【課題】 製造過程における境界面反応を抑制して溶融タンクと下流のフロートタンク間における電気化学的影響に依存した直流電流の流れが少なくとも最小限に抑えられるフロートガラス製造装置の電気的設置装置を提供する。
【解決手段】 フロートガラス製造装置は、典型的構成例として、金属槽を備えるフロートタンク、金属槽、ガラス溶融物を製造するための溶融タンク及びガラス溶融物の脱ガスを行う清澄タンクを備えるガラス溶融物製造装置、ガラス溶融物製造装置からフロートタンクの金属槽へガラス溶融物を導く誘導ユニット、及び必要な補助装置を備える。適当な電気装置を用いて欠陥となる気泡を最小限に抑えかつＰｔから成る構成ユニットの耐用期間を延ばすため、金属槽９を備えるフロートタンク１０を接地接続し、少なくとも１本の補助電極を接地接続するとともに溶融タンク中のガラス溶融物と電気接触させる。 （もっと読む）

【課題】外部電極を有する発光装置の全電力損失を最小化するガラス組成物を提供する。
【解決手段】
外部電極を有する発光手段のガラス体のためのガラス組成物であって、その中でｔａｎδとε’の比ｔａｎδ／ε’が＜５である。 （もっと読む）

本発明の目的は金属表面およびガラス質被覆を有する基板を提供することにある。この目的のため、本発明は被覆された基板、あるいは被覆された基板を備えた製品を製造する方法に関し、前記基板はガラスで被覆された少なくとも１つの金属表面を有する。この基板は少なくともその金属表面上が蒸着ガラスで被覆されている。 （もっと読む）

本発明は、基板の真空コーティング用の設備に関し、当該設備は、真空室と、少なくとも１つの基板を保持する装置と、基板をコーティング領域に搬送する搬送装置とを備えており、真空室の少なくとも１つの第１のコーティング領域に、少なくとも１つのプラズマインパルス化学蒸着用の装置が設けてあり、真空室の少なくとも１つの第２のコーティング領域に、少なくとも１つのスパッタコーティング用の装置が設けてある。
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【課題】 本発明は、湾曲表面上にパターン化光学コーティングを有する基材を作成する方法であって、
上記湾曲表面のサブエリアを覆うマスキングが上記湾曲表面に塗布され、
真空堆積法を用いて、光学コーティングが塗布され、
上記マスキングが除去される
湾曲表面上にパターン化光学コーティングを有する基材を作成する方法に関する。
【解決手段】 特に本方法によって作成されることができる被覆基材は、少なくとも１つのパターン化された光学コーティングが設けられた湾曲表面を有し、それによって、光学コーティングは、この表面の少なくとも１つのサブエリア上に設けられ、少なくとも１つの隣接サブエリア上にはない。 （もっと読む）

【課題】ガス放電管、特に蛍光ランプに使用可能なＵＶ吸収性ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物として重量％で表した下記組成を有するガラス溶融物の調製から成る方法によってＵＶ吸収性ガラスを製造する。ＳｉＯ_２：６０−７５％、Ｂ_２Ｏ_３：＞２５−３５％、Ａｌ_２Ｏ_３：０−１０％、Ｌｉ_２Ｏ：０−１０％、Ｎａ_２Ｏ：０−２０％、Ｋ_２Ｏ：０−２０％、ＭｇＯ：０−８％、ＣａＯ：０−２０％、ＳｒＯ：０−５％、ＢａＯ：０−５％、ＺｎＯ：０−３％、ＺｒＯ_２：０−５％、ＴｉＯ_２：０−１０％、Ｆｅ_２Ｏ_３：０−０．５％、ＣｅＯ_２：０−０．５％、ＭｎＯ_２：０−１％、Ｎｄ_２Ｏ_３：０−１％、ＷＯ_３：０−２％、Ｂｉ_２Ｏ_３：０−５％、ＭｏＯ_３：０−５％、Ａｓ_２Ｏ_３：０−１％、 Ｓｂ_２Ｏ_３：０−１％、ＳＯ_４^２−：０−２％、Ｃｌ⁻：０−２％、Ｆ⁻：０−２％。 （もっと読む）

【課題】圧延により板ガラスを連続して製造する方法において、面を殆ど損なわずにガラスを生成でき、容易に制御可能であり、従来の圧延法の比較的短い冷却路を殆ど変えずに行える方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２つの成形ローラと液体ガラスシートの間に気体クッションを発生しながら成形ローラ間で液体ガラスシートを圧延して板ガラスを連続的に製造する方法であって、成形ローラの一方における気体クッションの気体圧を、該一方の成形ローラとガラスシートの間に、該成形ローラの軸に平行する線状の接触部が形成されるように調整して成る方法。 （もっと読む）

本発明は、機械的に脆い非金属材料のプレート状被加工物を任意の輪郭に沿って分割する方法に関するものである。本発明は、プレート状被加工物の少なくとも一方の面に切断装置によって深さＴまで輪郭に沿って分離線の引掻き傷を入れるステップを含んでおり、プレート状被加工物を励起させて分離線に沿った振動振幅を伴う曲げ振動が起こるようにし、それにより、分離線に沿ってプレート状被加工物を完全に分割する。 （もっと読む）

【課題】小さな又は微細な構造を備えたフォトマスクの製造に適した極紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィー用マスクブランクの作製方法及びそのマスクブランクを提供する。
【解決手段】表面と裏面を有する基板１１を設ける工程と、フォトリソグラフィープロセスに使用されるＥＵＶ光を吸収するために、基板の表面にイオンビームスパッタリングにより窒化タンタル（ＴａＮ）からなる膜１５を沈積する工程と、基板の裏面にイオンビームスパッタリングにより導電膜１６を沈積する工程とを有する。 （もっと読む）

真空チャンバーの壁および／またはチャンバー内に配置された構成要素を、層原材料の望ましくない堆積から保護する少なくとも１つの遮蔽装置が、本発明によるコーティング装置の真空チャンバー内に配置され、その中でガラス状のガラス−セラミックおよび／またはセラミック層が蒸気相からの蒸着によって基板に付与される。真空チャンバー内で温度が変化する場合には、遮蔽装置の膨張または収縮がガラス状のガラス−セラミックまたはセラミックの層または堆積の膨張または収縮に対応することが重要である。
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