【課題】 荷電粒子ビームの照射により表面を像形成する方法及び装置を提供する。
【解決手段】 表面を像形成する方法は、表面の第１領域を一次荷電粒子ビームで第１スキャン速度においてスキャニングして、その第１領域から第１の二次荷電粒子ビームを発生し、表面の第２領域を一次荷電粒子ビームで上記第１スキャン速度よりも速い第２スキャン速度においてスキャニングして、その第２領域から第２の二次荷電粒子ビームを発生することを含む。また、この方法は、第１の二次荷電粒子ビーム及び第２の二次荷電粒子ビームを、それに応答して信号を発生するように構成された検出器で受け取り、その信号に応答して第１領域及び第２領域の像を形成することも含む。 （もっと読む）

【課題】大量のスループットを可能にする高速プロセスを有する光学検査システムを提供する。
【解決手段】レーザ光源１０１からの光ビーム１５１は、活性領域を有し、複数の移動レンズを活性領域に選択的に生成するようにＲＦ入力信号に対して応答する移動レンズ音響光学デバイス１０４に適用される。該音響光学デバイスは、生成された移動レンズの各々の焦点のそれぞれで、光ビームを受け、複数のフライングスポットビームを生成するように動作する。該ポットビームは半導体ウェハ１０８を走査する。使用可能な走査データを生成するために、複数の検出器セクションを有する光検出器ユニット１１０が使用され、各検出器セクションは、複数の光検出器と、複数の光検出器からの入力を並列に受けるように動作する少なくとも１つのマルチステージ格納デバイスとを有する。格納デバイスの各々に格納された情報は、複数のステージから同時に連続して読み出される。 （もっと読む）

【課題】スループットが著しく高められる半導体ウェハ欠陥検出システム。
【解決手段】ＵＶレーザ光源１０１からの光ビーム１５１は、複数の移動レンズを活性領域に選択的に生成するようにＲＦ入力信号に対して応答する移動レンズ音響光学デバイス１０４に適用される。前記移動レンズ音響光学デバイスは、生成された移動レンズの各々の焦点のそれぞれで、前記光ビームを受け、複数のフライングスポットビーム１５６をウェハ１０８へ向かい、反射ビーム１５７を生成するように動作する。使用可能な走査データを生成するために、複数の検出器セクションを有する光検出器ユニット１１０が使用され、各検出器セクションは、複数の光検出器と、複数の光検出器からの入力を並列に受けるように動作する少なくとも１つのマルチステージ格納デバイスとを有する。格納デバイスの各々に格納された情報は、複数のステージから同時に連続して読み出される。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィマスク内の配置誤差を評価するための方法、システム及びコンピュータプログラム製品を提供すること。
【解決手段】 リソグラフィマスク内の配置誤差を評価するための方法は、基準要素の基準対のポイント間の距離を表す基準結果を与え又は受け取り、上記リソグラフィマスクの複数の間隔を置いた要素に関連した複数対のポイントからの各対のポイントについて、上記対のポイント間の距離を測定して複数の測定結果を与え、測定結果と上記基準結果との間の差が相対配置誤差を示すものであり、更に、上記基準結果と上記測定結果の各々との間の関係に応答して相対配置誤差を決定することを含む。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの電圧コントラストを強める装置及び方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハを電気的に試験するシステムであって、サンプルの第１の領域の帯電に影響を及ぼすように、デフォーカスされた荷電粒子ビームによって該第１の領域を走査するステップと、該第１の領域の少なくとも一部を、フォーカスされた荷電粒子ビームによって走査すると共に、該少なくとも一部から散乱した電子を検出するステップとを含み、該少なくとも一部は、該第１の領域が、該デフォーカスされた荷電粒子ビームによって導入された帯電の影響を受けたままである間に走査される。 （もっと読む）

【課題】ウェーハ光学検査システムのプロセス監視能力改良方法の提供。
【解決手段】サンプルオブジェクトの表面を特徴化するための方法であって、パラメータ変動によって特徴化される画素に表面を分割するステップと、表面のブロックを画素のそれぞれのグループとして定義するステップとを含んでいる。さらに異なるそれぞれのタイプの偏向を有する放射２２によって表面の複数の走査の際に画素を照射するステップと、走査の各々に応答して画素からのはね返り放射を検出する４８，５０，６６ステップとを含んでいる。走査ごとに、ブロックのそれぞれのブロック署名が、各ブロックにおける画素グループからの該はね返り放射に応答して構築される。また、走査ごとに、ブロックのそれぞれのブロック署名を使用してブロック署名変動が判断される。ブロック署名変動に応答して、テストオブジェクトの次の調査に使用するために偏向タイプのうちの１つ以上が選択される。 （もっと読む）

【課題】 試料の断面部の画像を得るための方法及びシステムの提供。
【解決手段】 試料の断面部をさらすように試料を粉砕するが、断面部が、第一材料から製造された少なくとも一つの第一部分と第二材料から製造された少なくとも一つの第二部分を備えるステップと；断面部を平滑にするステップと；断面部の少なくとも一つの第一部分と少なくとも一つの第二部分との間で形状差を生じるように断面部のガス援助エッチングを行うステップと；断面部を導電物質の薄層で被覆するステップと；断面部の画像を得るステップと；を含み、粉砕するステップ、平滑にするステップ、エッチングを行うステップ、被覆するステップ、画像を得るステップが、試料が真空のチャンバ内に配置されている間に行われる。 （もっと読む）

マルチビーム走査式電子ビームデバイスが説明される。カラムを有するマルチビーム走査式電子ビームデバイスは、複数の電子ビームを放出するためのマルチビームエミッタと、複数の電子ビームのうちの少なくとも２つのための共通開口を有し、複数の電子ビームのうちの少なくとも２つに共通に作用するように構成される少なくとも１つの共通電子ビーム光学要素と、複数の電子ビームに個別に作用するための少なくとも１つの個別電子ビーム光学要素と、複数の電子ビームのうちの少なくとも２つを集束するための共通励磁を有し、複数の信号ビームを発生させるために試料上に複数の電子ビームを集束するように構成される複数の電子ビームを集束するための共通対物レンズアセンブリと、各信号ビームを対応する検出要素上で個別に検出するための検出アセンブリとを含む。 （もっと読む）

走査荷電粒子ビーム装置が説明される。走査荷電粒子ビーム装置は、一次電子ビームを放出するためのビームエミッタと、試料上にビームを走査させるための第１の走査段と、一次電子ビームから信号電子ビームを分離するように適応されたアクロマチックビームセパレータと、信号電子を検出するための検出ユニットと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 マスクの評価すべきパターンを評価するための効率的な方法、システム及びコンピュータプログラム製品を提供する。
【解決手段】 本方法は、評価すべきパターンの画像を表す複数のモーメントを受け取ることを含み、上記複数のモーメントを表すのに必要とされる情報のサイズは、上記評価すべきパターンの画像を形成するピクセル情報のサイズより実質的に小さいものであり、更に、上記評価すべきパターンの少なくとも１つの形状パラメータを決定するため上記複数のモーメントを処理することを含む。 （もっと読む）