説明

富士通セミコンダクター株式会社により出願された特許

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【課題】回路基板の局所的な膨れの発生を抑える。
【解決手段】回路基板20の半導体チップ30が配置される領域を含む中央部20a、及び半導体チップ30と回路基板20とをAuワイヤ50で接続するためのパッド21cの形成領域を含む周辺部20cとの間の中間部20bに、スルーホール29bを形成する。このような領域にスルーホール29bを形成することにより、ソルダボール70のリフロー時等に、グランドプレーン配線22aとプリプレグ層27との剥離、及び電源プレーン配線23aとプリプレグ層28との剥離が抑えられ、スルーホール29bを形成しなかった場合に中間部20bを中心とする回路基板20の膨れの発生が効果的に抑えられるようになる。 (もっと読む)


【課題】固体撮像素子と透明部材との間の距離を高い精度をもって検出することができ、不良品の製造を防止することができる固体撮像装置を提供すること。
【解決手段】固体撮像素子72と、前記固体撮像素子の受光領域PAに対向して配置される透明部材73と、前記透明部材を支持する支持部材71と、前記透明部材の上面又は前記透明部材の上面のいずれかに配設される第1のマーク77と、前記固体撮像素子の受光領域の外側に配設される第2のマーク78と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】放電ランプの発光位置、輝度及び輝度分布の経時変化を少なくする。
【解決手段】 陰極電極11と陽極電極12との間にアークを発生させる放電ランプ10を光源とする発光装置において、陰極電極11を陽極電極12方向に沿い移動させるアクチュエータ16と、陰極電極11の移動に対して放電ランプ10の輝度が極大値又は所定値になるように、アクチュエータ16を制御する制御装置とを有する。電極消耗に起因する輝度分布等の変動を、陰極電極11の移動により修正するので輝度分布等の変動が少ない。 (もっと読む)


【課題】 基板上に発生する欠陥を可及的に迅速且つ正確に把握し、インプロセス内における欠陥の発生源や発生原因を確実に特定して、歩留まり良く信頼性の高い製品作製が実現を実現する。
【解決手段】 欠陥分布判定部3で特異分布の存在が確認された場合には、欠陥情報作成部2は、有効チップ内領域外、具体的には半導体基板の表面における有効チップ内領域外の第1の領域、半導体基板の端面(いわゆるベベル部分)である第2の領域及び裏面である第3の領域について欠陥検査装置を用いて調べ、当該欠陥に関する第2の欠陥情報(第1、第2及び第3の領域内の夫々における欠陥数及び欠陥の位置座標等)を作成する。 (もっと読む)


【課題】特殊な付加工程や材料を用いることなく、既存のMIS型トランジスタを主構成部材として用いるも、極めて簡易且つ確実に記憶情報の書き込み及び読み出しを行うことを可能とする。
【解決手段】メモリセル10の主構成部材であるP型MOSトランジスタ21は、メモリセル10において記憶素子として機能するものである。このP型MOSトランジスタ21に所定の高電圧を印加すると、HCIによるIoffリークが増加する、いわゆるIoffリーク現象が発生する。このIoffリーク現象がP型MISトランジスタに保存される性質ものであることを利用して、MOSトランジスタ21を記憶素子として用いる。 (もっと読む)


【課題】最小の工程数で尚且つ、特性が安定しており、スイッチングスピードの速いパワー半導体装置を実現する。
【解決手段】厚いゲート絶縁膜9及びこれよりも薄いゲート絶縁膜11を形成した後、ゲート電極材料を堆積し、ゲート絶縁膜9下のボディ領域の形成予定部位にp型不純物をイオン注入してp型不純物領域15を形成する。そして、ゲート絶縁膜9,11下にそれぞれp型不純物をイオン注入してボディ領域19a,19bをそれぞれ形成する。ボディ領域19aはp型不純物領域15と一体化する。 (もっと読む)


【課題】地図データの構成を変えることなく高速な描画処理を実現すること。
【解決手段】描画処理装置は、画像を分割するパーセル構造110単位にそれぞれパーセル内に存在する描画対象図形の情報を含んだ地図データを用いて図形描画をおこなう描画処理装置であって、パーセル構造110をより小さな仮想サブパーセル構造120に分割し、分割された仮想サブパーセルからパーセル内の図形の少なくとも一部が存在する仮想サブパーセルを特定し、特定された仮想サブパーセルと、図形とを関連付ける。そして、描画処理装置は、描画環境設定から画像の表示領域の指示を受け付けると、図形データの中から、表示領域に含まれるパーセルを抽出し、さらに抽出されたパーセル表示領域に含まれる仮想サブパーセルを抽出し、抽出されたパーセルの少なくとも一部に存在する図形の中から、抽出された仮想サブパーセルと関連付けされた図形を描画する。 (もっと読む)


【課題】アライメントマークとなる島状の構造体の占有面積を可及的に小さく抑えるも、アライメントマークの誤検出を容易且つ確実に防止し、アライメントを安定して高精度に行うことを可能とする。
【解決手段】アライメントマーク5を、アライメント時の画像解析対象となる複数の第1の溝15と、当該アライメントマーク5の周縁部分を分割するように第1の溝15よりも幅狭で稠密に形成されてなる複数の第2の溝16とから形成する。第1の溝15は、Y方向に延在しており、X座標検出用の溝15aと、X方向に延在しており、Y座標検出用のする溝15bとが、それぞれライン&スペース状に並列して複数形成されてなる。 (もっと読む)


【課題】タッチセンサーの検出精度を向上させ得る容量センサーを提供する。
【解決手段】電極11aと接地端GNDとの間の第一の容量Cs2の充電電圧の変化を検出する第一の充電電圧検出部12aと、複数の電極11a,11b間の第二の容量Cs1の充電電圧の変化を検出する第二の充電電圧検出部12bと、第一の充電電圧検出部12aと第二の充電電圧検出部12bからそれぞれ出力される検出信号F1,F2に基づいて判定信号OUTを生成する判定部13とを備えた。 (もっと読む)


【課題】フリップチップ半導体装置のバンプ形成において、チップキャリアの必要以上の高温化を防いで変形化を未然に防ぎ、またダイシングテープの粘着剤に起因するチップキャリアとチップとの固着によるバンプ形成の生産性低下を防ぐ。
【解決手段】半導体チップを、チップキャリアの、底部に開口部を有するチップ搭載部に載置し、前記半導体チップをバンプ形成装置の、少なくとも上面が被覆膜で平滑状態とした突起部を、開口部内に下方から上方に貫通させ、半導体チップを前記上面上に固定し、半導体チップの表面にバンプを形成するようにする。これによって、チップキャリアの過度な温度上昇を抑制し、また半導体裏面に粘着剤が付着していても、チップキャリアとチップとの固着は勿論、これが前記突起部の上面と半導体チップ間で固着して剥離しなくなる状況をも回避できる。 (もっと読む)


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