【課題】優れた感度で、解像性の高い良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の構成単位の合成に利用できる化合物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ前記構成単位（ａ０）における酸解離性溶解抑制基が、下記一般式（ａ０−０−１）で表される基を含む。
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【課題】複式格納容器において種々の注出口形状を有する内袋を使用可能とする流体用容器を提供する。
【解決手段】この流体用容器１は、液体を注入可能に開口するネック部１１を有する可撓性のバッグ１２と、ネック部１１を口部７１６ａで支持してバッグ１２を収容する外側容器７１６と、外装容器７１６の口部７１６ａに挿入される液出しチューブ７２２と、液出しチューブ７２２を貫通可能な筒体をなし、筒内で液出しチューブ７２２を支持するとともに、ネック部１１の開口側に嵌合する保持部材１４と、これらを封止する封止手段とを備える。保持部材１４は、略円筒状の本体部１４ａと、その周囲から延出されるフランジ部１４ｂとを備え、本体部１４ａの貫通穴１４ｃの一端側がネック部１１の開口と連通するように密接し、フランジ部１４ｂがネック部１１の開口側と嵌合する。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）が低減された良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の合成に利用できる化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含み、かつ、前記酸解離性溶解抑制基が１，３−ジオキソール骨格を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】、界面活性剤によるパターン倒れの防止効果を阻害することなく、ＣＤシフトの発生を抑制する、リソグラフィー用洗浄液及びこの洗浄液を用いたパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】アニオン性界面活性剤（Ａ）、アミン化合物（Ｂ）、及び水（Ｃ）を含有するリソグラフィー用洗浄液。本発明のリソグラフィー用洗浄液においては、アニオン系界面活性剤とアミン化合物とがリソグラフィー用洗浄液中で塩を形成し、アニオン系界面活性剤がレジスト膜に浸透することを抑制できる。このため、本発明のリソグラフィー用洗浄液を用いてレジストパターンの形成方法を行ったとしても、レジスト膜を溶解することがなく、ＣＤシフトの発生を効果的に抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】従来に比べて大幅にレジスト液の回収を効率化することができ、回収コストを低下してレジスト液のリサイクル率を高めることができる方法を提供する。
【解決手段】所定容量の専用容器であるペール缶１０を用いてレジスト液供給施設からレジスト液使用施設へレジスト液を供給するとともに、このペール缶１０を、前記レジスト液使用施設、例えばスピンコーター２５０で生じる使用済レジスト液２５２を回収するためのレジスト液回収容器としても使用する。これにより、ユーザー側での回収やリサイクルの設備負担が不要であり、既存のレジスト液供給システムをそのまま用いて回収ができるため、回収費用と労力を大幅に削減できる。ペール缶１０としては、筒状に形成された合成樹脂製の内側容器と、この内側容器の外殻を構成する金属製の外側容器とを備えるペール缶を用いることで、製造コストを低下するとともに、内側容器と外側容器の分離解体を容易にする。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】適正な現像時間を有し、かつ、形状や基板への密着性も良好なスペーサを形成することが可能な感光性樹脂組成物、及びその感光性樹脂組成物から形成されたスペーサを有する液晶パネルを提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、例えば、不飽和カルボン酸から誘導される構成単位（ａ１）と、脂環式基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ２）と、脂環式エポキシ基含有不飽和化合物から誘導される構成単位（ａ３）とを有し、構成単位（ａ２）の割合と構成単位（ａ３）の割合との合計が７１質量％以上である。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物を用いて、支持体上に形成したレジスト膜を、選択的に露光し、現像してホールパターンを形成した後に、ベーク処理を行った場合に、該ホールの寸法値が、該ベーク処理前の該寸法値と比較して、１０％減少し始めるベーク処理温度（Ｔｆ）が１００℃以上であり、且つ、前記ポジ型レジスト組成物を用いて、支持体上に形成したレジスト膜を、選択的に露光し、現像してホールパターンを形成した後に、全面露光を行い、次いでベーク処理を行った場合に、該ホールの寸法値が、該ベーク処理前の該寸法値と比較して、１０％減少し始めるベーク処理温度（Ｔｆ’）が、前記Ｔｆよりも１８℃以上低い。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式−Ｒ^２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１［式中、Ｒ^１は酸解離性溶解抑制基、Ｒ^２は２価の炭化水素基である。］で表される側鎖を有するアクリル酸エステル系構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（Ｉ）［式中、Ｘは炭素数３〜３０の炭化水素基、Ｑ^１は酸素原子を含む２価の連結基、Ｙ^１は炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基である。］で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を含有するポジ型レジスト組成物。
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【課題】レジスト膜とその下層となる被膜とを同時に剥離することができる、レジスト剥離液を提供すること。
【解決手段】基板上に直接、又は他の層を介して形成される無機系レジスト下層膜と、前記無機系レジスト下層膜上に形成されるレジスト膜と、を有する多層レジスト積層体において、前記無機系レジスト下層膜及び前記レジスト膜を除去するために用いられる多層レジスト積層体用剥離液であって、（Ａ）４級アンモニウム水酸化物、（Ｂ）水溶性有機溶剤、及び（Ｃ）水を含む多層レジスト積層体用剥離液。 （もっと読む）