【課題】基体上に、異方性柱状微細構造をもち、腐食に対し大きな抵抗性を示す熱絶縁層、機能性層を製造する方法、及び製造された部品を提供する。
【解決手段】第一工程で１００００Ｐａ未満の低い圧力でプラズマ溶射法により粉末ジェットの形態で基体（２）の表面に被覆材料を溶射し、細長い微粒子（１０）が基体（２）の表面に対しほぼ垂直に立って並んでいる異方性微細構造を有する機能性層（１）を形成し、第二工程で前記層の毛細管状の空間（１１、１２）を、補強用媒体（６）として用いられる液体であって、熱により金属酸化物へ転化することができる前記層に含まれる金属（Ｍｅ）の少なくとも一種類の塩を含む液体で満たし、前記補強用媒体を前記層の表面に塗布して毛細管状空間内へ浸透するのを待った後、熱を導入して酸化物の形成を行わせることにより、前記層を強化する。 （もっと読む）

【課題】溶射銃２を有する熱溶射装置のデータ管理のためのシステムを利用可能にすること。
【解決手段】そのシステムは、工程パラメータを検出するため、また熱溶射装置のデータを記憶するために、メモリ４を有する分散配置されたデバイス１を含み、そのデータは、熱溶射装置の識別及び動作データを含み、そのデバイス１は、データを伝送するためのバス・インタフェース６をさらに含んでいる。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つの内部通路を有する基体、例えばタービンの内部を耐熱性の物質で均一に被覆させる方法と装置を提供する。
【解決手段】反応容器２の反応空間２１に設置した基体、例えばタービン内部について外部供給源７から供給したアルミニウム系加工用ガスを内部発生器４に通して反応性を高め、反応性を高めたガスを各通路につき各々調節した流量で通過させることにより基体１０内部にアルミニウムを蒸気相から化学的蒸着させて均一に被覆する方法および装置。 （もっと読む）

【課題】溶射プロセスにおいて液体前駆体をプラズマ・トーチのプラズマ・ガス流内に完全に浸透させること。
【解決手段】プラズマ溶射デバイス１は、加熱区域６内でプラズマ・ガス５を加熱するためのプラズマ・トーチ４を含み、このプラズマ・トーチ４は、プラズマ・ガス流８を生成するためのノズル本体７を含み、且つこのノズル本体７を通って中心長手方向軸線１０に沿って延びるアパーチャ９を有している。アパーチャ９は、プラズマ・ガス５用の入口１２を有する収束セクション１１と、アパーチャの最小断面領域を含むスロート・セクション１３と、プラズマ・ガス流８用の出口１５を有する発散セクション１４とを有し、導入管１６が、プラズマ・ガス流８内に液体前駆体１７を導入するために提供される。本発明によれば、浸透手段１８、１８２が、プラズマ・ガス流８内部に液体前駆体１７を浸透させるために提供される。 （もっと読む）

【課題】燃焼機関のシリンダ孔を溶射被覆する際の熱膨張の問題と、金属蒸気による汚染にかかわる問題とが解決されると同時に、高度の自動化が簡単かつ経済的に可能な装置を提供する。
【解決手段】溶射被覆処理中に燃焼機関３のシリンダ孔２を遮蔽する遮蔽装置であって、燃焼機関３の第１シリンダ５の溶射被覆中に第２シリンダのシリンダ孔２内に配置することで、第２シリンダ７のシリンダ壁６を遮蔽可能な遮蔽体４を含む遮蔽装置おいて、流体流８を発生させるために、予め決定可能な幅の流通間隙１０を遮蔽体４と第２シリンダのシリンダ壁６との間に設定できるように、遮蔽体４を構成した。 （もっと読む）

【課題】本発明は、内燃機関３のシリンダ６、６１、６２のシリンダ・ボア５、５１、５２のシリンダ滑り面４、４１、４２の表面処理中に内燃機関３のクランク室２をマスキングするマスキング・システム１に関する。
【解決手段】マスキング・システム１は、中空マスキング本体７をシリンダ・ボア５、５１、５２に接続するコネクタ区画７１さらにスクリーン区画７２がある中空マスキング本体７を含む。本発明によると、中空マスキング本体７は、内燃機関３の第１シリンダ６、６１の表面処理中に、中空マスキング本体７のコネクタ区画７１を、クランク室側で第１シリンダ６、６１のシリンダ・ボア５、５１に配置できるように構成される。本発明はさらに、本発明によるマスキング・システム１の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】基体の上に、被覆を製造する方法において、その被覆がセラミックの多層機能性層から構成され、基体とその被覆との間に、既知の機能性層と比較して改良された遷移状態が存在する、被覆を製造する方法を提供する。
【解決手段】セラミック被覆材料を有する層（３）を、プラズマビーム（３０）を用い、ＬＰＰＳ又はＬＰＰＳ−ＴＦ法を用いて処理室（６）中で基体上に製造する方法において、前記基体が、少なくとも一種類の金属Ｍｅを含み、前記基体の調節された反応温度で、反応性酸素を存在させて、表面上に拡散した金属Ｍｅと反応して得られる酸化物を、セラミック中間層（４）として生成させ、セラミック層（３）、即ち、セラミック被覆材料の層を前記中間層の上に堆積することを含む、上記製造方法。 （もっと読む）

【課題】ターゲット・セグメント中に熱応力が導入されず、また、適切な熱放散が提供されるように、ターゲット保持装置によって冷却系に接続されたターゲット・セグメントを含むターゲットを提供する。
【解決手段】スパッター源用ターゲットは、交換可能な複数のターゲット・セグメント（９）に細分化できる。各ターゲット・セグメント（９）は被覆材料を含み、各ターゲット・セグメント（９）は少なくとも２つのターゲット・セグメント（９’，９”）に隣接し、各ターゲット・セグメントは多くとも１つの固定手段（７，８，１０）によって基体（２，１３，１５）に接続可能である。 （もっと読む）

【課題】過熱が生じないように、ターゲット保持手段によって、ターゲットを冷却システムに連結すること。
【解決手段】コーティング源のターゲット９の装着のための装置が、ターゲット９と、ターゲット保持装置１とを包含し、ターゲット保持装置１が冷却体３と、ターゲットを冷却体に装着するための連結手段６、７、８、１１とを包含する。電力供給がターゲット全体にわたって均一な分布で行われ、同時に、被覆手法の間、ターゲットに生じる熱が冷却体内に均一に伝導できるように、連結手段３、６、７、８、１０、１１が導電性及び／又は伝熱性の手段を包含し、それによってより多くの電力をコーティング源に接続でき、被覆率が上昇する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】スパッタリング空間内のスパッタリングに用いる固定装置が、スパッタリング源に電流を伝えるための電気および熱伝導性材料の送電手段２、１０、１３、１５、１６、１７、１８と、送電手段がスパッタリング空間から電気絶縁され得るように、スパッタリング空間から送電手段を遮蔽するための遮蔽手段１、４、５、６、１２とを含み、最高１１５０℃までの固定装置の耐熱性および電気放電に対する抵抗性を保証するために、耐熱手段１、５を設けて成る。 （もっと読む）