【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、カチオン部に塩基解離性基を有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】より短時間で容易に、サポートプレートが貼着されたウエハからサポートプレートを剥離する。
【解決手段】本発明に係る剥離方法は、第１接着剤層４と、第１接着剤層４よりも速く溶剤に溶解する第２接着剤層５、若しくは、第１接着剤層４が溶解する溶剤とは異なる溶剤に溶解する第２接着剤層５とを介してサポートプレート３が貼着されているウエハ２から、サポートプレート３を剥離する。そして本発明に係る剥離方法は、サポートプレート３側に位置する第２接着剤層５を溶解してサポートプレート３をウエハ２から剥離する剥離工程を包含している。 （もっと読む）

【課題】レベリング効果が高く、着色剤を含有する場合であっても平坦性に優れた感光性樹脂層を得ることが可能であり、かつ、ディフェクトやピン跡の発生を低減することが可能な感光性樹脂組成物、並びにその感光性樹脂組成物を用いて製造されたカラーフィルター及び液晶表示ディスプレイを提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、（Ａ）樹脂成分、（Ｂ）感光剤、及び（Ｃ）界面活性剤を含有する。（Ｃ）界面活性剤としては、炭素数１〜２０のフッ素化アルキル基（但し、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基、ウレタン結合で中断されていてもよい。）と親媒性基とを側鎖に有し、かつ質量平均分子量が１００００〜５００００の重合体が用いられる。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にノルボルニルラクトン構造を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）、および酸解離性溶解抑制基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）(メタ)アクリロイルオキシ有機酸とビシクロラクトン化合物から誘導される特定の構成単位（ａ０）、および該構成単位（ａ０）に該当しない、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有し、かつその構造中に酸解離性溶解抑制基を含む高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】基板の疎水化処理を簡便かつ効率的に実現可能な表面処理液及びその表面処理液を用いた疎水化処理方法、並びに疎水化された基板を提供する。
【解決手段】シリル化剤と、炭化水素系非極性溶剤とを含有する表面処理液を用いて、基板の疎水化処理を行う。シリル化剤としてはＮ，Ｎ−ジメチルアミノトリメチルシラン（ＤＭＡＴＭＳ）が好ましく、炭化水素系非極性溶剤としては炭素数６〜１２の直鎖状若しくは分岐鎖状の炭化水素系溶剤、又はテルペン系溶剤が好ましい。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成において、優れたリソグラフィー特性を示し、ディフェクトを低減できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にオキシラン環を有する構成単位（ａ０）、前記構成単位（ａ０）に該当しない酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、およびラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物の前駆体として有用である化合物、酸発生剤、レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物。一般式（ｂ１−１）で表される化合物。式中、Ｑ^１は二価の連結基又は単結合であり；Ｙ^１は置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキレン基であり；Ｘは置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の環式基を表し、該環構造中に−ＳＯ_２−結合を有する。Ｍ^＋はアルカリ金属イオンである。Ａ^＋は有機カチオンである。
［化１］
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【課題】新規なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該ポジ型レジスト組成物用の成分、特に酸発生剤として有用な新規な化合物および酸発生剤を提供する。
【解決手段】トリフェニルメタンを骨格とする特定のフェノール化合物および該フェノール化合物における−ＯＨの水素原子の一部が有機基で置換された置換フェノール化合物からなる群から選択され、一分子中に少なくとも２つの−ＯＨを有する化合物における−ＯＨのうち、少なくとも１つの−ＯＨの水素原子が式（Ｉ）で表される基で置換され、少なくとも１つの−ＯＨの水素原子が酸解離性溶解抑制基を含む特定の基で置換されている化合物を含有するレジスト組成物。
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【課題】基材成分として低分子材料を用いた新規なポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】露光によって分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が向上する酸発生剤からなる基材成分と、アルカリ可溶性化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）