説明

エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッドにより出願された特許

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【課題】内部スペースを有する加熱されたチャンバー内において半導体ウェハを支持するサセプタに関する。
【解決手段】当該サセプタ10は、上面24、および当該上面24と反対の下面26を有する本体20を備える。当該サセプタ10は、当該上面24から当該本体20に仮想の中央軸22に沿って下方に延びる凹部を有する。当該凹部はその中に半導体ウェハ12を受容することができる大きさおよび形状に形成されている。当該サセプタ10は、当該本体20を貫通し凹部から下面26まで延びる複数のリフトピン開口部を有する。複数のリフトピン開口部のそれぞれは、ウェハを凹部に対して選択的に上昇または下降させるため、リフトピンを受容することができる大きさに形成されている。サセプタ10は、本体20から中央軸22に沿って凹部から下面26まで延びる中央開口部を有する。 (もっと読む)


【課題】表面および内側部分を有しているシリコンウエハから、銅、ニッケルおよびそれらの組み合わせの中から選ばれる汚染物質を除去するための方法である。
【解決手段】この方法は、酸化開始温度またはそれ以上の温度から制御された雰囲気中でシリコンウエハを冷却すること、ならびに前記酸化開始温度にて酸素含有雰囲気流を開始してシリコンウエハ表面の周囲に酸化的雰囲気を形成し、シリコンウエハ表面に酸化物層を生じさせ、および前記酸化物層とシリコンウエハ内側部分との間の境界に歪み層を生じさせることを含んでなる。ウエハの冷却も、シリコンウエハ内側部分から歪み層への汚染物質の原子を拡散させるように制御される。シリコンウエハは、それから清浄化されて酸化物層および歪み層が除去され、それによって歪み層へ拡散した汚染物質が除去される。 (もっと読む)


【課題】高いスループット及びより良い収率を達成することができる方法を提供する。
【解決手段】高純度の半導体グレードの顆粒状シリコン、及びそのような顆粒状シリコンを製造する方法を開示する。第1の化学気相蒸着(CVD)反応装置内で、シリコン・シードにシリコンをデポジットさせ、それによってシードをより大きな二次シードに成長させて、商業的品質の顆粒状シリコンを製造することができる。第2の化学気相蒸着反応装置内で、二次シードに追加のシリコンをデポジットさせる。この明細書に記載する方法を用いて、常套の方法よりも高いスループット及びより良い収率を達成することができる。 (もっと読む)


【課題】粒状多結晶シリコンの製造において、粉塵成分を減少させて、粒状多結晶シリコン中において許容し得る最大の粉塵成分を特定する、改善されたシステムの提供。
【解決手段】粒状多結晶シリコンGPから粉塵成分Dを引き離すための減圧ソースV、対向する第1の端部および第2の端部、粒状多結晶シリコンGPを通過させるための前記第1の端部における多結晶シリコン通路、および前記減圧ソースVに連絡する減圧ポート59を有してなるプロセス容器P、ならびに前記プロセス容器Pからの粒状多結晶シリコンGPを受け入れるためのコンテナ91を有し、前記プロセス容器Pから粒状多結晶シリコンGPを注ぐために前記プロセス容器Pを直立した状態から回転させる際に、粒状多結晶シリコンGPが前記減圧ポート59を塞ぐことがないように、前記減圧ポート59は前記プロセス容器Pにおける第2の端部に隣接して配置されているシステム。 (もっと読む)



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本開示は、ハンドルおよびドナーウエハのロールオフ量(ROA)を最小限にすることによって、減少した非結合領域を有する絶縁体上シリコン構造の製造に関し、およびこのようなウエハを製造する方法に関する。ウエハを研磨する方法もまた提供される。
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トリクロロシラン等の熱分解性を有したケイ素化合物から多結晶シリコンを生成する流動床リアクター・システムおよび分配器並びに方法が開示されている。この方法は、概して四ハロゲン化ケイ素を使用することによって、多結晶シリコンの生成の間リアクター壁上のケイ素付着物の低減を含んで成る。 (もっと読む)


本発明は、概して、多層構造体の製造プロセスに関する。プロセスは、イオンをドナー構造体に注入し、注入されたドナー構造体を第2構造体に結合して、結合構造体を形成し、結合構造体を離層し、およびドナー構造体の全ての残留部分を、最終的な多層結晶構造体から除去することを含む。
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任意であるがシリコンソース存在下、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属とアルミニウムとのフッ化物塩の酸分解により三フッ化アルミニウムを生成する方法;三フッ化アルミニウムを生成するためシラン生成物の副生成物の酸分解を含む、シランを生成する方法を提供する。 (もっと読む)


本発明は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属とアルミニウムとのフッ化物塩の蒸解により四フッ化ケイ素を生成するための方法、任意にはケイ素源存在下で、四フッ化ケイ素を生成するためのシラン生成物の副産物の酸蒸解を含んで成るシラン生成方法に関する。 (もっと読む)


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