【課題】ディッシングやエロージョンなどの過剰研磨を防止しつつ、コンタクトプラグや配線形成領域以外の導電膜を迅速に除去することができる電解複合研磨方法を提供する。
【解決手段】電圧を高める工程では、接触面圧を０とした状態で、電圧を高めた場合に、電流密度が増加から減少に転じる第１変化点Ｃ電圧を閾値電圧とし、バリア膜を露出させた領域における電圧が、閾値電圧を超えるように、電圧を高めることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 有機溶媒中の金属イオンを除去でき、再生可能なポリオレフィンを基材とする有機高分子材料とそれを用いた有機溶媒の処理方法を提供する。
【解決手段】 有機溶媒中の金属イオンを除去するポリオレフィンを基材とする有機高分子材料であって、該有機高分子材料が、前記ポリオレフィン基材の主鎖に直鎖ポリエーテルを含むグラフト側鎖を結合したものである有機高分子材料としたものであり、前記グラフト側鎖は、放射線グラフト重合により導入され、クロロメチルスチレンに分子量が１６０〜２０００の直鎖ポリエーテルが共有結合したものであり、ポリオレフィン基材の形状は、不織布、短繊維、ネット又は粒子のいずれかでよく、また、上記有機高分子材料に金属イオンを含む有機溶媒を通液して金属イオンを除去し、該金属イオンを捕捉した該有機高分子材料に水を通液して再生する有機溶媒の処理方法とした。 （もっと読む）

【課題】有機性廃水の生物処理においてリン回収を行い、余剰汚泥の発生量を低減できる回分式の有機性廃水の処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】リンを含有する有機性廃水を有機性廃水の曝気処理にて生成したリンを含有する活性汚泥を有する生物反応槽内に流入させる第１工程、生物反応槽内の活性汚泥を攪拌して嫌気性雰囲気で嫌気運転を行って活性汚泥からリン放出を行う第２工程、第２工程の後に、生物反応槽内を曝気する好気運転を行う第３工程、及び第３工程の後、活性汚泥を沈降させる静置運転を行った後、生物反応槽の上澄液の一部を引き抜き、処理水として排出する第４工程を有する回分式廃水処理方法であって、第２工程及び／又は第３工程及び／又は第４工程において生物反応槽の汚泥を引き抜き、汚泥の一部を液化処理し、液化処理した汚泥を第１工程及び／又は第２工程に流入させる有機性廃水の処理方法、装置。 （もっと読む）

【課題】流体を高圧で圧送することを含む、工業的な処理プロセス及び流体精製プロセスにおいて、プロセスにおけるトータル消費エネルギーを低減することができる動力回収システムを提供する。
【解決手段】供給された原水を加圧する高圧ポンプ５と、高圧ポンプ５から排出された高圧水を逆浸透膜１０で膜処理して処理水を生成する逆浸透膜カートリッジ８と、逆浸透膜１０で処理されないで逆浸透膜カートリッジ８から排出された濃縮水の圧力を利用して、供給された原水を加圧する容積形ピストンポンプ２３と、容積形ピストンポンプ２３により加圧された加圧水を昇圧して高圧ポンプ５から排出された高圧水に合流させる動力回収ポンプタービン１８とを備えた動力回収システムであって、動力回収ポンプタービン１８の動力源をシステム内で発生した圧力水とした。 （もっと読む）

【課題】研磨装置の運転を停止させることなく渦電流センサの較正を行うことができ、精度の高い膜厚監視を可能とする研磨監視方法および研磨装置を提供する。
【解決手段】基板の水研磨時、研磨パッド１０のドレッシング時、または研磨パッド１０の交換時において、渦電流センサ５０の出力信号を補正信号値として取得し、補正信号値から補正基準値を減算して補正量を算出し、導電膜を有する他の基板を研磨しているときの渦電流センサ５０の出力信号から補正量を減算して実測信号値を算出し、実測信号値の変化を監視することにより研磨中の導電膜の厚さの変化を監視する。 （もっと読む）

【課題】ケーシング内で固形化又は液状化した生成物がポンプロータの回転を妨げられるような場合であっても、真空ポンプの停止時にこの生成物を効果的に排除し、真空ポンプを正常に起動させることができる真空ポンプの運転制御装置及び運転停止方法を提供すること。
【解決手段】ケーシング２内に回転自在に配置されたポンプロータ１を備える真空ポンプの運転制御装置１０において、ポンプロータ１の回転を制御するポンプロータ制御部１５を備え、ポンプロータ制御部１５は真空ポンプの運転停止時に所定タイミングパターンに沿ってポンプロータ１を正方向及び／又は逆方向に回転させた後に、該ポンプロータ１を停止する機能を備えた。 （もっと読む）

【課題】ディッシングやエロージョンなどの過研磨を防止しつつ、研磨速度を向上させることが可能な電解複合研磨方法を提供する。
【解決手段】基板表面と研磨パッドとの接触面圧を０とした状態で、基板表面の導電膜に印加する電圧を増加させた場合に、電流密度が増加から減少に転じる第１変化点Ｃの電圧を最小電圧とし、接触面圧を有限値とした状態で、前記電圧を増加させた場合に、電流密度が増加後の減少から一定値に転じる第２変化点Ｂの電圧を最大電圧とし、前記最小電圧以上かつ前記最大電圧以下に前記電圧を維持しつつ、導電膜の表面を研磨する。 （もっと読む）

【解決課題】原子力施設などからの高圧被処理排水であっても高純度用水として再生利用することを可能とする高純度水製造システムに好適な電気式脱イオン装置を提供する。
【解決手段】電気式脱イオンスタック１０は、それぞれ室枠１１とイオン交換膜１２とで区画された複数の室からなる。両端部の室は陽極室１３及び陰極室１４を構成し、陽極室１３及び陰極室１４の間に配置されている室は各少なくとも１の濃縮室１５及び脱塩室１６を構成する。濃縮室１５を構成する各室枠１１ａには濃縮水出口１７が設けられ、脱塩室１６を構成する各室枠１１ｂには処理水出口１８が設けられている。圧力容器２０内には、電気式脱イオンスタック１０の各濃縮水出口１７から濃縮水が流出する濃縮水室２４と、各処理水出口１８から処理水が流出する処理水室２５とが仕切板２３によって区画されて設けられている。 （もっと読む）

【課題】低抵抗基板上の導電膜を研磨するときや、研磨パッドが研磨したときでも、膜厚の変化を精度よく監視することができる研磨監視方法、研磨装置、およびモニタリング装置を提供する。
【解決手段】本発明の研磨監視方法は、渦電流センサ５０が導電膜に対向しているときの該渦電流センサの出力信号を取得し、出力信号は、渦電流センサのコイルを含む電気回路のインピーダンスの抵抗成分および誘導リアクタンス成分に相当する２つの信号であり、２つの信号の値を座標系上の座標として定義し、出力信号の取得と座標の定義を繰り返し、少なくとも３つの座標によって描かれる円弧の曲率中心を求め、曲率中心と少なくとも３つの座標のうち最新の座標とを結ぶ直線の傾き角を求め、傾き角の変化を監視することにより導電膜の厚さの変化を監視する。 （もっと読む）

【課題】構成が簡単で、隙間腐食発生の懸念がなく、軸受ケースを含む水中軸受全体が軽量で、メンテナンス時に現地で分解及び組み立てを容易に行なうことができる水中軸受、水中軸受に本発明に係る水中軸受を使用するポンプを提供すること。
【解決手段】軸受層８と該軸受層８を受容して回転機械ケーシングに固定する軸受ケース９を具備し、回転機械の回転軸３を支持する水中軸受において、軸受ケース９は円筒状の樹脂材料からなる。 （もっと読む）