【課題】本発明は、塗布する作業が容易で、接合強度が大きく、８００℃以上の高温下でも強度低下の少ない高温耐熱性の接着剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、フェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン及び／又は２，６−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンと、Ａｇと、Ｉｎとを含有する接着剤を提供する。 （もっと読む）

【課題】装飾用に適するに素材シートを作成する技術を提供する。
【解決手段】絹、織物または不織布の各繊維等の繊維シート１と、その上に設けられた密着・色再現向上層２と、その上に設けられた貴金属層３とを順次積層した構成を有している。 （もっと読む）

【課題】電解液の注入や電極の取り出しを容易にし、再現性に優れ、安定した性能を持つ色素増感型太陽電池を提供する。
【解決手段】色素増感型太陽電池は、基板を厚み方向に貫通する貫通孔７が形成された基板１と、基板１とある距離だけ離れて対向配置され対極をなす透明ガラス基板５と、を有している。透明ガラス基板５の対向面には、透明導電性膜６と色素増感半導体電極４とが順番に形成されている。基板１の対向面と色素増感半導体電極４の対向面との間に、電解液を保持する電極である電解液保持電極２が多数設けられている。電解液保持電極２の一部は、上記貫通孔７を通って基板１の対向面とは反対の面の外側まで貫通して取り出し電極９を形成している。 （もっと読む）

【課題】 高温状態での接着性及び気密性に優れ、さらには取扱い性・作業性に優れた接着剤及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 フェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン及び／又は２，６−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンと、金属又は酸化物微粒子とを含有する接着剤。 （もっと読む）

【課題】 焼成工程でのバインダー焼失性に優れ、かつ、優れた高温耐熱性導電性材料及び窒素酸化物除去触媒が得られる高温焼成用バインダーを提供する。
【解決手段】 SiO₂、Na₂O、CaO、B₂O₃及びAl₂O₃から成る群より選択される少なくとも一つを含むガラスと石英粒、珪砂、炭化木片及びカオリン鉱物から成る群より選択される少なくとも１つを含む粘土とを含む窒素酸化物除去触媒製造用バインダー。 （もっと読む）

自動車、船舶、航空機、ガラス溶鉱炉、鋼材加熱炉、高炉熱風炉、コークス炉、セメント焼成炉、鋼鉄焼結炉、転炉などの高温炉、ごみ焼却炉、ロケットエンジン、火力発電所、ボイラー、硝酸などの薬品や触媒の製造工場、金属や石油の処理施設、石油ストーブ、ガスレンジから排出される、窒素酸化物、炭化水素、ディーゼルパティキュレート、一酸化炭素、二酸化炭素、ダイオキシン等の有害物質を除去するために用いられる金属酸化物触媒材料及び燃焼排気ガス処理用触媒である。本発明の金属酸化物触媒材料は、電気伝導を担う電子が４ｄ殻電子或いは５ｄ殻電子である遷移金属元素を少なくとも一種以上含有する。そして、該金属酸化物触媒材料に排気ガスを接触させることにより、該排気ガス中に含まれる窒素酸化物等の有害物質を一括同時に分解除去することが可能となる。
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【課題】 ＨＣガスやアンモニア等の還元剤の使用を必要とせず、窒素酸化物を除去するのに好適な材料、及びこのような材料から成る窒素酸化物除去装置を提供する。
【解決手段】 周期律表の第８族元素、第９族元素及び第１０族元素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を含有し、周期律表の第１族元素、周期律表の第２族元素、周期律表の第１３族元素及び第１４族元素よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を含有する複合化合物を、金属繊維表面に固定したものを窒素酸化物除去材とする。また、該窒素酸化物除去材と、この窒素酸化物除去材を１００℃以上に上昇させる温度上昇手段とから窒素酸化物除去装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 ジューススタンド等においてもお客様の好みに応じた様々な材料のジュースをその場で確実、かつ清潔にフレッシュな生ジュースを作ることができ、しかも生ジュースを作った都度に自動的に装置を洗浄できるフレッシュジュースの製造装置を提供する。
【解決手段】 上下動ユニット２０を駆動して、下端に回転刃３１を装着した回転刃ユニット２０を待機位置から回転刃が材料カップ２内に入る位置まで下降させ、その位置で回転刃ユニット２０の駆動部により回転刃３１を予め決められた時間だけ回転駆動する。ジュースができると、上下動ユニット３０によって回転刃ユニット２０を待機位置まで上昇させる。 （もっと読む）

（１）少なくともフェニルへプタメチルシクロテトラシロキサン及び／又は２，６−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンから成ることを特徴とする絶縁膜。
（２）２３０℃以下の温度で任意の粘度に調整したペースト状の前駆体の後、２００℃〜５００℃の温度で熱硬化することを特徴とする（１）記載の絶縁膜。
（３）前記前駆体と前記絶縁膜は、少なくとも一回、前記絶縁膜が硬化する温度以下で真空加熱処理を行うことを特徴とする（１）記載の絶縁膜。
（４）少なくともフェニルへプタメチルシクロテトラシロキサン及び／又は２，６−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンを２３０℃以下の温度で数ｃｐｓから数万ｃｐｓの間で任意の粘度に調整する工程および２００℃〜５００℃の温度で熱硬化させる工程を実施することを特徴とする絶縁膜の形成方法。
（５）前記絶縁膜を形成する工程において、少なくとも一回は、前記絶縁膜が硬化する温度以下で真空加熱処理を行うことを特徴とする絶縁膜の形成方法。
（６）真空加熱処理は、２３０℃以下の温度で行うことを特徴とする（４）又は（５）記載の絶縁膜の形成方法。
以上により、層間割れや,ひび割れ,反り、剥離等が無く、絶縁性が良好で所望の膜厚を有する絶縁膜を提供すると共に基板上に、所望の膜厚を有しかつ、高抵抗で絶縁性良好な絶縁膜および絶縁膜を容易に形成できる。 （もっと読む）

水素を選択的に透過し、任意の形状に成形加工することができる水素透過膜として少なくともフェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン及び／または２，６−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンシを用いることにより、熱処理温度２００℃〜５００℃の焼成工程で３００℃以上の耐熱性皮膜が得られ、かつ耐水性に優れた水素或いはヘリウム透過膜が得られる。また、同様にして水素を選択的に貯蔵し、任意の形状に成形加工することができる水素或いはヘリウム貯蔵膜として少なくともフェニルヘプタメチルシクロテトラシロキサン及び／または２，６−シス−ジフェニルヘキサメチルシクロテトラシロキサンを含むシリコンレジンを用いることにより、熱処理温度２００℃〜５００℃の焼成工程で３００℃以上の耐熱性皮膜が得られ、かつ耐水性に優れた水素或いはヘリウム貯蔵膜を得る。
実質的に水素と親和性のある高価な金属を含まず、耐圧性と耐熱性と耐薬品性と機械強度に優れ、水素を良く透過し、（１）水素より水蒸気を透過しにくい（２）メタンを透過しにくい、あるいは（３）アンモニアガスを透過しにくい水素或いはヘリウムの透過膜、貯蔵膜を提供する。また、ベーキング温度と膜厚およびアエロジル等の含有物でも透過率の制御でき、安価で製造方法も容易、かつ数μｍの薄膜から数ｍｍの厚膜まで膜厚の自由度が高く、チューブ状、シート状、バルク、繊維状（糸状）と任意の形状に加工可能である水素又はヘリウムの透過膜を提供することにある。 （もっと読む）