説明

株式会社オハラにより出願された特許

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【課題】リチウムイオン二次電池、およびリチウム一次電池用途において電解液を用いなくとも、電池容量も高く、長期的に安定して使用でき、かつ工業的な製造においても製造および取り扱いが簡便な固体電解質の製造方法を提供すること。リチウムイオン二次次電池用途において充放電サイクル特性が良好な固体電解質の製造方法を提供すること。リチウム一次電池用途において水分透過量が少なく、リチウム金属−空気電池に使用しても安全な固体電解質の製造方法を提供すること。
【解決手段】無機粉体を主成分として成形体を作成し、加圧しながら焼成することを特徴とするリチウムイオン伝導性固体電解質の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高屈折率及び高分散を有し、可視光に対する透明性が高く、且つプレス成形時における乳白化や失透が低減された光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP成分を40.0%未満、並びに、Ln成分(式中、LnはY、La、Gd、Ce、Eu、Dy、Yb及びLuからなる群より選択される1種以上)を合計で60.0%未満含有し、1.75以上の屈折率(nd)と10以上のアッベ数(νd)を有する。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)の小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でSiO成分を10.0〜40.0%、及び、Nb成分を1.0〜50.0%含有し、15以上30以下のアッベ数(ν)を有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(ν)との間で、ν≦25の範囲において(−0.00160×ν+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00480×ν+0.73500)の関係を満たし、ν>25の範囲において(−0.00250×ν+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00250×ν+0.67750)の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、従来のものと同等以上に摩耗度が低く研磨加工を行い易く、耐酸性に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、P5+およびAl3+を含有し、カチオン%表示で、P5+の含有率が22.0〜38.0%、Al3+の含有率が11.0〜23.0%であり、アニオン成分として、F-およびO2-を含有し、屈折率(nd)が1.50以上で、アッベ数(νd)が65以上である光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】 高出力の紫外光線や300〜400nm領域のレーザ光線の照射により生じる屈折率変化を抑制した、耐光線性の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラスに、波長=351nmのパルスレーザー光(平均出力(Average Output Power)=0.43W,パルス繰り返し数(Pulse Repetition Rate)=5kHz,パルス幅(Pulse Width)=400ns)を1時間照射した後の屈折率の変化量(Δn:照射前後の屈折率の差)が5ppm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】特に遷移金属であるNb成分を含有するガラスにおいて、着色の少ないガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、Nb成分を必須成分として含有するガラス原料を溶解し、溶解したガラス中で非酸化性ガスをバブリングする工程を有する。この製造方法は、ガラス原料Sを溶融する溶融槽11と、この溶融槽11に連通され且つ溶融ガラスGを清澄する清澄槽12と、この清澄槽12に連通され且つ溶融ガラスGを撹拌する撹拌槽13と、を用い、ガラス原料Sを溶融槽11で溶融する溶融工程、溶融したガラス原料Sを清澄槽12で清澄させる清澄工程、清澄した溶融ガラスGを撹拌槽13で撹拌する撹拌工程、撹拌した溶融ガラスGを流出させる流出工程、及び、流出したガラスを成形する成形工程を有することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】各種装置用途として表面の清浄度が高いレベルで求められるガラス基板、特に垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、高密度化に対応すべく基板表面へのコンタミネーション付着によって生じるヘッドクラッシュを抑制し、メディア成膜後の記録再生特性を良好にする情報記録媒体用ガラス基板を提供することにある。また、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れており、今後の記録密度増大において必要となりうるHAMRに対応すべく耐熱性が高く、かつ、低コストで溶融ガラスを薄板加工することができるダイレクトプレス法に適したガラス材料を提供すること。
【解決手段】NaSOを緩衝剤として混合し、HSOとNaOHにてpHが10に調整された水溶液を用いて測定した表面のゼータ電位が−50mVより低い値を示すことを特徴とするガラス基板。 (もっと読む)


【課題】多量のTa25及びNb25を含有させなくとも、屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら透過率の優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%で、La23成分を10.0〜40.0%、B23成分を10.0〜40.0%、SiO2成分を0〜15.0%、Nb25成分を0〜20.0%、TiO2成分を0〜10.0%含有し、1.75〜1.95の屈折率(nd)を有し、30〜40のアッベ数(νd)を有する光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】ガラスを原料として、光触媒を高濃度に含有して優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、TiO成分を5〜50%、SrO成分を2〜50%、SiO成分を10〜85%を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、チタン酸ストロンチウムSrTiO結晶及びその固溶体結晶を含むことが好ましい。このガラスセラミックスは、バルク体、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。 (もっと読む)


【課題】特に遷移金属であるNb成分を含有し、且つ着色が少ないガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】Nb成分を必須成分として含有する光学ガラスを製造する方法であって、ガラス原料Sを溶融する溶融槽11と、この溶融槽11に連通され且つガラスを清澄する清澄槽12と、この清澄槽12に連通され且つガラスを撹拌する撹拌槽13と、を用い、ガラス原料Sを前記溶融槽11で溶融する工程(溶融工程)、溶融したガラス原料Sを前記清澄槽12で清澄させる工程(清澄工程)、清澄した溶融ガラスGを前記撹拌槽13で撹拌する工程(撹拌工程)、撹拌した溶融ガラスGを流出させる工程(流出工程)、及び流出したガラスを成形する工程(成形工程)を有する。 (もっと読む)


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