電気光学装置、電気光学装置用基板、電気光学装置の製造方法および電子機器
【課題】 観察者の視角が変化する領域である表示領域の全体にわたって明るさが均一である電気光学装置を提供する。
【解決手段】 液晶を支持する基板１６ｂと、複数の画素によって基板１６ｂ上に面状に形成される表示領域Ｖとを有する液晶表示装置である。表示領域Ｖは異なる光散乱特性を有する複数の領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを有する。例えば、視点Ｐから遠い領域Ｖｂ内の反射膜３２の表面は深い凹凸形状で広い散乱特性を有し、視点Ｐから近い領域Ｖｃ内の反射膜３２の表面は浅い凹凸形状で狭い散乱特性を有し、中央の領域Ｖａ内の反射膜３２の表面は中間の凹凸形状で中間の散乱特性を有する。
【解決手段】 液晶を支持する基板１６ｂと、複数の画素によって基板１６ｂ上に面状に形成される表示領域Ｖとを有する液晶表示装置である。表示領域Ｖは異なる光散乱特性を有する複数の領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを有する。例えば、視点Ｐから遠い領域Ｖｂ内の反射膜３２の表面は深い凹凸形状で広い散乱特性を有し、視点Ｐから近い領域Ｖｃ内の反射膜３２の表面は浅い凹凸形状で狭い散乱特性を有し、中央の領域Ｖａ内の反射膜３２の表面は中間の凹凸形状で中間の散乱特性を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等といった電気光学装置に関する。また、本発明は、液晶表示装置等といった電気光学装置に用いられる基板に関する。また、本発明は、上記の電気光学装置を製造するための製造方法に関する。また、本発明は、上記の電気光学装置を用いて構成される電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、携帯電話機、携帯情報端末機等といった各種の電子機器において、電気光学装置が広く用いられている。これらの電気光学装置は、例えば、電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するための表示部として用いられている。この電気光学装置において、電気光学物質として液晶を用いた装置、すなわち液晶表示装置が知られている。また、電気光学物質としてＥＬ（Electro Luminescence）を用いたＥＬ装置も知られている。
【０００３】
例えば、液晶表示装置は電気光学パネルとしての液晶パネルを有する。この液晶パネルは、一般に、それぞれが電極を備えた一対の基板の間に液晶層を介在させた構造を有する。この液晶層は、例えば次のようにして、すなわち、前記一対の基板の間にシール材によって囲まれた隙間を形成し、この隙間の中に液晶を封止することによって形成される。この液晶表示装置では、液晶層に光を供給すると共に該液晶層に印加される電圧を画素ごとに制御することにより、液晶層内の液晶分子の配向を画素ごとに制御する。液晶層へ供給された光は、液晶分子の配向状態に従って変調され、この変調された光を偏光板の液晶側表面に供給することにより、その偏光板の観察側表面に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【０００４】
上記のように液晶層へ光を供給する方法として、反射型および透過型の２種類が知られている。また、反射型と透過型を選択して実行できる、いわゆる半透過反射型も知られている。反射型の光供給方法では、液晶パネルの内部に反射膜を設け、液晶パネル内に取り込んだ外部光、例えば太陽光、室内光をその反射膜によって反射して液晶層に光を供給する。この場合、反射膜の反射面が鏡面であると表示の背景に反射像が映って表示が見難くなるおそれがある。これを回避するため、反射膜の表面に凹凸パターンを形成して反射光を散乱させることが広く一般に行われている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、反射膜の表面に凹凸パターンを形成することに関して、１画素内に異なる形状の凹凸パターンを形成することにより、１画素内で異なる散乱特性を持たせるようにした技術が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−７５９８７号公報（第７頁、図１）
【特許文献２】特許第３０１９０５８号公報（第７頁、図１６）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、観察者が電気光学装置の表示を観察する場合、表示面上の領域によって観察者の視角は異なる。例えば、図２０に示すように、表示面Ｖ０上において観察者の視点Ｅから最も遠い領域での視角をθ１、次に遠い位置での視角をθ２、最も近い位置での視角をθ３とすると、その視角はθ１＜θ２＜θ３のように異なる。そのため、上記特許文献１に開示された従来の液晶表示装置においては、観察者が表示領域を見たとき、その観察者から見て手前側の表示領域と奥側の表示領域とで表示の明るさが異なる場合があった。つまり、観察者の視角に応じて表示の明るさが異なる場合があった。この場合には、液晶パネルの表示領域内において、観察者が見る表示に見難い部分が発生する可能性があった。
【０００８】
また、上記特許文献２に開示された従来の液晶表示装置において、液晶パネルは、１つの画素内に関しては異なる散乱特性を有するが、表示領域全体に関しては均一な散乱特性を有している。それ故、上記特許文献１に開示された液晶表示装置と同じように、観察者の視角に応じて見難い部分が発生する可能性があった。
【０００９】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、観察者の視角が変化する領域である表示領域の全体にわたって明るさが均一である電気光学装置、電気光学装置用基板、電気光学装置の製造方法および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る電気光学装置は、電気光学物質を支持する基板と、複数の画素と、前記複数の画素によって構成される表示領域とを有する電気光学装置であって、前記表示領域は異なる光散乱特性を有する複数の領域を有することを特徴とする。
【００１１】
本明細書において、電気光学物質は、電気的条件の変化に応じて光学的特性が変化する物質のことであり、具体的には、液晶表示装置で用いられる液晶、ＥＬ装置で用いられるＥＬ、プラズマディスプレイ装置で用いられるガス等が考えられる。また、画素は、電気光学装置における表示の一単位であり、例えば、互いに対向する一対の電極が重なり合う場合に、その重なり合った領域を基礎として画素が特定される。この画素が複数並べられて電気光学装置の表示領域が形成される。
【００１２】
上記の電気光学装置によれば、表示領域内に散乱特性が異なる複数の領域を設けたので、表示領域内の位置によって光散乱特性を変えることができる。これにより、表示領域内で観察者の視角が変化する場合でも該表示領域内の表示の明るさを均一にできる。その結果、観察者が表示領域内の表示を見たときに、その表示全体を見易くすることができる。なお、散乱特性が異なるとは、例えば、広い散乱が起こるか、狭い散乱が起こるか等のことである。
【００１３】
本発明に係る電気光学装置において、前記複数の領域は、前記表示領域の中心を含み広い散乱特性を有する中央領域を備え、前記複数の領域の内、前記中央領域の他の領域は、前記中央領域よりも狭い散乱特性を有することが望ましい。
【００１４】
ここで、「広い散乱特性」とは、図６（ａ）に示すように、散乱角φの広い範囲にわたって強度Ｉの散乱光が得られることである。また、「狭い散乱特性」とは、図６（ｂ）に示すように、散乱角φの狭い範囲について強度Ｉの散乱光が得られることである。つまり、散乱特性が広い場合、その領域から出射される光は広い角度範囲にわたって進行する。一方、散乱特性が狭い場合、その領域から出射される光は狭い角度範囲内で進行する。
【００１５】
上記の電気光学装置によれば、中央領域において広い散乱特性を備え、中央領域以外の領域では狭い散乱特性を備えるようにした。こうすれば、中央領域に対しては観察者の視角が大きく、それ以外の領域に対しては観察者の視角が小さい場合に表示領域内の表示の明るさを均一にできる。
【００１６】
また、本発明に係る電気光学装置において、前記各複数の領域において、所定の観察点から表示面までの距離が長い領域は広い散乱特性を有し、前記距離が長い領域よりも前記観察点から表示面までの距離が短い領域は、前記距離が長い領域よりも狭い散乱特性を有することが望ましい。ここで「距離が長い」および「距離が短い」の語は、絶対的な長さを示すものではなく、表示領域上で区分した複数の領域間での距離の違いを相対的に表現するものである。
【００１７】
上記の電気光学装置においては、表示領域に関して、観察点からの距離が長い領域、すなわち視角が広い領域は広い散乱特性を示すように設定し、観察点からの距離が短い領域、すなわち視角が狭い領域は狭い散乱特性を示すように設定した。こうすれば、表示領域内において散乱特性が異なる各領域から出射した光を、それぞれ、観察点に向けて進行させることができる。つまり、表示領域全体からの光を観察点に向けることができる。このため、観察者が観察点から表示領域内の表示を見たとき、その表示の明るさを表示領域の全体にわたって均一にできる。この結果、表示領域全体の表示を観察者にとって見易くできる。
【００１８】
また、本発明に係る電気光学装置において、前記各複数の領域において、前記観察点に対して前記表示領域の中央領域より反対側にある領域では広い散乱特性を有し、前記表示領域の中央領域より観察点側にある領域では、前記反対側の領域よりも狭い散乱特性を有することが望ましい。こうすれば、表示領域の中央領域より反対側から出射される光は広い角度範囲で進行させることができ、表示領域の中央領域より観察点側の領域から出射された光は狭い角度範囲で進行させることができる。このため、前記表示領域の中央領域より下側に観察点がある場合に、観察者にとっての表示の明るさを表示領域の全体にわたって均一にすることができる。
【００１９】
また、本発明に係る電気光学装置において、観察者が表示領域を観察する観察点は、前記表示領域の略中心に対して垂直から角度１５度傾いた線上に位置すること、すなわち、前記表示領域の略中心位置の法線から角度１５度傾いた線上に位置すること、が望ましい。このように、観察者の視線に対して所定角度だけ傾斜する表示領域に対して本発明を適用することが効果的である。
【００２０】
また、本発明に係る電気光学装置は、前記複数の領域毎に対応した、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を有する反射膜を前記基板上にさらに有し、前記複数の領域毎に、前記凹凸の形状、大きさまたは密度を異ならせることによって、異なる散乱特性を有する前記複数の領域を形成することが望ましい。こうすれば、反射光を確実に散乱させることができるので、特に反射型の電気光学装置に有効である。また、反射板の凹凸形状を領域ごとに異なる形状に形成することにより、表示領域内に異なる光散乱特性を有する複数の領域を容易に形成できる。
【００２１】
また、本発明に係る電気光学装置は、透過する光を散乱する散乱板を前記基板上にさらに有し、該散乱板の散乱特性を前記複数の領域に対応する複数の部分毎に異ならせることによって、異なる散乱特性を有する前記複数の領域を形成することが望ましい。こうすれば、反射光のみならず任意の光を散乱させることができるので、反射型以外の電気光学装置、例えば透過型の電気光学装置にも有効である。
【００２２】
また、本発明に係る電気光学装置は、前記中央領域を挟んで対向する、第１領域と第２領域とを備え、前記第１領域は、前記観察点からの距離が長くて前記中央領域を囲む領域であり、前記第２領域は、前記観察点からの距離が前記距離が長い領域よりも短く、前記中央領域を囲む領域であり、前記第１領域、前記中央領域、前記第２領域の順に広い散乱特性となることが望ましい。こうすれば、前記第１領域から出射される光は広い角度範囲で進行させることができ、前記第２領域から出射された光は狭い角度範囲で進行させることができる。また、前記中央領域から出射される光は第１領域から出射される光と第２領域から出射される光との中間の角度範囲で進行させることができる。このため、前記表示領域の中央領域より下側に観察点がある場合に、観察者にとっての表示の明るさを表示領域の全体にわたって均一にすることができる。
【００２３】
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学物質を支持する基板と、複数の画素と、前記複数の画素によって構成される表示領域とを有し、前記表示領域は異なる光散乱特性を有する複数の領域を有する電気光学装置の製造方法であって、前記基板の上に、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を備えた反射膜を形成する工程を備え、前記反射膜を形成する工程では、前記複数の領域毎に、形状、大きさまたは密度が異なる前記凹凸を形成することを特徴とする。この電気光学装置の製造方法によれば、表示領域に対する観察者の視角が変化しても該表示領域内の表示の明るさを均一にできる。その結果、観察者が表示領域内の表示を見たときに、その表示全体を見易くすることができる。
【００２４】
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記基板の上に、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を備えた樹脂層を形成する工程を備え、前記反射層を形成する工程では、前記樹脂層の上に前記反射膜を形成することが望ましい。こうすれば、光散乱特性の異なる複数の領域を反射膜上の所望の位置に容易に形成できる。
【００２５】
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記樹脂層を形成する工程は、感光性樹脂材料の層を前記基板の上に形成する工程と、前記感光性樹脂材料の層を露光マスクを介して露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂材料の層を現像する工程とを有し、前記露光マスクは、前記複数の領域毎に遮光性が異なるマスクパターンを有し、前記露光工程では、異なる高さの凹凸の潜像が１回の露光で行われることが望ましい。
【００２６】
ここでいう潜像とは、感光性樹脂材料が露光されて感光した際にその感光性樹脂材料の中に生じる像のことであって、感光性樹脂材料を現像するまでは目に見えない像のことである。この潜像を有した感光性樹脂材料に現像処理を施すことにより、その感光性樹脂材料に複数の凹凸部が形成され、これらの凹凸部によって凹凸形状が形成される。上記の電気光学装置の製造方法において、異なる高さの凹凸部の潜像を１回の露光で同時に形成するようにすれば、工程を増やすことなく樹脂層を形成できる。
【００２７】
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記樹脂層を形成する工程は、感光性樹脂材料の層を前記基板の上に形成する工程と、前記感光性樹脂材料の層を露光マスクを介して露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂材料の層を現像する工程と
を有し、前記露光工程では、前記複数の領域毎に異なる露光マスクを介して複数回の露光が行われ、前記複数回の露光の各々では、異なる露光量で露光が行われることが望ましい。こうすれば、フォトマスクのマスクパターンを複雑にすることなく、反射膜上に凹凸形状を形成できる。
【００２８】
次に、本発明に係る電気光学装置用基板は、複数の画素が設定された基板と、前記複数の画素によって構成される表示領域を有し、前記表示領域は異なる散乱特性を有する複数の領域を有することを特徴とする。この電気光学装置用基板によれば、表示領域内に散乱特性が異なる複数の領域を設けたので、表示領域内の位置によって光散乱特性を変えることができる。これにより、表示領域内で観察者の視角が変化する場合でも該表示領域の全体の明るさを均一にできる。その結果、表示領域全体の表示を観察者にとって見易くできる。
【００２９】
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置を有することを特徴とする。本発明に係る電気光学装置によれば、散乱特性が異なる複数の領域を表示領域内に設けたので、表示領域内の位置に対応させて光散乱特性を変えることができる。これにより、表示領域内で観察者の視角が変化する場合でも該表示領域の全体の明るさを均一にでき、それ故、表示領域全体の表示を観察者にとって見易くできる。従って、この電気光学装置を用いた電子機器においても、表示領域内で観察者の視角が変化する場合でも該表示領域の全体の明るさを均一にでき、それ故、表示領域全体の表示を観察者にとって見易くできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
（電気光学装置および電気光学装置用基板の第１実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置および電気光学装置用基板を、電気光学装置の一例である液晶表示装置を例に挙げて説明する。なお、本発明がその実施形態に限定されないことはもちろんである。また、これ以降の説明では図面を参照するが、その図面では特徴的な部分を分かり易く説明するために、複数の要素間で寸法比が実際のものと異なっていることに留意すべきである。
【００３１】
図１は、本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶表示装置を示している。この液晶表示装置は、スイッチング素子として２端子型の非線形素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置である。図２は、図１における画素の近傍を拡大して示している。
【００３２】
図１において、電気光学装置としての液晶表示装置１は、電気光学パネルとしての液晶パネル２と、その液晶パネル２に実装された駆動用ＩＣ３と、その液晶パネル２に付設された照明装置４と、その液晶パネル２の辺端に接続された配線基板としてのＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）５とを有する。この液晶表示装置１は、矢印Ａが描かれた側が観察側である。照明装置４は、光源としてのＬＥＤ（Light Emitting Diode）６と、ＬＥＤ６からの光を内部へ導入して面状の光として液晶パネル２へ出射する導光体７とを有する。導光体７は、光入射面７ａを通して光を導入し、光出射面７ｂから光を出射する。照明装置４は、矢印Ａで示す観察方向から見て液晶パネル２の裏側に配置されていて、バックライトとして機能する。
【００３３】
液晶パネル２は、素子基板１１とカラーフィルタ基板１２とを正方形または長方形である枠状のシール材１３によって貼り合わせることによって形成されている。素子基板１１とカラーフィルタ基板１２との間には、図２に示すように、間隙、いわゆるセルギャップＧが形成され、そのセルギャップＧに液晶が封入されて液晶層１４が形成されている。液晶としては、例えばＴＮ（Twisted Nematic）液晶を用いることができる。また、セルギャップＧは球状のスペーサ１５によって一定の間隔に維持されている。素子基板１１はカラーフィルタ基板１２の外側へ張り出す張出し部２９を有し、この張出し部２９上に駆動用ＩＣ３が実装されている。
【００３４】
図１において、素子基板１１は、透光性を有する第１の基板１６ａを有し、その第１透光性基板１６ａの外側の表面には、位相差板１７ａが貼着等によって装着され、さらにその上に偏光板１８ａが貼着等によって装着されている。一方、カラーフィルタ基板１２は、透光性を有する第２の基板１６ｂを有し、その第２透光性基板１６ｂの外側の表面には、位相差板１７ｂが貼着等によって装着され、さらにその上に偏光板１８ｂが貼着等によって装着されている。第１透光性基板１６ａおよび第２透光性基板１６ｂはガラス、プラスチック等によって形成される。
【００３５】
第１透光性基板１６ａの内側表面、すなわち液晶側表面には、図２に示すように、データ線として機能するライン配線２１と、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子２２と、ドット電極２３と、配向膜２４ａとが形成される。配向膜２４ａは、例えばポリイミドによって形成され、その表面にラビング処理が施される。このラビング処理により、素子基板１１の近傍の液晶分子の初期配向が決められる。
【００３６】
ライン配線２１は、図３に示すように、第１層２１ａ、第２層２１ｂ、第３層２１ｃを積層することによって形成されている。また、ＴＦＤ素子２２は、互いに直列に繋げられた第１ＴＦＤ要素２２ａおよび第２ＴＦＤ要素２２ｂを有する。これらのＴＦＤ要素２２ａおよび２２ｂは、それぞれ第１金属２５、絶縁膜２６、第２金属２７を有する。２つのＴＦＤ要素２２ａおよび２２ｂが直列接続されることにより、いわゆるバック・ツー・バック（Back-to-Back）の接続構造が採られている。
【００３７】
ＴＦＤ素子２２の第１金属２５およびライン配線２１の第１層２１ａは、例えばＴａ（タンタル）によって形成されている。また、ＴＦＤ素子２２の絶縁膜２６およびライン配線２１の第２層２１ｂは、例えば陽極酸化処理によって形成された酸化膜である。また、ＴＦＤ素子２２の第２金属２７およびライン配線２１の第３層２１ｃは、例えばＣｒ（クロム）によって形成されている。
【００３８】
第１ＴＦＤ要素２２ａの第２金属２７はライン配線２１の第３層２１ｃと同一の材料によって形成されている。また、ドット電極２３は第２ＴＦＤ要素２２ｂの第２金属２７に導電接続するように第１透光性基板１６ａの上に形成されている。ドット電極２３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった金属酸化物によって形成されている。
【００３９】
図２において、直線状のライン配線２１は素子基板１１に複数本設けられ、それらのライン配線２１は、個々が図の左右方向に延び、複数本が所定間隔で互いに平行に並び、全体としてストライプ状に設けられている。また、複数のＴＦＤ素子２２は個々のライン配線２１に適宜の間隔をおいて接続され、それらのＴＦＤ素子２２にドット電極２３ａが接続されている。
【００４０】
図１において、素子基板１１に対向する位置にカラーフィルタ基板１２が配設される。図２において、カラーフィルタ基板１２を構成する第２透光性基板１６ｂの内側表面、すなわち液晶側表面には、樹脂層３１が形成され、その上に反射膜３２が形成され、その上に遮光部材３５および着色要素３３が形成される。そして、その上にオーバーコート層３４が、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性の樹脂によって形成される。さらにその上に帯状電極３６が形成され、そして、その上に配向膜２４ｂが形成される。配向膜２４ｂは、例えばポリイミドによって形成され、その表面にラビング処理が施される。このラビング処理により、カラーフィルタ基板１２の近傍の液晶分子の初期配向が決められる。
【００４１】
帯状電極３６はカラーフィルタ基板１２上に複数設けられ、それらの個々が図２の紙面垂直方向に延びている。また、複数の帯状電極３６は、図２の左右方向へ一定の間隔で互いに平行に並べられている。これらにより、複数の帯状電極３６は、矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成されている。これらの帯状電極３６は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった金属酸化物によって形成される。また、これらの帯状電極３６は、素子基板１１とカラーフィルタ基板１２とをシール材１３（図１参照）によって貼り合わせたとき、ライン配線２１に対して直角の方向に延びる。
【００４２】
個々の帯状電極３６は、列状に並ぶ複数のドット電極２３に平面的に重なり合う。このように帯状電極３６とドット電極２３とが重なり合う領域が、表示の単位である表示ドット領域Ｄを構成する。そして、これら複数の表示ドット領域Ｄは図１において符号Ｖで示す領域内にドットマトリクス状に並べられる。この領域Ｖが液晶表示装置１の有効表示領域であり、この有効表示領域Ｖ内に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【００４３】
図２において、樹脂層３１の表面に凹部を形成することにより、その樹脂層３１の表面に凹凸形状が形成される。なお、凸部を形成することにより凹凸形状を形成しても良い。そして、樹脂層３１の表面に凹凸部を形成することにより、樹脂層３１の上に積層される反射膜３２の表面にも、樹脂層３１の凹凸部に対応した凹凸形状が形成される。反射膜３２は光反射性の材料、例えばＡｌ（アルミニウム）によって形成され、矢印Ａ方向から入射する光Ｌ０を反射する。反射膜３２の表面に凹凸形状を設けたことにより、この反射膜３２で反射する光は散乱光となる。
【００４４】
図４は、図２の反射膜３２を矢印Ａ方向から平面的に見た図であり、図１に示す表示領域Ｖに対応した領域を示している。また、図５は、図４のＢ−Ｂ線に従った断面を示している。また、図６は、光の散乱特性を表すグラフであり、（ａ）は広い散乱特性、（ｂ）は狭い散乱特性を表している。グラフの横軸φは反射膜３２に入射する光と反射膜３２で反射する光との成す角度、すなわち光の散乱角を示しており、グラフの縦軸Ｉは光の強度を示している。
【００４５】
図１の表示領域Ｖは、一般に、液晶パネル２の法線Ｘ０から適宜の角度φ０傾いた点Ｐから観察者によって観察される。この角度φ０は視角と呼ばれることがある。この視角φ０は必要に応じて種々に設定されるが、本実施形態ではφ０＝１５度とする。この１５度の角度は、携帯電話機等といった携帯用機器においてオペレータすなわち観察者が自然な状態で表示領域を見るときの視角に相当する。
【００４６】
表示領域Ｖは、中央領域としてのＶａ、第１領域としてのＶｂ、第２領域としてのＶｃの３つの領域に分かれている。領域Ｖａは、表示領域Ｖの中央部分の領域である。領域Ｖｂは、領域Ｖａを囲む領域であって観察点Ｐから遠い領域である。そして、領域Ｖｃは、領域Ｖａを囲む領域であって観察点Ｐから近い領域である。図４および図５に示すように、反射膜３２の凹凸形状は、領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃに対応する位置にそれぞれ異なる形状に形成されている。また、凹部の深さも領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃ毎に異なっている。なお、凹部に代えて凸部を形成する場合には、領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃ毎に凸部の高さを異ならせる。これにより、それぞれの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃにおいて、散乱特性を変えることができる。
【００４７】
以下、各領域における反射膜３２の凹凸形状と各領域における散乱特性について図５および図６を用いて説明する。なお、図６のグラフは、図７に示すようにして対象物５７の散乱特性を測定した結果を表している。例えば、光源５６からの光Ｌｉを測定対象物５７に垂直に入射させる。入射光Ｌｉは測定対象物５７において散乱して散乱光Ｌｏを出射する。この散乱光Ｌｏの強度Ｉを光電管５８を用いて計測する。この際、光電管５８が矢印Ｃ方向に走査移動することによって、散乱角φの変化に応じた散乱光Ｌｏの強度Ｉを計測することができる。
【００４８】
まず、図５において観察点Ｐから遠い領域Ｖｂにおいて反射膜３２の凹凸形状は、その平面形状が図４のように粗く形成され、且つその断面形状が図５のように深く形成されている。この領域Ｖｂでの散乱特性は図６（ａ）に示すような広い散乱特性を示す。この広い散乱特性において、散乱角φが０、すなわち正反射のときに強度Ｉが最も強く、散乱角φが０（ゼロ）から離れるにつれて強度Ｉは徐々に弱くなる。しかし、強度Ｉの変化は緩やかであり、散乱角φの広い範囲で強度Ｉの散乱光が得られる。
【００４９】
次に、図５において観察点Ｐに近い領域Ｖｃにおいて反射膜３２の凹凸形状は、その平面形状が図４のように細かく形成され、且つその断面形状が図５のように浅く形成されている。この領域Ｖｃでの散乱特性は図６（ｂ）に示すような狭い散乱特性を示す。この狭い散乱特性において、正反射のときに強度Ｉが最も強く、散乱角φが変化すると強度Ｉは急峻な変化を示す。そして、強度Ｉの散乱光が得られる角度範囲は狭い範囲に限られる。なお、広い散乱特性を示す領域Ｖｂの正反射時の強度を図６（ａ）においてＩ０とし、狭い散乱特性を示す領域Ｖｃの正反射時の強度を図６（ｂ）においてＩ１とすれば、Ｉ０＜Ｉ１となる。
【００５０】
次に、図４の中央領域である領域Ｖａにおいて、反射膜３２の凹凸形状は、領域Ｖｂと領域Ｖｃとの中間の形状および粗さに形成されている。そして、領域Ｖａでの散乱特性も図６（ａ）の特性と図６（ｂ）の特性との中間の特性を有している。すなわち、正反射において強度Ｉが最も強く、散乱角φの変化に対して強度Ｉは図６（ａ）と図６（ｂ）との中間の特性を示す。
【００５１】
さて、図２に戻って、反射膜３２は個々の表示ドット領域Ｄ内に開口Ｋを有する。この開口Ｋが設けられた領域が透過領域Ｔであり、反射膜３２が設けられた領域が反射領域Ｒである。反射領域Ｒでは、矢印Ａで示す観察側から入射する光Ｌｏが反射膜３２で反射して液晶層１４へ供給される。一方、透過領域Ｔでは、照明装置４（図１参照）から出射した光Ｌ１が開口Ｋを通過して液晶層１４へ供給される。
【００５２】
着色要素３３は、例えば、１つ１つが長方形のドット状に形成され、１つの着色要素３３は、Ｂ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の３原色のいずれか１つの光を通す材料によって形成されている。これら各色の着色要素３３は、矢印Ａ方向から見てストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列、その他適宜の配列となるように並べられている。なお、着色要素３３は、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３原色によって形成することもできる。
【００５３】
遮光部材３５は、例えばＣｒ等といった遮光性の材料によって、複数の着色要素３３の間を埋める状態に形成される。この遮光部材３５は、ブラックマスクとして機能して着色要素３３を透過した光によって表示される像のコントラストを向上させる。なお、遮光部材３５は、Ｃｒ等といった特定の材料によって形成されることに限られず、例えば、着色要素３３を構成するＢ，Ｇ，Ｒの各着色要素を重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。
【００５４】
図８は、図１の液晶表示装置１の電気的な等価回路を示している。図８において、複数本の走査線３６’が行方向Ｘに延び、さらに、複数本のデータ線２１’が列方向Ｙに延びている。走査線３６’は図２のカラーフィルタ基板１２上の帯状電極３６によって実現される。また、データ線２１’は素子基板１１上のライン配線２１によって実現される。図８において、表示用ドット領域Ｄは走査線３６’とデータ線２１’との各交差部分に形成される。各表示ドット領域Ｄにおいては、液晶層１４と、ＴＦＤ素子２２とが直列に接続されている。
【００５５】
本実施形態では、液晶層１４が走査線３６’の側に接続され、ＴＦＤ素子２２がデータ線２１’の側に接続されている。各走査線３６’は、走査線駆動回路３ａに接続される。一方、各データ線２１’は、データ線駆動回路３ｂに接続される。走査線駆動回路３ａおよびデータ線駆動回路３ｂは図１の駆動用ＩＣ３によって構成される。駆動用ＩＣ３は、共通のＩＣによって両駆動回路３ａおよび３ｂを賄うものであっても良いし、あるいは、両駆動回路３ａおよび３ｂを個別のＩＣに割り当てても良い。
【００５６】
以上のように構成された液晶表示装置１によれば、図１において、液晶表示装置１が明るい室外や明るい室内に置かれる場合は、太陽光や室内等といった外部光を用いて反射型の表示が行われる。一方、液晶表示装置１が暗い室外や暗い室内に置かれる場合は、照明装置４をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。
【００５７】
反射型表示を行う場合、図２において、観察側Ａの方向から素子基板１１を通して液晶パネル２内へ入射した外部光Ｌｏは、液晶層１４を通過してカラーフィルタ基板１２内へ入った後、反射領域Ｒにおいて反射膜３２で反射して、再び、液晶層１４へ供給される。一方、透過型表示を行う場合、図１の照明装置４のＬＥＤ６が点灯し、ＬＥＤ６からの光が導光体７の光入射面７ａから導光体７へ導入され、さらに、光出射面７ｂから面状の光として出射する。この出射光は、図２の符号Ｌ１で示すように透過領域Ｔにおいて開口Ｋを通って液晶層１４へ供給される。
【００５８】
以上のようにして液晶層１４へ光が供給される間、素子基板１１側のドット電極２３とカラーフィルタ基板１２側の帯状電極３６との間には、走査信号およびデータ信号によって特定される表示用ドット領域Ｄに所定の電圧が印加される。これにより、液晶層１４内の液晶分子の配向が表示用ドット領域Ｄごとに制御され、この結果、液晶層１４に供給された光が表示用ドット領域Ｄごとに変調される。この変調された光が、素子基板１１側の偏光板１８ａ（図１参照）を通過するとき、その偏光板１８ａの偏光特性に従って表示用ドット領域Ｄごとに通過を許容または通過を阻止される。これにより、素子基板１１の表面に文字、数字、図形といった像が表示され、これが、矢印Ａ方向から視認される。
【００５９】
以上に説明した実施形態では、図１において、表示領域Ｖを複数、本実施形態では３つの領域に区分し、図４および図５に示すように、反射膜３２上に形成する凹凸の形状および深さをこれらの領域毎に異ならせてある。このため、各領域の散乱特性が異なっている。これらの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃにおいて、それぞれの領域における散乱特性は、反射膜３２の凹凸形状および粗さを変えることによって変更できる。このように、領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃにおいてそれぞれの散乱特性を変えることにより、表示領域Ｖ内で観察者の視角が変化する場合でもその表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。その結果、観察者が図５の観察点Ｐから見る表示領域Ｖの全体で表示が見易くなる。
【００６０】
本実施形態において、領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃのうち、観察点Ｐからの距離が長い領域Ｖｂは広い散乱特性を有し、観察点Ｐからの距離が短い領域Ｖｃは狭い散乱特性を有するようにした。領域Ｖｂにおいては、図６（ａ）に示すように、散乱角φが大きいときも散乱光はその強度Ｉを保っているので、図５の散乱角φｂを大きくできる。このため、領域Ｖｂで散乱した光Ｌｏは観察点Ｐへ進行できるので、領域Ｖｂにおける表示を明るくできる。また、領域Ｖｃにおいては、図６（ｂ）に示すように、散乱角φが小さいときに散乱光の強度Ｉが強くなるので、図５の散乱角φｃを小さくできる。このため、領域Ｖｃで散乱した光Ｌｏは観察点Ｐへ進行できるので、領域Ｖｃにおける表示を明るくできる。
【００６１】
次に、領域Ｖａは表示領域Ｖの中央部の領域である。この領域Ｖａにおいては、領域Ｖｂと領域Ｖｃとの中間の散乱特性を有するようにしたので、散乱角φａも散乱角φｂと散乱角φｃとの中間の角度にすることができる。このため、領域Ｖａで散乱した光Ｌｏは観察点Ｐへ進行できるので、領域Ｖａにおける表示も明るくできる。以上のことから、観察者が観察点Ｐから表示領域Ｖを見たとき、その表示領域Ｖの全体の明るさを均一にすることができ、その結果、表示領域Ｖの全体の表示を観察者にとって見易くすることができる。
【００６２】
また、図１において、観察点Ｐは表示領域Ｖの略中心の法線から角度１５度傾いた線上に位置するようにした。この場合には、表示領域Ｖの中央部である領域Ｖａにおいて、その散乱角φａ（図５参照）が１５度になるような散乱特性とする。そして、領域Ｖｂを領域Ｖａより広い散乱特性に設定すると共に、領域Ｖｃを領域Ｖａより狭い散乱特性に設定すれば、観察者が観察点Ｐにおいて見る表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。
【００６３】
（電気光学装置および電気光学装置用基板の第２実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置および電気光学装置用基板の他の実施形態を説明する。本実施形態の説明も液晶表示装置を例示して行うものとし、第１実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【００６４】
図９は、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態である液晶表示装置１０１を示している。本実施形態が第１実施形態と異なる点は次の点である。第１に、第１実施形態では、図１に示す３つの領域Ｖａ，Ｖｂ，Ｖｃに異なる散乱特性を設けるにあたり、図４および図５に示すように、第２透光性基板１６ｂ上に設けた反射板３２の凹凸形状を、領域Ｖａ，Ｖｂ，Ｖｃのそれぞれにおいて異なる形状及び深さに形成した。これに対して本実施形態では、図９に示すように、第１透光性基板１６ａを挟んで液晶層の反対側の面に光を散乱させるための光散乱板４１を設けた。これにより、電気光学装置１０１から出射する光を散乱させるようにしている。第２に、第１実施形態では、図２に示すように反射膜３２に凹凸形状を形成していたが、本実施形態では、反射膜３２の表面に凹凸形状を設けることなく、いわゆる鏡面に形成した。
【００６５】
上記のように、図９の散乱板４１において異なる散乱特性を有する３つの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成すれば、第１実施形態と同様に、表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。そしてその結果、観察者が表示領域Ｖを観察点Ｐから見た場合、その表示領域Ｖの全体の表示を見易くできる。
【００６６】
また、本実施形態では、第１透光性基板１６ａを挟んで液晶層の反対側の面に設けた散乱板４１で光を散乱させるので、図２の液晶層１４を通過する光は散乱光でなくても良い。そのため、反射膜３２に凹凸形状を形成しなくても良いので反射膜３２を容易に形成できる。また、図２において、反射光Ｌｏ以外の任意の光を散乱させることができる。例えば、図９の照明装置４からの出射光である透過光Ｌ１を散乱させることができる。これにより、本発明は透過光を用いた液晶表示装置、すなわち透過型液晶表示装置にも適用できる。
【００６７】
（電気光学装置および電気光学装置用基板の第３実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置および電気光学装置用基板のさらに他の実施形態を説明する。本実施形態の説明も液晶表示装置を例示して行うものとし、第１実施形態および第２実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【００６８】
図１０は、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を示しており、特に１つの表示ドット近傍を拡大して示している。第２実施形態では、図９において、散乱板４１を素子基板１１を挟んで液晶層の反対側に設けた。そして、この散乱板４１によって電気光学装置１０１から出射する光を散乱させるようにした。これに対し本実施形態では、図１０に示すように、散乱板４１に代えて第１透光性基板１６ａの液晶層１４側の面に光散乱膜５１を設けている。この散乱膜５１は、図９の散乱板４１と同じ機能を有した膜であり、例えばフォトリソグラフィ処理等によって形成できる。
【００６９】
この散乱膜５１において、図１に示すように、異なる散乱特性を有する３つの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成すれば、第１実施形態および第２実施形態と同様に、表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。そしてその結果、観察者が観察点Ｐから表示領域Ｖを見た場合、その表示領域Ｖの全体の表示を見易くできる。また、散乱膜５１を設けた本実施形態においても、図１０において反射光Ｌｏ以外の任意の光を散乱させることができる。例えば、図９の照明装置４からの出射光である透過光Ｌ１を散乱させることができる。これにより、本発明は透過光を用いた液晶表示装置、すなわち透過型液晶表示装置にも適用できる。
【００７０】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【００７１】
例えば、以上に説明したそれぞれの実施形態において、図４に示すように、表示領域Ｖを中央部分の領域Ｖａ、表示領域Ｖの中央から上側であって領域Ｖａ以外の領域Ｖｂ、および表示領域Ｖの中央から下側であって領域Ｖａ以外の領域Ｖｃの３つの領域に区分し、それぞれの領域を異なる散乱特性を有するように形成した。しかしながら、表示領域Ｖは他の形態に区分することもできる。例えば、図１１（ａ）に示すように、表示領域Ｖを視点Ｐから遠い領域Ｖｄ及び近い領域Ｖｅの２つの領域に区分し、それぞれの領域を異なる散乱特性に形成することもできる。また、図１１（ｂ）に示すように、表示領域Ｖを視点Ｐから遠い領域から近い領域に従って３つの領域Ｖｆ，Ｖｇ，Ｖｈに区分し、それぞれの領域を異なる散乱特性に形成することもできる。これらどちらの場合においても、上記第１実施形態と同様に表示領域Ｖの全体の明るさを均一に表示できる。
【００７２】
また、上記それぞれの実施形態では、ＴＦＤ素子を用いた液晶表示装置に本発明を適用したが、本発明は、ＴＦＤ素子以外の２端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。
【００７３】
また、本発明は、液晶表示装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、無機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ：Plasma Display）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：Electrophoretic Display）、フィールドエミッションディスプレイ装置（ＦＥＤ：Field Emission Display：電界放出表示装置）にも適用できる。
【００７４】
（電気光学装置の製造方法の第１実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法の実施形態を図１に示した液晶表示装置１を製造する場合を例に挙げて説明する。図１２は、液晶表示装置の製造方法の一例を工程図として示している。図１２において、工程Ｐ１から工程Ｐ６が図１の素子基板１１を形成するための工程である。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８が図１のカラーフィルタ基板１２を形成するための工程である。また、工程Ｐ２１から工程Ｐ２８がそれらの基板を組み合わせて液晶表示装置を完成させるための工程である。
【００７５】
なお、本実施形態の製造方法では、図１に示す素子基板１１およびカラーフィルタ基板１２を１つずつ形成するのではなく、素子基板１１に関しては、複数の素子基板１１を形成できる大きさの面積を有する素子側マザー透光性基板の上に素子基板１１の複数個分の要素を同時に形成するものとする。また、カラーフィルタ基板１２に関しては、複数のカラーフィルタ基板１２を形成できる大きさの面積を有するカラーフィルタ側マザー透光性基板の上にカラーフィルタ基板１２の複数個分の要素を同時に形成するものとする。素子側マザー透光性基板およびカラーフィルタ側マザー透光性基板は、例えば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成される。
【００７６】
まず、図１２の工程Ｐ１において、素子側マザー透光性基板の表面にスイッチング素子である図３のＴＦＤ素子２２およびライン配線２１を同時に形成する。なお、配線２１の第１層２１ａは、ＴＦＤ素子２２の第１金属２５と同時に、例えばＴａによって形成する。また、配線２１の第２層２１ｂは、陽極酸化処理によってＴＦＤ素子２２の絶縁膜２６と同時に形成する。また、配線２１の第３層２１ｃは、ＴＦＤ素子２２の第２金属２７と同時に、例えばＣｒによって形成する。
【００７７】
次に、工程Ｐ２において、図３のドット電極２３をＩＴＯを材料としてフォトエッチング処理、すなわち、フォトリソグラフィ処理とエッチング処理との組み合せから成る処理によって形成する。次に、工程Ｐ３において図２の配向膜２４ａを、例えばポリイミドを印刷することによって形成される。次に、工程Ｐ４において、配向膜２４ａにラビング処理が施され、さらに工程Ｐ５において、図１のシール材１３が、例えばエポキシ系樹脂を印刷することによって形成される。そして、工程Ｐ６において、素子基板１１の表面に図２のスペーサ１５を分散する。以上により、素子側マザー透光性基板の上に素子基板１１の複数個分の要素が形成されて大面積の素子側マザー基板が形成される。
【００７８】
次に図１２の工程Ｐ１１において、カラーフィルタ側マザー透光性基板の表面上に図２の樹脂層３１を、例えばポジ型の感光性樹脂材料を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。ポジ型感光性樹脂材料は光を照射した部分が溶け易くなる材料である。本実施形態では、工程Ｐ１１のフォトリソグラフィ処理において、図１３に示すようなフォトマスク４２を使用する。このフォトマスク４２は３つの領域Ｖａ’、Ｖｂ’、Ｖｃ’を有している。そして、これらの領域Ｖａ’、Ｖｂ’、Ｖｃ’には、それぞれ異なるマスクパターン４３ａ、４３ｂ、４３ｃが形成されている。具体的には、領域Ｖｂ’には粗いパターン４３ｂを形成し、領域Ｖｃ’には細かいパターン４３ｃを形成し、そして、領域Ｖａ’には４３ｂと４３ｃとの中間の粗さのパターン４３ａを形成する。
【００７９】
上記のフォトマスク４２の領域Ｖａ’、Ｖｂ’、Ｖｃ’は、それぞれ図１の表示領域Ｖ内の領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃに対応している。従って、フォトマスク４２を用いてフォトリソグラフィ処理を行えば、樹脂層３１の表面における表示領域Ｖ内の領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃの対応した位置に、形状が異なる複数の凹凸パターンが形成される。具体的には、図５に示すように、領域Ｖｂには大きく、すなわち平面的に粗く、且つ深い凹凸形状が形成され、領域Ｖｃには小さく、すなわち平面的に細かく、且つ浅い凹凸形状が形成され、領域Ｖａには領域Ｖｂと領域Ｖｃとの中間の形状および中間の粗さに凹凸形状が形成される。
【００８０】
次に、図１２の工程Ｐ１２において、工程Ｐ１１において形成した樹脂層３１の上に図２の反射膜３２を、例えばＡｌやＡｌ合金等を材料としてフォトエッチング処理によって形成する。このとき、表示用ドット領域Ｄごとに開口Ｋを形成することにより、光反射部Ｒと透光部Ｔを形成する。樹脂層３１の表面には形状が異なる複数の凹凸形状が形成されているので、その上に積層された反射膜３２の表面にも形状が異なる複数の凹凸形状が形成される。それにより、反射層３２において反射する光は散乱光となる。さらに、その散乱光は凹凸のパターンによって散乱特性が異なる。
【００８１】
次に、工程Ｐ１３において、図２の遮光部材３５を、例えばＣｒを材料としてフォトエッチング処理によって所定のパターン（例えば、複数の表示用ドット領域Ｄの周りを埋めるような格子状パターン）に形成する。次に、工程Ｐ１４において、図２の着色要素３３を形成する。着色要素３３については、Ｂ，Ｇ，Ｒの各色ごとに順々に形成する。例えば、各色の顔料や染料を感光性樹脂に分散させて成る着色材料をフォトリソグラフィ処理によって所定の配列に形成する。次に、工程Ｐ１５において、図２のオーバーコート層３４を、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。
【００８２】
次に、図１２の工程Ｐ１６において、図２の帯状電極３６をＩＴＯを材料としてフォトエッチング処理によって形成し、さらに工程Ｐ１７において図２の配向膜２４ｂを形成し、さらに工程Ｐ１８において、配向処理としてのラビング処理を行う。以上により、カラーフィルタ側マザー透光性基板の上にカラーフィルタ基板１２の複数個分の要素が形成されて大面積のカラーフィルタ側マザー基板が形成される。
【００８３】
その後、図１２の工程Ｐ２１において、素子側マザー基板とカラーフィルタ側マザー基板とを貼り合わせる。これにより、素子側マザー基板とカラーフィルタ側マザー基板とが個々の液晶表示装置の領域において図１のシール材１３を挟んで貼り合わされた構造の大面積のパネル構造体が形成される。
【００８４】
次に、以上のようにして形成された大面積のパネル構造体に含まれるシール材１３を、工程Ｐ２２において熱硬化または紫外線硬化によって硬化させて両マザー基板を接着して大面積のパネル構造体を形成する。次に、工程Ｐ２３において、そのパネル構造体を１次切断、すなわち１次ブレイクして、図１の液晶パネル２の複数が１列に並んだ状態で含まれる中面積のパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造体を複数形成する。シール材１３には予め適所に開口が形成されており、上記の１次ブレイクによって短冊状のパネル構造体が形成されると、そのシール材１３の開口が外部に露出する。
【００８５】
次に、図１２の工程Ｐ２４において、上記のシール材１３の開口を通して各液晶パネル部分の内部へ液晶を注入し、その注入の完了後、その開口を樹脂によって封止する。次に工程Ｐ２５において、２回目の切断、すなわち２次ブレイクを行い、短冊状のパネル構造体から図１２に示す個々の液晶パネル２を切り出す。
【００８６】
次に、図１２の工程Ｐ２６において、図１の駆動用ＩＣ３を実装する。次に、工程Ｐ２７において、図１の液晶パネル２に偏光板１８ａ，１８ｂを貼着によって装着する。さらに工程Ｐ２８において、図１の照明装置４を液晶パネル２に取付ける。これにより、液晶表示装置１が完成する。
【００８７】
以上のように、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法においては、図１２の工程Ｐ１１において、図２の樹脂層３１を図５に示すように３つの異なる領域Ｖａ，Ｖｂ，Ｖｃ内で複数の異なる凹凸形状に形成した。そして、図１２の工程Ｐ１２において、樹脂層３１の上に反射膜３２を形成した。これにより、反射膜３２は、図５に示すように、異なる散乱特性を有した領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃをそれぞれ形成できる。これにより、図１の表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできる。その結果、観察者が観察点Ｐから見る表示領域の全体で表示が見易くなる。
【００８８】
また、本実施形態では、工程Ｐ１１において、図１３のフォトマスク４２を用いて形成した。フォトマスク４２には、領域Ｖａ’、Ｖｂ’、Ｖｃ’にそれぞれ異なるマスクパターン４３ａ、４３ｂ、４３ｃが形成されている。このフォトマスク４２を用いてフォトリソグラフィ処理を行えば、１回の露光工程によって、樹脂層３１に複数の異なる凹凸形状を容易に形成できる。
【００８９】
（電気光学装置の製造方法の第２実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法の他の実施形態を説明する。本実施形態の説明も図１に示した液晶表示装置１を製造する場合を例に挙げて説明するものとし、第１実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【００９０】
本実施形態において、図１２に示す工程Ｐ１から工程Ｐ６に至る素子基板１１の形成工程は、第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明は省略する。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８に至るカラーフィルタ基板の形成工程において、工程Ｐ１２から工程Ｐ１８に至る工程も第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明も省略する。また、工程Ｐ２１から工程Ｐ２８に至る工程も第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明も省略する。
【００９１】
本実施形態が図１２に示した第１実施形態と異なる点は、図２の樹脂層３１を形成するための工程Ｐ１１にある。具体的に説明すれば、第１実施形態では、工程Ｐ１１において、図２の樹脂層３１の凹凸形状を図１３のフォトマスク４２を用いて形成した。この場合には、フォトマスク４２において領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃごとに異なるマスクのパターンを形成した。これにより、フォトマスク４２を用いて露光工程を１回行うことによって、図２の樹脂層３１の表面に領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃ毎に複数の異なる凹凸形状を形成した。
【００９２】
本実施形態では、図１２の工程Ｐ１１において、樹脂層３１の表面に領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃ毎に複数の異なる凹凸形状を形成するにあたり、各領域に形成する凹凸形状に対応したマスクパターンを有するフォトマスクをそれぞれ用いる。そして、複数回の露光、例えば形成する領域の数に対応した複数回の露光を行い、樹脂層３１に凹凸形状を形成する。
【００９３】
図１４は、図１２における樹脂層形成工程Ｐ１１の一実地形態を示している。図１２の樹脂層形成工程Ｐ１１は、図１４に示すように大きく分けて、樹脂層積層工程Ｑ１、マスクパターン露光工程Ｑ２、凹凸形状形成工程Ｑ３の各工程を有している。樹脂層積層工程Ｑ１は、図２の第２透光性基板１６ｂの表面上に樹脂層３１を一様な膜形状に積層するための工程である。また、マスクパターン露光工程Ｑ２は、工程Ｑ１で積層した樹脂層３１をフォトマスクのパターンに露光する工程である。また、凹凸形状形成工程Ｑ３は露光した樹脂層３１を現像して樹脂層３１に凹凸形状を形成する工程である。
【００９４】
図１５は図１４の露光工程Ｑ２において用いるフォトマスクを示している。図１５（ａ）のフォトマスク５２ａは、図４の中央部領域Ｖａに対応する領域Ｖａ’に複数の開口からなるマスクパターン５３ａを有している。このマスクパターン５３ａにより、図４の樹脂層３１の領域Ｖａのマスクパターンの光透過部に対応する領域が感光して、例えばポジ型感光性樹脂材料を用いた場合は、凹形状が形成される。
【００９５】
図１５（ｂ）のフォトマスク５２ｂは、図４の広い散乱特性の領域Ｖｂに対応する領域Ｖｂ’に複数の開口からなるマスクパターン５３ｂを有している。このマスクパターン５３ｂにより、図４の樹脂層３１の領域Ｖｂのマスクパターンの光透過部に対応する領域が感光して、例えばポジ型感光性樹脂材料を用いた場合は、凹形状が形成される。
【００９６】
また、図１５（ｃ）のフォトマスク５２ｃは、図４の狭い散乱特性の領域Ｖｃに対応する領域Ｖｃ’に複数の開口からなるマスクパターン５３ｃを有している。このマスクパターン５３ｃにより、図４の樹脂層３１の領域Ｖｃのマスクパターンの光透過部に対応する領域が感光して、例えばポジ型感光性樹脂材料を用いた場合は、凹形状が形成される。これらのフォトマスク５２ａ、５２ｂ、５２ｃが有するマスクパターン５３ａ、５３ｂ、５３ｃは、それぞれ平面的に見て同じ粗さのパターンである。
【００９７】
以下に、樹脂層の形成工程を具体的に説明する。まず、図１４の工程Ｐ３１において、カラーフィルタ側マザー透光性基板の表面上に図２の樹脂層３１を一様な厚さに形成する。樹脂層３１は、例えばポジ型感光性樹脂材料をスパッタ処理によって一様な厚さに成膜する。
【００９８】
次に、工程Ｐ３２において、図４の領域Ｖａに対応する樹脂層３１を図１５（ａ）に示すフォトマスク５２ａを用いて露光する。次に、図１４の工程Ｐ３３において、図４の領域Ｖｂに対応する樹脂層３１を図１５（ｂ）に示すフォトマスク５２ｂのパターン５３ｂの形状に露光する。この場合には、工程Ｐ３２における第１の露光に比べて露光量を多くして露光を行う。なお、露光量の多少は、露光時間一定で露光の光量を変化させるか、あるいは、露光量一定で露光時間を変化させることによって調節できる。フォトマスク５２ｂのパターン５３ｂは、フォトマスク５２ａのパターン５３ａと同じ形状である。しかし、工程Ｐ３３における露光量を多くすることにより、工程Ｐ３２に比べて樹脂層３１における露光の深さを深くできる。
【００９９】
次に、工程Ｐ３４において、図４の領域Ｖｃに対応する樹脂層３１を図１５（ｃ）に示すフォトマスク５２ｃのパターン５３ｃの形状に露光する。この場合には、工程Ｐ３２の第１露光工程に比べて露光量を少なくして露光を行う。フォトマスク５２ｃのパターン５３ｃは、フォトマスク５２ａのパターン５３ａと同じ形状である。しかし、工程Ｐ３４における露光量を少なくすることにより、工程Ｐ３２に比べて樹脂層３１における露光の深さを浅くできる。
【０１００】
次に、図１４の工程Ｐ３５において、露光した後の樹脂層３１に現像剤を付与してその樹脂層３１を現像する。図４および図５の樹脂層３１は、工程Ｐ３２から工程Ｐ３４のそれぞれにおいて露光量を変えて、重ねて露光される。これにより、樹脂層３１における領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃのそれぞれにおいて深さが異なる露光が行われて、異なった深さの潜像が形成される。そして、この樹脂層３１を現像することによって、樹脂層３１に異なる複数の凹凸形状が形成できる。
【０１０１】
本実施形態では、図１５に示すように、領域毎に異なる３種類のフォトマスク５２ａ、５２ｂ、５２ｃを用いることにより、図５に示すように、樹脂層３１に複数の異なる大きさおよび異なる深さの凹凸形状を形成した。これにより、樹脂層３１上に形成される反射膜３２にも複数の異なる大きさおよび異なる深さの凹凸形状を形成できる。その結果、異なる散乱特性を有した領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃをそれぞれ形成できる。これにより、図１の表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできるので、観察者が観察点Ｐから見る表示領域の全体で表示が見易くなる。
【０１０２】
なお、上記の説明では、樹脂層３１としてポジ型の感光性樹脂材料を用いてその樹脂層３１の表面に凹形状を形成する場合を例示したが、これに代えて、ポジ型の感光性樹脂材料を用いて凸形状を形成しても良く、ネガ型の感光性樹脂材料を用いて凹形状を形成しても良く、あるいは、ネガ型の感光性樹脂材料を用いて凸形状を形成しても良い。
【０１０３】
（電気光学装置の製造方法の第３実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法のさらに他の実施形態を説明する。本実施形態は図９に示した液晶表示装置１０１を製造する場合を例に挙げて説明するが、第１実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【０１０４】
図１６は、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の一例を工程図として示している。図１６において、工程Ｐ１から工程Ｐ６が図９の素子基板１１を形成するための工程である。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８が図９のカラーフィルタ基板１２を形成するための工程である。また、工程Ｐ４１から工程Ｐ４９がそれらの基板を組み合わせて液晶表示装置を完成させるための工程である。
【０１０５】
本実施形態において、工程Ｐ１から工程Ｐ６に至る素子基板１１の形成工程は、第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明は省略する。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８に至る工程も第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明も省略する。また、工程Ｐ４１から工程Ｐ４６に至る工程も第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明も省略する。
【０１０６】
図２に示した第１実施形態および第２実施形態においては、カラーフィルタ基板１２を製造する工程Ｐ１１〜Ｐ１８において、図２の樹脂層３１に異なる複数の凹凸形状を形成することによって、図１の表示領域に異なる３つの散乱特性を有する領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成した。これに対し、本実施形態では、素子基板１１とカラーフィルタ基板１２とを貼り合わせた後に、素子基板１１の外側表面に図９の光散乱板４１を貼り付けるようにした。この場合には、工程Ｐ１１においてカラーフィルタ基板１２の樹脂層３１には凹凸形状を形成しても形成しなくても良い。
【０１０７】
具体的には、工程Ｐ１から工程Ｐ６において素子基板１１を製造し、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８においてカラーフィルタ基板１２を製造する。その後、第１実施形態における工程Ｐ２１から工程Ｐ２６に至る工程と同じ方法により、工程Ｐ４１から工程Ｐ４６において、図９の駆動用ＩＣ３を素子基板１１に実装するまでを行う。次に、図１６の工程Ｐ４７において図９の第１透光性基板１６ａを挟んで液晶層の反対側の面に光散乱板４１を貼り付ける。
【０１０８】
次に、図１６の工程Ｐ４８において、図９の液晶パネル２に偏光板１８ａ、１８ｂを貼着によって装着する。さらに、工程Ｐ４９において、図９の照明装置４を液晶パネル２に取付ける。これにより、液晶表示装置１０１が完成する。
【０１０９】
以上のように、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法においては、図１６の工程Ｐ４７において、図９の散乱板４１を装着した。図９の散乱板４１において異なる散乱特性を有する３つの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成すれば、第１実施形態および第２実施形態と同様に、表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできる。その結果、観察者が観察点Ｐから見る表示領域の全体で表示が見易くなる。
【０１１０】
（電気光学装置の製造方法の第４実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法のさらに他の実施形態を説明する。本実施形態において他の実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【０１１１】
図１７は、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の一例を工程図として示している。図１７において、工程Ｐ５１から工程Ｐ５７が図１の素子基板１１を形成するための工程である。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８が図１のカラーフィルタ基板１２を形成するための工程である。また、工程Ｐ２１から工程Ｐ２８がそれらの基板を組み合わせて液晶表示装置を完成させるための工程である。
【０１１２】
図１６の第３実施形態おいては、素子基板１１とカラーフィルタ基板１２とを貼り合わせた後に、素子基板１１の外側表面に図９の光散乱板４１を貼り付けるようにした（工程Ｐ４７）。これに対し本実施形態においては、図１７の工程Ｐ５１において、図１０の光散乱膜５１を形成するようにした。
【０１１３】
具体的には、まず、工程Ｐ５１において、図１０の第１透光性基板１６ａの液晶層１４側の面に光散乱膜５１を、例えばフォトリソグラフィ処理によって形成する。次に、図１７の工程Ｐ５２から工程Ｐ５７において、第１実施形態と同様に素子基板１１を製造する。次に、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８においてカラーフィルタ基板１２を製造し、その後、第１実施形態の工程Ｐ２１から工程Ｐ２８に至る工程と同じ方法により液晶表示装置を完成する。
【０１１４】
以上のように、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法においては、図１７の工程Ｐ５１において、図１０の散乱板膜５１を形成した。この散乱膜５１において、図１に示すように、異なる散乱特性を有する３つの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成すれば、他の実施形態と同様に、表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできる。その結果、観察者が観察点Ｐから見る表示領域の全体で表示が見易くなる。
【０１１５】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、本発明の技術思想の範囲内で種々に改変できる。また、本発明の技術思想の範囲内で上記各実施形態及び変形例を適宜組み合わせて実施できる。
【０１１６】
例えば、以上に説明した第１実施形態および第２実施形態において、図２の樹脂層３１を形成する材料には、ポジ型の感光性樹脂材料を用いた。これに対し、樹脂層３１には、ネガ型の感光性樹脂材料を用いても良い。ネガ型感光性樹脂材料は光を照射した部分が現像により溶け難くなる材料である。この場合には、図４および図１５のように、パターン部分を開口によって形成したフォトマスクを用いて露光すれば、樹脂層３１には凸形状が形成される。他方、図４および図１５において開口である部分が覆われ、覆われていた部分が開口となるようなパターンのフォトマスクを用いて露光すれば、樹脂層３１には凹形状が形成される。上記どちらの場合においても、複数の異なる凹凸形状を形成することができる。
【０１１７】
また、上記各実施形態においては、複数の領域ごとに樹脂層の凹凸の大きさ、言い換えると凹凸の径及び高さを変えていたが、大きさとして高さまたは径のどちらか一方のみ、または凹凸の形状や領域内の凹凸の密度を変えることで散乱特性を異ならせても良い。また、複数回露光する、いわゆる多重露光による露光工程において、上記実施形態では同じ大きさの開口を備えたマスクを用いたが、領域ごとに開口の大きさが異なるマスクを用いて露光することで、凹凸の大きさを変えても良い。また、複数の領域の数は３つに限られるものではなく、２つや４つ、またはそれ以上の領域を設定しても良い。さらに、上述の実施形態や変形例では薄膜ダイオード素子アクティブマトリクス型の液晶表示装置について説明したがこれに限られるものではなく、例えば薄膜トランジスタ素子アクティブマトリクス型、パッシブマトリクス型の液晶表示装置であっても良い。
【０１１８】
（電子機器の実施形態）
次に、本発明に係る電子機器の実施形態を図面を用いて説明する。図１８は、本発明に係る電子機器の一実施形態のブロック図を示している。ここに示す電子機器は、液晶表示装置９１と、これを制御する制御回路７０とを有する。液晶表示装置９１は、液晶パネル７１と、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路７２とを有する。また、制御回路７０は、表示情報出力源７３と、表示情報処理回路７４と、電源回路７６と、タイミングジェネレータ７７とを有する。
【０１１９】
表示情報出力源７３は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等から成るメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等から成るストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを有する。この表示情報出力源７３は、タイミングジェネレータ７７によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路７４に供給する。
【０１２０】
表示情報処理回路７４は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路７２へ供給する。駆動回路７２は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路７６は、上記の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【０１２１】
液晶表示装置９１は、例えば、図１に示した液晶表示装置１、または図９に示した液晶表示装置１０１によって構成できる。これらの液晶表示装置１または１０１では、図１および図９において、散乱特性が異なる複数の領域を表示領域Ｖに設けたことにより、図１の表示領域Ｖに対して観察者の視角が変化したときでも、表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。従って、これらの液晶表示装置１または液晶表示装置１０１を用いた本電子機器においても、観察者の視角にかかわらず表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。
【０１２２】
次に、図１９は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機８０は、本体部８１と、これに開閉可能に設けられた表示体部８２とを有する。液晶表示装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置８３は、表示体部８２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部８２において表示画面８４によって視認できる。本体部８１には操作ボタン８６が配列されている。
【０１２３】
表示体部８２の一端部にはアンテナ８７が伸縮自在に取付けられている。表示体部８２の上部に設けられた受話部８８の内部には、図示しないスピーカが配置される。また、本体部８１の下端部に設けられた送話部８９の内部には図示しないマイクが内蔵されている。表示装置８３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部８１又は表示体部８２の内部に格納される。
【０１２４】
表示装置８３は、例えば、図１に示した液晶表示装置１、または図９に示した液晶表示装置１０１によって構成できる。これらの液晶表示装置１または１０１は、図１および図９において、表示領域Ｖに複数の散乱特性が異なる領域を設けた。これにより、図１の表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできるので、観察者が見る表示領域の全体で表示を見易くできる。そのため、この液晶表示装置１または液晶表示装置１０１を用いた図１９の携帯電話機８０においても表示画面８４の全体で表示が見易くなる。
【０１２５】
（変形例）
本発明に係る電子機器としては、以上に説明した携帯電話機の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、デジタルスチルカメラ、腕時計、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、その他各種の機器が考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶表示装置を示す斜視図である。
【図２】図１の要部を拡大して示す断面図である。
【図３】図１の装置で用いられるスイッチング素子の一例を示す斜視図である。
【図４】図２の反射層を矢印Ａ方向から示す平面図である。
【図５】図４のＢ−Ｂ線に従った断面図である。
【図６】散乱特性の一例を示すグラフであり、（ａ）は広い散乱特性を示しており、（ｂ）は狭い散乱特性を示している。
【図７】図６の散乱特性の測定方法を示す概略図である。
【図８】図１の液晶表示装置の電気的な等価回路を示す回路図である。
【図９】本発明に係る電気光学装置の他の実施形態である液晶表示装置を示す斜視図である。
【図１０】図９の要部を拡大して示す断面図である。
【図１１】図１の液晶表示装置に適用できる表示領域の変形例を示す平面図である。
【図１２】本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図１３】図１２の製造方法に用いるフォトマスクを示す平面図である。
【図１４】本発明に係る電気光学装置の製造方法の他の実施形態を示す工程図である。
【図１５】図１４の製造方法に用いるフォトマスクを示す平面図である。
【図１６】本発明に係る電気光学装置の製造方法のさらに他の実施形態を示す工程図である。
【図１７】本発明に係る電気光学装置の製造方法のさらに他の実施形態を示す工程図である。
【図１８】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図１９】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。
【図２０】表示領域に対する観察者の視角の違いを示す図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１．液晶表示装置（電気光学装置）、 ２．液晶パネル、 ３．駆動用ＩＣ、
４．照明装置、 ５．ＦＰＣ、 ６．ＬＥＤ（光源）、 ７．導光体、 ８．反射層、
１１．素子基板、 １２．カラーフィルタ基板、 １３．シール材、 １４．液晶層、
１５．スペーサ、 １６ａ，１６ｂ．透光性基板 、１７ａ，１７ｂ．位相差板、
１８ａ，１８ｂ．偏光板、 ２１．ライン配線、 ２１’．データ線、
２２．ＴＦＤ素子、 ２３．ドット電極、 ２４ａ，２４ｂ．配向膜、
２９．張出し部、 ３１．樹脂層、 ３２．反射膜、 ３３．着色要素、
３４．オーバーコート層、 ３５．遮光部材、 ３６．帯状電極、 ３６’．走査線、
４１．散乱板、 ４２，５２．フォトマスク、 ４３，５３．マスクパターン、
５１．散乱膜、 ８０．携帯電話機（電子機器）、 ８３．液晶表示装置、
９１．液晶表示装置、 Ｄ．表示ドット領域、 Ｇ．セルギャップ、 Ｌ０．外部光、 Ｌ１．透過光、 Ｒ．反射部、 Ｔ．透過部、 Ｖ，Ｖａ，Ｖｂ，Ｖｃ．表示領域
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等といった電気光学装置に関する。また、本発明は、液晶表示装置等といった電気光学装置に用いられる基板に関する。また、本発明は、上記の電気光学装置を製造するための製造方法に関する。また、本発明は、上記の電気光学装置を用いて構成される電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、携帯電話機、携帯情報端末機等といった各種の電子機器において、電気光学装置が広く用いられている。これらの電気光学装置は、例えば、電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するための表示部として用いられている。この電気光学装置において、電気光学物質として液晶を用いた装置、すなわち液晶表示装置が知られている。また、電気光学物質としてＥＬ（Electro Luminescence）を用いたＥＬ装置も知られている。
【０００３】
例えば、液晶表示装置は電気光学パネルとしての液晶パネルを有する。この液晶パネルは、一般に、それぞれが電極を備えた一対の基板の間に液晶層を介在させた構造を有する。この液晶層は、例えば次のようにして、すなわち、前記一対の基板の間にシール材によって囲まれた隙間を形成し、この隙間の中に液晶を封止することによって形成される。この液晶表示装置では、液晶層に光を供給すると共に該液晶層に印加される電圧を画素ごとに制御することにより、液晶層内の液晶分子の配向を画素ごとに制御する。液晶層へ供給された光は、液晶分子の配向状態に従って変調され、この変調された光を偏光板の液晶側表面に供給することにより、その偏光板の観察側表面に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【０００４】
上記のように液晶層へ光を供給する方法として、反射型および透過型の２種類が知られている。また、反射型と透過型を選択して実行できる、いわゆる半透過反射型も知られている。反射型の光供給方法では、液晶パネルの内部に反射膜を設け、液晶パネル内に取り込んだ外部光、例えば太陽光、室内光をその反射膜によって反射して液晶層に光を供給する。この場合、反射膜の反射面が鏡面であると表示の背景に反射像が映って表示が見難くなるおそれがある。これを回避するため、反射膜の表面に凹凸パターンを形成して反射光を散乱させることが広く一般に行われている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
また、反射膜の表面に凹凸パターンを形成することに関して、１画素内に異なる形状の凹凸パターンを形成することにより、１画素内で異なる散乱特性を持たせるようにした技術が知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−７５９８７号公報（第７頁、図１）
【特許文献２】特許第３０１９０５８号公報（第７頁、図１６）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、観察者が電気光学装置の表示を観察する場合、表示面上の領域によって観察者の視角は異なる。例えば、図２０に示すように、表示面Ｖ０上において観察者の視点Ｅから最も遠い領域での視角をθ１、次に遠い位置での視角をθ２、最も近い位置での視角をθ３とすると、その視角はθ１＜θ２＜θ３のように異なる。そのため、上記特許文献１に開示された従来の液晶表示装置においては、観察者が表示領域を見たとき、その観察者から見て手前側の表示領域と奥側の表示領域とで表示の明るさが異なる場合があった。つまり、観察者の視角に応じて表示の明るさが異なる場合があった。この場合には、液晶パネルの表示領域内において、観察者が見る表示に見難い部分が発生する可能性があった。
【０００８】
また、上記特許文献２に開示された従来の液晶表示装置において、液晶パネルは、１つの画素内に関しては異なる散乱特性を有するが、表示領域全体に関しては均一な散乱特性を有している。それ故、上記特許文献１に開示された液晶表示装置と同じように、観察者の視角に応じて見難い部分が発生する可能性があった。
【０００９】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、観察者の視角が変化する領域である表示領域の全体にわたって明るさが均一である電気光学装置、電気光学装置用基板、電気光学装置の製造方法および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る電気光学装置は、電気光学物質を支持する基板と、複数の画素と、前記複数の画素によって構成される表示領域とを有する電気光学装置であって、前記表示領域は異なる光散乱特性を有する複数の領域を有することを特徴とする。
【００１１】
本明細書において、電気光学物質は、電気的条件の変化に応じて光学的特性が変化する物質のことであり、具体的には、液晶表示装置で用いられる液晶、ＥＬ装置で用いられるＥＬ、プラズマディスプレイ装置で用いられるガス等が考えられる。また、画素は、電気光学装置における表示の一単位であり、例えば、互いに対向する一対の電極が重なり合う場合に、その重なり合った領域を基礎として画素が特定される。この画素が複数並べられて電気光学装置の表示領域が形成される。
【００１２】
上記の電気光学装置によれば、表示領域内に散乱特性が異なる複数の領域を設けたので、表示領域内の位置によって光散乱特性を変えることができる。これにより、表示領域内で観察者の視角が変化する場合でも該表示領域内の表示の明るさを均一にできる。その結果、観察者が表示領域内の表示を見たときに、その表示全体を見易くすることができる。なお、散乱特性が異なるとは、例えば、広い散乱が起こるか、狭い散乱が起こるか等のことである。
【００１３】
本発明に係る電気光学装置において、前記複数の領域は、前記表示領域の中心を含み広い散乱特性を有する中央領域を備え、前記複数の領域の内、前記中央領域の他の領域は、前記中央領域よりも狭い散乱特性を有することが望ましい。
【００１４】
ここで、「広い散乱特性」とは、図６（ａ）に示すように、散乱角φの広い範囲にわたって強度Ｉの散乱光が得られることである。また、「狭い散乱特性」とは、図６（ｂ）に示すように、散乱角φの狭い範囲について強度Ｉの散乱光が得られることである。つまり、散乱特性が広い場合、その領域から出射される光は広い角度範囲にわたって進行する。一方、散乱特性が狭い場合、その領域から出射される光は狭い角度範囲内で進行する。
【００１５】
上記の電気光学装置によれば、中央領域において広い散乱特性を備え、中央領域以外の領域では狭い散乱特性を備えるようにした。こうすれば、中央領域に対しては観察者の視角が大きく、それ以外の領域に対しては観察者の視角が小さい場合に表示領域内の表示の明るさを均一にできる。
【００１６】
また、本発明に係る電気光学装置において、前記各複数の領域において、所定の観察点から表示面までの距離が長い領域は広い散乱特性を有し、前記距離が長い領域よりも前記観察点から表示面までの距離が短い領域は、前記距離が長い領域よりも狭い散乱特性を有することが望ましい。ここで「距離が長い」および「距離が短い」の語は、絶対的な長さを示すものではなく、表示領域上で区分した複数の領域間での距離の違いを相対的に表現するものである。
【００１７】
上記の電気光学装置においては、表示領域に関して、観察点からの距離が長い領域、すなわち視角が広い領域は広い散乱特性を示すように設定し、観察点からの距離が短い領域、すなわち視角が狭い領域は狭い散乱特性を示すように設定した。こうすれば、表示領域内において散乱特性が異なる各領域から出射した光を、それぞれ、観察点に向けて進行させることができる。つまり、表示領域全体からの光を観察点に向けることができる。このため、観察者が観察点から表示領域内の表示を見たとき、その表示の明るさを表示領域の全体にわたって均一にできる。この結果、表示領域全体の表示を観察者にとって見易くできる。
【００１８】
また、本発明に係る電気光学装置において、前記各複数の領域において、前記観察点に対して前記表示領域の中央領域より反対側にある領域では広い散乱特性を有し、前記表示領域の中央領域より観察点側にある領域では、前記反対側の領域よりも狭い散乱特性を有することが望ましい。こうすれば、表示領域の中央領域より反対側から出射される光は広い角度範囲で進行させることができ、表示領域の中央領域より観察点側の領域から出射された光は狭い角度範囲で進行させることができる。このため、前記表示領域の中央領域より下側に観察点がある場合に、観察者にとっての表示の明るさを表示領域の全体にわたって均一にすることができる。
【００１９】
また、本発明に係る電気光学装置において、観察者が表示領域を観察する観察点は、前記表示領域の略中心に対して垂直から角度１５度傾いた線上に位置すること、すなわち、前記表示領域の略中心位置の法線から角度１５度傾いた線上に位置すること、が望ましい。このように、観察者の視線に対して所定角度だけ傾斜する表示領域に対して本発明を適用することが効果的である。
【００２０】
また、本発明に係る電気光学装置は、前記複数の領域毎に対応した、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を有する反射膜を前記基板上にさらに有し、前記複数の領域毎に、前記凹凸の形状、大きさまたは密度を異ならせることによって、異なる散乱特性を有する前記複数の領域を形成することが望ましい。こうすれば、反射光を確実に散乱させることができるので、特に反射型の電気光学装置に有効である。また、反射板の凹凸形状を領域ごとに異なる形状に形成することにより、表示領域内に異なる光散乱特性を有する複数の領域を容易に形成できる。
【００２１】
また、本発明に係る電気光学装置は、透過する光を散乱する散乱板を前記基板上にさらに有し、該散乱板の散乱特性を前記複数の領域に対応する複数の部分毎に異ならせることによって、異なる散乱特性を有する前記複数の領域を形成することが望ましい。こうすれば、反射光のみならず任意の光を散乱させることができるので、反射型以外の電気光学装置、例えば透過型の電気光学装置にも有効である。
【００２２】
また、本発明に係る電気光学装置は、前記中央領域を挟んで対向する、第１領域と第２領域とを備え、前記第１領域は、前記観察点からの距離が長くて前記中央領域を囲む領域であり、前記第２領域は、前記観察点からの距離が前記距離が長い領域よりも短く、前記中央領域を囲む領域であり、前記第１領域、前記中央領域、前記第２領域の順に広い散乱特性となることが望ましい。こうすれば、前記第１領域から出射される光は広い角度範囲で進行させることができ、前記第２領域から出射された光は狭い角度範囲で進行させることができる。また、前記中央領域から出射される光は第１領域から出射される光と第２領域から出射される光との中間の角度範囲で進行させることができる。このため、前記表示領域の中央領域より下側に観察点がある場合に、観察者にとっての表示の明るさを表示領域の全体にわたって均一にすることができる。
【００２３】
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学物質を支持する基板と、複数の画素と、前記複数の画素によって構成される表示領域とを有し、前記表示領域は異なる光散乱特性を有する複数の領域を有する電気光学装置の製造方法であって、前記基板の上に、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を備えた反射膜を形成する工程を備え、前記反射膜を形成する工程では、前記複数の領域毎に、形状、大きさまたは密度が異なる前記凹凸を形成することを特徴とする。この電気光学装置の製造方法によれば、表示領域に対する観察者の視角が変化しても該表示領域内の表示の明るさを均一にできる。その結果、観察者が表示領域内の表示を見たときに、その表示全体を見易くすることができる。
【００２４】
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記基板の上に、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を備えた樹脂層を形成する工程を備え、前記反射層を形成する工程では、前記樹脂層の上に前記反射膜を形成することが望ましい。こうすれば、光散乱特性の異なる複数の領域を反射膜上の所望の位置に容易に形成できる。
【００２５】
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記樹脂層を形成する工程は、感光性樹脂材料の層を前記基板の上に形成する工程と、前記感光性樹脂材料の層を露光マスクを介して露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂材料の層を現像する工程とを有し、前記露光マスクは、前記複数の領域毎に遮光性が異なるマスクパターンを有し、前記露光工程では、異なる高さの凹凸の潜像が１回の露光で行われることが望ましい。
【００２６】
ここでいう潜像とは、感光性樹脂材料が露光されて感光した際にその感光性樹脂材料の中に生じる像のことであって、感光性樹脂材料を現像するまでは目に見えない像のことである。この潜像を有した感光性樹脂材料に現像処理を施すことにより、その感光性樹脂材料に複数の凹凸部が形成され、これらの凹凸部によって凹凸形状が形成される。上記の電気光学装置の製造方法において、異なる高さの凹凸部の潜像を１回の露光で同時に形成するようにすれば、工程を増やすことなく樹脂層を形成できる。
【００２７】
また、本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記樹脂層を形成する工程は、感光性樹脂材料の層を前記基板の上に形成する工程と、前記感光性樹脂材料の層を露光マスクを介して露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂材料の層を現像する工程と
を有し、前記露光工程では、前記複数の領域毎に異なる露光マスクを介して複数回の露光が行われ、前記複数回の露光の各々では、異なる露光量で露光が行われることが望ましい。こうすれば、フォトマスクのマスクパターンを複雑にすることなく、反射膜上に凹凸形状を形成できる。
【００２８】
次に、本発明に係る電気光学装置用基板は、複数の画素が設定された基板と、前記複数の画素によって構成される表示領域を有し、前記表示領域は異なる散乱特性を有する複数の領域を有することを特徴とする。この電気光学装置用基板によれば、表示領域内に散乱特性が異なる複数の領域を設けたので、表示領域内の位置によって光散乱特性を変えることができる。これにより、表示領域内で観察者の視角が変化する場合でも該表示領域の全体の明るさを均一にできる。その結果、表示領域全体の表示を観察者にとって見易くできる。
【００２９】
次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置を有することを特徴とする。本発明に係る電気光学装置によれば、散乱特性が異なる複数の領域を表示領域内に設けたので、表示領域内の位置に対応させて光散乱特性を変えることができる。これにより、表示領域内で観察者の視角が変化する場合でも該表示領域の全体の明るさを均一にでき、それ故、表示領域全体の表示を観察者にとって見易くできる。従って、この電気光学装置を用いた電子機器においても、表示領域内で観察者の視角が変化する場合でも該表示領域の全体の明るさを均一にでき、それ故、表示領域全体の表示を観察者にとって見易くできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
（電気光学装置および電気光学装置用基板の第１実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置および電気光学装置用基板を、電気光学装置の一例である液晶表示装置を例に挙げて説明する。なお、本発明がその実施形態に限定されないことはもちろんである。また、これ以降の説明では図面を参照するが、その図面では特徴的な部分を分かり易く説明するために、複数の要素間で寸法比が実際のものと異なっていることに留意すべきである。
【００３１】
図１は、本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶表示装置を示している。この液晶表示装置は、スイッチング素子として２端子型の非線形素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置である。図２は、図１における画素の近傍を拡大して示している。
【００３２】
図１において、電気光学装置としての液晶表示装置１は、電気光学パネルとしての液晶パネル２と、その液晶パネル２に実装された駆動用ＩＣ３と、その液晶パネル２に付設された照明装置４と、その液晶パネル２の辺端に接続された配線基板としてのＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）５とを有する。この液晶表示装置１は、矢印Ａが描かれた側が観察側である。照明装置４は、光源としてのＬＥＤ（Light Emitting Diode）６と、ＬＥＤ６からの光を内部へ導入して面状の光として液晶パネル２へ出射する導光体７とを有する。導光体７は、光入射面７ａを通して光を導入し、光出射面７ｂから光を出射する。照明装置４は、矢印Ａで示す観察方向から見て液晶パネル２の裏側に配置されていて、バックライトとして機能する。
【００３３】
液晶パネル２は、素子基板１１とカラーフィルタ基板１２とを正方形または長方形である枠状のシール材１３によって貼り合わせることによって形成されている。素子基板１１とカラーフィルタ基板１２との間には、図２に示すように、間隙、いわゆるセルギャップＧが形成され、そのセルギャップＧに液晶が封入されて液晶層１４が形成されている。液晶としては、例えばＴＮ（Twisted Nematic）液晶を用いることができる。また、セルギャップＧは球状のスペーサ１５によって一定の間隔に維持されている。素子基板１１はカラーフィルタ基板１２の外側へ張り出す張出し部２９を有し、この張出し部２９上に駆動用ＩＣ３が実装されている。
【００３４】
図１において、素子基板１１は、透光性を有する第１の基板１６ａを有し、その第１透光性基板１６ａの外側の表面には、位相差板１７ａが貼着等によって装着され、さらにその上に偏光板１８ａが貼着等によって装着されている。一方、カラーフィルタ基板１２は、透光性を有する第２の基板１６ｂを有し、その第２透光性基板１６ｂの外側の表面には、位相差板１７ｂが貼着等によって装着され、さらにその上に偏光板１８ｂが貼着等によって装着されている。第１透光性基板１６ａおよび第２透光性基板１６ｂはガラス、プラスチック等によって形成される。
【００３５】
第１透光性基板１６ａの内側表面、すなわち液晶側表面には、図２に示すように、データ線として機能するライン配線２１と、スイッチング素子としてのＴＦＤ素子２２と、ドット電極２３と、配向膜２４ａとが形成される。配向膜２４ａは、例えばポリイミドによって形成され、その表面にラビング処理が施される。このラビング処理により、素子基板１１の近傍の液晶分子の初期配向が決められる。
【００３６】
ライン配線２１は、図３に示すように、第１層２１ａ、第２層２１ｂ、第３層２１ｃを積層することによって形成されている。また、ＴＦＤ素子２２は、互いに直列に繋げられた第１ＴＦＤ要素２２ａおよび第２ＴＦＤ要素２２ｂを有する。これらのＴＦＤ要素２２ａおよび２２ｂは、それぞれ第１金属２５、絶縁膜２６、第２金属２７を有する。２つのＴＦＤ要素２２ａおよび２２ｂが直列接続されることにより、いわゆるバック・ツー・バック（Back-to-Back）の接続構造が採られている。
【００３７】
ＴＦＤ素子２２の第１金属２５およびライン配線２１の第１層２１ａは、例えばＴａ（タンタル）によって形成されている。また、ＴＦＤ素子２２の絶縁膜２６およびライン配線２１の第２層２１ｂは、例えば陽極酸化処理によって形成された酸化膜である。また、ＴＦＤ素子２２の第２金属２７およびライン配線２１の第３層２１ｃは、例えばＣｒ（クロム）によって形成されている。
【００３８】
第１ＴＦＤ要素２２ａの第２金属２７はライン配線２１の第３層２１ｃと同一の材料によって形成されている。また、ドット電極２３は第２ＴＦＤ要素２２ｂの第２金属２７に導電接続するように第１透光性基板１６ａの上に形成されている。ドット電極２３は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった金属酸化物によって形成されている。
【００３９】
図２において、直線状のライン配線２１は素子基板１１に複数本設けられ、それらのライン配線２１は、個々が図の左右方向に延び、複数本が所定間隔で互いに平行に並び、全体としてストライプ状に設けられている。また、複数のＴＦＤ素子２２は個々のライン配線２１に適宜の間隔をおいて接続され、それらのＴＦＤ素子２２にドット電極２３ａが接続されている。
【００４０】
図１において、素子基板１１に対向する位置にカラーフィルタ基板１２が配設される。図２において、カラーフィルタ基板１２を構成する第２透光性基板１６ｂの内側表面、すなわち液晶側表面には、樹脂層３１が形成され、その上に反射膜３２が形成され、その上に遮光部材３５および着色要素３３が形成される。そして、その上にオーバーコート層３４が、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性の樹脂によって形成される。さらにその上に帯状電極３６が形成され、そして、その上に配向膜２４ｂが形成される。配向膜２４ｂは、例えばポリイミドによって形成され、その表面にラビング処理が施される。このラビング処理により、カラーフィルタ基板１２の近傍の液晶分子の初期配向が決められる。
【００４１】
帯状電極３６はカラーフィルタ基板１２上に複数設けられ、それらの個々が図２の紙面垂直方向に延びている。また、複数の帯状電極３６は、図２の左右方向へ一定の間隔で互いに平行に並べられている。これらにより、複数の帯状電極３６は、矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成されている。これらの帯状電極３６は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった金属酸化物によって形成される。また、これらの帯状電極３６は、素子基板１１とカラーフィルタ基板１２とをシール材１３（図１参照）によって貼り合わせたとき、ライン配線２１に対して直角の方向に延びる。
【００４２】
個々の帯状電極３６は、列状に並ぶ複数のドット電極２３に平面的に重なり合う。このように帯状電極３６とドット電極２３とが重なり合う領域が、表示の単位である表示ドット領域Ｄを構成する。そして、これら複数の表示ドット領域Ｄは図１において符号Ｖで示す領域内にドットマトリクス状に並べられる。この領域Ｖが液晶表示装置１の有効表示領域であり、この有効表示領域Ｖ内に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【００４３】
図２において、樹脂層３１の表面に凹部を形成することにより、その樹脂層３１の表面に凹凸形状が形成される。なお、凸部を形成することにより凹凸形状を形成しても良い。そして、樹脂層３１の表面に凹凸部を形成することにより、樹脂層３１の上に積層される反射膜３２の表面にも、樹脂層３１の凹凸部に対応した凹凸形状が形成される。反射膜３２は光反射性の材料、例えばＡｌ（アルミニウム）によって形成され、矢印Ａ方向から入射する光Ｌ０を反射する。反射膜３２の表面に凹凸形状を設けたことにより、この反射膜３２で反射する光は散乱光となる。
【００４４】
図４は、図２の反射膜３２を矢印Ａ方向から平面的に見た図であり、図１に示す表示領域Ｖに対応した領域を示している。また、図５は、図４のＢ−Ｂ線に従った断面を示している。また、図６は、光の散乱特性を表すグラフであり、（ａ）は広い散乱特性、（ｂ）は狭い散乱特性を表している。グラフの横軸φは反射膜３２に入射する光と反射膜３２で反射する光との成す角度、すなわち光の散乱角を示しており、グラフの縦軸Ｉは光の強度を示している。
【００４５】
図１の表示領域Ｖは、一般に、液晶パネル２の法線Ｘ０から適宜の角度φ０傾いた点Ｐから観察者によって観察される。この角度φ０は視角と呼ばれることがある。この視角φ０は必要に応じて種々に設定されるが、本実施形態ではφ０＝１５度とする。この１５度の角度は、携帯電話機等といった携帯用機器においてオペレータすなわち観察者が自然な状態で表示領域を見るときの視角に相当する。
【００４６】
表示領域Ｖは、中央領域としてのＶａ、第１領域としてのＶｂ、第２領域としてのＶｃの３つの領域に分かれている。領域Ｖａは、表示領域Ｖの中央部分の領域である。領域Ｖｂは、領域Ｖａを囲む領域であって観察点Ｐから遠い領域である。そして、領域Ｖｃは、領域Ｖａを囲む領域であって観察点Ｐから近い領域である。図４および図５に示すように、反射膜３２の凹凸形状は、領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃに対応する位置にそれぞれ異なる形状に形成されている。また、凹部の深さも領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃ毎に異なっている。なお、凹部に代えて凸部を形成する場合には、領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃ毎に凸部の高さを異ならせる。これにより、それぞれの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃにおいて、散乱特性を変えることができる。
【００４７】
以下、各領域における反射膜３２の凹凸形状と各領域における散乱特性について図５および図６を用いて説明する。なお、図６のグラフは、図７に示すようにして対象物５７の散乱特性を測定した結果を表している。例えば、光源５６からの光Ｌｉを測定対象物５７に垂直に入射させる。入射光Ｌｉは測定対象物５７において散乱して散乱光Ｌｏを出射する。この散乱光Ｌｏの強度Ｉを光電管５８を用いて計測する。この際、光電管５８が矢印Ｃ方向に走査移動することによって、散乱角φの変化に応じた散乱光Ｌｏの強度Ｉを計測することができる。
【００４８】
まず、図５において観察点Ｐから遠い領域Ｖｂにおいて反射膜３２の凹凸形状は、その平面形状が図４のように粗く形成され、且つその断面形状が図５のように深く形成されている。この領域Ｖｂでの散乱特性は図６（ａ）に示すような広い散乱特性を示す。この広い散乱特性において、散乱角φが０、すなわち正反射のときに強度Ｉが最も強く、散乱角φが０（ゼロ）から離れるにつれて強度Ｉは徐々に弱くなる。しかし、強度Ｉの変化は緩やかであり、散乱角φの広い範囲で強度Ｉの散乱光が得られる。
【００４９】
次に、図５において観察点Ｐに近い領域Ｖｃにおいて反射膜３２の凹凸形状は、その平面形状が図４のように細かく形成され、且つその断面形状が図５のように浅く形成されている。この領域Ｖｃでの散乱特性は図６（ｂ）に示すような狭い散乱特性を示す。この狭い散乱特性において、正反射のときに強度Ｉが最も強く、散乱角φが変化すると強度Ｉは急峻な変化を示す。そして、強度Ｉの散乱光が得られる角度範囲は狭い範囲に限られる。なお、広い散乱特性を示す領域Ｖｂの正反射時の強度を図６（ａ）においてＩ０とし、狭い散乱特性を示す領域Ｖｃの正反射時の強度を図６（ｂ）においてＩ１とすれば、Ｉ０＜Ｉ１となる。
【００５０】
次に、図４の中央領域である領域Ｖａにおいて、反射膜３２の凹凸形状は、領域Ｖｂと領域Ｖｃとの中間の形状および粗さに形成されている。そして、領域Ｖａでの散乱特性も図６（ａ）の特性と図６（ｂ）の特性との中間の特性を有している。すなわち、正反射において強度Ｉが最も強く、散乱角φの変化に対して強度Ｉは図６（ａ）と図６（ｂ）との中間の特性を示す。
【００５１】
さて、図２に戻って、反射膜３２は個々の表示ドット領域Ｄ内に開口Ｋを有する。この開口Ｋが設けられた領域が透過領域Ｔであり、反射膜３２が設けられた領域が反射領域Ｒである。反射領域Ｒでは、矢印Ａで示す観察側から入射する光Ｌｏが反射膜３２で反射して液晶層１４へ供給される。一方、透過領域Ｔでは、照明装置４（図１参照）から出射した光Ｌ１が開口Ｋを通過して液晶層１４へ供給される。
【００５２】
着色要素３３は、例えば、１つ１つが長方形のドット状に形成され、１つの着色要素３３は、Ｂ（青）、Ｇ（緑）、Ｒ（赤）の３原色のいずれか１つの光を通す材料によって形成されている。これら各色の着色要素３３は、矢印Ａ方向から見てストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列、その他適宜の配列となるように並べられている。なお、着色要素３３は、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３原色によって形成することもできる。
【００５３】
遮光部材３５は、例えばＣｒ等といった遮光性の材料によって、複数の着色要素３３の間を埋める状態に形成される。この遮光部材３５は、ブラックマスクとして機能して着色要素３３を透過した光によって表示される像のコントラストを向上させる。なお、遮光部材３５は、Ｃｒ等といった特定の材料によって形成されることに限られず、例えば、着色要素３３を構成するＢ，Ｇ，Ｒの各着色要素を重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。
【００５４】
図８は、図１の液晶表示装置１の電気的な等価回路を示している。図８において、複数本の走査線３６’が行方向Ｘに延び、さらに、複数本のデータ線２１’が列方向Ｙに延びている。走査線３６’は図２のカラーフィルタ基板１２上の帯状電極３６によって実現される。また、データ線２１’は素子基板１１上のライン配線２１によって実現される。図８において、表示用ドット領域Ｄは走査線３６’とデータ線２１’との各交差部分に形成される。各表示ドット領域Ｄにおいては、液晶層１４と、ＴＦＤ素子２２とが直列に接続されている。
【００５５】
本実施形態では、液晶層１４が走査線３６’の側に接続され、ＴＦＤ素子２２がデータ線２１’の側に接続されている。各走査線３６’は、走査線駆動回路３ａに接続される。一方、各データ線２１’は、データ線駆動回路３ｂに接続される。走査線駆動回路３ａおよびデータ線駆動回路３ｂは図１の駆動用ＩＣ３によって構成される。駆動用ＩＣ３は、共通のＩＣによって両駆動回路３ａおよび３ｂを賄うものであっても良いし、あるいは、両駆動回路３ａおよび３ｂを個別のＩＣに割り当てても良い。
【００５６】
以上のように構成された液晶表示装置１によれば、図１において、液晶表示装置１が明るい室外や明るい室内に置かれる場合は、太陽光や室内等といった外部光を用いて反射型の表示が行われる。一方、液晶表示装置１が暗い室外や暗い室内に置かれる場合は、照明装置４をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。
【００５７】
反射型表示を行う場合、図２において、観察側Ａの方向から素子基板１１を通して液晶パネル２内へ入射した外部光Ｌｏは、液晶層１４を通過してカラーフィルタ基板１２内へ入った後、反射領域Ｒにおいて反射膜３２で反射して、再び、液晶層１４へ供給される。一方、透過型表示を行う場合、図１の照明装置４のＬＥＤ６が点灯し、ＬＥＤ６からの光が導光体７の光入射面７ａから導光体７へ導入され、さらに、光出射面７ｂから面状の光として出射する。この出射光は、図２の符号Ｌ１で示すように透過領域Ｔにおいて開口Ｋを通って液晶層１４へ供給される。
【００５８】
以上のようにして液晶層１４へ光が供給される間、素子基板１１側のドット電極２３とカラーフィルタ基板１２側の帯状電極３６との間には、走査信号およびデータ信号によって特定される表示用ドット領域Ｄに所定の電圧が印加される。これにより、液晶層１４内の液晶分子の配向が表示用ドット領域Ｄごとに制御され、この結果、液晶層１４に供給された光が表示用ドット領域Ｄごとに変調される。この変調された光が、素子基板１１側の偏光板１８ａ（図１参照）を通過するとき、その偏光板１８ａの偏光特性に従って表示用ドット領域Ｄごとに通過を許容または通過を阻止される。これにより、素子基板１１の表面に文字、数字、図形といった像が表示され、これが、矢印Ａ方向から視認される。
【００５９】
以上に説明した実施形態では、図１において、表示領域Ｖを複数、本実施形態では３つの領域に区分し、図４および図５に示すように、反射膜３２上に形成する凹凸の形状および深さをこれらの領域毎に異ならせてある。このため、各領域の散乱特性が異なっている。これらの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃにおいて、それぞれの領域における散乱特性は、反射膜３２の凹凸形状および粗さを変えることによって変更できる。このように、領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃにおいてそれぞれの散乱特性を変えることにより、表示領域Ｖ内で観察者の視角が変化する場合でもその表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。その結果、観察者が図５の観察点Ｐから見る表示領域Ｖの全体で表示が見易くなる。
【００６０】
本実施形態において、領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃのうち、観察点Ｐからの距離が長い領域Ｖｂは広い散乱特性を有し、観察点Ｐからの距離が短い領域Ｖｃは狭い散乱特性を有するようにした。領域Ｖｂにおいては、図６（ａ）に示すように、散乱角φが大きいときも散乱光はその強度Ｉを保っているので、図５の散乱角φｂを大きくできる。このため、領域Ｖｂで散乱した光Ｌｏは観察点Ｐへ進行できるので、領域Ｖｂにおける表示を明るくできる。また、領域Ｖｃにおいては、図６（ｂ）に示すように、散乱角φが小さいときに散乱光の強度Ｉが強くなるので、図５の散乱角φｃを小さくできる。このため、領域Ｖｃで散乱した光Ｌｏは観察点Ｐへ進行できるので、領域Ｖｃにおける表示を明るくできる。
【００６１】
次に、領域Ｖａは表示領域Ｖの中央部の領域である。この領域Ｖａにおいては、領域Ｖｂと領域Ｖｃとの中間の散乱特性を有するようにしたので、散乱角φａも散乱角φｂと散乱角φｃとの中間の角度にすることができる。このため、領域Ｖａで散乱した光Ｌｏは観察点Ｐへ進行できるので、領域Ｖａにおける表示も明るくできる。以上のことから、観察者が観察点Ｐから表示領域Ｖを見たとき、その表示領域Ｖの全体の明るさを均一にすることができ、その結果、表示領域Ｖの全体の表示を観察者にとって見易くすることができる。
【００６２】
また、図１において、観察点Ｐは表示領域Ｖの略中心の法線から角度１５度傾いた線上に位置するようにした。この場合には、表示領域Ｖの中央部である領域Ｖａにおいて、その散乱角φａ（図５参照）が１５度になるような散乱特性とする。そして、領域Ｖｂを領域Ｖａより広い散乱特性に設定すると共に、領域Ｖｃを領域Ｖａより狭い散乱特性に設定すれば、観察者が観察点Ｐにおいて見る表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。
【００６３】
（電気光学装置および電気光学装置用基板の第２実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置および電気光学装置用基板の他の実施形態を説明する。本実施形態の説明も液晶表示装置を例示して行うものとし、第１実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【００６４】
図９は、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態である液晶表示装置１０１を示している。本実施形態が第１実施形態と異なる点は次の点である。第１に、第１実施形態では、図１に示す３つの領域Ｖａ，Ｖｂ，Ｖｃに異なる散乱特性を設けるにあたり、図４および図５に示すように、第２透光性基板１６ｂ上に設けた反射板３２の凹凸形状を、領域Ｖａ，Ｖｂ，Ｖｃのそれぞれにおいて異なる形状及び深さに形成した。これに対して本実施形態では、図９に示すように、第１透光性基板１６ａを挟んで液晶層の反対側の面に光を散乱させるための光散乱板４１を設けた。これにより、電気光学装置１０１から出射する光を散乱させるようにしている。第２に、第１実施形態では、図２に示すように反射膜３２に凹凸形状を形成していたが、本実施形態では、反射膜３２の表面に凹凸形状を設けることなく、いわゆる鏡面に形成した。
【００６５】
上記のように、図９の散乱板４１において異なる散乱特性を有する３つの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成すれば、第１実施形態と同様に、表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。そしてその結果、観察者が表示領域Ｖを観察点Ｐから見た場合、その表示領域Ｖの全体の表示を見易くできる。
【００６６】
また、本実施形態では、第１透光性基板１６ａを挟んで液晶層の反対側の面に設けた散乱板４１で光を散乱させるので、図２の液晶層１４を通過する光は散乱光でなくても良い。そのため、反射膜３２に凹凸形状を形成しなくても良いので反射膜３２を容易に形成できる。また、図２において、反射光Ｌｏ以外の任意の光を散乱させることができる。例えば、図９の照明装置４からの出射光である透過光Ｌ１を散乱させることができる。これにより、本発明は透過光を用いた液晶表示装置、すなわち透過型液晶表示装置にも適用できる。
【００６７】
（電気光学装置および電気光学装置用基板の第３実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置および電気光学装置用基板のさらに他の実施形態を説明する。本実施形態の説明も液晶表示装置を例示して行うものとし、第１実施形態および第２実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【００６８】
図１０は、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を示しており、特に１つの表示ドット近傍を拡大して示している。第２実施形態では、図９において、散乱板４１を素子基板１１を挟んで液晶層の反対側に設けた。そして、この散乱板４１によって電気光学装置１０１から出射する光を散乱させるようにした。これに対し本実施形態では、図１０に示すように、散乱板４１に代えて第１透光性基板１６ａの液晶層１４側の面に光散乱膜５１を設けている。この散乱膜５１は、図９の散乱板４１と同じ機能を有した膜であり、例えばフォトリソグラフィ処理等によって形成できる。
【００６９】
この散乱膜５１において、図１に示すように、異なる散乱特性を有する３つの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成すれば、第１実施形態および第２実施形態と同様に、表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。そしてその結果、観察者が観察点Ｐから表示領域Ｖを見た場合、その表示領域Ｖの全体の表示を見易くできる。また、散乱膜５１を設けた本実施形態においても、図１０において反射光Ｌｏ以外の任意の光を散乱させることができる。例えば、図９の照明装置４からの出射光である透過光Ｌ１を散乱させることができる。これにより、本発明は透過光を用いた液晶表示装置、すなわち透過型液晶表示装置にも適用できる。
【００７０】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【００７１】
例えば、以上に説明したそれぞれの実施形態において、図４に示すように、表示領域Ｖを中央部分の領域Ｖａ、表示領域Ｖの中央から上側であって領域Ｖａ以外の領域Ｖｂ、および表示領域Ｖの中央から下側であって領域Ｖａ以外の領域Ｖｃの３つの領域に区分し、それぞれの領域を異なる散乱特性を有するように形成した。しかしながら、表示領域Ｖは他の形態に区分することもできる。例えば、図１１（ａ）に示すように、表示領域Ｖを視点Ｐから遠い領域Ｖｄ及び近い領域Ｖｅの２つの領域に区分し、それぞれの領域を異なる散乱特性に形成することもできる。また、図１１（ｂ）に示すように、表示領域Ｖを視点Ｐから遠い領域から近い領域に従って３つの領域Ｖｆ，Ｖｇ，Ｖｈに区分し、それぞれの領域を異なる散乱特性に形成することもできる。これらどちらの場合においても、上記第１実施形態と同様に表示領域Ｖの全体の明るさを均一に表示できる。
【００７２】
また、上記それぞれの実施形態では、ＴＦＤ素子を用いた液晶表示装置に本発明を適用したが、本発明は、ＴＦＤ素子以外の２端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。
【００７３】
また、本発明は、液晶表示装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、無機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ：Plasma Display）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：Electrophoretic Display）、フィールドエミッションディスプレイ装置（ＦＥＤ：Field Emission Display：電界放出表示装置）にも適用できる。
【００７４】
（電気光学装置の製造方法の第１実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法の実施形態を図１に示した液晶表示装置１を製造する場合を例に挙げて説明する。図１２は、液晶表示装置の製造方法の一例を工程図として示している。図１２において、工程Ｐ１から工程Ｐ６が図１の素子基板１１を形成するための工程である。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８が図１のカラーフィルタ基板１２を形成するための工程である。また、工程Ｐ２１から工程Ｐ２８がそれらの基板を組み合わせて液晶表示装置を完成させるための工程である。
【００７５】
なお、本実施形態の製造方法では、図１に示す素子基板１１およびカラーフィルタ基板１２を１つずつ形成するのではなく、素子基板１１に関しては、複数の素子基板１１を形成できる大きさの面積を有する素子側マザー透光性基板の上に素子基板１１の複数個分の要素を同時に形成するものとする。また、カラーフィルタ基板１２に関しては、複数のカラーフィルタ基板１２を形成できる大きさの面積を有するカラーフィルタ側マザー透光性基板の上にカラーフィルタ基板１２の複数個分の要素を同時に形成するものとする。素子側マザー透光性基板およびカラーフィルタ側マザー透光性基板は、例えば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成される。
【００７６】
まず、図１２の工程Ｐ１において、素子側マザー透光性基板の表面にスイッチング素子である図３のＴＦＤ素子２２およびライン配線２１を同時に形成する。なお、配線２１の第１層２１ａは、ＴＦＤ素子２２の第１金属２５と同時に、例えばＴａによって形成する。また、配線２１の第２層２１ｂは、陽極酸化処理によってＴＦＤ素子２２の絶縁膜２６と同時に形成する。また、配線２１の第３層２１ｃは、ＴＦＤ素子２２の第２金属２７と同時に、例えばＣｒによって形成する。
【００７７】
次に、工程Ｐ２において、図３のドット電極２３をＩＴＯを材料としてフォトエッチング処理、すなわち、フォトリソグラフィ処理とエッチング処理との組み合せから成る処理によって形成する。次に、工程Ｐ３において図２の配向膜２４ａを、例えばポリイミドを印刷することによって形成される。次に、工程Ｐ４において、配向膜２４ａにラビング処理が施され、さらに工程Ｐ５において、図１のシール材１３が、例えばエポキシ系樹脂を印刷することによって形成される。そして、工程Ｐ６において、素子基板１１の表面に図２のスペーサ１５を分散する。以上により、素子側マザー透光性基板の上に素子基板１１の複数個分の要素が形成されて大面積の素子側マザー基板が形成される。
【００７８】
次に図１２の工程Ｐ１１において、カラーフィルタ側マザー透光性基板の表面上に図２の樹脂層３１を、例えばポジ型の感光性樹脂材料を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。ポジ型感光性樹脂材料は光を照射した部分が溶け易くなる材料である。本実施形態では、工程Ｐ１１のフォトリソグラフィ処理において、図１３に示すようなフォトマスク４２を使用する。このフォトマスク４２は３つの領域Ｖａ’、Ｖｂ’、Ｖｃ’を有している。そして、これらの領域Ｖａ’、Ｖｂ’、Ｖｃ’には、それぞれ異なるマスクパターン４３ａ、４３ｂ、４３ｃが形成されている。具体的には、領域Ｖｂ’には粗いパターン４３ｂを形成し、領域Ｖｃ’には細かいパターン４３ｃを形成し、そして、領域Ｖａ’には４３ｂと４３ｃとの中間の粗さのパターン４３ａを形成する。
【００７９】
上記のフォトマスク４２の領域Ｖａ’、Ｖｂ’、Ｖｃ’は、それぞれ図１の表示領域Ｖ内の領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃに対応している。従って、フォトマスク４２を用いてフォトリソグラフィ処理を行えば、樹脂層３１の表面における表示領域Ｖ内の領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃの対応した位置に、形状が異なる複数の凹凸パターンが形成される。具体的には、図５に示すように、領域Ｖｂには大きく、すなわち平面的に粗く、且つ深い凹凸形状が形成され、領域Ｖｃには小さく、すなわち平面的に細かく、且つ浅い凹凸形状が形成され、領域Ｖａには領域Ｖｂと領域Ｖｃとの中間の形状および中間の粗さに凹凸形状が形成される。
【００８０】
次に、図１２の工程Ｐ１２において、工程Ｐ１１において形成した樹脂層３１の上に図２の反射膜３２を、例えばＡｌやＡｌ合金等を材料としてフォトエッチング処理によって形成する。このとき、表示用ドット領域Ｄごとに開口Ｋを形成することにより、光反射部Ｒと透光部Ｔを形成する。樹脂層３１の表面には形状が異なる複数の凹凸形状が形成されているので、その上に積層された反射膜３２の表面にも形状が異なる複数の凹凸形状が形成される。それにより、反射層３２において反射する光は散乱光となる。さらに、その散乱光は凹凸のパターンによって散乱特性が異なる。
【００８１】
次に、工程Ｐ１３において、図２の遮光部材３５を、例えばＣｒを材料としてフォトエッチング処理によって所定のパターン（例えば、複数の表示用ドット領域Ｄの周りを埋めるような格子状パターン）に形成する。次に、工程Ｐ１４において、図２の着色要素３３を形成する。着色要素３３については、Ｂ，Ｇ，Ｒの各色ごとに順々に形成する。例えば、各色の顔料や染料を感光性樹脂に分散させて成る着色材料をフォトリソグラフィ処理によって所定の配列に形成する。次に、工程Ｐ１５において、図２のオーバーコート層３４を、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。
【００８２】
次に、図１２の工程Ｐ１６において、図２の帯状電極３６をＩＴＯを材料としてフォトエッチング処理によって形成し、さらに工程Ｐ１７において図２の配向膜２４ｂを形成し、さらに工程Ｐ１８において、配向処理としてのラビング処理を行う。以上により、カラーフィルタ側マザー透光性基板の上にカラーフィルタ基板１２の複数個分の要素が形成されて大面積のカラーフィルタ側マザー基板が形成される。
【００８３】
その後、図１２の工程Ｐ２１において、素子側マザー基板とカラーフィルタ側マザー基板とを貼り合わせる。これにより、素子側マザー基板とカラーフィルタ側マザー基板とが個々の液晶表示装置の領域において図１のシール材１３を挟んで貼り合わされた構造の大面積のパネル構造体が形成される。
【００８４】
次に、以上のようにして形成された大面積のパネル構造体に含まれるシール材１３を、工程Ｐ２２において熱硬化または紫外線硬化によって硬化させて両マザー基板を接着して大面積のパネル構造体を形成する。次に、工程Ｐ２３において、そのパネル構造体を１次切断、すなわち１次ブレイクして、図１の液晶パネル２の複数が１列に並んだ状態で含まれる中面積のパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造体を複数形成する。シール材１３には予め適所に開口が形成されており、上記の１次ブレイクによって短冊状のパネル構造体が形成されると、そのシール材１３の開口が外部に露出する。
【００８５】
次に、図１２の工程Ｐ２４において、上記のシール材１３の開口を通して各液晶パネル部分の内部へ液晶を注入し、その注入の完了後、その開口を樹脂によって封止する。次に工程Ｐ２５において、２回目の切断、すなわち２次ブレイクを行い、短冊状のパネル構造体から図１２に示す個々の液晶パネル２を切り出す。
【００８６】
次に、図１２の工程Ｐ２６において、図１の駆動用ＩＣ３を実装する。次に、工程Ｐ２７において、図１の液晶パネル２に偏光板１８ａ，１８ｂを貼着によって装着する。さらに工程Ｐ２８において、図１の照明装置４を液晶パネル２に取付ける。これにより、液晶表示装置１が完成する。
【００８７】
以上のように、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法においては、図１２の工程Ｐ１１において、図２の樹脂層３１を図５に示すように３つの異なる領域Ｖａ，Ｖｂ，Ｖｃ内で複数の異なる凹凸形状に形成した。そして、図１２の工程Ｐ１２において、樹脂層３１の上に反射膜３２を形成した。これにより、反射膜３２は、図５に示すように、異なる散乱特性を有した領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃをそれぞれ形成できる。これにより、図１の表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできる。その結果、観察者が観察点Ｐから見る表示領域の全体で表示が見易くなる。
【００８８】
また、本実施形態では、工程Ｐ１１において、図１３のフォトマスク４２を用いて形成した。フォトマスク４２には、領域Ｖａ’、Ｖｂ’、Ｖｃ’にそれぞれ異なるマスクパターン４３ａ、４３ｂ、４３ｃが形成されている。このフォトマスク４２を用いてフォトリソグラフィ処理を行えば、１回の露光工程によって、樹脂層３１に複数の異なる凹凸形状を容易に形成できる。
【００８９】
（電気光学装置の製造方法の第２実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法の他の実施形態を説明する。本実施形態の説明も図１に示した液晶表示装置１を製造する場合を例に挙げて説明するものとし、第１実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【００９０】
本実施形態において、図１２に示す工程Ｐ１から工程Ｐ６に至る素子基板１１の形成工程は、第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明は省略する。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８に至るカラーフィルタ基板の形成工程において、工程Ｐ１２から工程Ｐ１８に至る工程も第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明も省略する。また、工程Ｐ２１から工程Ｐ２８に至る工程も第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明も省略する。
【００９１】
本実施形態が図１２に示した第１実施形態と異なる点は、図２の樹脂層３１を形成するための工程Ｐ１１にある。具体的に説明すれば、第１実施形態では、工程Ｐ１１において、図２の樹脂層３１の凹凸形状を図１３のフォトマスク４２を用いて形成した。この場合には、フォトマスク４２において領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃごとに異なるマスクのパターンを形成した。これにより、フォトマスク４２を用いて露光工程を１回行うことによって、図２の樹脂層３１の表面に領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃ毎に複数の異なる凹凸形状を形成した。
【００９２】
本実施形態では、図１２の工程Ｐ１１において、樹脂層３１の表面に領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃ毎に複数の異なる凹凸形状を形成するにあたり、各領域に形成する凹凸形状に対応したマスクパターンを有するフォトマスクをそれぞれ用いる。そして、複数回の露光、例えば形成する領域の数に対応した複数回の露光を行い、樹脂層３１に凹凸形状を形成する。
【００９３】
図１４は、図１２における樹脂層形成工程Ｐ１１の一実地形態を示している。図１２の樹脂層形成工程Ｐ１１は、図１４に示すように大きく分けて、樹脂層積層工程Ｑ１、マスクパターン露光工程Ｑ２、凹凸形状形成工程Ｑ３の各工程を有している。樹脂層積層工程Ｑ１は、図２の第２透光性基板１６ｂの表面上に樹脂層３１を一様な膜形状に積層するための工程である。また、マスクパターン露光工程Ｑ２は、工程Ｑ１で積層した樹脂層３１をフォトマスクのパターンに露光する工程である。また、凹凸形状形成工程Ｑ３は露光した樹脂層３１を現像して樹脂層３１に凹凸形状を形成する工程である。
【００９４】
図１５は図１４の露光工程Ｑ２において用いるフォトマスクを示している。図１５（ａ）のフォトマスク５２ａは、図４の中央部領域Ｖａに対応する領域Ｖａ’に複数の開口からなるマスクパターン５３ａを有している。このマスクパターン５３ａにより、図４の樹脂層３１の領域Ｖａのマスクパターンの光透過部に対応する領域が感光して、例えばポジ型感光性樹脂材料を用いた場合は、凹形状が形成される。
【００９５】
図１５（ｂ）のフォトマスク５２ｂは、図４の広い散乱特性の領域Ｖｂに対応する領域Ｖｂ’に複数の開口からなるマスクパターン５３ｂを有している。このマスクパターン５３ｂにより、図４の樹脂層３１の領域Ｖｂのマスクパターンの光透過部に対応する領域が感光して、例えばポジ型感光性樹脂材料を用いた場合は、凹形状が形成される。
【００９６】
また、図１５（ｃ）のフォトマスク５２ｃは、図４の狭い散乱特性の領域Ｖｃに対応する領域Ｖｃ’に複数の開口からなるマスクパターン５３ｃを有している。このマスクパターン５３ｃにより、図４の樹脂層３１の領域Ｖｃのマスクパターンの光透過部に対応する領域が感光して、例えばポジ型感光性樹脂材料を用いた場合は、凹形状が形成される。これらのフォトマスク５２ａ、５２ｂ、５２ｃが有するマスクパターン５３ａ、５３ｂ、５３ｃは、それぞれ平面的に見て同じ粗さのパターンである。
【００９７】
以下に、樹脂層の形成工程を具体的に説明する。まず、図１４の工程Ｐ３１において、カラーフィルタ側マザー透光性基板の表面上に図２の樹脂層３１を一様な厚さに形成する。樹脂層３１は、例えばポジ型感光性樹脂材料をスパッタ処理によって一様な厚さに成膜する。
【００９８】
次に、工程Ｐ３２において、図４の領域Ｖａに対応する樹脂層３１を図１５（ａ）に示すフォトマスク５２ａを用いて露光する。次に、図１４の工程Ｐ３３において、図４の領域Ｖｂに対応する樹脂層３１を図１５（ｂ）に示すフォトマスク５２ｂのパターン５３ｂの形状に露光する。この場合には、工程Ｐ３２における第１の露光に比べて露光量を多くして露光を行う。なお、露光量の多少は、露光時間一定で露光の光量を変化させるか、あるいは、露光量一定で露光時間を変化させることによって調節できる。フォトマスク５２ｂのパターン５３ｂは、フォトマスク５２ａのパターン５３ａと同じ形状である。しかし、工程Ｐ３３における露光量を多くすることにより、工程Ｐ３２に比べて樹脂層３１における露光の深さを深くできる。
【００９９】
次に、工程Ｐ３４において、図４の領域Ｖｃに対応する樹脂層３１を図１５（ｃ）に示すフォトマスク５２ｃのパターン５３ｃの形状に露光する。この場合には、工程Ｐ３２の第１露光工程に比べて露光量を少なくして露光を行う。フォトマスク５２ｃのパターン５３ｃは、フォトマスク５２ａのパターン５３ａと同じ形状である。しかし、工程Ｐ３４における露光量を少なくすることにより、工程Ｐ３２に比べて樹脂層３１における露光の深さを浅くできる。
【０１００】
次に、図１４の工程Ｐ３５において、露光した後の樹脂層３１に現像剤を付与してその樹脂層３１を現像する。図４および図５の樹脂層３１は、工程Ｐ３２から工程Ｐ３４のそれぞれにおいて露光量を変えて、重ねて露光される。これにより、樹脂層３１における領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃのそれぞれにおいて深さが異なる露光が行われて、異なった深さの潜像が形成される。そして、この樹脂層３１を現像することによって、樹脂層３１に異なる複数の凹凸形状が形成できる。
【０１０１】
本実施形態では、図１５に示すように、領域毎に異なる３種類のフォトマスク５２ａ、５２ｂ、５２ｃを用いることにより、図５に示すように、樹脂層３１に複数の異なる大きさおよび異なる深さの凹凸形状を形成した。これにより、樹脂層３１上に形成される反射膜３２にも複数の異なる大きさおよび異なる深さの凹凸形状を形成できる。その結果、異なる散乱特性を有した領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃをそれぞれ形成できる。これにより、図１の表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできるので、観察者が観察点Ｐから見る表示領域の全体で表示が見易くなる。
【０１０２】
なお、上記の説明では、樹脂層３１としてポジ型の感光性樹脂材料を用いてその樹脂層３１の表面に凹形状を形成する場合を例示したが、これに代えて、ポジ型の感光性樹脂材料を用いて凸形状を形成しても良く、ネガ型の感光性樹脂材料を用いて凹形状を形成しても良く、あるいは、ネガ型の感光性樹脂材料を用いて凸形状を形成しても良い。
【０１０３】
（電気光学装置の製造方法の第３実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法のさらに他の実施形態を説明する。本実施形態は図９に示した液晶表示装置１０１を製造する場合を例に挙げて説明するが、第１実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【０１０４】
図１６は、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の一例を工程図として示している。図１６において、工程Ｐ１から工程Ｐ６が図９の素子基板１１を形成するための工程である。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８が図９のカラーフィルタ基板１２を形成するための工程である。また、工程Ｐ４１から工程Ｐ４９がそれらの基板を組み合わせて液晶表示装置を完成させるための工程である。
【０１０５】
本実施形態において、工程Ｐ１から工程Ｐ６に至る素子基板１１の形成工程は、第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明は省略する。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８に至る工程も第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明も省略する。また、工程Ｐ４１から工程Ｐ４６に至る工程も第１実施形態の場合と同じであるので、これらの工程に関する説明も省略する。
【０１０６】
図２に示した第１実施形態および第２実施形態においては、カラーフィルタ基板１２を製造する工程Ｐ１１〜Ｐ１８において、図２の樹脂層３１に異なる複数の凹凸形状を形成することによって、図１の表示領域に異なる３つの散乱特性を有する領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成した。これに対し、本実施形態では、素子基板１１とカラーフィルタ基板１２とを貼り合わせた後に、素子基板１１の外側表面に図９の光散乱板４１を貼り付けるようにした。この場合には、工程Ｐ１１においてカラーフィルタ基板１２の樹脂層３１には凹凸形状を形成しても形成しなくても良い。
【０１０７】
具体的には、工程Ｐ１から工程Ｐ６において素子基板１１を製造し、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８においてカラーフィルタ基板１２を製造する。その後、第１実施形態における工程Ｐ２１から工程Ｐ２６に至る工程と同じ方法により、工程Ｐ４１から工程Ｐ４６において、図９の駆動用ＩＣ３を素子基板１１に実装するまでを行う。次に、図１６の工程Ｐ４７において図９の第１透光性基板１６ａを挟んで液晶層の反対側の面に光散乱板４１を貼り付ける。
【０１０８】
次に、図１６の工程Ｐ４８において、図９の液晶パネル２に偏光板１８ａ、１８ｂを貼着によって装着する。さらに、工程Ｐ４９において、図９の照明装置４を液晶パネル２に取付ける。これにより、液晶表示装置１０１が完成する。
【０１０９】
以上のように、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法においては、図１６の工程Ｐ４７において、図９の散乱板４１を装着した。図９の散乱板４１において異なる散乱特性を有する３つの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成すれば、第１実施形態および第２実施形態と同様に、表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできる。その結果、観察者が観察点Ｐから見る表示領域の全体で表示が見易くなる。
【０１１０】
（電気光学装置の製造方法の第４実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法のさらに他の実施形態を説明する。本実施形態において他の実施形態と同じ要素は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。
【０１１１】
図１７は、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の一例を工程図として示している。図１７において、工程Ｐ５１から工程Ｐ５７が図１の素子基板１１を形成するための工程である。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８が図１のカラーフィルタ基板１２を形成するための工程である。また、工程Ｐ２１から工程Ｐ２８がそれらの基板を組み合わせて液晶表示装置を完成させるための工程である。
【０１１２】
図１６の第３実施形態おいては、素子基板１１とカラーフィルタ基板１２とを貼り合わせた後に、素子基板１１の外側表面に図９の光散乱板４１を貼り付けるようにした（工程Ｐ４７）。これに対し本実施形態においては、図１７の工程Ｐ５１において、図１０の光散乱膜５１を形成するようにした。
【０１１３】
具体的には、まず、工程Ｐ５１において、図１０の第１透光性基板１６ａの液晶層１４側の面に光散乱膜５１を、例えばフォトリソグラフィ処理によって形成する。次に、図１７の工程Ｐ５２から工程Ｐ５７において、第１実施形態と同様に素子基板１１を製造する。次に、工程Ｐ１１から工程Ｐ１８においてカラーフィルタ基板１２を製造し、その後、第１実施形態の工程Ｐ２１から工程Ｐ２８に至る工程と同じ方法により液晶表示装置を完成する。
【０１１４】
以上のように、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法においては、図１７の工程Ｐ５１において、図１０の散乱板膜５１を形成した。この散乱膜５１において、図１に示すように、異なる散乱特性を有する３つの領域Ｖａ、Ｖｂ、Ｖｃを形成すれば、他の実施形態と同様に、表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできる。その結果、観察者が観察点Ｐから見る表示領域の全体で表示が見易くなる。
【０１１５】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、本発明の技術思想の範囲内で種々に改変できる。また、本発明の技術思想の範囲内で上記各実施形態及び変形例を適宜組み合わせて実施できる。
【０１１６】
例えば、以上に説明した第１実施形態および第２実施形態において、図２の樹脂層３１を形成する材料には、ポジ型の感光性樹脂材料を用いた。これに対し、樹脂層３１には、ネガ型の感光性樹脂材料を用いても良い。ネガ型感光性樹脂材料は光を照射した部分が現像により溶け難くなる材料である。この場合には、図４および図１５のように、パターン部分を開口によって形成したフォトマスクを用いて露光すれば、樹脂層３１には凸形状が形成される。他方、図４および図１５において開口である部分が覆われ、覆われていた部分が開口となるようなパターンのフォトマスクを用いて露光すれば、樹脂層３１には凹形状が形成される。上記どちらの場合においても、複数の異なる凹凸形状を形成することができる。
【０１１７】
また、上記各実施形態においては、複数の領域ごとに樹脂層の凹凸の大きさ、言い換えると凹凸の径及び高さを変えていたが、大きさとして高さまたは径のどちらか一方のみ、または凹凸の形状や領域内の凹凸の密度を変えることで散乱特性を異ならせても良い。また、複数回露光する、いわゆる多重露光による露光工程において、上記実施形態では同じ大きさの開口を備えたマスクを用いたが、領域ごとに開口の大きさが異なるマスクを用いて露光することで、凹凸の大きさを変えても良い。また、複数の領域の数は３つに限られるものではなく、２つや４つ、またはそれ以上の領域を設定しても良い。さらに、上述の実施形態や変形例では薄膜ダイオード素子アクティブマトリクス型の液晶表示装置について説明したがこれに限られるものではなく、例えば薄膜トランジスタ素子アクティブマトリクス型、パッシブマトリクス型の液晶表示装置であっても良い。
【０１１８】
（電子機器の実施形態）
次に、本発明に係る電子機器の実施形態を図面を用いて説明する。図１８は、本発明に係る電子機器の一実施形態のブロック図を示している。ここに示す電子機器は、液晶表示装置９１と、これを制御する制御回路７０とを有する。液晶表示装置９１は、液晶パネル７１と、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路７２とを有する。また、制御回路７０は、表示情報出力源７３と、表示情報処理回路７４と、電源回路７６と、タイミングジェネレータ７７とを有する。
【０１１９】
表示情報出力源７３は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等から成るメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等から成るストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを有する。この表示情報出力源７３は、タイミングジェネレータ７７によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路７４に供給する。
【０１２０】
表示情報処理回路７４は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路７２へ供給する。駆動回路７２は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路７６は、上記の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【０１２１】
液晶表示装置９１は、例えば、図１に示した液晶表示装置１、または図９に示した液晶表示装置１０１によって構成できる。これらの液晶表示装置１または１０１では、図１および図９において、散乱特性が異なる複数の領域を表示領域Ｖに設けたことにより、図１の表示領域Ｖに対して観察者の視角が変化したときでも、表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。従って、これらの液晶表示装置１または液晶表示装置１０１を用いた本電子機器においても、観察者の視角にかかわらず表示領域Ｖの全体の明るさを均一にできる。
【０１２２】
次に、図１９は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機８０は、本体部８１と、これに開閉可能に設けられた表示体部８２とを有する。液晶表示装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置８３は、表示体部８２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部８２において表示画面８４によって視認できる。本体部８１には操作ボタン８６が配列されている。
【０１２３】
表示体部８２の一端部にはアンテナ８７が伸縮自在に取付けられている。表示体部８２の上部に設けられた受話部８８の内部には、図示しないスピーカが配置される。また、本体部８１の下端部に設けられた送話部８９の内部には図示しないマイクが内蔵されている。表示装置８３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部８１又は表示体部８２の内部に格納される。
【０１２４】
表示装置８３は、例えば、図１に示した液晶表示装置１、または図９に示した液晶表示装置１０１によって構成できる。これらの液晶表示装置１または１０１は、図１および図９において、表示領域Ｖに複数の散乱特性が異なる領域を設けた。これにより、図１の表示領域Ｖに対する観察者の視角に応じて表示領域Ｖ全体の明るさを均一にできるので、観察者が見る表示領域の全体で表示を見易くできる。そのため、この液晶表示装置１または液晶表示装置１０１を用いた図１９の携帯電話機８０においても表示画面８４の全体で表示が見易くなる。
【０１２５】
（変形例）
本発明に係る電子機器としては、以上に説明した携帯電話機の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、デジタルスチルカメラ、腕時計、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、その他各種の機器が考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶表示装置を示す斜視図である。
【図２】図１の要部を拡大して示す断面図である。
【図３】図１の装置で用いられるスイッチング素子の一例を示す斜視図である。
【図４】図２の反射層を矢印Ａ方向から示す平面図である。
【図５】図４のＢ−Ｂ線に従った断面図である。
【図６】散乱特性の一例を示すグラフであり、（ａ）は広い散乱特性を示しており、（ｂ）は狭い散乱特性を示している。
【図７】図６の散乱特性の測定方法を示す概略図である。
【図８】図１の液晶表示装置の電気的な等価回路を示す回路図である。
【図９】本発明に係る電気光学装置の他の実施形態である液晶表示装置を示す斜視図である。
【図１０】図９の要部を拡大して示す断面図である。
【図１１】図１の液晶表示装置に適用できる表示領域の変形例を示す平面図である。
【図１２】本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図１３】図１２の製造方法に用いるフォトマスクを示す平面図である。
【図１４】本発明に係る電気光学装置の製造方法の他の実施形態を示す工程図である。
【図１５】図１４の製造方法に用いるフォトマスクを示す平面図である。
【図１６】本発明に係る電気光学装置の製造方法のさらに他の実施形態を示す工程図である。
【図１７】本発明に係る電気光学装置の製造方法のさらに他の実施形態を示す工程図である。
【図１８】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図１９】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。
【図２０】表示領域に対する観察者の視角の違いを示す図である。
【符号の説明】
【０１２７】
１．液晶表示装置（電気光学装置）、 ２．液晶パネル、 ３．駆動用ＩＣ、
４．照明装置、 ５．ＦＰＣ、 ６．ＬＥＤ（光源）、 ７．導光体、 ８．反射層、
１１．素子基板、 １２．カラーフィルタ基板、 １３．シール材、 １４．液晶層、
１５．スペーサ、 １６ａ，１６ｂ．透光性基板 、１７ａ，１７ｂ．位相差板、
１８ａ，１８ｂ．偏光板、 ２１．ライン配線、 ２１’．データ線、
２２．ＴＦＤ素子、 ２３．ドット電極、 ２４ａ，２４ｂ．配向膜、
２９．張出し部、 ３１．樹脂層、 ３２．反射膜、 ３３．着色要素、
３４．オーバーコート層、 ３５．遮光部材、 ３６．帯状電極、 ３６’．走査線、
４１．散乱板、 ４２，５２．フォトマスク、 ４３，５３．マスクパターン、
５１．散乱膜、 ８０．携帯電話機（電子機器）、 ８３．液晶表示装置、
９１．液晶表示装置、 Ｄ．表示ドット領域、 Ｇ．セルギャップ、 Ｌ０．外部光、 Ｌ１．透過光、 Ｒ．反射部、 Ｔ．透過部、 Ｖ，Ｖａ，Ｖｂ，Ｖｃ．表示領域
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学物質を支持する基板と、
複数の画素と、
前記複数の画素によって構成される表示領域と
を有する電気光学装置であって、
前記表示領域は異なる光散乱特性を有する複数の領域を有すること
を特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１記載の電気光学装置において、前記複数の領域は、前記表示領域の中心を含み広い散乱特性を有する中央領域を備え、
前記複数の領域の内、前記中央領域の他の領域は、前記中央領域よりも狭い散乱特性を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１記載の電気光学装置において、前記各複数の領域において、所定の観察点から表示面までの距離が長い領域は広い散乱特性を有し、
前記距離が長い領域よりも前記観察点から表示面までの距離が短い領域は、前記距離が長い領域よりも狭い散乱特性を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３記載の電気光学装置において、前記各複数の領域において、前記観察点に対して前記表示領域の中央領域より反対側にある領域では広い散乱特性を有し、
前記表示領域の中央領域より観察点側にある領域では、前記反対側の領域よりも狭い散乱特性を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４記載の電気光学装置において、前記観察点は、前記表示領域の略中心位置の法線から角度１５度傾いた線上に位置することを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の電気光学装置において、前記複数の領域毎に対応した、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を有する反射膜を前記基板上にさらに有し、
前記複数の領域毎に、前記凹凸の形状、大きさまたは密度を異ならせることによって、異なる散乱特性を有する前記複数の領域を形成することを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の電気光学装置において、透過する光を散乱する散乱板を前記基板上にさらに有し、該散乱板の散乱特性を前記複数の領域に対応する複数の部分毎に異ならせることによって、異なる散乱特性を有する前記複数の領域を形成することを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１つに記載の電気光学装置において、
前記中央領域を挟んで対向する、第１領域と第２領域とを備え、
前記第１領域は、前記観察点からの距離が長くて前記中央領域を囲む領域であり、
前記第２領域は、前記観察点からの距離が前記距離が長い領域よりも短く、前記中央領域を囲む領域であり、
前記第１領域、前記中央領域、前記第２領域の順に広い散乱特性となることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
電気光学物質を支持する基板と、複数の画素と、前記複数の画素によって構成される表示領域とを有し、前記表示領域は異なる光散乱特性を有する複数の領域を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記基板の上に、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を備えた反射膜を形成する工程を備え、
前記反射膜を形成する工程では、前記複数の領域毎に、形状、大きさまたは密度が異なる前記凹凸を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載の電気光学装置の製造方法において、
前記基板の上に、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を備えた樹脂層を形成する工程を備え、
前記反射層を形成する工程では、前記樹脂層の上に前記反射膜を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の電気光学装置の製造方法において、前記樹脂層を形成する工程は、
感光性樹脂材料の層を前記基板の上に形成する工程と、
前記感光性樹脂材料の層を露光マスクを介して露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂材料の層を現像する工程と
を有し、
前記露光マスクは、前記複数の領域毎に遮光性が異なるマスクパターンを有し、
前記露光工程では、異なる高さの凹凸の潜像が１回の露光で行われる
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０記載の電気光学装置の製造方法において、前記樹脂層を形成する工程は、
感光性樹脂材料の層を前記基板の上に形成する工程と、
前記感光性樹脂材料の層を露光マスクを介して露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂材料の層を現像する工程と
を有し、
前記露光工程では、前記複数の領域毎に異なる露光マスクを介して複数回の露光が行われ、
前記複数回の露光の各々では、異なる露光量で露光が行われる
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
複数の画素が設定された基板と、
前記複数の画素によって構成される表示領域を有し、
前記表示領域は異なる散乱特性を有する複数の領域を有すること
を特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１４】
請求項１から請求項８のいずれか１つに記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
【請求項１】
電気光学物質を支持する基板と、
複数の画素と、
前記複数の画素によって構成される表示領域と
を有する電気光学装置であって、
前記表示領域は異なる光散乱特性を有する複数の領域を有すること
を特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１記載の電気光学装置において、前記複数の領域は、前記表示領域の中心を含み広い散乱特性を有する中央領域を備え、
前記複数の領域の内、前記中央領域の他の領域は、前記中央領域よりも狭い散乱特性を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１記載の電気光学装置において、前記各複数の領域において、所定の観察点から表示面までの距離が長い領域は広い散乱特性を有し、
前記距離が長い領域よりも前記観察点から表示面までの距離が短い領域は、前記距離が長い領域よりも狭い散乱特性を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３記載の電気光学装置において、前記各複数の領域において、前記観察点に対して前記表示領域の中央領域より反対側にある領域では広い散乱特性を有し、
前記表示領域の中央領域より観察点側にある領域では、前記反対側の領域よりも狭い散乱特性を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４記載の電気光学装置において、前記観察点は、前記表示領域の略中心位置の法線から角度１５度傾いた線上に位置することを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の電気光学装置において、前記複数の領域毎に対応した、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を有する反射膜を前記基板上にさらに有し、
前記複数の領域毎に、前記凹凸の形状、大きさまたは密度を異ならせることによって、異なる散乱特性を有する前記複数の領域を形成することを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から請求項５のいずれか１つに記載の電気光学装置において、透過する光を散乱する散乱板を前記基板上にさらに有し、該散乱板の散乱特性を前記複数の領域に対応する複数の部分毎に異ならせることによって、異なる散乱特性を有する前記複数の領域を形成することを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１つに記載の電気光学装置において、
前記中央領域を挟んで対向する、第１領域と第２領域とを備え、
前記第１領域は、前記観察点からの距離が長くて前記中央領域を囲む領域であり、
前記第２領域は、前記観察点からの距離が前記距離が長い領域よりも短く、前記中央領域を囲む領域であり、
前記第１領域、前記中央領域、前記第２領域の順に広い散乱特性となることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
電気光学物質を支持する基板と、複数の画素と、前記複数の画素によって構成される表示領域とを有し、前記表示領域は異なる光散乱特性を有する複数の領域を有する電気光学装置の製造方法であって、
前記基板の上に、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を備えた反射膜を形成する工程を備え、
前記反射膜を形成する工程では、前記複数の領域毎に、形状、大きさまたは密度が異なる前記凹凸を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載の電気光学装置の製造方法において、
前記基板の上に、複数の凹凸からなる複数の凹凸部を備えた樹脂層を形成する工程を備え、
前記反射層を形成する工程では、前記樹脂層の上に前記反射膜を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の電気光学装置の製造方法において、前記樹脂層を形成する工程は、
感光性樹脂材料の層を前記基板の上に形成する工程と、
前記感光性樹脂材料の層を露光マスクを介して露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂材料の層を現像する工程と
を有し、
前記露光マスクは、前記複数の領域毎に遮光性が異なるマスクパターンを有し、
前記露光工程では、異なる高さの凹凸の潜像が１回の露光で行われる
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０記載の電気光学装置の製造方法において、前記樹脂層を形成する工程は、
感光性樹脂材料の層を前記基板の上に形成する工程と、
前記感光性樹脂材料の層を露光マスクを介して露光する露光工程と、
露光された前記感光性樹脂材料の層を現像する工程と
を有し、
前記露光工程では、前記複数の領域毎に異なる露光マスクを介して複数回の露光が行われ、
前記複数回の露光の各々では、異なる露光量で露光が行われる
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
複数の画素が設定された基板と、
前記複数の画素によって構成される表示領域を有し、
前記表示領域は異なる散乱特性を有する複数の領域を有すること
を特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１４】
請求項１から請求項８のいずれか１つに記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【公開番号】特開２００６−７８７２３（Ｐ２００６−７８７２３Ａ）
【公開日】平成１８年３月２３日（２００６．３．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２６１９８６（Ｐ２００４−２６１９８６）
【出願日】平成１６年９月９日（２００４．９．９）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年３月２３日（２００６．３．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年９月９日（２００４．９．９）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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