方法の変形例を示す図であって、スライダ用ウエハの平面図である。
【図１８】図１７に示す伝播部の一部を切断して開口面を形成している状態を示す図である。
【図１９】記録ヘッドの製造方法の別の変形例を示す図であって、スライダ用ウエハの平面図である。
【図２０】図１９に示す伝播部の一部を切断して開口面を形成している状態を示す図である。
【図２１】伝播部と主磁極との位置関係の変形例を示す図である。
【図２２】伝播部と主磁極との位置関係の別の変形例を示す図である。
【図２３】伝播部の変形例を示す図であって、断面視台形状に形成された伝播部の斜視図である。
【図２４】伝播部の変形例を示す図であって、円柱状に形成された伝播部の斜視図である。
【図２５】伝播部の変形例を示す図であって、全長に亘り、先端平坦面に向かうにしたがって漸次先細り状に形成された伝播部の斜視図である。
【図２６】伝播部の変形例を示す図であって、他端側の部分が、先端平坦面に向かうにしたがって漸次先細り状に形成された伝播部の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、本発明に係る情報記録再生装置の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、本実施形態の情報記録再生装置は、垂直記録層を有するディスク（対象物、磁気記録媒体）に対して、垂直記録方式で書き込みを行う装置として説明する。
【００３８】
（情報記録再生装置）
図１に示すように、本実施形態の情報記録再生装置１は、キャリッジ１１と、キャリッジ１１の基端側から光電気複合配線３３を介して光束（伝播光）Ｌ（図７参照）を供給するレーザ光源２０と、キャリッジ１１の先端側に支持されたヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）１２と、ヘッドジンバルアセンブリ１２をディスク面Ｄ１（ディスクＤの表面）に平行なＸＹ方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ６と、ディスクＤを所定の方向に向けて回転させるスピンドルモータ７と、情報に応じて変調した電流をヘッドジンバルアセンブリ１２の記録ヘッド２に対して供給する制御部５と、これら各構成品を内部に収容するハウジング９と、を備えている。
【００３９】
ハウジング９は、アルミニウム等の金属材料からなる上部開口部を有する箱型形状のものであり、上面視四角形状の底部９ａと、底部９ａの周縁において底部９ａに対して鉛直方向に立設する周壁（不図示）とで構成されている。そして、周壁に囲まれた内側には、上述した各構成品を収容する凹部が形成される。
なお、図１においては、説明を分かりやすくするため、ハウジング９の周囲を取り囲む周壁を省略している。
【００４０】
ハウジング９には、該ハウジング９の上部開口部を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。底部９ａの略中心には、上記スピンドルモータ７が取り付けられており、該スピンドルモータ７に中心孔を嵌め込むことでディスクＤが着脱自在に固定されている。
【００４１】
ディスクＤの外側で、底部９ａの一つの隅角部には、上述したアクチュエータ６が取り付けられている。このアクチュエータ６には、ピボット軸１０を中心に水平面（ＸＹ方向）内で回動可能なキャリッジ１１が取り付けられている。
このキャリッジ１１は、基端部から先端部に向けて（ディスクＤ方向に向けて）延設されたアーム部１４と、基端部を介してアーム部１４を片持ち状に支持する基部１５とが、削り出し加工等により一体形成されたものである。
基部１５は、略直方体形状に形成されたものであり、ピボット軸１０回りに回動可能に支持されている。つまり、基部１５はピボット軸１０を介してアクチュエータ６に連結されており、このピボット軸１０がキャリッジ１１の回転中心となっている。
【００４２】
アーム部１４は、基部１５におけるアクチュエータ６が取り付けられた側面１５ａと反対側の側面（隅角部の反対側の側面）１５ｂにおいて、基部１５の上面の面方向（ＸＹ方向）と平行に延出する平板状のものであり、基部１５の高さ方向（Ｚ方向）に沿って３枚延出している。
具体的には、アーム部１４は、基端部から先端部に向かうにしたがって先細るテーパ形状に形成されており、各アーム部１４間に、ディスクＤが挟み込まれるように配置されている。つまり、アーム部１４とディスクＤとが、交互に配置可能に構成されており、アクチュエータ６の駆動によってアーム部１４がディスク面Ｄ１に平行な方向（ＸＹ方向）に移動可能とされている。
なお、キャリッジ１１及びヘッドジンバルアセンブリ１２は、ディスクＤの回転停止時にアクチュエータ６の駆動によって、ディスクＤ上から退避可能とされている。
【００４３】
ヘッドジンバルアセンブリ１２は、後述する記録ヘッド２にレーザ光源２０からの光束Ｌを導いて近接場光Ｓ（図７参照）を発生させ、該近接場光Ｓを利用してディスクＤに各種情報を記録再生させるものである。
図２から図５に示すように、本実施形態のヘッドジンバルアセンブリ１２は、上記記録ヘッド２をディスクＤから浮上させる機能を有しており、該記録ヘッド２と、金属性材料により薄い板状に形成され、ディスク面Ｄ１に平行なＸＹ方向に移動可能なサスペンション３と、記録ヘッド２をディスク面Ｄ１に平行で且つ互いに直交する２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）回りに回動自在な状態、即ち２軸を中心として捻れることができるようにサスペンション３の下面に固定させるジンバル手段１６と、を備えている。
【００４４】
記録ヘッド２は、ディスクＤとサスペンション３との間に配置された状態で、サスペンション３の下面に後述するジンバル１７を挟んで支持されている。
図５から図７に示すように、この記録ヘッド２は、ディスク面Ｄ１から所定距離だけ浮上した状態でディスクＤに対向配置され、ディスク面Ｄ１に対向する浮上面２ａを有するスライダ６０と、スライダ６０の流出端面（先端面）６０ａ側に配設された、近接場光発生素子（近接場光素子）４０、記録素子４１、再生素子４２と、を備えている。
【００４５】
なお、上記スライダ６０は、該スライダ６０からディスクＤを見たときに、ディスクＤの回転方向下流側（トレイリング側）に流出端面６０ａが位置するように、ディスクＤに対向配置されている。また、この流出端面６０ａに対して向かい合う面は、ディスクＤの回転方向上流側（リーディング側）に位置する流入端面として機能する。よって、ディスクＤの回転時、回転するディスクＤによって発生した空気は、流入端面側から浮上面２ａに沿って流れた後、流出端面６０ａ側から抜けるように流動する。
【００４６】
なお、記録ヘッド２は、スライダ６０の流出端面６０ａ側が最もディスク面Ｄ１に近接した状態でディスクＤ上を浮上する。従って、スライダ６０の流出端面６０ａ側に上記各構成品が配置されていることで、これらを可能な限りディスク面Ｄ１に近づけることができ、ディスクＤの保磁力を効率良く低下させてディスクＤへの書き込みが容易とされている。
【００４７】
ところで、本実施形態においては、スライダ６０の流出端面６０ａに近接場光発生素子４０が固定されており、記録素子４１及び再生素子４２が近接場光発生素子４０の後述するクラッド５１内に組み込まれた状態で配設されている。具体的には、記録素子４１及び再生素子４２は、スライダ６０の流出端面６０ａと近接場光発生素子４０の後述する伝播部５０との間に位置するようにクラッド５１内に組み込まれている。この際、再生素子４２がスライダ６０の流出端面６０ａに固定され、この再生素子４２に隣接して並ぶように記録素子４１が固定されている。
【００４８】
スライダ６０は、石英ガラス等の光透過性材料や、ＡｌＴｉＣ（アルチック）等のセラミック等によって直方体状に形成されている。また、スライダ６０は、浮上面２ａをディスクＤ側に向けた状態で、ジンバル１７（図３参照）を介してサスペンション３（図３参照）の先端にぶら下がるように支持されている。
【００４９】
再生素子４２は、ディスクＤから漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜である。この再生素子４２には、後述する電気配線３１を介して制御部５（図１参照）からバイアス電流が供給されている。これにより制御部５は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができ、この電圧の変化から信号の再生を行うことが可能とされている。
【００５０】
記録素子４１は、スライダ６０の流出端面６０ａ側に位置する補助磁極４５と、磁気回路４６を介して補助磁極４５に接続され、ディスクＤに対して垂直な記録磁界を補助磁極４５との間で発生させる主磁極４７と、磁気回路４６を中心として該磁気回路４６の周囲を渦巻状に巻回されたコイル４８と、を備えている。
【００５１】
両磁極４５、４７及び磁気回路４６は、磁束密度が高い高飽和磁束密度（Ｂｓ）材料（例えば、ＣｏＮｉＦｅ合金、ＣｏＦｅ合金等）により形成されている。また、コイル４８は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、磁気回路４６との間、両磁極４５、４７との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁層４９によってモールドされている。つまり、両磁極４５、４７、磁気回路４６及びコイル４８は、絶縁層４９によって支持された状態となっている。また、コイル４８には情報に応じて変調された電流が制御部５から供給される。
なお、主磁極４７及び補助磁極４５は、ディスクＤに対向する端面がスライダ６０の浮上面と面一となるように設計されている。
【００５２】
近接場光発生素子４０は、図６から図８に示すように、後述する光導波路３２から入射された光束ＬをディスクＤ側に向けて伝播させる伝播部５０と、該伝播部５０を内部に閉じ込めるクラッド５１と、で構成される略板状の素子であって、上記したようにスライダ６０の流出端面６０ａに固定されている。
伝播部５０は、本実施形態ではスライダ６０の流出端面６０ａに沿ってディスク面Ｄ１に直交するＺ方向に延在した四角柱状に形成され、一端側がスライダ６０の上方に向き、他端側（先端部側）がディスクＤに向いた状態で主磁極４７の近傍に隣接している。伝播部５０の他端側における端面は、内部を伝播する光束Ｌの光軸Ｏ（図７参照）に垂直で、且つディスク面Ｄ１に対して平行に対向する先端平坦面（先端面）５０ａとされており、スライダ６０の浮上面２ａに対して面一とされている。伝播部５０は、一端側から内部に入射された光束Ｌをこの先端平坦面５０ａに向けて伝播させている。
【００５３】
また、伝播部５０には、上記先端平坦面５０ａに連設され、伝播されてきた光束Ｌを近接場光Ｓに変換し、該近接場光Ｓを外部に発生させる開口面５０ｂが形成されている。図８に示すように、この開口面５０ｂは伝播部５０の他端側における角部に形成され、先端平坦面５０ａと共通の輪郭線Ｍを有すると共に、先端平坦面５０ａとのなす角度θ１が鈍角となるように先端平坦面５０ａに対して傾斜している。即ち、開口面５０ｂは光束Ｌの光軸Ｏに対して傾斜している。なおこの開口面５０ｂは、先端平坦面５０ａの面積よりも面積が小さいうえ、光束Ｌの波長以下のサイズとされた微小開口であり、図示の例では平面視三角形状とされている。
【００５４】
開口面５０ｂのより具体的な位置としては、先端平坦面５０ａと開口面５０ｂとがディスクＤの移動方向Ｎに沿って並び、先端平坦面５０ａが開口面５０ｂよりも上記移動方向Ｎのリーディング側に位置するように配設されている。
【００５５】
ところで、伝播部５０の上記先端平坦面５０ａには、図６から図８に示すように、全面に亘って例えばアルミニウム膜等の金属膜（膜体）５２が被膜されている。この金属膜５２は、先端平坦面５０ａを保護する保護膜として機能すると共に、伝播部５０内を伝播されてきた光束Ｌを遮光する遮光膜として機能する。
なお、図８は、伝播部５０と主磁極４７との位置関係を模式的に示した図であり、両者のサイズは正確に図示していない。後に示す図１３、図１４、図２０及び図２１についても同様である。
【００５６】
なお、本実施形態の伝播部５０は、クラッド５１の屈折率よりも高い屈折率の材料からなり、クラッド５１との屈折率の違いから光束Ｌを全反射条件で導くコアとされている。このクラッド５１は、コアである伝播部５０に密着して該伝播部５０を内部に閉じ込めている。
【００５７】
また、クラッド５１及びコアとして使用される材料の組み合わせの一例を記載すると、例えば、石英（ＳｉＯ２）でコアを形成し、フッ素をドープした石英でクラッド５１を形成する組み合わせが考えられる。この場合には、光束Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コアの屈折率が１．４７となり、クラッド５１の屈折率が１．４７未満となるので好ましい組み合わせである。また、ゲルマニウムをドープした石英でコアを形成し、石英（ＳｉＯ２）でクラッド５１を形成する組み合わせも考えられる。この場合には、光束Ｌの波長が４００ｎｍのときに、コアの屈折率が１．４７より大きくなり、クラッド５１の屈折率が１．４７となるのでやはり好ましい組み合わせである。
【００５８】
特に、コアとクラッド５１との屈折率差が大きいほど、コア内に光束Ｌを閉じ込める力が大きくなるので、コアに酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５：波長が５５０ｎｍのときに屈折率が２．１６）を用い、クラッド５１に石英等を用いて、両者の屈折率差を大きくすることがより好ましい。また、赤外領域の光束Ｌを利用する場合には、赤外光に対して透明な材料であるシリコン（Ｓｉ：屈折率が約４）でコアを形成することも有効である。
【００５９】
また、図２から図５に示すように、スライダ６０の下面は上述したようにディスク面Ｄ１に対向する浮上面２ａとされ、回転するディスクＤによって生じた空気流の粘性から浮上するための圧力を発生させる面であり、ＡＢＳ（Air Bearing Surface）と呼ばれている。具体的には、スライダ６０をディスク面Ｄ１から離そうとする正圧とスライダ６０をディスク面Ｄ１に引き付けようとする負圧とを調整して、スライダ６０を最適な状態で浮上させるように設計されている。
スライダ６０は、この浮上面２ａによってディスク面Ｄ１から浮上する力を受けていると共に、サスペンション３によってディスクＤ側に押さえ付けられる力を受けている。そしてスライダ６０は、この両者の力のバランスによって、ディスク面Ｄ１から浮上している。
【００６０】
図２及び図３に示すように、サスペンション３は、上面視略四角状に形成されたベースプレート２２と、ベースプレート２２の先端側にヒンジ板２３を介して連結された平面視略三角状のロードビーム２４と、で構成されている。
【００６１】
ベースプレート２２は、ステンレス等の厚みの薄い金属材料によって構成されており、基端側には厚さ方向に貫通する開口２２ａが形成されている。そして、この開口２２ａを介してベースプレート２２がアーム部１４の先端に固定されている。
ベースプレート２２の下面には、ステンレス等の金属材料により構成されたシート状の上記ヒンジ板２３が配置されている。このヒンジ板２３は、ベースプレート２２の下面の全面に亘って形成された平板状の板材であり、その先端部分はベースプレート２２の先端からベースプレート２２の長手方向に沿って延出する延出部２３ａとして形成されている。この延出部２３ａは、ヒンジ板２３の幅方向両端部から２本延出しており、その先端部分にロードビーム２４が連結されている。
【００６２】
ロードビーム２４は、ベースプレート２２と同様にステンレス等の厚みの薄い金属材料によって形成されており、その基端がベースプレート２２の先端との間に間隙を有した状態でヒンジ板２３に連結されている。
これにより、サスペンション３は、ベースプレート２２とロードビーム２４との間を中心に屈曲して、ディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に向けて撓み易くなっている。
【００６３】
また、サスペンション３上には、フレクシャ２５が設けられている。
このフレクシャ２５は、ステンレス等の金属材料により形成されたシート状のものであり、シート状に形成されることで厚さ方向に撓み変形可能に構成されている。また、このフレクシャ２５は、ロードビーム２４の先端側に固定され、外形が上面視略五角形状に形成されたジンバル１７と、ジンバル１７より幅狭に形成され、ジンバル１７の基端からサスペンション３上に沿って延在する支持体１８とで構成されている。
【００６４】
ジンバル１７は、中間付近から先端にかけてディスク面Ｄ１に向けて厚さ方向に僅かながら反るように形成されている。そして、この反りが加わった先端側がロードビーム２４に接触しないように、基端側から略中間付近にかけてロードビーム２４に固定されている。また、この浮いた状態のジンバル１７の先端側には、周囲がコ形状に刳り貫かれた切欠部２６が形成されており、この切欠部２６に囲まれた部分には連結部１７ａによって片持ち状に支持されたパッド部１７ｂが形成されている。
つまり、このパッド部１７ｂは、連結部１７ａによってジンバル１７の先端側から基端側に向けて張出し形成されており、その周囲に切欠部２６を備えている。
【００６５】
これにより、パッド部１７ｂはジンバル１７の厚さ方向に撓み易くなっており、このパッド部１７ｂのみがサスペンション３の下面と平行になるように角度調整されている。そして、このパッド部１７ｂ上に上述した記録ヘッド２が載置固定されている。つまり、記録ヘッド２は、パッド部１７ｂを介してロードビーム２４にぶら下がった状態となっている。
【００６６】
また、図３及び図４に示すように、ロードビーム２４の先端には、パッド部１７ｂ及び記録ヘッド２の略中心に向かって突出する突起部１９が形成されている。この突起部１９の先端は、丸みを帯びた状態となっている。そして突起部１９は、記録ヘッド２がディスクＤから受ける風圧によりロードビーム２４側に浮上したときに、パッド部１７ｂの表面（上面）に点接触するようになっている。
つまり、突起部１９は、ジンバル１７のパッド部１７ｂを介して、記録ヘッド２を支持すると共に、ディスク面Ｄ１に向けて（Ｚ方向に向けて）記録ヘッド２に荷重を付与する。そして、突起部１９とパッド部１７ｂとの接触点（支持点）が、突起部１９による記録ヘッド２の荷重点とされている。
なお、これら突起部１９とパッド部１７ｂを有するジンバル１７とが、ジンバル手段１６を構成している。
【００６７】
図２に示す支持体１８は、ジンバル１７に一体形成されたシート状のものであり、サスペンション３上をアーム部１４に向かって延設されている。つまり、支持体１８は、サスペンション３が変形した際にサスペンション３の変形に追従するように構成されている。また、この支持体１８は、アーム部１４上から側面に回りこんで、キャリッジ１１の基部１５に至るまで引き回されている。
【００６８】
図１及び図９に示すように、キャリッジ１１の基部１５における側面１５ｃには、ターミナル基板３０が配置されている。このターミナル基板３０は、ハウジング９に設けられた制御部５と記録ヘッド２とを電気的に接続する際の中継点となるものであり、その表面には、各種制御回路（不図示）が形成されている。
制御部５とターミナル基板３０とは、可撓性を有するフラットケーブル４により電気的に接続されている一方、ターミナル基板３０と記録ヘッド２とは、電気配線３１により接続されている。この電気配線３１は、各キャリッジ１１に設けられた記録ヘッド２に対応して３組設けられており、フラットケーブル４を介して制御部５から出力された信号が、電気配線３１を介して記録ヘッド２に出力される。
【００６９】
ターミナル基板３０上には、記録ヘッド２の伝播部５０に向けて光束Ｌを供給する上記レーザ光源２０が配置されている。レーザ光源２０は、フラットケーブル４を介して制御部５から出力された信号を受信し、この信号に基づいて光束Ｌを出射するものであり、各アーム部１４に設けられた記録ヘッド２に対応して基部１５の高さ方向（Ｚ方向）に沿って３個配列されている。各レーザ光源２０の出射側には、出射された光束Ｌを記録ヘッド２まで導く光導波路３２が接続されている。
【００７０】
図２及び図３に示すように、光導波路３２と電気配線３１とは、レーザ光源２０と記録ヘッド２との間において、その基端側から先端に至るまで一体的に形成された光電気複合配線３３として構成されている。
この光電気複合配線３３は、ターミナル基板３０の表面からアーム部１４の側面を通って、アーム部１４上に引き回されている。具体的には、光電気複合配線３３は、アーム部１４及びサスペンション３上において、フレクシャ２５の支持体１８上に配置されており、該支持体１８を間に挟んだ状態でサスペンション３の先端まで引き回されている。
【００７１】
そして、光電気複合配線３３は、サスペンション３の先端、即ちジンバル１７の中間位置において電気配線３１と光導波路３２とに分岐している。
具体的には、光導波路３２は、光電気複合配線３３の先端側における分岐地点からジンバル１７の長手方向に沿って延在しており、ジンバル１７の切欠部２６を跨いで記録ヘッド２の流入端側に直接接続されている。光導波路３２は、光電気複合配線３３の分岐地点においてジンバル１７の下面から離間されており、分岐地点から記録ヘッド２の流入端側に向かうにつれ、パッド部１７ｂとジンバル１７との間を架け渡すように僅かながら浮いた状態で延在している。
つまり、ジンバル１７の下面において、光導波路３２は略直線的（曲率半径が略無限大）に延在した状態で、記録ヘッド２の幅方向（Ｘ方向）中央部から記録ヘッド２の流入端側に引き回されている。
【００７２】
一方、上記分岐地点において、電気配線３１はジンバル１７の外周部分に向けて屈曲されており、ジンバル１７の外周部分、つまり切欠部２６の外側から引き回されている。そして、切欠部２６の外側から引き回された電気配線３１は、連結部１７ａ上を通って記録ヘッド２の流出端面６０ａ側に接続されている。即ち、電気配線３１は、スライダ６０の流出端面６０ａ側に設けられた再生素子４２と記録素子４１とのそれぞれに対して、記録ヘッド２の外部から直接接続されている。
【００７３】
なお、光導波路３２の構成材料は、上記した近接場光発生素子４０のコア（伝播部５０）及びクラッド５１と同様の材料を用いることも可能であるが、本実施形態では以下に示すような樹脂材料が好適に用いられている。
例えばＰＭＭＡ（メタクリル酸メチル樹脂）により、厚さが３〜１０μｍでコア３２ａを形成し、フッ素含有重合体により、厚さが数十μｍでクラッド３２ｂを形成する組み合わせが考えられる。また、コア３２ａ及びクラッド３２ｂをともにエポキシ樹脂（例えば、コア屈折率１．５２２〜１．５２３、クラッド屈折率１．５１８〜１．５１９）で構成したり、フッ素化ポリイミドで構成したりすることも可能である。この場合、コア３２ａとクラッド３２ｂとを構成する樹脂材料の配合等を調整して、両者の屈折率差を大きくすることが好ましい。例えば、フッ素化ポリイミドの場合、フッ素含有量を調整したり、放射光等のエネルギー照射によって、屈折率を制御したりすることができる。このように、光導波路３２の構成材料に樹脂材料を用いることで、光電気複合配線３３を半導体プロセスにより製造することが可能である。
【００７４】
ところで、図６及び図７に示すように、光導波路３２の先端面は斜めにカットされたミラー面３５とされており、レーザ光源２０によって導入された光束Ｌを、該光束Ｌの向きが略９０度変わるように反射させている。これにより、ミラー面３５で反射された光束Ｌが、記録ヘッド２の近接場光発生素子４０を構成する伝播部５０内に導入可能とされている。なお、ミラー面３５は、少なくともコア３２ａを含む領域にアルミ等からなる反射板を蒸着法等により形成するような構成としても構わない。
【００７５】
（情報記録再生方法）
次に、このように構成された情報記録再生装置１により、ディスクＤに各種の情報を記録再生する手順について説明する。
【００７６】
まず、スピンドルモータ７を駆動させてディスクＤを所定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ６を作動させて、ピボット軸１０を回転中心としてキャリッジ１１を回動させ、キャリッジ１１を介してヘッドジンバルアセンブリ１２をＸＹ方向にスキャンさせる。これにより、図１に示すように、ディスクＤ上の所望する位置に記録ヘッド２を位置させることができる。
【００７７】
この際、記録ヘッド２は、サスペンション３によって支持されていると共に所定の力でディスクＤ側に押さえ付けられている。また、これと同時に記録ヘッド２は、浮上面２ａを利用して、回転するディスクＤによって生じる風圧の影響を受けて浮上する力を受けている。この両者の力のバランスによって、記録ヘッド２はディスクＤ上から離間した位置に浮上している。
しかも記録ヘッド２は、風圧を受けてサスペンション３側に押されるので、記録ヘッド２を固定するジンバル１７のパッド部１７ｂとサスペンション３に形成された突起部１９とが、点接触した状態となる。そして、この浮上する力は、突起部１９を介してサスペンション３に伝わり、該サスペンション３をディスク面Ｄ１に垂直なＺ方向に向けて撓ませるように作用する。これにより、上記したように記録ヘッド２は浮上する。
【００７８】
ここで、情報の記録を行う場合、制御部５はレーザ光源２０を作動させると共に、情報に応じて変調した電流をコイル４８に供給して記録素子４１を作動させる。
レーザ光源２０が作動すると、光導波路３２に光束Ｌを入射させる。すると、この光束Ｌは、光導波路３２のコア３２ａ内を先端側に向かって進んだ後、図７に示すように、ミラー面３５で反射されて近接場光発生素子４０の伝播部５０内に導入される。伝播部５０内に導入された光束Ｌは、ディスクＤ側に位置する先端平坦面５０ａに向かって例えばクラッド５１との界面との間で反射を繰り返しながら伝播部５０内を確実に伝播する。
【００７９】
ここで、伝播部５０には先端平坦面５０ａに連設して開口面５０ｂが形成されているので、図７及び図８に示すように、先端平坦面５０ａまで伝播してきた光束Ｌを開口面５０ｂから近接場光Ｓとして外部に局在化した状態で発生させることができる。これにより、ディスクＤはこの近接場光Ｓによって局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。
【００８０】
一方、制御部５によってコイル４８に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁気回路４６内に磁界を発生させるので、主磁極４７と補助磁極４５との間にディスクＤに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。
【００８１】
その結果、伝播部５０の開口面５０ｂに局在化した状態で発生された近接場光Ｓと、記録素子４１で発生された記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。
【００８２】
次に、ディスクＤに記録された情報を再生する場合には、再生素子４２がディスクＤから漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、再生素子４２の電圧が変化する。これにより制御部５は、ディスクＤから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部５は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、情報の再生を行うことができる。
上述したように、記録ヘッド２を利用してディスクＤに対して各種の情報を記録再生することができる。
【００８３】
特に、本実施形態の記録ヘッド２によれば、図８に示すように、開口面５０ｂが先端平坦面５０ａと共通の輪郭線Ｍを有し、先端平坦面５０ａとのなす角度θ１が鈍角となるように先端平坦面５０ａに対して傾斜しているので、開口面５０ｂ自体を先端平坦面５０ａよりもディスクＤに近づけてしまうことを防止しつつ、ディスクＤに対して極力近接させることができる。従って、近接場光ＳをディスクＤに効果的に作用させて加熱を効率良く行い易い。
しかも、ディスクＤに対して最も近接している輪郭線Ｍの近傍に近接場光Ｓを強く局在化させ易いので、ディスクＤの所望する箇所を局所的に且つ安定的に加熱することが可能である。これらのことにより、高密度で且つ高い信頼性で記録を行うことができる。
【００８４】
また、伝播部５０に形成された先端平坦面５０ａを利用して、記録ヘッド２の走行中にディスクＤの回転に伴って発生する空気流との摩擦やディスクＤとの接触による衝撃等を開口面５０ｂよりも優先して吸収することができる。よって、開口面５０ｂ自体に摩耗や破損等が生じ難い。一方、先端平坦面５０ａは金属膜５２によって保護されているので、やはり先端平坦面５０ａについても摩耗や破損等が生じ難い。
従って、開口面５０ｂ、特に輪郭線Ｍ近傍に近接場光Ｓを安定に局在化させることができ、安定した加熱性能を確保できる。また、耐久性が向上するので記録ヘッド２の延命化に繋げることができる。
特に、本実施形態では、先端平坦面５０ａが開口面５０ｂよりもディスクＤのリーディング側に配設されているので、空気流との接触による摩耗を先端平坦面５０ａで特に吸収し易く、開口面５０ｂに影響を与え難い。
【００８５】
また、先端平坦面５０ａに被膜されている金属膜５２は、単に先端平坦面５０ａを保護しているだけでなく、伝播部５０内を伝播してくる光束Ｌを遮光する機能も果している。そのため、光束Ｌが先端平坦面５０ａで漏れ光として外部に漏れでてしまうことを抑制でき、光束Ｌを効率良く近接場光Ｓの発生に寄与させることができる。従って、ディスクＤを効率良く加熱することができる。また、先端平坦面５０ａからの漏れ光を抑制できるので、この漏れ光に起因する誤記録等を防止することができる。
これらのことからも、書き込みの信頼性を高めることができる。
【００８６】
そして、本実施形態の情報記録再生装置１は、上述した記録ヘッド２を備えているので、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応した高品質な装置にすることができる。
【００８７】
（記録ヘッドの製造方法）
次に、上述した記録ヘッド２の製造方法の一例について説明する。
本実施形態の製造方法は、積層面が流出端面６０ａとされ、後にスライダ６０となるスライダ用ウエハ７０に対して、複数の記録素子４１を具備する記録素子層７１、及び複数の伝播部５０を具備する近接場光発生素子層（近接場光素子層）７２を積層し、これらが一体となったウエハ体８０（図１０（ｅ）参照）を作製する積層工程と、このウエハ体８０を複数の記録ヘッド２に個片化する個片化工程と、を行って製造を行う方法である。
【００８８】
まず、図１０（ａ）に示すように、スライダ用ウエハ７０の流出端面６０ａ上に半導体技術を利用して、複数の再生素子４２及び記録素子４１がそれぞれ所定配列で配設された再生素子層７３、記録素子層７１を順に積層する第１積層工程を行う。なお、これら再生素子層７３及び記録素子層７１において、再生素子４２及び記録素子４１の図示を省略している。
【００８９】
次いで、上記記録素子層７１上に、複数の記録素子４１に対応するように上記所定配列で複数の伝播部５０を配設した状態で近接場光発生素子層７２を積層する第２積層工程を行う。
具体的には、まず図１０（ｂ）に示すように、記録素子層７１上にクラッド層７４を積層する。次に、図１０（ｃ）に示すように、このクラッド層７４上に先端平坦面５０ａが積層方向に対して平行となるように伝播部５０を上記所定配列で複数形成する伝播部形成工程を行う。
なお、上記所定配列とは、図１１に示すように、スライダ用ウエハ７０のオリフラ（オリエンテーションフラット）に平行なＸ方向、及び該Ｘ方向と積層方向であるＺ方向とに対してそれぞれ直交するＹ方向に沿って行列に並び、且つ、伝播部５０の長手方向がＹ方向に対して角度θ２で傾いた配列とされている。
【００９０】
次に、図１０（ｄ）に示すように、複数の伝播部５０の先端平坦面５０ａに金属膜５２を被膜させる被膜工程を行う。次に、図１０（ｅ）に示すように、複数の伝播部５０を覆うようにクラッド層７４を再度積層する。これにより、先端平坦面５０ａに金属膜５２が被膜された伝播部５０をクラッド層７４内に閉じ込めた近接場光発生素子層７２を、記録素子層７１上に作り込むことができる。
【００９１】
そして、この時点でウエハ体８０が作製され、ウエハ体８０を作製する上記積層工程が終了する。特に、この積層工程を行う段階では、伝播部５０に開口面５０ｂを形成する必要がなく、開口面５０ｂを考慮しながら各工程を行う必要がない。従って、特別な手法を用いることなく通常のフォトリソグラフィ技術等の半導体製造技術を利用しながら簡便に積層工程を行うことができる。
【００９２】
次いで、ウエハ体８０を個片化する上記個片化工程を行う。この際、先端平坦面５０ａを露出させた状態でウエハ体８０を個片化すると共に、先端平坦面５０ａを含む伝播部５０の一部を切削加工して開口面５０ｂを形成する切削工程を行う。
具体的には、図示しないダイシングブレードを利用して、図１１に示す切断線Ｐでウエハ体８０を大きく切り分けて複数のバーＢに一旦分割する。この際、図１２に示すように、ダイシングブレードをＸ方向に沿って配設すると共に、このＸ方向に平行な軸回りに回転させて寝かせた状態にしながら伝播部５０の上側の一部を切断面Ｃでカットする。
この切断による切削加工により、１つのバーＢに設けられた複数の伝播部５０に同時に開口面５０ｂを形成することができる。その後、各バーＢを再度伝播部５０に応じて切断し、研磨加工等によりサイズ調整しながら先端平坦面５０ａを露出させることで、複数の記録ヘッド２を一度に複数製造することができる。
【００９３】
上記した製造方法によれば、ウエハ体８０を個片化する段階で開口面５０ｂを形成する方法であるので、従来のようにエッチングを正確に制御する等の複雑なフォトリソグラフィ技術等を用いる必要性がない。従って、記録ヘッド２を容易に製造することができ、製造効率の向上化及び低コスト化を図り易い。
【００９４】
なお、上記製造方法において、ダイシングブレードを利用して開口面５０ｂを形成する際、クラッド層７４も一部切断され、図６に示すようにクラッド５１にカット面５１ａが形成されてしまうが、記録再生に何ら影響を与えるものではない。
【００９５】
なお、上記製造方法において、ウエハ体８０を、ダイシングブレードを利用して開口面５０ｂを形成することなく個片化し、その後、研磨による切削加工によって開口面５０ｂを形成しても構わない。いずれにしても、ウエハ体８０を個片化する際、ダイシングブレードによる切断や研磨等と同時に開口面５０ｂを形成すれば良い。
【００９６】
また、上記製造方法において、積層工程時、スライダ用ウエハ７０に再生素子層７３、記録素子層７１及び近接場光発生素子層７２を順に積層したが、この積層順番に限定されるものではない。いずれの積層順番であってもウエハ体８０が作製されれば構わない。
例えば、クラッド層７４上に伝播部５０を形成した後、金属膜５２を被膜させ、その後再度クラッド層７４を積層することで最初に近接場光発生素子層７２を作り、その上に記録素子層７１、再生素子層７３及びスライダ用ウエハ７０を順に積層する順番でも構わない。
【００９７】
また、上記実施形態において、先端平坦面５０ａに金属膜５２を被膜させ、該金属膜５２に先端平坦面５０ａの保護機能と光束Ｌの遮光機能とを兼用させたが、少なくとも先端平坦面５０ａの保護を行えれば良い。その場合には、金属膜５２ではなく非導電性の膜体であっても良い。
また、上記保護機能と上記遮光機能とを具備する金属膜５２の場合、図１３に示すように、開口面５０ｂ及び光束Ｌが入射される入射部分５０ｃを除いて、伝播部５０の残りの部分をこの金属膜５２で被膜すると良い。こうすることで、伝播中における光束Ｌの漏れを効果的に抑制して伝播効率を高めることができるので、入射された光束Ｌのエネルギーを無駄なく近接場光Ｓの発生に費やすこと可能である。
特に、この場合には伝播部５０を閉じ込めるクラッド５１を具備しなくても構わない。なお、クラッド５１は、本発明では必須な構成ではなく具備しなくても構わない。
【００９８】
更には、上記保護機能と上記遮光機能とに加え、光束Ｌの入射によって表面プラズモンを励起させると共にそのエネルギーを近接場光Ｓに変換させる近接場光増強膜としての機能を金属膜５２に発揮させても構わない。この場合の金属膜５２としては、例えば金膜等が挙げられる。
この場合、先端平坦面５０ａに光束Ｌが入射すると、金属膜５２の表面に表面プラズモンが励起され、そのエネルギーが近接場光Ｓに変換されて開口面５０ｂ、特に輪郭線Ｍの近傍に強度が強くなった高エネルギーの近接場光Ｓとして局在化される。従って、光束Ｌの入射エネルギーを有効に利用して高密度な記録を効果的に行うことが可能となる。
【００９９】
なお、近接場光増強膜としての機能を具備する金属膜５２を、先端平坦面５０ａ以外の開口面５０ｂに接する伝播部５０の外面に形成しても構わない。こうすることで、金属膜５２が形成された外面と開口面５０ｂとの共通の輪郭線の近傍付近にも近接場光Ｓを局在化させることが可能となる。
【０１００】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【０１０１】
例えば、上記実施形態では、スライダ６０を浮上させた空気浮上タイプの情報記録再生装置１を例に挙げて説明したが、この場合に限られず、ディスク面Ｄ１に対向配置されていればディスクＤとスライダ６０とが接触していても構わない。つまり、本発明の記録ヘッド２は、コンタクトスライダタイプのヘッドであっても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。
【０１０２】
また、上記実施形態では、アーム部１４の片面側のみにヘッドジンバルアセンブリ１２が設けられている構成について説明したが、各ディスクＤ間に差し入れられるアーム部１４の両面に、各ディスクＤに対向するようにそれぞれヘッドジンバルアセンブリ１２を設けるような構成も可能である。
この場合には、アーム部１４の両面側に設けられたヘッドジンバルアセンブリ１２の各記録ヘッド２により、各記録ヘッド２に対向するディスク面Ｄ１の情報の記録再生を行うことができる。つまり、１つのアーム部１４により２枚のディスクＤの情報を記録再生することができるため、情報記録再生装置１の記録容量の増加及び装置の小型化を図ることができる。
【０１０３】
また、上記実施形態では、光束Ｌを導入するレーザ光源２０をキャリッジ１１の基部１５に取り付けられたターミナル基板３０に配設させた構成としたが、この位置に限定されるものではない。例えば、スライダ６０の上面に配設し、記録ヘッド２に一体的に搭載させても構わない。こうすることで、光導波路３２をキャリッジ１１から引き回す必要がないうえ、浮上時におけるスライダ６０の動きが光導波路３２によって阻害され難いので、より好ましい。
【０１０４】
また、上記実施形態では、スライダ６０の流出端面６０ａから順に、再生素子４２、記録素子４１、近接場光発生素子４０を配置した構成としたが、この順番に限定されるものではない。例えば、流出端面６０ａ側から順に、近接場光発生素子４０、記録素子４１、再生素子４２を配置した構成としても構わない。
【０１０５】
また、上記実施形態では、主磁極４７及び補助磁極４５を伝播部５０の長手方向と平行に配設したが、この場合に限られず、伝播部５０の開口面５０ｂの形状やその形成位置等に応じて、伝播部５０の長手方向に対して適宜傾斜させた状態にしても構わない。
例えば、図１４に示すように、主磁極４７の先端面４７ａが伝播部５０の開口面５０ｂに対して平行となるように、伝播部５０の長手方向に対して主磁極４７を傾斜させても構わない。この場合であっても同様の作用効果を奏効することができる。特にこの場合には、主磁極４７の先端面４７ａを画成する輪郭線のうち最もディスクＤ側に位置する部分４７ｂから集中的に記録磁界を発生させることが可能であると考えられるので、記録磁界をより高強度にでき書き込み信頼性が向上するものと考えられる。
【０１０６】
また、上記実施形態において、図１５に示すように、先端平坦面５０ａの略半分の面積をカットした状態（先端平坦面５０ａの形状が平面視略三角形状となった状態）で開口面５０ｂを大きく形成しても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏効することができる。特にこの場合には、先端平坦面５０ａと開口面５０ｂとの共通の輪郭線Ｍを主磁極４７側に近づけることができるので、近接場光Ｓで加熱した領域に記録磁界を効率良く作用させ易くなるものと考えられる。従って、書き込みの信頼性が向上するものと考えられる。
【０１０７】
ここで、図１５に示す伝播部５０具備する記録ヘッド２を製造する場合の変形例を簡単に説明する。
例えば、図１１に示す所定配列で伝播部５０を形成した後、図１６に示すように、ダイシングブレードを先ほどとは逆向きに寝かせた状態にしながら伝播部５０の下側の一部を切断面Ｃでカットすることで開口面５０ｂを形成しても構わない。
このように製造した場合であっても、図１５に示す伝播部５０を具備する記録ヘッド２を製造することができる。
【０１０８】
また、製造方法の別の変形例としては、図１７に示すように、伝播部形成工程の際、オリフラに平行なＸ方向及びＹ方向に沿って行列に並び、且つ伝播部５０の長手方向がＹ方向に対して平行で、さらに稜線Ｒを上方に向けた状態で伝播部５０を形成する。
そして、個片化工程の際に、図１８に示すように、ダイシングブレードをＸ方向に沿って配設させると共に、このＸ方向に平行な軸回りに回転させて寝かせた状態にしながら伝播部５０の上記稜線Ｒを含む上側の一部を切断面Ｃでカットする。
このように製造した場合であっても、図１５に示す伝播部５０を具備する記録ヘッド２を製造することができる。
【０１０９】
また、製造方法のさらに別の変形例としては、図１９に示すように伝播部形成工程の際、Ｙ方向に所定距離だけずらしながらＸ方向に並ばせ、即ち図中のＫ方向に沿って並ばせ、且つ伝播部５０の長手方向がＹ方向に対して平行となるように伝播部５０を形成する。
そして、個片化工程の際に、図２０に示すようにダイシングブレードを上記Ｋ方向に沿って配置させると共に、このＫ方向に平行な軸回りに回転させて寝かせた状態にしながら伝播部５０の上側の一部を切断面Ｃでカットする。
このように製造した場合であっても、図１５に示す伝播部５０を具備する記録ヘッド２を製造することができる。
【０１１０】
また、図１４では、主磁極４７を伝播部５０の長手方向に対して傾斜させた変形例を示したが、図２１に示すように、伝播部５０の長手方向に平行とされた主磁極４７をスライダ６０の流出端面６０ａに平行なＸ方向に沿って伝播部５０に並ぶように並列配置させても構わないし、図２２に示すように、伝播部５０の長手方向に平行とされた主磁極４７を伝播部５０に対して角度を付けた状態で並列配置させても構わない。
なお、これらの場合には、伝播部５０の開口面５０ｂの切削加工に伴って主磁極４７の一部も切削加工され、その先端面４７ａの少なくとも一部が開口面５０ｂに対して平行になるものと考えられるが、十分に書き込みを行うことが可能である。
【０１１１】
また、上記実施形態では伝播部５０を四角柱として説明したが、この形状に限定されるものではなく柱状であれば良い。例えば、図２３に示すように断面視台形状の伝播部５０であっても構わないし、図２４に示すように円柱状の伝播部５０であっても構わないし、その他、例えば断面視多角形状、断面視楕円状や断面視半円状等の柱状に形成された伝播部５０としても良い。
【０１１２】
また、上記実施形態において、ディスクＤに平行な断面積が先端平坦面５０ａに向かうにしたがって漸次小さくなるように伝播部５０を形成しても構わない。
例えば、図２５に示すように、伝播部５０の全体が先端平坦面５０ａに向けて先細りとなるように形成しても構わないし、図２６に示すように伝播部５０の他端側だけが先端平坦面５０ａに向けて先細りとなるように形成しても構わない。
このように構成することで、伝播部５０内に入射した光束Ｌを先端平坦面５０ａに向けて伝播させる際に、光束Ｌを集光させながら伝播させることが可能である。従って、近接場光Ｓの発生効率をより高め易い。
【０１１３】
なお、上記実施形態では、近接場光素子として記録ヘッド２に具備され、伝播光である光束Ｌを近接場光Ｓに変換する近接場光発生素子４０を例に挙げて説明したが、この場合に限定されるものではない。伝播光と近接場光とを相互変換させる素子であれば良く、近接場光を検出し、その近接場光を光に変換する素子であっても構わない。
例えば、ＳＮＯＭ（走査型近接場光顕微鏡）に用いられるプローブに適用しても構わない。なお、この場合には例えば試料サンプル等が対象物となる。
【符号の説明】
【０１１４】
Ｄ…ディスク（対象物、磁気記録媒体）
Ｄ１…ディスク面（磁気記録媒体の表面）
Ｍ…輪郭線
Ｌ…光束（伝播光）
Ｏ…光束の光軸
Ｓ…近接場光
１…情報記録再生装置
２…記録ヘッド
３…サスペンション
１０…ピボット軸
１１…キャリッジ
１４…アーム部
２０…レーザ光源（光源）
４０…近接場光発生素子（近接場光素子）
４１…記録素子
４５…補助磁極
４７…主磁極
５０…伝播部
５０ａ…伝播部の先端平坦面（先端面）
５０ｂ…伝播部の開口面
５０ｃ…伝播部の入射部分
５２…金属膜（膜体）
６０…スライダ
６０ａ…スライダの流出端面
７０…スライダ用ウエハ
７１…記録素子層
７２…近接場光発生素子層（近接場光素子層）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
近接場光と伝播光との相互変換を行う近接場光素子であって、
前記伝播光を内部で伝播させる伝播部と、
該伝播部に被膜された膜体と、を備え、
前記伝播部のうち対象物に対向する先端部には、
前記伝播光の光軸方向に垂直な先端面と、
前記先端面に連設され、前記相互変換を行う開口面と、が形成され、
前記膜体は、前記先端面上に全面に亘って被膜され、
前記開口面は、前記先端面と共通の輪郭線を有すると共に前記伝播光の光軸に対して傾斜していることを特徴とする近接場光素子。
【請求項２】
請求項１に記載の近接場光素子において、
前記膜体は、前記伝播光を遮光する金属膜であることを特徴とする近接場光素子。
【請求項３】
請求項２に記載の近接場光素子において、
前記膜体は、前記伝播光の入射によって表面プラズモンを励起させると共に、そのエネルギーを前記近接場光に変換する金属膜であることを特徴とする近接場光素子。
【請求項４】
請求項３に記載の近接場光素子において、
前記膜体は、前記先端面に加え、前記伝播部のうち前記伝播光が入射される入射部分及び前記開口面を除く残りの部分にも被膜されていることを特徴とする近接場光素子。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の近接場光素子において、
前記伝播部の少なくとも一部は、前記先端面に平行な断面積が前記先端部に向かうにしたがって漸次小さくなることを特徴とする近接場光素子。
【請求項６】
前記対象物が磁気記録媒体とされ、
請求項１から５のいずれか１項に記載の近接場光素子と、
一定方向に回転する前記磁気記録媒体の表面に、該磁気記録媒体の回転方向下流側に流出端面が向いた状態で対向配置されるスライダと、
該スライダの前記流出端面側に配設され、主磁極及び補助磁極を有し、両磁極の間に記録磁界を発生させる記録素子と、を備え、
前記近接場光素子は、前記スライダの前記流出端面側に配設され、前記開口面から前記近接場光を発生させる素子であることを特徴とする記録ヘッド。
【請求項７】
請求項６に記載の記録ヘッドにおいて、
前記先端面及び前記開口面は、前記磁気記録媒体の移動方向に沿って配設され、
前記先端面が、前記開口面よりも上記移動方向のリーディング側に配設されていることを特徴とする記録ヘッド。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の記録ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、該磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを支持するサスペンションと、
前記伝播部に前記伝播光を入射させる光源と、
前記磁気記録媒体の外側に配置されたピボット軸と、
該ピボット軸の回りを回転可能に形成されると共に、前記サスペンションを支持するアーム部を有するキャリッジと、を備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
【請求項９】
請求項１に記載の近接場光素子の製造方法であって、
前記伝播部を形成する伝播部形成工程と、
前記先端面に前記膜体を被膜させる被膜工程と、
前記先端面を含む前記伝播部の一部を切削加工して前記開口面を形成する切削工程を行うことを特徴とする近接場光素子の製造方法。
【請求項１０】
請求項６に記載の記録ヘッドの製造方法であって、
積層面が前記流出端面とされたスライダ用ウエハに対して、複数の記録素子を具備する記録素子層、及び複数の伝播部を具備する近接場光素子層を積層し、これらが一体となったウエハ体を作製する積層工程と、
前記ウエハ体を複数の前記記録ヘッドに個片化する個片化工程と、を備え、
前記積層工程は、
複数の前記記録素子を所定配列で配設した状態で前記記録素子層を積層する第１積層工程と、
前記記録素子に対応するように前記所定配列で複数の前記伝播部を配設した状態で前記近接場光素子層を積層する第２積層工程と、を備え、
前記第２積層工程は、
前記先端面が積層方向に対して平行となるように、前記伝播部を複数形成する伝播部形成工程と、
前記先端面に前記膜体を被膜させる被膜工程と、を備え、
前記個片化工程の際、前記先端面を露出させた状態で前記ウエハ体を個片化すると共に、前記先端面を含む前記伝播部の一部を切削加工して前記開口面を形成する切削工程を行うことを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
【請求項１】
近接場光と伝播光との相互変換を行う近接場光素子であって、
前記伝播光を内部で伝播させる伝播部と、
該伝播部に被膜された膜体と、を備え、
前記伝播部のうち対象物に対向する先端部には、
前記伝播光の光軸方向に垂直な先端面と、
前記先端面に連設され、前記相互変換を行う開口面と、が形成され、
前記膜体は、前記先端面上に全面に亘って被膜され、
前記開口面は、前記先端面と共通の輪郭線を有すると共に前記伝播光の光軸に対して傾斜していることを特徴とする近接場光素子。
【請求項２】
請求項１に記載の近接場光素子において、
前記膜体は、前記伝播光を遮光する金属膜であることを特徴とする近接場光素子。
【請求項３】
請求項２に記載の近接場光素子において、
前記膜体は、前記伝播光の入射によって表面プラズモンを励起させると共に、そのエネルギーを前記近接場光に変換する金属膜であることを特徴とする近接場光素子。
【請求項４】
請求項３に記載の近接場光素子において、
前記膜体は、前記先端面に加え、前記伝播部のうち前記伝播光が入射される入射部分及び前記開口面を除く残りの部分にも被膜されていることを特徴とする近接場光素子。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の近接場光素子において、
前記伝播部の少なくとも一部は、前記先端面に平行な断面積が前記先端部に向かうにしたがって漸次小さくなることを特徴とする近接場光素子。
【請求項６】
前記対象物が磁気記録媒体とされ、
請求項１から５のいずれか１項に記載の近接場光素子と、
一定方向に回転する前記磁気記録媒体の表面に、該磁気記録媒体の回転方向下流側に流出端面が向いた状態で対向配置されるスライダと、
該スライダの前記流出端面側に配設され、主磁極及び補助磁極を有し、両磁極の間に記録磁界を発生させる記録素子と、を備え、
前記近接場光素子は、前記スライダの前記流出端面側に配設され、前記開口面から前記近接場光を発生させる素子であることを特徴とする記録ヘッド。
【請求項７】
請求項６に記載の記録ヘッドにおいて、
前記先端面及び前記開口面は、前記磁気記録媒体の移動方向に沿って配設され、
前記先端面が、前記開口面よりも上記移動方向のリーディング側に配設されていることを特徴とする記録ヘッド。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の記録ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、該磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在な状態で前記記録ヘッドを支持するサスペンションと、
前記伝播部に前記伝播光を入射させる光源と、
前記磁気記録媒体の外側に配置されたピボット軸と、
該ピボット軸の回りを回転可能に形成されると共に、前記サスペンションを支持するアーム部を有するキャリッジと、を備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
【請求項９】
請求項１に記載の近接場光素子の製造方法であって、
前記伝播部を形成する伝播部形成工程と、
前記先端面に前記膜体を被膜させる被膜工程と、
前記先端面を含む前記伝播部の一部を切削加工して前記開口面を形成する切削工程を行うことを特徴とする近接場光素子の製造方法。
【請求項１０】
請求項６に記載の記録ヘッドの製造方法であって、
積層面が前記流出端面とされたスライダ用ウエハに対して、複数の記録素子を具備する記録素子層、及び複数の伝播部を具備する近接場光素子層を積層し、これらが一体となったウエハ体を作製する積層工程と、
前記ウエハ体を複数の前記記録ヘッドに個片化する個片化工程と、を備え、
前記積層工程は、
複数の前記記録素子を所定配列で配設した状態で前記記録素子層を積層する第１積層工程と、
前記記録素子に対応するように前記所定配列で複数の前記伝播部を配設した状態で前記近接場光素子層を積層する第２積層工程と、を備え、
前記第２積層工程は、
前記先端面が積層方向に対して平行となるように、前記伝播部を複数形成する伝播部形成工程と、
前記先端面に前記膜体を被膜させる被膜工程と、を備え、
前記個片化工程の際、前記先端面を露出させた状態で前記ウエハ体を個片化すると共に、前記先端面を含む前記伝播部の一部を切削加工して前記開口面を形成する切削工程を行うことを特徴とする記録ヘッドの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【公開番号】特開２０１２−１９０５１７（Ｐ２０１２−１９０５１７Ａ）
【公開日】平成２４年１０月４日（２０１２．１０．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５４２２１（Ｐ２０１１−５４２２１）
【出願日】平成２３年３月１１日（２０１１．３．１１）
【出願人】（０００００２３２５）セイコーインスツル株式会社 (3,629)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月４日（２０１２．１０．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月１１日（２０１１．３．１１）
【出願人】（０００００２３２５）セイコーインスツル株式会社 (3,629)
【Ｆターム（参考）】
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