株式会社オハラにより出願された特許
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研磨器具、研磨器具の製造方法、及び被研磨体の製造方法
【課題】種々の形状へと高精度に研磨できる研磨器具、研磨器具の製造方法、及び被研磨体の製造方法を提供すること。
【解決手段】研磨器具10は、駆動源に接続される回転軸11と、この回転軸11の先端に位置する球状のポリッシャ13と、を備え、このポリッシャ13は、弾性樹脂で構成されている。ポリッシャ13の周囲に研磨パッド15を配置し、この研磨パッド15を砥粒を介して研磨対象Wに当接させた状態で、回転軸11を回転させることで、研磨対象Wを研磨する。
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リチウムイオン二次電池の製造方法、リチウムイオン二次電池およびリチウムイオン二次電池前駆体
【課題】リチウムイオン二次電池の電極層の未焼成体を焼成する際に、電極層中の電極活物質粉末と固体電解質粉末の粒界や、電極層と固体電解質層の界面で両者の化学反応によって電極活物質が分解したり、イオン伝導を阻害する物質が生成されてしまう事を低減し、大電流の充放電が可能であり、大きな作動電流においても高い充放電効率を得られ、かつ製造コストが低いリチウムイオン二次電池、好ましくは全固体リチウムイオン二次電池の製造方法を提供すること。
【解決手段】リチウムイオン伝導性固体電解質粉末と、Liを含まない被覆層で少なくとも表面の一部が被覆された電極活物質粉末とを含む混合物を焼成し電極前駆体を作製する工程を含むリチウムイオン二次電池の製造方法。
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成形型、光学素子の製造方法及び光学機器
【課題】光学素子の品質低下を抑制しつつ、プレス時に成形型内に存在する気体の逃避をさらに促進できる成形型及び光学素子の製造方法、並びにこの製造方法で製造される光学素子を用いた光学機器を提供すること。
【解決手段】光学材料Oをプレスするために用いられる成形型10は、互いに接近及び離隔して光学材料Oを押圧する上型20及び下型30と、上型20及び下型30を包囲して接近及び離隔の軌道を規定する胴型40と、を備える。上型20は、光学材料Oのうち光学面OSになる部分に当接する非多孔性の第1面25と、光学材料Oのうち光学面にならない部分NSに当接し、孔が形成されている第2面23とを含む成形面26を備える。
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ガラス成形体の製造装置及びガラス成形体の製造方法
【課題】ダイレクトプレスを行いつつ溶融ガラスの高温による悪影響を抑制できるガラス成形体の製造装置及びガラス成形体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス成形体の製造装置10は、溶融ガラス塊GAをプレスするガラス成形型30と、このガラス成形型30に溶融ガラスを供給する溶融ガラス供給装置60と、を備える。ガラス成形型30は、溶融ガラス塊GAが設置され且つ一部又は全部に気体噴出孔が形成された多孔体313で構成された受け面311を有する下型31と、溶融ガラス塊GAを受け面311と押圧する成形面331を有する上型33と、多孔体313の内面側に気体を供給し、受け面311から噴出させる気体供給部70と、を有する。
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光触媒、スラリー状混合物、成形部材及び塗料
【課題】優れた光触媒活性を安定的に有する光触媒と、それを用いたスラリー状混合物、成形部材及び塗料を提供する。
【解決手段】光触媒は、ナシコン型構造を有する結晶を含有する。ここで、ナシコン型構造は、例えば一般式AmE2(XO4)3(式中、第一元素AはLi、Na、K、Cu、Ag、Mg、Ca、Sr及びBaからなる群から選択される1種以上とし、第二元素EはZn、Al、Fe、Ti、Sn、Zr、Ge、Hf、V、Nb及びTaからなる群から選択される1種以上とし、第三元素XはSi、P、S、Mo及びWからなる群から選択される1種以上とし、係数mは0以上3以下とする)で表される。
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情報記録媒体用結晶化ガラス基板およびその製造方法
【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてRAl2O4、R2TiO4、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が0.5nm〜20nmの範囲であり、結晶化度が15%以下であり、比重が3.00以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。
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情報記録媒体用結晶化ガラス基板およびその製造方法
【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてRAl2O4、R2TiO4、(ただしRはZn、Mg、Feから選択される1種類以上)から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が0.5nm〜20nmの範囲であり、結晶化度が15%以下であり、比重が3.00以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でP2O5成分を10.0〜60.0%、及びNb2O5成分を5.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%、B2O3成分を5.0%以上30.0%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦−0.0034×νd+0.70300の関係を満たす光学ガラス。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でP2O5成分を10.0〜60.0%、及びNb2O5成分を5.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%、B2O3成分を0%以上5.0%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦−0.0034×νd+0.70300の関係を満たす光学ガラス。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】高屈折率高分散性を有し、部分分散比が小さく、透過率が良好な光学ガラスの提
供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でP2O5成分を10.0〜60.0%、及びNb2O5成分を5.0〜45.0%、TiO2成分を0〜30.0%、B2O3成分を1.0%以上12.0%未満含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.0016×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75873)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.0025×νd+0.65710)≦(θg,F)≦−0.0034×νd+0.70300の関係を満たす光学ガラス。
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