説明

住友大阪セメント株式会社により出願された特許

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【課題】リンとフッ素を含有する原料を使った水硬性組成物の品質管理方法を提供する。
【解決手段】リンとフッ素とを含む原料を使用する水硬性組成物の品質管理方法においては、該水硬性組成物を用いたモルタルの圧縮強さMを、次式(1)を用いて予測することが可能となる。 M=M×(k・A+k・B+k・A・B+100)/100・・・・(1) ただし、Mは材齢に応じた基準モルタルの圧縮強さモルタルの基準圧縮強さ、AはP量(質量%)、Bはフッ素量(質量%)、k,k,kは係数を示す。好ましくは、各係数k,k,kは、次式(2)から(4)で与えられる。k=a×Log(t)+b・・・・(2)、k=a×Log(t)+b・・・・(3)、k=a×Log(t)+b・・・・(4)、ただし、tは材齢(日)、a,a,a,b,b,bは定数を示す。 (もっと読む)


【課題】 コンクリート硬化体の製造においてセメントの凝結促進を図ることを課題とし、例えばコンクリート製品工場においては、少ない型枠を効率良く使用して多くの製品を製造することを課題とする。
【解決手段】 セメントの水和反応を促進する凝結促進剤の表面が、実質的に水に不溶なコーティング材によって被覆されてなることを特徴とするセメント凝結促進剤を解決手段とする。 (もっと読む)


【課題】 研磨速度に優れることは勿論のこと、鏡面研磨後のウエハー形状、特に、良好な平坦度、平面度を有して平坦性に優れると共にウエハー外周部におけるエッジ部ダレがない高精度の形状を得ることができ、スクラッチ傷の発生がなく、研磨加工コストも廉価となるシリコンウエハー鏡面研磨用研磨板、およびこのシリコンウエハー鏡面研磨用研磨板を用いたシリコンウエハーの鏡面研磨方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 シリコンウエハー鏡面研磨用研磨板はプラスチック板からなるように構成し、シリコンウエハーの鏡面研磨方法は前記シリコンウエハー鏡面研磨用研磨板を定盤上に固定した研磨装置またはラッピング装置によってシリコンウエハーを鏡面研磨するように構成する。 (もっと読む)


【課題】 殺菌、消毒、除菌、制菌および洗浄剤で残留効果がありしかも人畜に無害な残留型殺菌剤を提供することを課題とする。
【解決手段】 平均粒子径 100nm以下の銀を含む微粒子と、水性あるいは水溶性のアクリル樹脂あるいはアクリルメラミン樹脂の少なくとも1種と、殺菌剤とを混合するように構成する。 (もっと読む)




【目的】 ツリー型又はスター型カプラーの特性測定評価を、自動的に、かつ低コストで実施できる装置の提供。
【構成】 光源1と測定対象物(ツリー型又はスター型カプラー)5とをSMF2で連結し、SMF上に分岐カプラー3と反射戻り光分岐カプラー4を設け、対象物5を透過した光を分岐導波するN個のファイバ6の端末および前記カプラー3,4の導波ファイバ端末を、光スイッチ8により個別に光検出器7に連結し、光検出器7に、光検出器により検出されたデータから、測定対象物の特性を算出評価する手段が連結されているツリー型およびスター型カプラーの特性評価装置。 (もっと読む)


【目的】 制御が簡単でしかも安価に流動媒体から熱が回収できる方法及び流動床燃焼装置を提供する。
【構成】 流動床燃焼炉1と該炉から流動媒体を取り出して循環するためのシュート3、流動媒体取り出しコンベア4、不燃物除去装置5、流動媒体貯槽14、流動媒体供給弁15、及びこれらを順次連結して移送する移送手段11、12、16を有する流動媒体循環系統からなる流動床燃焼装置において、前記流動媒体循環系統のいずれか1以上に流動媒体から熱を回収する熱交換手段6〜9、19〜21を設けることとした。 (もっと読む)


【目的】 抵抗加熱ヒーターによるウエハーの加熱を均一化させるウエハー加熱装置およびその電極部材に関し、被加熱物の加熱位置に存在する電極部の周辺温度の低下を抑制して、被加熱物の均熱性を向上させるようにすることを目的とする。
【構成】 容器内に通電加熱型のヒーターを設置したヒーターユニットにおいて、被加熱物の加熱位置に配置する電極部材の電極構造が、該電極部材の一部もしくは全体における単位長さ当りの抵抗値がヒーター部材の単位長さ当りの抵抗値より高く、かつ、上記ヒーター部材よりも通電時に発熱量が大きい部分を有するように構成する。 (もっと読む)



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