【課題】基板の被処理面の背面に使用済みの処理液等の回り込みを防止する。
【解決手段】基板の被処理面を水平に支持した状態で当該被処理面と平行に回転するテーブルを有し、このテーブルに支持された当該基板Ｗの被処理面に所定の処理液を供給した後、この処理液を当該基板Ｗの外周方向に払拭することにより基板処理を行う装置の当該テーブルに、当該基板Ｗを着脱自在に嵌装するための基板装着部を形成しておく。この基板装着部に嵌装された基板Ｗをベルヌーイ吸着させるために当該基板Ｗの被処理面の背面に向けてＮ２ガス等を噴出供給して、このベルヌーイ吸着により生じる当該基板Ｗの変位力により、当該処理液の払拭路と当該被処理面の背面を通過した気体の排出路とを遮へいする。 （もっと読む）

【課題】 大型基板洗浄工程における高圧水噴射ノズルの使用において、ミストを基板近傍点で回収し、装置全体に拡散しないクリーンな作業環境にできるミスト回収装置を提供することにある。
【解決手段】 高圧水ノズル２では本来の高圧ジェット微粒子３が高速噴射されるが、微粒子外縁部では周囲気流の巻き込みによるミスト４が拡散状に大量発生する。この拡張現象を利用し、密度の小さなミスト４はおわん型の内周カップ５と外周カップ６で形成される段差状の開口部よりリング状空間に自己誘導され、ミスト吸引管６ｂで外部に放出される。吸引に大きなエネルギーを要する基板上の洗浄拡散流水３ａは外周カップ６と基板７とのスキマＳｏより自己放出される。 （もっと読む）

【課題】シートガラスの表面の洗浄度を向上することができる洗浄ブラシ体およびシートガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シートガラスの搬送中に、一方向に並んだ複数の洗浄ブラシを回転させることにより、前記シートガラスを洗浄する。前記洗浄ブラシのそれぞれは、放射状に延びる複数の羽根ブラシ部を備える。前記複数の洗浄ブラシのそれぞれの前記羽根ブラシ部のそれぞれは、接触しないように、同期して回転する。前記羽根ブラシ部の少なくとも１つの回転方向前方のエッジには、ガラス面に対して摺動して洗浄する前方摺動体要素が前記エッジに沿って連続して延在するように形成される。さらに、前記羽根ブラシ部の少なくとも１つの回転方向後方のエッジから、前記洗浄ブラシ体の放射方向内側に傾斜した方向に連続して延在するように後方摺動体要素が形成される。これにより、前記洗浄ブラシ体の回転中、前記シートガラスの表面上に洗浄液の流れが形成される。 （もっと読む）

【課題】基板の被処理面を汚染する恐れのあるミスト等の堆積を防止する。
【解決手段】有底二重筒状体のチャンバー１０と、基板２０を支持するテーブル２１とを含んで基板処理装置１を構成する。内側筒体１２の外壁と外側筒体１３の内壁とで囲まれる第２の空間Ｓ２内の気体を外側筒体１３の外壁外へ排気させることで、第２の空間Ｓ２内の圧力を、内側筒体１２内の第１の空間Ｓ１の圧力よりも低下させ、これにより第１の空間Ｓ１内の気体が、連通機構３０を通過して第２の空間Ｓ２に向けて流れるようにする。その際、連通機構３０を通過する気流を「絞る」ことにより、ベンチュリ効果によりその流れを付勢し、基板２０を処理する際に発生したパーティクルを含むミストなどを第１空間Ｓ１から効率よく排気し、基板の被処理面の汚染を防止する。 （もっと読む）

【課題】基板の中心部付近であってもムラの無い表面処理を可能にする。
【解決手段】基板１２の被処理面を水平に支持した状態でテーブル１０の中央部表面に、当該テーブル１０の回転軸をその中心軸とする突起部１３を形成しておく。表面処理時には、突起部１３の基端からテーブル１０の外周端部方向に所定距離だけ離れ、且つ、それぞれ突起部１３の先端から等距離となるテーブル１０上の複数の部位に、基板１２をその被処理面が水平になるように支持した状態でテーブル１０を回転させる。そして、回転中のテーブル１０の突起部１３の先端から鉛直下方にノズル１４から処理液を供給して拡散させた後、各基板１２の被処理面に到達した処理液を、遠心力によってテーブル１０の外部に払拭させる。 （もっと読む）

【課題】 従来、セラミック基板の研磨加工において、溝付きの各種金属定盤が使用されている。特に、ダイヤモンド砥粒を使用する鏡面加工では銅や錫定盤の加工表面に数ミリ単位の溝加工が施行され、溝は加工中の定盤損耗によって深さが変化するため、溝の再加工が施行されている。特に、ダイヤモンド砥粒が埋設した溝の再生加工は難削加工であり、加工現場では最大のネックとなっている。
【解決手段】 本発明においては、定盤材質に発泡金属を使用する事を特長とする。
定盤表面が損耗しても常に新しい発泡池が出現し、スラリーが定常的に供給されるため、安定した品質の加工が実現できた。また、難削切削である溝再生加工が不要となった。 （もっと読む）

【課題】検査対象のシリコンウエハに表面粗さ部分があっても欠陥部分を確実に識別する。
【解決手段】近赤外光源１から単波長の近赤外散乱光線Ｒ１をシリコンウエハＷに照射し、このシリコンウエハＷを透過した透過光線Ｒ２がカメラレンズ２で集光され、この集光された透過光線Ｒ２を撮像用カメラ３で受光して撮像し、画像処理部４が撮像用カメラ３の撮像画像上でシリコンウエハＷの表面粗さ部分となる成分を消去することにより、欠陥部分の画像が強調される。 （もっと読む）

【課題】
長尺梁構造物において、梁の自重たわみを補正できる手法を提供する事である。
【解決手段】
梁自身の両端近傍にたわみ修正用の反力梁をピンなどで両端支持の状態で取り付け、反力梁より梁の自重に相当する反力荷重：Fを梁に与えてたわみを自己補正できる機構を採用している。
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【課題】捕捉貯留部の開口部の上方を閉塞しても吸引排出ノズルによる余剰塗布液の吸引排出を確実にかつ効率よく行う。
【解決手段】蓋７が回転テーブル４の外周に設けられた捕捉貯留部５の第１貯留部５ａの開口部５ｃを覆うとともに、捕捉貯留部５の上面との間に隙間１１を形成している。第１および第２吸引排出ノズル９ａ,９ｂがこの隙間１１を通して捕捉貯留部５内に進入している。このとき、第１および第２吸引排出ノズル９ａ,９ｂはそれぞれ捕捉貯留部５の径方向に移動可能であるとともに、第１部分９ａ₁,９ｂ₁を中心に回動可能とされている。これにより、第１吸引排出ノズル９ａの吸込み口９′が捕捉貯留部５の第２貯留部５ｂ内に設定可能となる。 （もっと読む）

【課題】 従来技術に係る光学手法を用いたウェーハＶノッチ部のキズ検査方式では、キズ部の明暗度が弱いため閾値の設定が微妙であり、生産工程での自動検査システムでは歩留まりの低下と品質管理の低下が著しく問題となっているが、明暗度が鮮明化できる検査方法および装置を提供する。
【解決手段】本発明においては、拡散光照明で検査表面を照射すると同時に、Ｖノッチの３次元構成面に、各面で独立に暗視野面を構成するため、光ファイバーでの光学系で各微小領域を照射し、表面と裏面を各1台のカメラ、合計2台のカメラで斜め方向より撮像し、焦点深度の深い検査対象部でも距離に関係なく検査できる構成となっている。キズ部の明暗度が鮮明なため欠陥の判定精度が大幅に向上できる。
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