【課題】 部品の摩耗が極めて少なく、また軸封機構への水の供給を不要とすることができるポンプを提供する。
【解決手段】 ケーシング１に収容された羽根車３と、羽根車３が固定された回転軸７と、羽根車３の回転により昇圧された液体がモータ側に流れることを防止する減圧羽根車５と、減圧羽根車５のモータ側に配置された軸封機構２０とを備え、軸封機構２０のシール機能は、該軸封機構２０が液体の圧力を受けたときに作動するように構成されている。 （もっと読む）

研磨量に加えて、研磨対象物の表面温度、研磨パッドの厚み等のパラメータをも考慮して研磨プロファイルを最適化する研磨装置を提供する。制御ユニットＣＵの制御の下で研磨対象物を研磨するための研磨装置は、少なくとも２つの押圧部分を有し、それぞれの押圧部分ごとに任意の圧力を研磨対象物に印加することができるトップリングと、研磨対象物の研磨量を測定する測定装置ＩＭと、研磨対象物の研磨状態を監視する監視装置ＳＭとを具備する。制御ユニットＣＵは、測定装置ＩＭと監視装置ＳＭとの出力とに基づいて、研磨対象物の研磨プロファイルを最適化するのに必要な加工圧力をトップリングに設定するためのシミュレーション・ソフトにしたがって研磨対象物の研磨を行わせる。
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【課題】占有面積を減少させたコンパクトな構成で、しかも駆動軸の振動を抑えて安定に稼動することができる基板の研磨装置を提供する。
【解決手段】研磨プレート５０を有する研磨テーブル４８と、該研磨テーブル４８に偏芯位置で連結して該研磨テーブル４８を研磨プレート５０と一体に並進円運動させる駆動軸６８とを備え、研磨テーブル４８の大きさは、研磨対象の基板とほぼ同じに設定され、研磨プレート５０の内部には、研磨プレート５０と研磨テーブル４８との間に形成された空間７８に連通する複数の研磨液吐出孔５０ａが設けられている。 （もっと読む）

【課題】 吸気口における旋回流れを防止し、吸気口からの吸気によって円滑な先行待機運転を継続的に行うことができる揚水ポンプを提供する。
【解決手段】 この揚水ポンプは、貯水ピット１０内に垂下して吸込口２６ａを下向きに開口させたポンプケーシング１６と、該ポンプケーシング１６内において縦方向に延びる軸体１８と一体に回転する羽根車２０と、ポンプケーシング１６の羽根車の下端より上流側に設けられた吸気口３６と、一端を吸気口３６に連通させ、他方を大気中に開口させた吸気管３８とを備えている。軸体１８は羽根車２０の下端よりも上流側へ延びており、軸体１８の下端近傍を支持する軸受箱４２が設けられており、該軸受箱４２とポンプケーシング１６を連結する軸受箱支持板４４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 セルロ−ス系炭水化物を含む有機性排水及び／又は有機性廃棄物を、高い有機物負荷において安定したメタン発酵処理できる方法と装置を提供する。
【解決手段】 セルロ−ス系炭水化物を含む有機性廃水及び／又は有機性廃棄物をメタン発酵処理する方法において、該メタン発酵処理を、硫酸イオンを含む無機塩又は該無機塩を含む有機物を添加して行うか、又は、加水分解・酸発酵処理を行なった後にタン発酵処理する方法おいて、該加水分解・酸発酵処理を、硫酸イオンを含む無機塩又は該無機塩を含む有機物を添加して行うこととしたものであり、前記メタン発酵処理は、５０〜６０℃の高温で行うのがよく、また、前記無機塩又は該無機塩を含む有機物の添加は、プロピオン酸の生成が多くなった場合に行うのがよい。 （もっと読む）

【課題】汚染を効率的に防止することができるクリーンルーム内に設置可能なポリッシング装置を提供する。
【解決手段】ウエハ１６を収納したカセット１３の受け渡しをするロードアンロードブロック７と、カセット１３からウエハ１６を移動させる搬送ブロック８と、ウエハ１６を研磨する研磨ブロック６と、研磨後のウエハ１６を洗浄、乾燥する洗浄ブロック９と、装置の運転をコントロールする制御ブロック１０とを配置し、これら全体を覆うように周囲及び天井に壁板を設け、箱状に構成したポリッシング装置であって、ウエハ１６は研磨ブロック６で研磨され、研磨されたウエハ１６が研磨ブロック６から洗浄ブロック９に移される。そして、ウエハ１６は洗浄され、乾燥され、ポリッシング装置から取り出される。 （もっと読む）

【課題】 研磨対象物の被研磨面への薬液の均一な供給と研磨対象物の面内における研磨速度の均一性を両立することができる研磨装置を提供する。
【解決手段】 研磨装置３０は、研磨面３２と、ウェハＷを保持するトップリング３６と、研磨面３２とトップリング３６に保持されたウェハＷとを相対移動させるモータ４６，５６と、トップリング３６に保持されたウェハＷを研磨面３２に対して押圧する上下動機構５４と、研磨面３２をコンディショニングするコンディショナ６０とを備えている。この研磨装置３０においては、コンディショナ６０により研磨面３２のコンディショニングを行いつつ、ウェハＷを研磨面３２に対して押圧する圧力と、研磨面３２とウェハＷとの相対速度との積に研磨速度が比例しない非プレストン領域内の条件下で研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】電子部品の接点どうしをはんだを用いずに直接接合する実用的な技術を提供する。
【解決手段】この接合装置は、気密な処理室１０と、互いに接合部位４６を持つ２以上の被処理物体Ｗを処理室内において保持する保持手段３０，３２と、処理室内に接合部位を清浄化する処理ガスを導くガス導入手段と、処理室内を所定の圧力に制御する圧力制御手段２０と、処理室内において前記被処理物体を加熱する加熱手段３８と、処理室内において被処理物体の接合部位どうしを互いに圧接して接合する接合手段３６とを有する。これにより、清浄化した同じ処理室内において接合部位どうしを圧接して接合するので、接合部位の清浄化された表面の酸化や汚染による劣化を防ぎつつ、強固で耐用性の高い接合を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】緊急時遮断弁が閉じた場合に保護管内の仕様液を安全に且つ速やかに外部に排出できる液備蓄装置及びその運転方法を提供すること。
【解決手段】地下に配設された仕様液２０を備蓄する備蓄室１０と、該備蓄室１０に連通する保護管１２と、該保護管１２内に備蓄室１０内の仕様液２０を汲み上げるポンプ１６、該ポンプ１６の吐出口に接続した揚液管１７を配設すると共に、該備蓄室１０内の仕様液２０が該保護管１２内に流入するのを遮断する遮断弁１４とを備えた液備蓄装置において、遮断弁１４が閉じた場合、保護管１２内の仕様液２０を外部に排出する排液手段を設けた。ガス配管２４から保護管１２内にＮ₂ガスを供給して加圧し、仕様液排出配管２６を通して仕様液を保護管１２の外に排出する。 （もっと読む）

【課題】 有機物の分解率を上げると共に、安定したメタン発酵処理が行える有機性廃棄物及び／又は有機性廃水のメタン発酵処理方法と装置を提供する。
【解決手段】 通性嫌気性菌及び嫌気性菌を含む有機性廃棄物及び／又は有機性廃水の被処理物をメタン発酵処理する方法において、該被処理物を、物理化学的な前処理４を行った後、前処理を行わない被処理物の一部１’と混合し、メタン発酵５を行うこととしたものであり、また、物理化学的な前処理の後に、酸発酵処理を行ってからメタン発酵処理を行ってもよく、その際、前記被処理物の一部を、前記酸発酵処理、又は、酸発酵処理とメタン発酵処理のそれぞれに混合して処理することもでき、前記物理化学的な前処理は、熱処理、超音波処理、機械的粉砕処理、オゾン処理又は化学薬品処理から選ばれる。 （もっと読む）