発電装置は、交流電力を生成する発電機（４）と、発電機（４）を駆動するガスタービンエンジン（２）と、発電機（４）により生成される交流電力を商用交流電力に変換するインバータ装置（５）とを備えている。発電装置は、インバータ装置（５）の出力を商用交流電源系統に連系させる連系スイッチ（Ｓ_１）と、インバータ装置（５）の直流電源電圧（Ｖdc-in）を検出する第１の電圧検出器（４６）と、商用交流電源系統側の全波整流電圧を検出する第２の電圧検出器（３３，４５）とを含んでいる。また、発電装置は、インバータ装置（５）の直流電源電圧が商用交流電源系統の全波整流電圧を上まわったときに、連系スイッチ（Ｓ_１）を投入する系統連系制御部（１８）を含んでいる。
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【課題】冷媒液を蒸発部に移送する冷媒液の流れと、蒸発部から冷媒液を取り出した後に再び蒸発部に戻して循環させる冷媒液の流れとを同一冷媒ポンプによりにより発生させ、単純な構成とした吸収ヒートポンプを提供する。
【解決手段】冷媒蒸気ＣＳを凝縮して冷媒液ＣＬとする凝縮部Ｃ、５Ａと、凝縮部から供給される冷媒液を単一の圧力下で蒸発させて冷媒蒸気を発生させ、蒸発しない余剰の冷媒液を凝縮部に戻す蒸発部Ｅと、凝縮部で凝縮した冷媒液を昇圧し蒸発部へ供給する冷媒昇圧手段４とを備える吸収ヒートポンプとする。 （もっと読む）

【課題】 どのような条件でも、吸込側圧力の低下と回復の繰返しに起因する加圧ポンプの停止と始動の繰り返しを防止することができる給水装置を提供する。
【解決手段】 本発明の給水装置は、加圧ポンプ３と、加圧ポンプ３を駆動するモータ４と、加圧ポンプ３の吸込側流路５と吐出側流路６とを接続するバイパス流路７と、加圧ポンプ３を制御する制御装置４０と、加圧ポンプ３の吸込側圧力が第１の所定値以下になったこと、及び第２の所定値以上になったことを検出する吸込側圧力検出器１５とを備え、制御装置４０は、吸込側圧力が第１の所定値以下になったことを吸込側圧力検出器１５が検出したときに加圧ポンプ３を停止させ、所定のポンプ停止時間が経過するまでは加圧ポンプ３の停止状態を継続させ、ポンプ停止時間が経過した後であって吸込側圧力が回復したときに加圧ポンプ３を運転可能な状態とする。 （もっと読む）

【課題】 高密度の中性粒子ビームを被処理物に照射することができ、被処理物の加工速度を向上させることができる中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】 中性粒子ビーム処理装置１０は、イオン生成室１４の内部にイオンを生成するイオン生成手段と、イオン生成室１４の内部のイオンを中性化室１６に引き出す引出手段と、引き出されたイオンを中性化して中性粒子ビームを生成する中性化手段とを備える。中性粒子ビーム処理装置１０は、中性粒子ビーム中に残留する荷電粒子を除去する荷電粒子除去手段と、中性粒子ビームが照射される被処理物１８を保持する保持台４８とを備えている。荷電粒子除去手段は、ビームの進行方向に垂直な方向に磁界を形成して荷電粒子の軌道を曲げる磁界形成手段と、軌道が曲げられた荷電粒子を捕捉する捕捉板６６とを有している。 （もっと読む）

【課題】小形・省スペースのポンプ装置を提供する。
【解決手段】モータ固定子１３の外周部に設けられたモータフレーム外胴１４と、モータフレーム外胴１４の外周面との間に環状空間４０を形成する外筒２と、環状空間４０に取扱液を導くポンプ部と、内部に設けられた逆止弁１１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 界面活性剤を有し、多孔質膜に直接接触しても、多孔質膜の内部に浸入することがないようにした湿式処理液を提供する。
【解決手段】 界面活性剤が添加され、多孔性膜表面の湿式処理に使用される湿式処理液であって、界面活性剤として、溶液として前記多孔質膜に対する接触角が９０°より大きく、１８０°以下となるものを使用した。 （もっと読む）

【課題】 基板表面上に残留するスラリー及び研磨残留物を界面活性剤を含む洗浄液で洗浄除去した後に、層間絶縁膜に染み込んだ有機物質を効率的に除去することが可能なＣＭＰ研磨方法を提供する。
【解決手段】 界面活性剤を含む洗浄液で洗浄して、残留するスラリーと研磨残留物を除去すると、界面活性剤を含む洗浄液中の有機物が層間絶縁膜３の中に染み込む。そこで、この後、有機溶媒、又は有機溶媒を含んだ溶液により基板を洗浄し、層間絶縁膜３中に染み込んだ有機物の洗浄除去を行う。層間絶縁膜３は疎水化処理を施されているが、有機溶媒であるのでそれに影響されずに層間絶縁膜３中に染み込んで有機物を溶解し、洗浄除去することができる。その後、基板１を乾燥させ、表面に付着した有機溶媒又は有機溶媒を含む溶液を除去する。 （もっと読む）

【課題】従来困難であったパッケージ下部の騒音を確実に低減できるようにした立形ガスタービン装置を提供する。
【解決手段】上端及び周囲を覆う防音エンクロージャ１２の内部に、立形ガスタービンと立形減速機１６とを上下に収納し、この立形減速機１６をパッケージベース１８に固着し該立形減速機１６の出力軸２８をパッケージベース１６の下方に突出させてパッケージ化した立形ガスタービン装置において、パッケージベース１８と該パッケージベース１８の周縁部に当接してパッケージ全体を支持するパッケージ支持枠４８との間に防振ゴム４６を介装した。 （もっと読む）

【課題】専用の騒音センサ及び振動センサを用いることなく、画像処理分析技術を用いて回転機械の故障診断を行う。
【解決手段】回転機械１の表面には評価用図形が表示されており、回転機械１から離れた位置に固定されているカメラ付き携帯電話機等の通信装置２が評価用図形の画像データを取得する。得られた画像データは、ＰＣ等からなるデータ処理分析装置３に伝送され、該装置３は、受け取った現在画像データから得られる現在画像パターンの面積と、予め記憶された回転機械の正常稼働状態での評価図形の基準画像データから得られる基準画像パターンの面積とを対比し、面積の差が所定値以上になったときに、回転機械１が故障であると判定する。回転機械１上にカメラ付き通信装置２を配置し、回転機械１から離れた壁面等に評価用図形を表示しても良い。評価用図形は、円形の内部に十字形を表した図形等の単純図形を採用することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ベベル研磨ヘッドが複数個備えてあっても研磨速度及び研磨範囲にバラツキがなく、基板回転によるトルク値を観察し、加工終了を検出する加工エンド検出機構にも機差が少なく、加工時間が安定する基板処理装置の研磨ヘッド位置調整方法及び研磨ヘッド位置調整治具を提供すること。
【解決手段】半導体ウエハＷ等基板を保持して回転する基板保持回転テーブル１０と、該基板保持回転テーブルに保持された基板の少なくともベベル部を研磨する研磨ヘッド３２を備えた基板処理装置の該研磨ヘッド３２の位置を調整する基板処理装置の研磨ヘッド位置調整方法であって、ベベル研磨を行う際の研磨ヘッドの位置調整を治具２１を用いて行なうことを特徴とする。このように研磨ヘッド３２の位置調整を治具２１を用い、研磨ヘッド角度を０．１ＤＥＧまで調整することで、研磨範囲及び研磨速度のバラツキが少なくなる。 （もっと読む）