【課題】減少されたゲート高さを有する集積回路トランジスタを形成する方法およびシステムを開示すること。
【解決手段】本方法は、基板、基板の上のゲート導体（１３）、およびゲート導体（１３）の上の少なくとも１つの犠牲層（１４〜１６）を有する積層構造を形成する。このプロセスは、積層構造を基板から延びる少なくとも１つのゲート・スタックにパターン形成し、ゲート・スタックに隣接してスペーサ（６０）を形成し、ゲート・スタックに隣接してソースおよびドレイン領域（７１）を形成するようにスペーサで保護されていない基板の領域にドーピングし、そして、スペーサ（６０）および犠牲層（１４〜１６）を除去する。 （もっと読む）

【課題】 ＴＣＰトラフィックのフロー特性に基づいてキャッシング・ルックアップを行うこと。
【解決手段】 ネットワーク・デバイスの分類システムはキャッシュを含み、このキャッシュは、セッションにおける最初の「フリークエント・フライヤ」パケットに応答して、ＴＣＰ／ＩＰパケットの予め定義された特性と関連付けられた動作との間のマッピングを格納する。そのセッションにおいて、続いて受信されるパケットからの選択された特性は、予め定義された特性と相関され、選択された特性と予め定義された特性とが一致した場合には、格納された動作が受信パケットに適用され、このようにして、後続するパケットに必要とされる処理が減少される。キャッシングに選択されるパケットは、データ・パケットとすることができる。特性が一致しなかった場合には、分類システムの完全パケット検索を用いて受信パケットに適用される動作を決定する。 （もっと読む）

【課題】データ・ネットワークに接続可能なコンピューティング装置をモバイル・コンピューティング装置として分類するための方法および機器を提供すること。
【解決手段】登録する装置の場所関連情報が決定される。決定した場所情報は、この装置に関連付けられている保存済みの場所情報と比較される。装置のモバイル装置としての検出は、少なくとも保存されている場所情報が、決定した場所情報と異なるときに行われる。装置自体も、データ・ネットワークへのどのようなアクセス機構も、変更の必要はない。 （もっと読む）

【課題】 ＳｉＧｅ真性ベースとエミッタに近接した隆起型外因性ベースとを持つ改良されたバイポーラ・トランジスタを提供する。
【解決手段】 隆起型外因性ベースを持ち、外因性ベースとエミッタ（１０６）との間の選択可能な自己整合性を備えるバイポーラ・トランジスタが開示される。製造方法は、真性ベース（１０８）の上に所定の厚さのポリシリコン又はシリコンの第１外因性ベース層（１０２）を形成するステップを含む。次いで、誘電体のランディング・パッド（１２８）が、リソグラフィによって第１外因性ベース層（１０２）の上に形成される。次に、ポリシリコン又はシリコンの第２外因性ベース層（１０４）が誘電体ランディング・パッド（１２８）の上に形成され、隆起型外因性ベースの全体の厚さが完成する。エミッタ（１０６）開口部が、リソグラフィ及びＲＩＥを用いて形成され、その際、第２外因性ベース層（１０４）は、誘電体ランディング・パッド（１２８）上でエッチング停止される。エミッタ（１０６）と隆起型外因性ベースとの間の自己整合性の程度は、第１外因性ベース層（１０２）の厚さと、誘電体ランディング・パッド（１２８）の幅と、スペーサの幅とを選択することによって達成される。 （もっと読む）

【課題】 高性能デバイスの金属置換ゲートのための構造および形成方法を提供する。
【解決手段】 まず、半導体基板（２４０）上に設けたエッチ・ストップ層（２５０）上に、犠牲ゲート構造（２６０）を形成する。犠牲ゲート構造（３００）の側壁上に、１対のスペーサ（４００）を設ける。次いで、犠牲ゲート構造（３００）を除去して、開口（６００）を形成する。続けて、スペーサ（４００）間の開口（６００）内に、タングステン等の金属の第１の層（７００）、窒化チタン等の拡散バリア層（８００）、およびタングステン等の金属の第２の層（９００）を含む金属ゲート（１０００）を形成する。 （もっと読む）

【課題】障害のある信号導電体を有する信号バスが低下した性能で動作できるようにする、方法および装置を提供すること。
【解決手段】データ・ブロックが、第１の電子ユニットから第２の電子ユニットへ信号バスを介して転送される。伝送シーケンスは、伝送を完了するのに必要な最低数のビートを使用し、障害のないすべての信号導電体を使用してデータ・ブロックを送信する。 （もっと読む）

【課題】スルーホール導体を有するプリント配線板において、サブトラクティブ法でもアディティブ法でも製造可能なプリント配線板を提供する。
【解決手段】 本発明によるプリント配線板１００は、銅張積層板１に形成された貫通孔５の表面及び貫通孔５の開口部周辺の銅張積層板１の表面上に形成されるスルーホール導体６を有する。スルーホール導体６にはポジ型感光性樹脂７が充填される。ポジ型感光性樹脂７上及びスルーホール導体６上には蓋導体８が形成される。さらに、銅張積層板１の表面上には回路パターン１４が形成される。絶縁層３は銅張積層板１の上面上と蓋導体８上と回路パターン１４上に形成され、その表面から蓋導体８に至るまでビアホール１６を形成する。ビア導体１０はビアホール１６及びその開口部周辺であって絶縁層３の表面上に形成される。
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【課題】 モバイル装置を介して効率的にエンタープライズ・サーバ・リソースにアクセスすることができる方法及びシステムを提供する。
【解決手段】 本発明は、モバイル装置がネットワークに接続されているか又はネットワークから切断されているかにかかわらず、ウェブ・サイト及びそのコンテンツを該モバイル装置上に効率的に表示するための機構を提供する。モバイル装置が、ウェブ・サイトをホストするサーバに要求を行ったときに、該サーバは、ウェブ・サイト・コンテンツを構成するページ要素を圧縮する。サーバは、モバイル装置の要求に応答して、圧縮されたページ要素を送信する。モバイル装置は、ページ要素を解凍し、解凍されたページ要素をローカルに格納する。モバイル装置は、該モバイル装置のユーザが要求したときに、ローカルに格納されたウェブ・サイト・コンテンツを表示する。 （もっと読む）

データベースに格納された情報へのアプリケーションプログラムによるアクセスが所定の基準を満足しているかどうかの判定を行いつつ情報を取得する処理を迅速に行う。 個人情報を処理するアプリケーション１０と、個人情報を記憶する個人情報ＤＢ２０と、個人情報保護ポリシーに基づくポリシー準拠チェックを行うポリシーサーバ３０と、個人情報ＤＢ２０に記憶された個人情報の読出し要求をアプリケーション１０から受けると、その個人情報を個人情報ＤＢ２０から読み出し、その読み出した個人情報のうちの特定の個人情報の受渡し要求をアプリケーション１０から受けると、その受渡し要求が個人情報保護ポリシーに準拠しているかどうかをポリシーサーバ３０に問い合わせ、その応答によりポリシーに準拠していることが分かれば、その特定の個人情報をアプリケーション１０に受け渡すプライバシー保護モジュール４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ウェハ内における相対的に均一な厚さ及び窒素濃度を有するＳｉＯ_ｘＮ_ｙ層を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 基板を準備するステップと、該基板の上面に二酸化シリコン層を形成するステップと、還元雰囲気内でプラズマ窒化を実行し、該二酸化シリコン層を酸窒化シリコン層に変換するステップとを含む、ゲート誘電体層を製造する方法である。このように形成された誘電体層を、ＭＯＳＦＥＴの製造において用いることができる。 （もっと読む）