説明

パロ・アルト・リサーチ・センター・インコーポレーテッドにより出願された特許

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【課題】バリアブルリソグラフ印刷に有用な湿し液、システム、プロセスを提供する。
【解決手段】湿し液のための異なる溶媒は、揮発性ヒドロフルオロエーテル液または揮発性シリコーン液である。このような液は、湿し液として使用される従来の溶媒である水と比較して、気化熱が低く、表面張力が低く、動粘性率が良好である。湿し液は、比較的非極性であるが、極性インクと組み合わせて使用し、新しい種類のデジタルリソグラフ印刷システムを作成することができる。 (もっと読む)


【課題】グラフを並列探索する方法及びシステムの提供。
【解決手段】状態空間抽象化を用いてAND/ORグラフの抽象的表現が構築される。このグラフの抽象的表現には、重複検出範囲を有する1つ以上の抽象ノードと、ANDノード結果に対して調整済みの演算子グループを有する1つ以上の抽象エッジと、が含まれる。エッジ分割を用いて、抽象ノードの重複検出範囲を、より小さい重複検出範囲に分割し、この抽象エッジはより小さい重複検出範囲を規定するために用いられる。処理ユニットにより、最新の探索層内のノードを、そのノードにマッピングされる抽象ノードの出発する抽象エッジの調整済み演算子グループを用いて拡張し、同時に拡張されるノードが、独立した重複検出範囲を有する抽象エッジに関連した調整済みの演算子グループを用いる。全ての最新の探索層内の演算子グループが、ノード拡張のために、使用された後に、この方法は次の探索層に進む。 (もっと読む)


【課題】偏光度PDを向上させる発光素子、及びそのような発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】発光素子は、中心波長λ、及び偏光度Pを有する光を発光するよう構成された発光領域を含むことができ、これらの中心波長λ及び偏光度Pは、200nm≦λ≦400nm、b≦1.5に対してP>0.006λ−bの条件を満たす。 (もっと読む)


【課題】ステレオ画像取得機器と3次元(3D)ディスプレイの間のやり取りを円滑にするシステムを提供する。
【解決手段】システムは、ステレオ画像取得機器、複数の追跡器、事象生成器、事象処理プロセッサ、及び3Dディスプレイを含む。動作の間、ステレオ画像取得機器はユーザの画像を取得する。複数の追跡器が、取得された画像に基づいてユーザの動作を追跡する。次いで、事象生成器が、ユーザの動作に関する事象ストリームを生成し、続いて仮想世界クライアントの事象処理プロセッサがこの事象ストリームと、仮想世界内の状態変化をマッピングする。次いで、3Dディスプレイが、仮想世界と共に拡張現実を表示する。 (もっと読む)


【課題】アナモルフィック光学系を利用して低輝度の変調光場を集中させることにより、高い合計光強度がライン画像の全体長さに沿って同時に発生され、これにより、あらゆるドット様ピクセル画像が同時に発生される単一パス高解像度高速印刷用途に使用される画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系130を用いて画像形成面162上へ二次元画像の略一次元ライン画像を発生させるために利用される単純化された単一パス画像形成システム100において、システム100はさらに、均質光発生器110と、均質光発生器110から受信される均質光118Aを変調するようにコントローラ180により制御される空間光変調器120と、変調器120により発生される変調光場119Bを画像化しかつ集中させ、かつ画像形成面162上に略一次元ライン画像SLを投影させるように位置合わせされるアナモルフィック光学系130とを含む。 (もっと読む)


【課題】空間光変調器を通過する高強度の光源を必要とせずに、単一通過、高解像度、高速度の画像形成システムを提供する。
【解決手段】高エネルギ赤外レーザから均質光を発生させる均質光発生器110、2次元アレイ内に配列された光変調素子を含む空間光変調器120、およびアナモフィック光学システム130を含む画像形成システム。光変調素子は、各変調素子が関連均質光部分を受信するように配置され、「オン」変調状態と「オフ」変調状態との間で個々に調整可能であり、それによって「オン」変調状態において各変調素子は、関連変調光部分がアナモフィック光学システム130の中の対応する領域上へ向けられるように、受信した均質光部分を変調する。次いでアナモフィック光学システム130は、変調光部分をアナモフィックに集光して、スキャンライン画像を形成する。 (もっと読む)


【課題】高速画像形成のために高エネルギ光源を利用する単一通過の画像形成システムを提供する。
【解決手段】予め決められたスキャンライン画像データに応答して、略一次元スキャンライン画像を1200dpi以上で発生する。略均一な二次元均質光場119Aは空間光変調器120を用いて、変調された光が二次元変調光場119Bを形成するように、予め決められたスキャンライン画像データに従って変調される。変調された光場は、次に、略一次元スキャンライン画像を形成するようにアナモルフィックに画像化されかつ集中される。光変調素子125−11〜125−43は、個々に変調「オン」状態と変調「オフ」状態との間で調整可能であって、これにより、変調「オン」状態において各変調素子がその受け入れた光部分をアナモルフィック光学系の対応する領域上へ方向づけ、かつ「オフ」状態において光部分を阻止または迂回させるように配置される。 (もっと読む)


【課題】複数の一次元スキャンライン画像を同時に生成するために使用が可能な高信頼かつ高速の画像形成システムを提供する。
【解決手段】複数行および複数列に配置される光変調素子を有する空間光変調器120を用いて二次元均質光場119Aを変調することにより、2つの略一次元スキャンライン画像SL1、SL2を同時発生させる。上側の変調素子グループは、第1のスキャンライン画像データグループを用いて構成され、かつ下側の変調素子グループは、第2のスキャンライン画像データグループを用いて構成される。次に、二次元均質光場を空間光変調器上へ方向づけるために、均質光源110がパルスされる。二次元変調光場119Bはアナモルフィック光学系130を介して方向づけられ、アナモルフィック光学系は、画像形成面上に2つの平行する一次元スキャンライン画像が同時に形成されるように、変調光を画像形成面上へ画像化し、かつ集中させる。 (もっと読む)


【課題】AlN(窒化アルミニウム)基板上に作られた発光ダイオードにおいて、AlN基板による光吸収を低減する。
【解決手段】1層以上の層150をバルク結晶AlN基板140上にエピタキシャル成長させる。これらのエピタキシャル層は同層のエピタキシャル成長の初期表面である表面101を含む。AlN基板はエピタキシャル成長の大部分の初期表面を覆って実質的に除去される。 (もっと読む)


【課題】単一の通過で高解像度、高速度の画像形成を可能にする、レーザベースの画像形成技法、及びリソグラフィ・マーキング装置を提供する。
【解決手段】所定のスキャン画像データに応じて2次元光場119を変調する光変調素子125−11〜125−43から成る2次元アレイを有する空間光変調器120を含み、画像形成面上に定められた細長画像形成領域167上へ、変調光をアナモフィックに画像形成して集光するために、アナモフィック光学システム130が用いられる。汚れを回避するために、画像形成面の移動は、画像位置コントローラ回路180によって、スキャン画像の画像特徴が画像形成面のスキャン間移動と同じ速度でスクロールされる(スキャン間方向に移動する)ように、光変調素子の変調状態と同期化され、それによって画像形成面の同一部分と一致した状態のままとなる。 (もっと読む)


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