【課題】部分的治療ゾーンの選択された特性の制御を高めることによって、従来技術の制限の多くを克服する。
【解決手段】部分的治療システムは、組織がレーザーによって加熱されるとき組織内のレーザー波長の吸収が増加するように選択されるレーザー波長（例えば、１３９０〜１４２５ｎｍ）で構成されてもよい。望ましくは、レーザー波長は、主として皮膚の治療される領域内で水によって吸収され、約８ｃｍ-1から約３０ｃｍ-1の範囲内の熱的に調節された吸収係数を有する。調節可能な機構は、治療深さおよび／または結果として生じる病変の特徴に影響を及ぼすように、ビーム形状、ビーム開口数、ビーム焦点深度、および／またはビーム寸法を調節するために使用されてもよい。システムは、半切除的である治療モードと半切除的でない治療モードとの間で切り換え可能であるように設計されてもよい。 （もっと読む）

光学的パターン生成器は、パターン方向と交差する方向に対してパターン方向に沿う方向に異なる寸法を有することができる回転反射アキシコン部を用いる。例としては、単一アキシコンパターン生成器と二重アキシコンパターン生成器が含まれ、それらは独立して画像領域の相対的な口径を制御することにより二つの直交方向に係る画像寸法を制御する。
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部分的治療システムは、組織がレーザーによって加熱されるとき組織内のレーザー波長の吸収が増加するように選択されるレーザー波長（例えば、１３９０〜１４２５ｎｍ）で構成されてもよい。望ましくは、レーザー波長は、主として皮膚の治療される領域内で水によって吸収され、約８ｃｍ^-1から約３０ｃｍ^-1の範囲内の熱的に調節された吸収係数を有する。調節可能な機構は、治療深さおよび／または結果として生じる病変の特徴に影響を及ぼすように、ビーム形状、ビーム開口数、ビーム焦点深度、および／またはビーム寸法を調節するために使用されてもよい。システムは、半切除的である治療モードと半切除的でない治療モードとの間で切り換え可能であるように設計されてもよい。これらのパラメータの調節は、治療の効率および有効性を改善することができる。調節可能な機構の例示的実施例は、一組の異なる長さのスペーサ、異なる焦点距離のレンズ素子を持つ回転可能なタレット、光学ズームレンズ、および２つの光学レンズ素子間の間隔を調節するための機械的調節装置を含む。
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部分的治療システムでは、調節可能な機構は、治療深さおよび／または結果として生じる病変の特徴に影響を及ぼすように、ビーム形状、ビーム開口数、ビーム焦点深度、および／またはビーム寸法を調節するために使用することができる。これらのパラメータの調節は、治療の効率および有効性を改善することができる。調節可能な機構の例示的実施例は、一組の異なる長さのスペーサ、異なる焦点距離のレンズ素子を持つ回転可能なタレット、光学ズームレンズ、および２つの光学レンズ素子間の間隔を調節するための機械的調節装置を含む。一態様では、部分的治療は、組織がレーザーによって加熱されるとき組織内のレーザー波長の吸収が減少するように選択されるレーザー波長（例えば、１４８０〜１６４０ｎｍ）で構成される。望ましくは、レーザー波長は、主として皮膚の治療される領域内で水によって吸収され、約７ｃｍ^-1から約２６ｃｍ^-1の範囲内の熱的に調節された吸収係数を有する。
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電磁エネルギーで皮膚を照射する組織の熱治療の方法および装置において、電磁エネルギー源は、無線周波（ＲＦ）発生器、レーザ、および、フラッシュランプを含む。装置は、位置センサまたは投与量評価センサのいずれか、または、両方のタイプのセンサを含む。これらのセンサはコントローラへフィードバックを行う。コントローラは、電磁源パラメータ、電磁源活性化、および／または、センサ測定パラメータを制御できる。付加的な走査デリバリーユニットが、皮膚の標的部位への電磁エネルギーの配分を制御するために、コントローラまたはセンサに動作可能に接続される。位置測定センサおよび投与量評価センサの使用により、コントローラが、たとえば、パルスタイミングおよびパルス周波数を含む適切な電磁源パラメータを自動的に決定することが可能となる。
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光学パターン生成器は、単一の回転コンポーネントを使用する。回転コンポーネントは、多数の偏向セクタを含む。各セクタは、入射光ビームをほぼ一定の角度量だけ偏向させるが、この量はセクタごとに変化してもよい。回転コンポーネントは、例えば、ライン軌跡(locus)に沿って変位する像点、像スポットまたは像ラインを生成する結像レンズ群と組み合わせてもよい。
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光ビームは、例えば、２個の回転板又は１個の回転可能な部品を介して、目標とする体内組織に供給される。１つの形態では、２個の回転板が、対象の組織において照射パターンを発生するように入射光ビームを偏向させる。また別の形態では、１個の回転可能な部品が、回転軸の回りに配列された複数の偏向用セクタを含み、各セクタは、光ビームを横切って回転するときに入射光ビームを偏向し、目標とする組織において照射パターンを発生する。プローブは人体内に光経路を保持し、偏向された光ビームを目標の組織に供給する。
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チップ化での使用のための典型的な処置システムは、例えばレーザのような光エネルギー源を含む。例えば、システムのパラメータ及び、個々のチップを通じて与えられる処置を変えるために、チップの組みは、処置システムへ交換可能に取り付けられてもよい。本発明の実施例は、セキュリティチップおよび/またはメモリを持つチップを含む。セキュリティチップは、許可されていないチップの使用から処置システムを保護し、メモリは、処置を高めるために、チップおよび/または処置システムについての情報を格納する。 （もっと読む）

光パターン生成器は、１つ以上の複数個眼面の回転する光学要素を含み、その光学要素は、回転に非感知のオフセットを導入する。オフセットを発生する部品は、光学要素の回転軸に対し、回転対称である。その結果、光学要素が回転する時、オフセット部品の効果は変化しない。更に、回転する光学要素は、互いの望ましくない光学的作用を相殺するように設計されてもよい。

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本発明は、光による組織の処置を制御するための改良された方法および装置を提供する。本発明の種々の態様によれば、本発明は、処置プロセスの大いなる安全性、有効性、均一性、および連続性を可能にする光ビームの動作パラメータの改良されたリアルタイム制御を提供する。
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