【課題】この発明は、ＣＦ_４以外の最適なフッ素系ガスを使用すると共にプラズマ処理能力を向上させたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】この発明は、処理ワークが配される処理空間と、該処理空間内にガスを導入するガス導入手段と、前記処理空間内に放電プラズマを形成するプラズマ生成手段とによって少なくとも構成されるプラズマ処理装置において、前記処理空間に導入されるガスは、フッ化カルボニル（ＣＯＦ_２）又はトリフルオロメタン（ＣＨＦ_３）を含むガスであり、このガス圧力は、０．００１Ｔｏｒｒ〜１００Ｔｏｒｒの範囲内であることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は高濃度の排気ガスと低濃度の排気ガスを小型で効率よく経済的に処理することができる酸化エチレンガス滅菌器用排気ガスの処理方法および処理装置を得るにある。
【解決手段】酸化エチレンガス滅菌器から最初に排出される高濃度の排気ガスは燃焼炉で処理する燃焼処理工程と、前記酸化エチレンガス滅菌器からエアレーション運転中に排出される低濃度の排気ガスは触媒燃焼装置で処理する触媒燃焼処理工程とで酸化エチレンガス滅菌器用排気ガス処理方法を構成している。 （もっと読む）