基板、偏光層、偏光層と基板の間の無機中間層、基板と無機中間層の間に必要に応じて設けられる無機下地層及び偏光層を覆う保護層を備える新規な偏光用品並びにその作成方法が開示される。無機中間層及び必要に応じて設けられる下地層の存在により、偏光層の密着強度が実質的に改善される。偏光用品は改善された化学的、機械的及び熱的な耐性を有する。偏光用品は、例えば眼用品として、またディスプレイデバイスに、用いることができる。
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酸化物ガラスまたは酸化物ガラス−セラミックからなる支持基板(２０)に張り合わされた実質的に単結晶の半導体(例えばドープトシリコン)の層(１５)からなる１つまたはそれより多くの領域を有する大面積絶縁体上半導体(ＳＯＩ)構造を含むＳＯＩ構造が提供される。酸化物ガラスまたは酸化物ガラス−セラミックは透明であることが好ましく、１０００℃より低い歪点及び１０^１６Ω-ｃｍ以下の２５０℃における比抵抗を有し、高温(例えば３００〜１０００℃)において電場に応答してガラスまたはガラス−セラミック内を移動できる陽イオン(例えば、アルカリイオンまたはアルカリ土類イオン)を含有することが好ましい。半導体層(１５)と支持基板(２０)の間の接合強度は少なくとも８Ｊ/ｍ^２であることが好ましい。半導体層(１５)は半導体材料がガラスまたはガラス−セラミックから発生する酸素イオンと反応した混成領域(１６)を有することができる。支持基板(２０)は可動陽イオンの濃度が低減された空乏領域(２３)を有することが好ましい。
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固体酸化物燃料電池デバイスは、６００℃〜８００℃の中間温度範囲にある封止温度で水素ガス透過に対して耐性がある封止材料を含み、その封止材料は、１００×１０^-7／℃から１２０×１０^-7／℃のＣＴＥを有し、この封止材料は、質量％で、（ｉ）７５から９５質量％のガラスフリットであって、それ自体、モルパーセントで、７０〜８５％のＳｉＯ₂、０〜５％のＡｌ₂Ｏ₃、０〜８％のＮａ₂Ｏ₃、１０〜２５％のＫ₂Ｏ、０〜１０％のＺｎＯ、０〜６％のＺｒＯ₂、０〜７％のＭｇＯ、０〜２％のＴｉＯ₂の組成を有するガラスフリット、および（ｉｉ）アルミナ、ジルコニアまたは白榴石の内の少なくとも１つを含む、５質量％から２５質量％の添加物を含む。
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第１の態様において、本発明は、基板と、基板上に直接堆積させた多孔質シリカ（ＳｉＯ_２）の障壁層と、障壁層上に直接堆積する多結晶シリコンの薄膜とを備えるシリコン薄膜トランジスタを提供する。本発明は、そのようなトランジスタを製造する方法、そのようなトランジスタを含むディスプレイスクリーン、およびそのようなディスプレイスクリーンを製造する方法も提供する。
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移動しているガラス基板の厚さを計測することが可能なオンライン厚さ計測装置（ＯＬＴＧ）および方法ここに記載されている。好ましい実施の形態においては、ＯＬＴＧが、ガラス基板をそれぞれ捕捉しかつ安定させるためのＹ字状ガイドおよびガラス安定化ユニットを備えている。ＯＬＴＧはまた、レーザー光源および検知器を有するレーザー装置を備えている。レーザー光源は、移動しているガラス基板の前面に向けてビームを放射する。そして、検知器は、移動しているガラス基板の前面で反射した一方のビームと、移動しているガラス基板の背面で反射した他方のビームとの２本のビームを受光する。ＯＬＴＧはさらに、検知器より受光された２本のビームを解析して、移動しているガラス基板の厚さを測定するのに用いられる２本のビーム間の間隔を測定するプロセッサを備えている。
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【課題】合成ガラス材料の屈折率の均一性を改善する製造方法の提供。
【解決手段】０．１から１３００質量ｐｐｍのＯＨ濃度を有する合成ガラス材料であって、その軸の少なくとも１つに対して垂直な方向のＯＨ濃度のばらつきが２０質量ｐｐｍ未満である合成ガラス材料を製造する。(i)高純度シリカスート粒子を提供し、(ii)前記スート粒子から、０．２から１．６ｇ／ｃｍ³、好ましくは０．２５から１．０ｇ／ｃｍ³の嵩密度を持つ多孔質プリフォームを形成し、(iii)必要に応じて、前記多孔質プリフォームを浄化し、(iv)Ｈ₂ＯおよびＯ₂に対して不活性な固結雰囲気に露出される内面を有する炉内において、Ｈ₂Ｏおよび／またはＯ₂の存在下で、前記プリフォームを緻密なシリカに固結する。 （もっと読む）

Ｐ_２Ｏ_５／Ｒ_２Ｏ_３成分（ＲがＹ、Ｓｃ、Ｅｒ、Ｌｕ、Ｙｂ、Ｔｍ、Ｈｏ、Ｄｙ、Ｔｂ、Ｇｄまたはその組合せである）、および／または、Ｖ_２Ｏ_５／Ｒ’_２Ｏ_３成分（Ｒ’がＹ、Ｓｃ、１つ以上の希土類元素またはそれらの組合せである）を含有する耐火材料が提供されている。一部の実施形態においては、耐火材料はゼノタイムタイプの材料および／またはゼノタイム安定化されたジルコンタイプの材料である。該耐火材料はガラスまたはガラスセラミックの製造において使用可能である。例えば、耐火材料特にＰ_２／Ｏ_５／Ｒ_２Ｏ_３成分を含有する耐火材料は、フラットパネルディスプレイの製造において基板として使用されるガラスシートなどの平坦なガラスシートを製造するための融合プロセスにおいて形成用構造（「アイソパイプ」）として使用可能である。
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約３ｍｍ未満の厚さで隔てられた２つの面を有する基板の主表面の少なくとも一部の上に生成物の層を被着するためのプロセスが提供される。このプロセスは、被着されるべき生成物またはその前駆体の１つの溶液または分散液を含む液媒内に基板を入れ、基板が液体層で被覆されるように基板を液媒から引き出し、被着された液体層に含まれる液媒の少なくとも一部を蒸発させる浸漬法の使用を含み、プロセスは、液媒の一部の蒸発の結果としての基板の冷却が制限される条件の下で実施されることを特徴とする。
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低い偏光誘起複屈折を有する合成シリカガラス、前記ガラスを製造する方法および前記ガラスから製造された光学要素を含むリソグラフィシステムが開示される。前記シリカガラスは、約４０μＪ・ｃｍ^−２・パルス^−１のフルエンスおよび約２５ｎｓのパルス長を有する約１９３ｎｍのエキシマーレーザーパルスに５×１０^９パルスかけられた時に、約０．１ｎｍ／ｃｍ未満の、６３３ｎｍにおいて測定された偏光誘起複屈折を有する。 （もっと読む）

マイクロ流体反応装置１０は、熱緩衝流体通路［７０］と、全てが拡張本体内に画成された、混合［４０］および滞留時間［５０］副通路を持つ反応体通路［２２］を備え、滞留時間副通路［５０］は少なくとも１ｍｌの容積を有し、混合副通路［４０］は、良好な混合を提供するために流動の正確な分割を必要としない単一ミキサの形態にある。この装置は、ガラスまたはガラスセラミック内に形成されることが望ましい。単一ミキサ［４０］は、反応体流体内の二次流動を生成するように構成されており、１つ以上の共通壁を共有することによって、緩衝流体通路［７０］に熱的に密接に連結されていることが好ましい。
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