説明

帝人化成株式会社により出願された特許

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【課題】本発明の目的は、半導電性領域内に、成形品の表面抵抗率と帯電圧半減衰時間を制御することで、成形品表面から発生するスパーク電流を抑制し、加えて成形品の樹脂表面から導電性炭素材料が脱落することを抑制し、更には寸法安定性、流動性、外観等にも優れた、半導体関連部材に適した導電性樹脂組成物からなる成形品を提供することにある。
【解決手段】即ち本発明は、芳香族ポリカーボネート樹脂55〜75重量%(A成分)およびポリエチレンテレフタレート樹脂25〜45重量%(B成分)からなる樹脂成分100重量部に対し、導電性炭素材料(C成分)を1〜20重量部含有する導電性樹脂組成物からなる成形品であって、該成形品が下記(1)および(2)を満たすハードディスク関連部品およびその工程内容器、ICチップトレイ、ウェハー搬送容器、ガラスコンテナ並びに自動車外装部品よりなる群より選ばれる成形品であることを特徴とする導電性樹脂組成物からなる成形品である。
(1) 表面抵抗率が10〜1012Ω/sqである。
(2) 10kVを印加したときの半減衰時間が10秒以下である。 (もっと読む)


【課題】透明で且つ耐擦傷性、難燃性に優れたポリカーボネート樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】芳香族ポリカーボネート樹脂(A成分)100重量部に対して、屈折率(nd)が1.42〜1.65であるフェニル基含有シリコーンオイル(B成分)0.05〜5.0重量部、および難燃剤(C成分)0.01〜30重量部を含有し、透明で且つ耐擦傷性、難燃性に優れた難燃性ポリカーボネート樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】四塩化炭素が少なく、さらに長期連続運転が可能な塩化カルボニルの製造方法および金属腐食性物質が少なく、色相に優れ、且つ成形熱安定性に優れたポリカーボネート樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】塩素と一酸化炭素とを活性炭触媒に接触させて塩化カルボニルを製造する反応において、活性炭触媒中のナトリウム、カリウムおよびカルシウムの含有量が合計で2000ppm以下であり、活性炭触媒の比表面積が200〜700m/gであることを特徴とする塩化カルボニルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】機構部品用プラスチック材料として好適な、高剛性、高強度、高寸法精度、低異方性、良好な難燃性、更に、良好な成形性、離型性、熱安定性のいずれをもバランスよく満足する難燃性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)ポリフェニレンスルフィドを除く熱可塑性樹脂(A成分)、(B) ペンタエリスリトールと2価の脂肪族カルボン酸および/または芳香族カルボン酸からなる多量体と、長鎖脂肪族カルボン酸および/または芳香族モノカルボン酸とのエステル化合物(B成分)、(C)難燃剤(C成分)、(D)無機充填材(D成分)、(E)含フッ素滴下防止剤(E成分)よりなりこれらの成分は、下記(a)の条件を満足することを特徴とする難燃性樹脂組成物。
(a)上記A〜E成分の合計100重量%当り、A成分は98.99〜11重量%、B成分は0.01〜2重量%、C成分は0.1〜25重量%、D成分は0〜60重量%、E成分は0〜2重量%である。 (もっと読む)


【課題】透明性、耐擦傷性に優れるポリカーボネート樹脂積層体を提供する。
【解決手段】ポリカーボネート樹脂シートの少なくとも一面に、下記式[1]


(式中、Wは単結合、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数6〜10のアリール基、または炭素原子数3〜8の環状アルキル基を表す。)で表される構成単位(A)と、下記式[2]


で表される構成単位(B)から構成され、全構成単位における構成単位(A)の割合が50〜100モル%である変性ポリカーボネート樹脂を積層した、ポリカーボネート樹脂積層体。 (もっと読む)


【課題】透明性に優れた、位相差発現性が良好な脂肪族ポリアミド樹脂から形成されたフィルムからなる位相差フィルムおよびそれを用いた光学部材を提供する。
【解決手段】炭素数4〜12のα,ω−直鎖脂肪族ジアミンと炭素数4〜12のα,ω−直鎖脂肪族ジカルボン酸との重縮合反応、炭素数6〜12のアミノカルボン酸の重縮合反応、または炭素数6〜12のラクタムの開環重合反応のいずれかの重合反応により得られた相対粘度2.0以上の脂肪族ポリアミド樹脂、あるいはこれらの化合物の2種以上の共重合反応により得られた相対粘度2.0以上の脂肪族ポリアミド樹脂より形成された、厚みが5〜300μm、全光線透過率が85%以上、曇価が2%以下、波長550nmにおける面内位相差が5〜900nmである位相差フィルム。 (もっと読む)


【課題】溶融製膜法において透明性に優れ、位相差発現性が良好なポリアミド樹脂組成物から形成された位相差フィルムおよびそれを用いた光学部材を提供する。
【解決手段】(A)メタキシリレン基含有ポリアミド樹脂5〜95重量部および(B)メタキシリレン基含有ポリアミド樹脂以外のポリアミド樹脂95〜5重量部からなるポリアミド樹脂組成物より形成された、厚みが5〜300μm、全光線透過率が85%以上、曇価が2%以下、波長550nmにおける面内位相差が5〜600nmである位相差フィルム。 (もっと読む)


【課題】高い成型加工性と優れた難燃性、耐熱性、リサイクル性を有する難燃性樹脂組成物を提供。
【解決手段】芳香族ポリカーボネート樹脂(A−1成分)100〜70重量%、スチレン系樹脂(A−2成分)30〜0重量%からなる樹脂成分(A成分)100重量部に対して、(i)一般式(1)で示される芳香族基を有し、かつ実質的に分子構造中にSi−H結合を含有しないシリコーン化合物(B成分)0.01〜5重量部、(ii)有機金属塩系難燃剤(C成分)0.001〜0.3重量部および(iii)含フッ素滴下防止剤(D成分)0.01〜5重量部、を含有する難燃性樹脂組成物。
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【課題】光拡散性ポリカーボネートの優れた光学特性と、高い難燃特性の両立を達成する難燃光拡散性ポリカーボネート樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】芳香族ポリカーボネート樹脂(A成分)100重量部に対して、光拡散剤(B成分)を0.005重量部以上、難燃剤(C成分)を0.001〜20重量部、およびフィブリル成形能を有するポリテトラフルオロエチレン粒子と有機系重合体からなるポリテトラフルオロエチレン系混合体(D成分)を0.01〜5重量部含有し、かつB成分とD成分の合計が0.03〜8重量部である難燃光拡散性ポリカーボネート樹脂組成物であって、該ポリテトラフルオロエチレン系混合体(D成分)が懸濁重合により製造されるポリテトラフルオロエチレン系混合体であることを特徴とする難燃光拡散性ポリカーボネート樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】複屈折などの光学特性に優れ、グルーブやピット等高密度な情報信号が正確に転写され、平面性、剛性、反りが少なく、振動時の面振れの少ない情報記録媒体としての特性を有しつつ、折曲げ性に優れる光ディスク基板およびそのための材料としての樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(成分a)より実質的になる二価フェノール成分より構成された芳香族ポリカーボネート(ポリマーA)と、(B)(b−1)1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(成分b−1)および(b−2)4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノールおよび/または2,2−ビス(3−メチルー4−ヒドロキシフェニル)プロパン(成分b−2)より実質的になり、成分b−1:成分b−2の割合がモル比で99:1〜5:95である二価フェノール成分より構成された芳香族ポリカーボネート共重合体(ポリマーB)から実質的になり、ポリマーAとポリマーBとの割合が重量比で99:1〜50:50(ポリマーA:ポリマーB)であることを特徴とする芳香族ポリカーボネート樹脂組成物および該組成物より形成された光ディスク基板。 (もっと読む)


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