【課題】 スループットを大きくして細かいパターンの評価をすること。
【手段】 複数の一次ビームを試料Ｗに照射し、該試料から放出される複数の二次電子線をビーム分離器２０で一次ビームから分離し、拡大光学系５で複数の二次電子線間の距離を拡大して検出器２８に入射させる電子線装置において、複数の一次ビームの軸上色収差を補正する補正レンズ１６を備え、ビーム分離器２０が補正レンズ１６と試料Ｗとの間に配置される。 （もっと読む）

【課題】 断線等の不具合の発生を抑制し、ＣＭＰ工程に要する時間を適正な範囲に抑え、めっき工程終了時点及びＣＭＰ工程で十分な平坦化ができ、余剰な金属を余すことなく除去でき、シード層、バリア層、絶縁層等の間に剥離を生じることなく、且つディシングやエロージョンを生じることもないような金属めっき膜を電解めっきにより基板に形成して基板配線を形成する基板配線形成方法、装置，及びめっき抑制物質転写スタンプを提供すること。
【解決手段】 基板１０に形成された配線溝やコンタクトホール等の凹部１１を電解めっきにより銅１３で埋め込み配線を形成する基板配線形成方法において、基板の凹部１１内表面を除く該基板１０の最表面にめっきを抑制するめっき抑制物質（インク４）を付着させる工程、電解めっきを行う工程、めっき抑制物質（インク４）を離脱させる工程、さらに電解めっきを行う工程を備えた。 （もっと読む）

【課題】 スポッティング液に粒子が含有されている場合や、スポッティング液の粘性が高い場合、スポッティング液が微量にしか存在しない場合でも、良好なスポッティングを安定して行うことができるスポッティング方法およびスポッティング装置を提供する。
【解決手段】 本発明のスポッティング方法は、スポッティング液吐出機構２内に収容されたスポッティング液１を吐出口５から吐出する。このスポッティング方法は、スポッティング液吐出機構２内の吐出口側にスポッティング液１を配置し、スポッティング液１の後方に、該スポッティング液１と接触するようにダミー液６を配置し、ダミー液６を介してスポッティング液１を押圧する。 （もっと読む）

【課題】潤滑油系統に混入した作動媒体を抽出回収して作動媒体系統に戻し、作動媒体系に混入した潤滑油を抽出回収し潤滑油系に戻す発電装置、及び発電装置の作動媒体・潤滑油回収方法を提供する。
【解決手段】蒸気発生器１１で発生した作動媒体蒸気を、タービン１３に導き発電機１２を駆動し、凝縮器１５にて凝縮した作動媒体液をポンプ１６にて蒸気発生器１１に送り込み、潤滑油供給ポンプ２０により発電機１２の軸受１８、１９に潤滑油を送り込むように構成した発電装置において、軸受１８、１９を潤滑し潤滑油を潤滑油タンク２１に導き、比重差により作動媒体液１０７と潤滑油１０６とを分離し、作動媒体液１０７を加熱器３１に導入し、発生した作動媒体蒸気を潤滑油タンク２１を経由して潤滑油滴を除去し凝縮器１５に戻し、潤滑油タンク２１で分離された潤滑油を潤滑油循環経路２４に戻す。 （もっと読む）

【課題】 ロールオフがあっても歩留まりよく研磨できる研磨装置を提供すること。
【解決手段】 研磨部材（研磨パッド）２０１と保持部材（トップリング）５２に保持されたウェーハＷとの間に圧力を加えつつ研磨部材２０１とウェーハＷとを相対運動させてウェーハＷを研磨する研磨装置は、ウェーハＷを保持するトップリング５２と、リテーナリング２０３の支持面が研磨パッド２０１を支持する支持圧力を調整するための圧力調整機構２０６と、ウェーハＷのロールオフ量に基づいて支持圧力が所望の圧力となるように圧力調整機構２０６を制御する制御部２０８とを具備する。トップリング５２は、ウェーハＷを研磨パッド２０１に押付けるエアバッグ２０２と、ウェーハＷを取り囲むリテーナリング２０３と、リテーナリング２０３を押すエアバッグ２０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料にメッキ層を形成した後直ちにその欠陥を検出することができる検出方法を提供する。
【解決手段】溝部を設けたＳｉＯ_２層（６２）上に銅メッキ層（６０）が形成された試料の欠陥を検出する欠陥検出方法である。この方法は、電子銃から放出された電子線（６３）を細く絞り、試料のＳｉＯ_２層を通過させ、ＳｉＯ_２層の溝部の底部の銅メッキ層に電子線を入射させて走査する。これら走査点から放出された二次電子（６４，６８）を検出して試料の欠陥を検出する。 （もっと読む）

【課題】 高い制御性を維持しつつ、高いレンジアビリティで流量を制御することができる流量制御装置及び方法を提供する。
【解決手段】 この流量制御装置は、流体管路１，２，４，５と、該流体管路の途中に配置された平板状の弁支持基板３とを備えている。弁支持基板３には、複数の個別に操作可能な開閉弁１１が設置されている。複数の開閉弁１１の内から適宜に選択したものを開閉することにより、レンジアビリティの高い流量制御を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で施工期間が短くて済み、自然排水時の水の流れを阻害せず、排水ポンプの維持管理が容易に行える排水ポンプ設備を提供すること。
【解決手段】
水路１１に設置される排水ポンプ２０を備えた排水ポンプ設備１であって、排水ポンプ２０を水路１１内の設置位置Ｘから水路１１外の引上位置Ｙへ引き上げる引上機構２５を具備して構成されている。引上機構２５は、水路１１の側部１２に設置した支軸部２６を支点として水路１１内まで延伸し上下方向に揺動するように設けられた架台２７に排水ポンプ２０を取り付けて構成されている。 （もっと読む）

【課題】添加剤の消耗量を抑え、効率的にめっき液を使用することでランニングコストと環境負荷の低減を同時に実現することができ、また、高品質のめっき処理を行うことができるめっき装置を提供する。
【解決手段】めっき液４５を保持するめっき槽５０と、カソードに接続された基板Ｗを少なくともめっき液４５中で保持するヘッド部４７と、めっき槽５０の内部に配置されるアノード４８と、めっき液４５をめっき槽５０に供給するめっき液噴出ノズル５３とを備える。めっき液４５の電気伝導率よりも小さい電気伝導率の高抵抗要素３２４を基板Ｗとアノード４８との間に配置する。めっき液噴出ノズル５３は、めっき処理に先立って高抵抗要素３２４にめっき液４５を供給する。 （もっと読む）

【課題】 太陽光を用いて良好な光触媒活性を発揮させることができる水中の有害物質を除去することができる水処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】 光触媒Ａを用いる太陽光利用の水処理方法において、可視光応答型光触媒Ａを、被処理水３中で太陽光からの可視光の照射強度が０．１μＷ／ｃｍ^２以上の位置に設置し、被処理水３を該光触媒Ａさせることとしたものであり、前記光触媒は、その形状が凹凸状１、２であり、該凹凸部１、２の少なくとも１部が太陽光に照射されていてもよく、また、太陽光に対向して５〜４５度の傾斜面に設置されていてもよい。 （もっと読む）