説明

ショット アクチエンゲゼルシャフトにより出願された特許

271 - 280 / 346


本発明は、ガラス又はガラスセラミックの浮揚姿勢維持に関する。本発明の目的は、ガスクッションにおいて特に均一な圧力及び温度プロファイルを達成することを可能にする方法及び装置を提供することである。この目的で、ガラスセラミック又はガラスを搬送又は姿勢維持する装置(19)が、少なくとも1つの連続した支持面(3)、少なくとも1つのガス供給室(51〜55)、及び少なくとも1つのガス排出室(71〜75)を有する、少なくとも1つのダイヤフラム(1、2)を備える。ガス供給室(51〜55)及びガス排出室(71〜75)には、支持面(3)に通じるガス透過可能な接続部が設けられる。
(もっと読む)


強度が増加したガラスまたはガラスセラミック材料を得るために、本発明は、ガラスまたはガラスセラミックの製品を製造する方法であって、原ガラス本体(11)を製造する工程と、浮揚支持体(1)と原ガラス本体(11)の間のガスクッション(13)上に原ガラス本体(11)を載置する工程と、浮揚支持体(1)上の原ガラス本体(11)を少なくとも部分的にセラミック化する工程とを含む。前記浮揚支持体は、ガスクッション(13)用の浮揚ガスを浮揚支持体から供給する少なくとも1つのガス供給領域(151、152、153)、およびガスクッション(13)からのガスを浮揚支持体中に少なくとも部分的に排出する少なくとも1つのガス排出領域(171、172、173)を備える少なくとも1つの連続表面領域(3)を備える。
(もっと読む)


【課題】レーザ源と、複数のレーザ光線を結合若しくは集合ガイドして切断ライン上に集束させる手段と、レーザ光線を形成する手段と、レーザ光線と工作物との間で、200m/分までの速度の相対運動を生ぜしめて、熱機械的な応力を誘導させるための駆動装置とを有している、脆性材料より成る工作物を切断ラインに沿ってレーザ光線で迅速に切断する装置を改良して、微小亀裂、削り屑又は破片なしで、高い切断精度、輪郭の正確さ並びに迅速な切断を可能にする。
【解決手段】複数のレーザ光線を集合ガイドする光学手段が、レーザ光線を集束させ、相次いで切断ラインにガイドするか、又はレーザ光線を集束させ、全部又は一部を重畳させて切断ラインにガイドして、工作物に高いレーザ出力が導入され、加熱された切断ライン区分を冷却するために流動性の冷却媒体を吹き付ける手段が設けられ、工作物の破壊強度を超えるまで熱機械的な応力が高められる。 (もっと読む)


溶融物(22)の少なくとも1つの領域において、導電加熱時に高温に達することができるように、本発明は、冷却壁を有する溶融容器(3)で溶融物(22)を加熱するための方法および装置であって、溶融物(22)を導電加熱し、それぞれ溶融容器(3)の壁(14、16)の一部に取って代わる少なくとも2つの冷却電極(5、501、502)の間に電流を流す方法および装置を提供する。
(もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、良好な光学的特性及び良好な放熱性を有する高精度の反射器を提供することである。
【解決手段】 高精度の反射器が、材料除去工程を用いて固体材料から製造され、冷光ミラー層をコーティングされる。 (もっと読む)


【課題】1.5mm未満の厚さ、少なくとも1800mmの長さ、少なくとも1800mmの幅をもち、及び最小厚と最大厚の差が50μm未満である、特にディスプレイ製作用の薄平板ガラス基板を提供する。
【解決手段】品質向上された平板ガラス基板製造のためのフロートガラス加工処理において、形成中のガラスシートの両面上の熱拡散領域中の溶融金属中にフラグを設けて形成される薄平板ガラス基板における厚さ変動を最小減に抑える。 (もっと読む)


ガラスセラミック基板に装飾を焼き付ける際のハローイングを回避するために、本発明は、ガラス基板が製造又は用意され、酸化ケイ素を含有する層が基板上に付着され、装飾インクが酸化ケイ素を含有する層上に施され、そして装飾インクが焼き付けられる、装飾ガラスセラミック基板の製造方法であって、酸化ケイ素を含有する層が、基板の表面の少なくとも1つの領域を火炎により掃引すると共に、火炎に添加されたケイ素化合物を加水分解することによって火炎熱分解的に付着される、装飾ガラスセラミック基板の製造方法を提供する。
(もっと読む)


【課題】大きな形状因子を有する大容積ガラスブロックでさえも均質性を有するように良好に製造できるようにする、少なくとも500kgの質量を有するガラスブロックをキャストする方法を開示する。
【解決手段】本発明は、少なくとも500kgの質量を有するガラスブロックをキャストする方法について記述し、該方法において、金属製モールド26から分離することができかつ、熱伝導度が800〜1400℃の間で好ましくは0.2〜2.0W・K-1・m-1の間にあるセラミクスの絶縁物30で内張りされた金属製モールド26で、ガラス融解物22をキャストする。 (もっと読む)


【課題】希土類イオンで高水準のドープを行うのに根本的に適しているガラスまたはガラスセラミックスを開示する。
【解決手段】少なくとも構成成分SiO2、Al23およびY23を含んでおり、好ましくは希土類イオンでドープされているガラスおよびガラスセラミックスを開示する。Y23の重量と、SiO2、Al23およびY23の全重量との重量比率は、少なくとも0.2、好ましくは少なくとも0.4以上である。希土類イオンが、前記ガラスから析出される高濃度のイットリウム含有量で、結晶相に取り込まれることができることが好ましい。 (もっと読む)


本発明は、マトリックス材料(11)を有するトナー粒子(10)を有し、このトナー粒子(10)が第1の融解温度を有する、少なくとも部分的に第1のガラス流成分(13)を有する、電子写真的に加工可能なトナーに関する。このようなトナーを用いて簡単にガラス基板上に半透明表面を形成させるために、本発明によれば、トナー粒子の少なくとも一部分は付加的に第2のガラス流成分を有し、この第2のガラス流成分の融解温度は第1のガラス流成分の融解温度よりも高いことが設けられている。
(もっと読む)


271 - 280 / 346