【課題】めっき処理及びそれに付帯する処理を連続的に行う各ユニット（機器）を同一設備内に効率的に配置して占有面積を減少させ、しかもめっき処理等に使用する薬品による基板の汚染を防止できるようにしためっき処理ユニットを提供する。
【解決手段】被めっき面を下向きにして基板を保持する基板保持部と、めっき液４５を保持するめっき室４９を有するめっき槽５０と、めっき室４９内に保持されためっき液４５に浸漬させて配置されるアノード４８とを有し、アノード４８は、めっき槽５０に引抜き自在に装着したアノード保持体５２内に保持されている。 （もっと読む）

【課題】 目的とする反応を行わせ、または目的とする反応生成物を生成するために、状況に応じて柔軟に対応可能な混合器を提供する。
【解決手段】 この混合器は、１または複数の流体を混合させる混合器であって、内部に互いに合流または分岐する流路が形成された流路ブロック１０と、流路ブロック１０の流路１２に継手１４を介して接続されるチューブ１８とを有する。この混合器によれば、流路ブロック１０を、原料供給部１６や混合した製品を回収する回収部２０にチューブ１８を介して接続することにより、必要な流体回路が形成され、流体は合流または分岐する流路において混合し、その結果として場合によっては反応して、目的とする生成物を生成する。 （もっと読む）

【課題】 複数種の材料で形成される有機高分子複合材料に対して連続グラフト重合方法を適用して強度等の物理特性に優れたグラフト材を得る方法を提供する。
【解決手段】 本発明の一態様は、複数種の材料で形成される有機高分子複合基材を連続的に放射線グラフト重合する方法であって、該基材に不活性雰囲気中で放射線を照射する工程と、照射済みの基材を不活性雰囲気中でグラフト重合する工程とを含み、照射工程とグラフト重合工程の間に、照射済みの基材をラジカル消去剤に接触させるか及び／又は加温するラジカル調整工程を行うことを特徴とする長尺有機高分子複合基材の連続放射線グラフト重合方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 下地に最適化された処理液で触媒付与処理等の活性化処理を行うことで、特に、配線等の表面に、該配線の電気特性を劣化させることなく、高品質の金属膜（保護膜）を効率よく形成できるようにする。
【解決手段】 液温を１５℃以下に調整した処理液に、好ましくは１５℃以下の所定の温度に冷却した基板の表面を接触させて該表面を活性化させ、この活性化させた基板の表面をめっき液に接触させて該表面に金属膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 動力源を使わず、天気によらず、容易に飲料水として利用可能な水を得ることができる浄水器と浄水キット及び浄水方法を提供する。
【解決手段】 長さ０．３ｍ以上のチューブを付けた中空糸膜モジュールからなる浄水器としたものであり、また、該浄水器と、１回分ずつ分包した殺菌剤、又は、１回分の処理水量に相当する容量の袋又は容器と、１回分ずつ分包した殺菌剤とを組合せた浄水キットとしたものであり、これらの浄水キットには、さらに透水性の袋に充填した活性炭を加えることができ、また、長さ０．３ｍ以上のチューブを付けた中空糸膜モジュールを水中に入れ、中空糸モジュール及びチューブ内の空気を抜いてサイフォン状態にした上で、チューブの末端を水面より下方にすることで濾渦水を得る浄水方法としたものである。 （もっと読む）

本発明は、２軸の同期反転するロータが互いに非接触を保ちつつ回転することで気体を排出する容積型の真空ポンプに関する。本発明の容積型の真空ポンプは、同期反転する２本の回転軸（１１ａ，１１ｂ）と、それぞれの回転軸（１１ａ，１１ｂ）に提供された多段のロータ（１２，１２）と、多段のロータ（１２，１２）を備えたロータケーシング（１４）と、回転軸（１１ａ，１１ｂ）を回転しながら支持する複数の軸受（２１）と、軸受（２１）を収容するための軸受ケーシング（２３）と、軸受ケーシング（２３）を冷却する冷却機構（２５）と、軸受（２１）近傍に配置されたシール部（２７）とを有する。軸受（２１）とシール部（２７）は冷却機構（２５）によって冷却される。
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【課題】有機性排水または汚泥の臭気成分を高濃度、小体積にすることによって、小型で低コストで処理できる脱臭方法及び装置を提供する。
【解決手段】臭気成分が溶存する有機性排水又は汚泥を、減圧処理装置に導入することで、該液体中の臭気成分を気相に高濃度かつ小体積の状態で強制的に放出させ、この臭気成分を集中的に処理する有機性排水又は汚泥の脱臭方法。臭気成分が溶存する有機性排水又は汚泥の流入管、脱気汚泥の排出管及び真空度調節用空気の供給管が取り付けられた減圧脱気装置、該脱気装置の臭気成分を含む脱気排ガスを脱臭する酸化鉄を用いた乾式脱硫装置、該乾式脱硫装置の脱硫排ガスを系外へ排出する脱臭ファンを有する有機性排水又は汚泥の脱臭装置。 （もっと読む）

【課題】被処理物に均一な密度の中性粒子ビームを照射することができる中性粒子ビーム処理装置を提供する。
【解決手段】中性粒子ビーム処理装置は、複数の孔４０が形成された構造体４２と複数の中性粒子ビーム生成機構５０とを有する中性粒子ビーム源を備えている。各中性粒子ビーム生成機構５０は、孔４０の内部のプラズマ領域Ｐにマイクロプラズマを発生させるマイクロプラズマ生成部５１と、マイクロプラズマ中のイオン１０２を中性化領域Ｎに引き出すイオン引出部５２と、引き出されたイオン１０２を中性化して中性粒子ビーム１０４を生成する中性化部５３とを有している。マイクロプラズマ生成部５１とイオン引出部５２と中性化部５３とは構造体４２に一体に形成されている。 （もっと読む）

研磨工具は半導体ウェハ等の研磨対象物（１３）を平坦かつ鏡面状に研磨するために用いられる。研磨工具は、研磨テーブル（１０）と、該研磨テーブル（１０）上面に固定された研磨パッド（１１）を有する。該研磨パッド（１１）は、該研磨テーブル（１０）に固定した複数の研磨パッド片（１１１）を有する。研磨対象物（１３）の研磨面内の研磨性能の調整と、研磨パッド（１０）の交換を容易にすることができる。
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【課題】ケミカルの使用を抑制しつつ、研磨後のウエハの洗浄や排液処理の負荷を減少させ、かつ効率的に研磨を行なう研磨装置を提供する。
【解決手段】被研磨材を保持するトップリング１４と、イオン交換体を有する研磨部材１０，２４と、研磨液を供給するための研磨液供給手段３２，３０，２６と、研磨液中に電界を形成するための電源２０を有する。 （もっと読む）