【課題】照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができる。
【解決手段】マスク４のパターン形成面と反対の面の側から互いに異なる第１及び第２の領域に同時に光を照明する照明光学系２と、第１の領域を透過した光を取り込む第１の検出センサ１９と、第２の領域を透過した光を取り込む第２の検出センサ１７と、第１の領域を透過した光を第１の検出センサに結像する第１の検出光学系１６と、第２の領域を透過した光を第２の検出センサに結像する第２の検出光学系１５と、第１の領域から透過した光を反射して第１の検出光学系１６に導く反射ミラー２１と、検出光学系１５、１６に得られるパターン像との合焦関係をマスクの膜厚に応じてそれぞれ変更する合焦制御機構２３、２４がそれぞれ設けられる。 （もっと読む）

【課題】オートフォーカス結果が、良好なものであるか否かを自動的に判定する。
【解決手段】試料の撮領域中の特定領域各走査ラインを順次焦点位置を変更しつつ荷電粒子ビームで走査し予備画像信号を取得する予備撮像を行い、予備画像信号中で最大鮮鋭度となる走査ラインを判定し前記収束手段の状態を合焦状態として試料の撮像領域の本撮像を行って得られるオートフォーカス画像の良否を、予備撮像において最大鮮鋭度位置となった走査ラインの画像信号プロファイルＦａ（ｔ）を取得し（ステップＳＴ１）、本撮像における前記予備撮像で最大鮮鋭度となった走査ラインに相当する走査ラインの画像信号プロファイルＦｂ（ｔ）を取得し（ステップＳＴ２）、両画像信号プロファイルから算出した類似度Ｓ（ｔ）と閾値Ｔ１との比較（ステップＳＴ４）、類似度Ｓ（ｔ）が最大値となる値Ｔのずれ量ΔＴと閾値Ｔ２との比較（ＳＴ５）により判定する。 （もっと読む）

【課題】高いＳ／Ｎ比で回路パターンの欠陥を検出することができる技術を提供する。
【解決手段】フォトマスク１１６にＸ方向に偏光した直線偏光を照明光として照射し、その反射光をＹ方向の直線偏光を透過する偏光子を介して検出する。フォトマスク１１６の回路パターンに欠陥があると、反射時に偏光状態が変化し、直交する直線偏光成分が生成される。この生成された偏光成分に基づいて欠陥の検出を行う。偏光の変化が微細なパターンに敏感に反応するので、高いＳ／Ｎ比で回路パターンの欠陥を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】回転軸を取り囲む環状の回転体に設けられたレーザ出射部から出射されるレーザ光の出射方向が回転軸に対してブレてしまった場合であっても高い測定精度の確保を可能とする回転レーザ出射装置を提供する。
【解決手段】回転レーザ出射装置１０は、回転軸Ｒａ回りに回転可能に支持された回転体１２と、回転体１２の回転中心に直交する方向へとレーザ光を出射すべく回転体１２に収容されたレーザ出射部４１と、回転軸Ｒａに対する回転体１２の回転中心の回転ブレ量を検出すべく回転体１２と基台１１との間に設けられた相対傾斜検出機構（４８）と、相対傾斜検出機構（４８）により検出された相対傾斜信号を外部へ伝達すべく送信可能な送信手段（４１および５３）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】超過酷な高温高圧の水蒸気に対して防汚性を示すと共に耐久性を有するために高温高圧水蒸気滅菌処理可能である光学素子を提供する。
【解決手段】本発明の光学素子１は、基板２に、五酸化二タンタル又は二酸化ハフニウムからなる高屈折層３と、酸化ケイ素からなる低屈折率層４と、五酸化二タンタル又は二酸化ハフニウムからなる高屈折率層５とを積層し、その上に光学特性に影響を与えない程度の厚さの防汚コート（フッ素化合物）６を積層してなる。 （もっと読む）

【課題】回転軸を取り囲む環状の回転体に設けられたレーザ出射部から出射されるレーザ光の出射方向が回転軸に対してブレることを防止することができる回転レーザ出射装置を提供する。
【解決手段】回転軸Ｒａ回りに回転可能に支持された回転体１２にレーザ出射部４１が収容された回転レーザ出射装置１０である。レーザ出射部４１は、レーザ光を出射可能とされたレーザ光源５０と、そこから出射されたレーザ光を基準平面Ｂｐに平行な出射光軸Ａｌ上で出射させる出射光学系と、を有し、基台１１には、基準平面Ｂｐに平行な基準反射面３６を構成する基準反射部３５が設けられ、出射光学系は、レーザ光源５０から出射されたレーザ光を基準反射面３６へ向けて出射させるとともに、基準反射面３６により反射されたレーザ光を回転体１２の回転軸Ｒａに対する傾斜を打ち消すように出射光軸Ａｌに対して傾斜する方向へと出射させる。 （もっと読む）

【課題】前回撮影画像と今回撮影画像との重複領域を適切に定められるステレオ画像撮影装置を提供する。
【解決手段】ステレオ画像撮影装置１は、測定対象物２を単カメラにより重複させながら順次撮影するステレオ画像撮影装置１において、カメラの位置移動に伴い測定対象物２のライブ画像を随時取得し、適時に測定対象物２を撮影して静止画像である撮影画像を取得する撮影部３と、撮影部３で前回撮影された撮影画像である前回撮影画像に、ライブ画像との重複領域を設定する重複領域設定部６と、前回撮影画像とライブ画像とを重複領域設定部６で設定された重複領域で重ねて表示し、前回撮影画像を重複領域から撮影部３の移動方向と反対側に延長して表示し、ライブ画像を重複領域から撮影部３の移動方向と同じ側に延長して表示する表示部４とを備える。 （もっと読む）

【課題】被測定物体が運動を伴う場合でも明瞭な画像を取得可能な光コヒーレンストモグラフィを用いた光画像計測装置を提供する。
【解決手段】運動検出部２２０は被検眼Ｅの運動速度に基づくドップラー周波数シフト量を求める。駆動制御部２３０は、このドップラー周波数シフト量に基づいて出力光Ｍの強度の変調周波数を求める。光源駆動部２４０はこの変調周波数で強度が変調された出力光Ｍを光源ユニット２０１に出力させる。出力光Ｍは信号光Ｓと参照光Ｒに分割される。被検眼Ｅを経由した信号光Ｓと参照光路を経由した参照光Ｒを重畳して干渉光Ｌを生成する。λ／４板２０７により干渉光Ｌの２つの偏光成分は１８０°の位相差を有する。偏光ビームスプリッタ２１１により分離された偏光成分Ｌ１、Ｌ２はＣＣＤ２１２、２１３に検出される。コンピュータ２５０はこれら検出結果に基づき断層像を形成する。 （もっと読む）

【課題】被検眼の眼底の疾患部位を効果的に特定する。
【解決手段】基準領域指定部２４２は単色階調画像Ｇｉ中の基準領域を指定する。基準領域は血管領域と健常領域とを含む。許容範囲設定部２５０は、この基準領域中の画素の階調値の分布を表す基準ヒストグラムを作成し、この基準ヒストグラムに基づいて階調値の許容範囲を設定する。画素特定部２６１は、単色階調画像Ｇｉ中の解析対象領域中の画素のうち許容範囲外の階調値を有する画素を特定する。画素数カウント部２６２は、特定された画素の個数をカウントする。画素数情報生成部２１２は、カウントされた画素数を表す画素数情報を生成する。表示制御部２１１は、特定された画素の位置を所定の表示色にして単色階調画像Ｇｉを表示部２７１に表示させるとともに、生成された画素数情報も表示させる。 （もっと読む）

【課題】電子カルテに対して所定の処理を実施した者を特定する電子カルテ装置及び電子カルテプログラムを提供する。
【解決手段】複数のユーザの識別情報及び認証情報の組み合わせを予め記憶するユーザ情報記憶部０４１と、入力部０７２から、ログイン要求又はログインがなされている状態における所定の処理要求を受けて、識別情報及び認証情報の入力を行うログイン画面を表示部０７１に表示させる第２表示制御部０１２と、ログイン画面に識別情報及び認証情報の組み合わせが入力されたときに、ユーザ情報記憶部０４１に記憶された組み合わせと一致するか否かを判定する判定部００３と、入力された組み合わせと記憶された組み合わせとが一致したときに、所定の処理を行う処理実施部００６と、少なくとも所定の処理の処理内容の情報と入力された識別情報とを含む履歴情報を記憶しておく履歴記憶部０４２と、を備えた。 （もっと読む）