説明

株式会社荏原製作所により出願された特許

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【課題】小型化、軽量化が可能で、簡単な構成で分離して構成された動翼を取付ける第1の回転軸とモータのロータ等を取付ける第2の回転軸が締結でき、高速回転及び比較的ロータを高温で稼動させるのに適したターボ型真空ポンプを提供すること。
【解決手段】ポンプ部Pの軸方向片側に動翼を回転支持する軸受及びモータ部Mを配置したターボ型真空ポンプにおいて、動翼を取り付ける第1の回転軸25と、モータロータ41を取り付ける第2の回転軸44と、第1の回転軸25と第2の回転軸44を締結する締結部材29とを具備し、第1の回転軸25は高耐食性の材料で、第2の回転軸44は強磁性の材料で構成され、第1の回転軸25の線膨張係数が第2の回転軸の線膨張係数に比べて小さく、第1の回転軸25は中空構造であり、締結部材29は第1の回転軸25の中空部を貫通し第1の回転軸25と第2の回転軸44を締結する。 (もっと読む)


【課題】原子力発電プラントの原子炉及び蒸気発生器水質を高純度に維持する目的で、復水脱塩装置に使用するイオン交換樹脂を管理する方法を提供する。
【解決手段】原子力発電プラントの復水脱塩装置からスルホン酸基を有するカチオン交換樹脂を一定量採取し、温水中に所定時間浸漬させた後、当該温水中に溶出するポリスチレンスルホン酸の平均分子量をゲル浸透クロマトグラフィーで測定し、当該ポリスチレンスルホン酸の平均分子量が閾値以上である場合に、当該カチオン交換樹脂を交換する。 (もっと読む)


【課題】研磨対象物である基板が外れてしまうことを防止し、安定した研磨を実現することができるリテーナリングを提供する。
【解決手段】リング部材408と、研磨対象物Wの研磨時にリング部材408を下方に押圧して研磨パッドの研磨面に接触させる押圧部400,402,404,406,410と、磁力によってリング部材を押圧部に固定する磁石420を有する。 (もっと読む)


【課題】構成が簡単で、且つ取付け設置が容易で、給液ポンプの吸込側配管に吸い込まれる液中に残存する気泡を確実に抽出し、給液ポンプの給液性能に悪影響を与えることなく、酸化や腐敗等の品質低下を嫌う食品製造プロセスの給液システムに好適な配管内の気体排気機構を提供すること。
【解決手段】給液ポンプの吸込側配管17、18内を流れる液体中に残存する気体を排気する配管内の気体排気機構10であって、吸込側配管に液体中に残存する気体の気泡が浮上できるまで該液体の流速が減速される断面を有する拡径筒体部11で形成される空間部12を設け、該空間部12の上部に排気口19を設けると共に、該空間部の終端に液体中に浮遊する気泡の進行を遮る遮蔽板22を設けた。 (もっと読む)


【課題】 重金属溶出抑制剤の必要添加量を容易かつ迅速に求め、適切な薬剤処理を行うことができる重金属溶出抑制剤の薬剤注入制御方法と装置を提供する。
【解決手段】 重金属を含有する被処理物から重金属の溶出を防止するに際し、該重金属を含有する被処理物と水とのスラリーを調製し、該スラリー中に、参照電極と白金以外の材質で構成された電極を挿入し、重金属溶出抑制剤を添加しながら該電極間に生じる電位について、重金属溶出抑制剤が無添加時の電位を基準とし、薬剤添加により生じた電位の変化量を測定し、該電位変化量が安定する変曲点での薬剤注入量を最適注入量とするか、又は、該電位変化量の極小点を薬剤注入量の最適注入量とする薬剤注入制御方法としたものである。 (もっと読む)


【課題】長時間健全に高温下で使用できる耐食性皮膜の形成方法及びそれを用いた高温装置部材を提供する。
【解決手段】この耐食性皮膜の形成方法は、Ni−Cr系合金からなる基材10の表面にNiめっきを施して表面にNi層12を形成する工程と、Ni層が形成された表面にAl拡散処理を施してNi−Alからなる保護層18を形成する工程とを有する。Al拡散処理が施された場合に、Ni−Al層と基材との界面の位置ではCr当量がほぼ0であり、Al拡散処理によってその界面においてα−Cr層が形成されることがなく、その成長に伴ってボイドが形成されることもない。 (もっと読む)


【課題】電気抵抗が大きい超純水を使用して、その超純水に対する材料の特性を評価する方法及びそのような評価に使用可能な処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の処理装置は、超純水を圧送するポンプ21と、被処理部材を取り外し可能に保持するホルダ32と、前記ポンプの吐出部に接続されていてポンプから送られた超純水を前記被処理部材の面に向かって噴射するノズル41とを備え、前記被処理部材に超純水を噴射させることにより被処理部材の表面を処理する。 (もっと読む)


【課題】純水や超純水中であっても、エロージョン等による損傷を抑えて、長期に亘って安定して使用できる純水用セラミックス摺動部材を提供する。
【解決手段】SiC焼結体からなり、超純水または純水中で使用されるセラミックス摺動部材30,38,39であって、β−SiCのSiC焼結体中に占める割合は20%以上で、平均的な結晶組織のアスペクト比は2以上である。 (もっと読む)


【課題】Ni基合金の表面に、製品の形状や寸法に拘らず、比較的簡単な方法により、均一な膜厚のRe基合金からなる拡散バリア層を形成する。
【解決手段】この無電解めっき浴は、基材上に50at%以上のReを含むNi−Re−B合金を無電解めっき処理により形成するためのものであって、Ni2+とReOをそれぞれ0.01〜0.5mol/Lの範囲で等当量ずつを含む金属供給源成分と、クエン酸と少なくとも一種の他の有機酸を含む錯化剤成分であって、Ni2+とReOの合計に対するクエン酸のモル濃度比が1/20〜1/5であり、Ni2+とReOの合計に対する前記クエン酸と前記少なくとも一種の他の有機酸の総有機酸量のモル濃度比が1/2〜10である錯化剤成分と、ジメチルアミンボランをNi2+とReOの合計に対してモル濃度比で1/4〜2含む還元剤成分とを含み、pHを6〜8に調整したものである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、1次光学系にプレチャージの機能も持たせてプレチャージユニットの設置を省略できるとともに、試料に対するプレチャージの領域と量を制御し、試料に応じた最適なプレチャージを行うことができる電子線装置を提供することを目的とする。
【解決手段】試料Sを載置するステージ30と、
所定の照射領域15を有する電子ビーム生成し、該電子ビームを前記試料に向けて照射する1次光学系10と、
前記電子ビームの前記試料への照射により発生した、前記試料の構造情報を得た電子を検出し、所定の視野領域25について前記試料の像を取得する2次光学系20と、
前記所定の照射領域の位置を、前記所定の視野領域に対して変更可能な照射領域変更手段13、14と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


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