【課題】プラズマ処理装置において、簡易な構造で確実にワークと金属製マスクを固定できるワーク保持治具を提供する。
【解決手段】処理チャンバと、プラズマ生成部と、ステージと、ワーク保持治具とで少なくとも構成され、プラズマ生成ガスを吸引しプラズマを処理基板上にダウンフローさせて基板を処理するプラズマ処理装置において、ワーク保持治具が、処理基板６０を所定の位置に保持すると共に磁気を生じさせるワーク保持台５０と、ワーク保持台に保持された処理基板上に載置固定される磁性体からなるメタルマスク８０とによって構成され、ワーク保持台が、ワーク保持台から延出する少なくとも一対の位置決めロッドを具備すると共に、処理基板及びメタルマスクには、所定の位置に位置決め用孔が形成され、処理基板及びメタルマスクを、位置決めロッドがそれぞれの位置決め用孔に貫通するようにワーク保持台に載置することにある。 （もっと読む）

【課題】この発明は、ＣＦ_４以外の最適なフッ素系ガスを使用すると共にプラズマ処理能力を向上させたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】この発明は、処理ワークが配される処理空間と、該処理空間内にガスを導入するガス導入手段と、前記処理空間内に放電プラズマを形成するプラズマ生成手段とによって少なくとも構成されるプラズマ処理装置において、前記処理空間に導入されるガスは、フッ化カルボニル（ＣＯＦ_２）又はトリフルオロメタン（ＣＨＦ_３）を含むガスであり、このガス圧力は、０．００１Ｔｏｒｒ〜１００Ｔｏｒｒの範囲内であることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】この発明は、プラズマ周縁での漏れマイクロ波を防止することのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】この発明は、ワークが移動する処理空間を画成する真空容器と、該真空容器の外部に取り付けられるマイクロ波の導波管と、前記真空容器の一部を構成すると共に前記導波管と接して設けられるマイクロ波導入窓と、該マイクロ波導入窓と前記処理空間との間の画成されるプラズマ発生空間とを少なくとも有するプラズマ処理装置において、前記プラズマ発生空間の側縁を規制する側縁規制部を設けたことにある。また、前記側縁規制部の中央側縁部から前記処理空間へ突出するプラズマガイド部を設けることが望ましい。前記プラズマガイド部の先端には、前記ワークに対して幅が拡大する拡大ガイド部が設けられることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】 この発明は、オゾンを効率良く分解すると共に、ワーク上に確実に酸素分子及び酸素原子を供給することのできる表面処理装置を提供する。
【解決手段】 この発明は、プロセスチャンバー内に配されたワークの表面処理を行う表面処理部を具備する表面処理装置において、前記表面処理部は、前記ワークに対して垂直に延出し、オゾンが通過するオゾン通過通路を画成するハウジングと、前記ハウジングの一方であって前記ワークと対峙する位置に開口し、前記オゾン通過通路の一方と連通する吹出口と、前記ハウジングの他方であって前記オゾン通過通路の他方と連通するオゾン流入口と、前記ハウジング内のオゾン通過通路に沿って複数配される紫外線放射ランプとを少なくとも具備する。 （もっと読む）

【課題】基板（ワーク）自体の温度上昇時間が短く、且つ温度保持を効果的に行うことのできる構造を有するワーク処理装置を提供する。
【解決手段】テーブルと、該テーブルに載置されるワークを加熱する加熱部と、該加熱部によって加熱されたワークを処理する処理部とを有するワーク処理装置において、前記テーブルは、熱伝導率の高い材料で形成される第１の層を具備することにある。さらに、前記第１の層の基板が載置される側の反対側に、熱伝導率の低い材料で形成された第２の層を具備する。 （もっと読む）

【課題】低コストで、大型基板の均一なプロセス処理が可能であるプリント基板製造装置を提供する。
【解決手段】ワーク４に対してプラズマ３を発生して異方性処理を行うプリント基板製造装置１において、ワーク４を移動させる移動手段５と、該ワークの移動方向に垂直に延出するプラズマ発生源２と、前記ワークの移動方向に垂直に延出し、前記プラズマ発生源と前記ワークを挟んで対峙する高周波電力印加電極６とを具備することにある。ワークの移動方向に垂直（幅方向）に延出するようにプラズマ発生源及び高周波電力印加電極を設けたことによって、ワークの移動方向に対して均一な処理を行うことができる。 （もっと読む）