【課題】 透明試料以外でも試料表面に特徴のある形状がない場合でも、荷電粒子ビーム装置における加工位置決めを高精度かつ容易に行えるようにする。
【解決手段】 赤外顕微鏡による観察を行いながら荷電粒子ビーム装置における加工・観察対象箇所１が視野内にくるように移動し、加工・観察対象箇所１周辺に光学観察系と同軸に配置されたレーザー光学系７によって、荷電粒子ビーム装置における二次荷電粒子像の目印となるレーザーマーク２をつける。次に、赤外透過像とCADデータとの重畳により、CADデータ上に加工・観察対象箇所とレーザーマークを登録する。そして、荷電粒子ビーム装置から読み出した登録データと二次荷電粒子像との関連付けによって、高精度かつ容易に加工位置を決定することができる。 （もっと読む）

【課題】 試料室内が真空である電子ビーム欠陥修正装置においても、フォトマスクを電子ビームにて欠陥修正中に蓄積される電荷を除去する。
【解決手段】 ガス導入系１で電子ビーム欠陥修正装置内に導入した窒素をポロニウムのようなα線源２から出るα線で電離し、電離した窒素を、電子ビームの照射でチャージアップした部分４に照射し除電する。またはガス導入系１で電子ビーム欠陥修正装置内に導入した窒素または水蒸気を軟X線で電離し、電離した窒素または水蒸気を、電子ビームの照射でチャージアップした部分４に照射し除電する。 （もっと読む）

【課題】 試料のサイズの変化や、主成分の違いによる感度の変化、共存元素の影響によるバックグランドの大きさの変化があった場合でも毎回同じ検出下限で測定できる蛍光Ｘ線装置を提供する。
【解決手段】 試料サイズの変化や共存元素によるバックグランド強度の変化９をリアルタイムに測定し、測定時間を自動的に変化させ検出下限を一定に保つ。 （もっと読む）

【課題】マイクロメートル程度以下の薄膜に対する膜厚測定を高精度で行い、バックグランド成分を除去する仕組みを持つ装置を提供する。
【解決手段】バックグランド信号の混入防止のため、以下の方法を組み入れた薄膜評価装置とする。（１）周波数の違いを利用し、周波数フィルターでバックグランド成分の元となる光を除去する。（２）光路の違いを利用し、振動検出信号の強度だけがある周期で振動するようにし、その周波数成分を含む信号のみ抽出する。（３）振動検出信号成分とバックグランド成分の位相が９０度ずれるようし、ロックインアンプでバックグランド成分を除去する。（４）振動検出信号の周波数をバックグランド信号の周波数の倍にし、振動検出信号の周波数に合わせて信号検出を行い、バックグランド信号を除去する。 （もっと読む）

【課題】 カンチレバーの撓み量および捩れ量をより正確に検出することのできる自己検知型ＳＰＭプローブを提供する。
【解決手段】 先鋭化された探針１２を先端に設けたレバー部と、レバー部を支持する支持部と、レバー部と前記支持部とを連結する屈曲部と、ピエゾ抵抗体１１２をＵ字状に設けた自己検知型ＳＰＭプローブにおいて、レバー部に位置するピエゾ抵抗体の一部に、ピエゾ抵抗体と電気的に接続した低抵抗層１１６を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】 ＸＹ方向へのクロストークを極力なくしてＺ方向への直進性を向上し、高精度に試料の形状情報や物理情報を計測すること。
【解決手段】 探針２ａを有するプローブ２と、該プローブ２を固定すると共に電圧を印加されたときに試料表面Ｂに垂直なＺ方向に伸縮するＺアクチュエータ４と、該Ｚアクチュエータ４に電圧を印加する印加手段５と、該印加手段５の作動を制御する制御手段とを備え、Ｚアクチュエータ４が、Ｚ方向に伸縮自在な圧電体２０と、圧電体２０の内周面又は外周面に少なくとも周方向に３つ以上に分割された状態でそれぞれ電気的に独立して設けられ、接触する領域の範囲で圧電体２０に電圧を印加して伸縮させる複数の分割電極２２とを有し、制御手段が、分割電極２２にそれぞれ接触する圧電体２０の各接触領域の伸縮量がそれぞれ同一となるように、予め決められた電圧印加量の比率で電圧を印加するよう印加手段５を制御する表面情報計測装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】 超伝導Ｘ線検出器と、低温初段増幅器と、コリメータとからなる超伝導Ｘ線検出装置の先端部分において、該検出器と該コリメータとの位置の粗調整が容易な構造とし、かつ、ボンディング配線を保護できる超伝導Ｘ線検出装置およびそれを用いた超伝導Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】 超伝導Ｘ線検出器の検出部とコリメータの貫通穴との位置を、該検出器と該コリメータの少なくとも外周の一部を位置の基準として製作し、基準とした外周の一部が一致するように該検出器と該コリメータを装着固定する、あるいはセンサーホルダに設けた溝の壁に基準とした外周の一部が接するように装着固定する構造としたものである。 （もっと読む）

【課題】 機構の駆動に高電圧を必要とせず試料の把持に際し試料へのダメージを与えることがなく、しかも微細なサンプルを人為的ミスによる破損・紛失することなく、操作に熟練技術を要することもないＴＥＭ試料の安全迅速なハンドリング手法を提示すること、また、それを実現する構造的にも単純な微小サンプルホルダを提供する。
【解決手段】 本発明の常閉型微小サンプルホルダは、半導体シリコンプロセス技術によって作製されたものであって、試料を把持する２本の針状体１ａ，１ｂからなる先端部材を有し、該２本の針状体は常時近接又は所定の間隙を持って対向配置されると共に、電極間に電圧が与えられると前記２本の針状体を離反駆動させる静電アクチュエータ２ａ，２ｂとを備え、電圧が印加されると前記２本の針状体の間隔が開き、電圧が解除されると弾性力で間隔が戻るようにした。 （もっと読む）

【目的】 ＦＩＢを用いたマスクの修正においてパターン配置に依存せずに高精度な位置精度を得ることを目的とする。
【構成】 本発明のマスクの修正方法は、周辺のパターンが視野に入る第１の倍率で、マスク上の所定の位置を中心に複数の刻印を形成する刻印形成工程（Ｓ１０４）と、前記第１の倍率よりも高倍率な前記複数の刻印が視野に入る第２の倍率で、前記複数の刻印の中心位置を前記所定の位置として、集束イオンビームを用いて前記所定の位置に所定のホールパターンが形成されるように前記マスクを修正する修正工程（Ｓ１１０）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】カンチレバーに融着固定された導電性ナノチューブ探針と試料の間に電圧を印加したり、通電させたりすることができる導電性走査型顕微鏡用融着プローブを実現する。
【構成】本発明に係る導電性走査型顕微鏡用プローブ２０は、カンチレバー４に固着された導電性ナノチューブ探針１２の先端１４ａにより試料表面の物性情報を得る走査型顕微鏡用プローブにおいて、前記カンチレバー４の表面に形成された導電性被膜１７と、カンチレバー４の所要部表面に基端部１６が融着固定された導電性ナノチューブ１２と、この導電性ナノチューブ１２の基端部１６から前記導電性皮膜１７の一部を被覆する導電性堆積物１８から構成され、導電性ナノチューブ１２と導電性被膜１７を導電性堆積物１８により導通状態にすることを特徴としている。 （もっと読む）