ガラス製造装置において１つ以上の容器の周りの雰囲気（例えば、酸素、水素、湿度、温度、ガス流量、圧力）を制御する装置および方法がここに開示されている。好ましい実施の形態において、その装置は、ガラスシートにおけるガス状含有物および表面膨れの形成を抑制するように容器の外部（非ガラス接触表面）の周りの水素のレベルを制御するために用いられる閉ループ制御装置およびカプセルを含む。その上、閉ループ制御装置およびカプセルは、溶融ガラスがガラス製造装置においてある容器から別の容器に移動する間に溶融ガラスの冷却を促進するのに用いることができる。さらに、閉ループ制御装置およびカプセルは、容器上の貴金属の酸化を減少させるように容器の周りに最小の酸素を含む雰囲気を維持するのに使用できる。
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多波長で使用するコリメータ（１００）は、光ファイバ（１０２）と、光ファイバの端部に対して一定の距離を隔てて配置された屈折率分布型レンズ（１０６）とを備える。一態様において、屈折率分布型レンズは、選択された範囲の赤外スペクトル領域にわたり、０．０１未満の選択ピッチで色収差を有する。別の態様において、屈折率分布型レンズは、選択された範囲の可視スペクトル領域にわたり、０．０３５未満の選択ピッチで色収差を有する。
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可撓性半導体材料を提供するために半導体材料をポリマー基板に転写する方法は、半導体基板の所定の深さにイオンを注入し、欠陥を形成し注入されたイオン欠陥を拡大させるのに効果的な温度で効果的な期間に亘りイオン注入された半導体基板を熱処理し、イオン注入され熱処理された基板をポリマー基板に付着させ、半導体基板から単結晶シリコン膜などの半導体膜を分離する各工程を有してなる。ポリマー膜に直接的または間接的に付着された単結晶シリコン膜を有する装置も開示されている。
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透明基板の寸法変化を測定する方法は、基準プレート上に基準マーカーのアレイを形成する工程、透明基板上に基板マーカーのアレイを形成する工程、基準マーカーと基板マーカーが重なるように基準プレートと透明基板を積み重ねる工程、透明基板の処理の前後に基準マーカーの座標に対する基板マーカーの座標を測定する工程及び、透明基板の処理の前後の測定された基板マーカーの相対座標の間の差から透明基板の寸法変化を決定する工程を含む。
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【課題】 ２５０ｎｍ未満で作動する高出力レーザリソグラフィシステムで使用される素子に関し、特に、素子の耐久性を向上させるように選択された材料から成るコーティングを備えた素子と、長寿命の素子を作成する方法を提供する。特に、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムまたはフッ素系二酸化ケイ素がコーティングされた、格子およびミラーに関する。
【解決手段】 高エネルギーのイオンプラズマによる衝撃を与えながら被着させることによってコーティングの耐久性の向上を図った。 （もっと読む）

ガラス板が罫書かれて割り取られるときに生じるガラス破壊エネルギー（または別のパラメータ）を検出する音響放射システム及び方法が説明される。好ましい実施形態において、音響放射システムは、音響放射センサ、データ収集システム及びプロセッサを備える。音響放射センサはガラス板にインターフェースし、ガラス板が罫書かれて割り取られたときに生じる音響放射波形を表す音響放射信号を発生する。データ収集システムが音響放射信号を記録する。プロセッサは記録された音響放射信号を処理してガラス破壊エネルギー（または別のパラメータ）を決定する。次いで、プロセッサはガラス破壊エネルギー（または別のパラメータ）を用いて割り取られたガラス板の縁の品質を判定することができる。さらに、プロセッサはガラス破壊エネルギー（または別のパラメータ）をフィードバックとして用いて以降のガラス板の罫書き及び割取りを調節することができる。
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密封ガラスパッケージ（１００）および密封ガラスパッケージ（１００）を製造する方法（２００）が、例としてＯＬＥＤディスプレイを用いてここに記載される。基本的に、密封ＯＬＥＤディスプレイ（１００）は、第１の基板（１０２）および第２の基板（１０７）を提供し（工程２０２）、フリット（１０６）を第２の基板（１０７）上に堆積させる（工程２０８）ことによって製造される。ＯＬＥＤ（１０４）は、第１の基板（１０２）上に堆積される（工程２０６）。次いで、照射源（１１０）（例えば、レーザ、赤外線）を用いて、フリット（１０６）を加熱し（工程２１２）、このフリットが溶融して、第１の基板（１０２）を第２の基板（１０７）に連結し、ＯＬＥＤ（１０４）を保護もする密封シール（１０８）を形成する。フリット（１０６）は、少なくとも一種類の遷移金属と、ことによると、照射源（１１０）がフリットを加熱したときに、フリットが軟化し、結合部を形成するようなＣＴＥ低下充填剤がドープされたガラスである。これにより、ＯＬＥＤ（１０４）への熱的損傷を避けながら、フリットが溶融し、密封シール（１０８）を形成することができる。
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フッ素およびアルカリ金属酸化物のドーパントがドープされたＳｉＯ₂のコアを有する光ファイバが開示されている。アルカリ金属酸化物は、Ｋ，Ｎａ，Ｌｉ，ＣｓおよびＲｂからなる群より選択され、少なくとも２０質量ｐｐｍの量で提供される。このファイバは、コアを取り囲む内側クラッドを有し、そのクラッドもフッ素を含有している。純粋なシリカに対して測定された内側クラッドの相対屈折率（Δ₂％）は、−０．３９％および−０．７％の間にあることが好ましい。このファイバは、０．１７８ｄＢ／ｋｍ以下の１５５０ｎｍでの減衰量を示すことが好ましい。
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【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスを提供する。
【解決手段】一般化学式ＹＺを有するカルコゲナイドガラスであって、ここで、ＹはＧｅ，Ａｓ，Ｓｂまたはこれら２つ以上の混合物であり、ＺはＳ，Ｓｅ，Ｔｅまたはこれら２つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Ｙは１５〜７０％の範囲にあり、Ｚは３０〜８５％の範囲にあり、ＧｅがＡｓおよびＳｂの内の一方または両方と混合された場合には、Ｇｅの量は、０＜Ｇｅ＜２５％の範囲にあるカルコゲナイドガラス。 （もっと読む）

外部キャビティレーザはレーザ発振キャビティ及び光結合されたフィードバックキャビティを備え、共振レーザ発振モード周波数間隔と共振フィードバックモード周波数間隔は異なる。レーザ発振モードは選択されたフィードバックモードに一括して、または個別に、整合させることができる。例えば、個々のレーザ発振モードをシフトさせて選択されたフィードバックモードに一致させるために、レーザ発振キャビティを駆動する電流を調節することができる。
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