【課題】リソグラフ工程に使用される化学物質の活性に悪影響を与えない改変されたパージガス供給システムを提供する。
【解決手段】装置は、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムとを有する。また、装置は、リソグラフ投影装置の部品の表面近くにパージガスを供給するように構成されたパージガス供給システム１００も有する。パージガス供給システム１００は、少なくとも１種のパージガスと水分を含むパージガス混合物を発生するように構成されたパージガス混合物発生器１２０を含む。パージガス混合物発生器は、パージガスに水分を加えるように構成された加湿器１５０と、パージガス混合物発生器１２０に接続されパージガス混合物を表面近くに供給するように構成されたパージガス混合物出口１３０とを有する。 （もっと読む）

【課題】限られた空間内でも交換を容易に且つ迅速に行うようにする。
【解決手段】流体分離ユニット１２はハウジングを含み、ハウジングは入口、入口から間隔が隔てられた出口及び入口と出口との間でハウジング内に設けられた分離手段２５０，２５０”を有する。マニホールド１１４，１１６は、分離ユニットと入口を通して流体連通するための流体経路を持つ第１部分２５１と分離ユニットと出口を通して流体連通するための流体経路を持つ第２部分２５２とを有する。分離ユニットの入口又は出口のうちの一方は、分離ユニットの入口又は出口のうちの他方がマニホールドの第１部分又は第２部分のうちの一方と係合した後、分離ユニットの一回の枢動運動により、マニホールドの第１部分又は第２部分のうちの他方と係合する。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、プラスチック基板またはプラスチック包装材の１つ以上の表面にダイヤモンド様炭素コーティングまたはドープ処理されたダイヤモンド様炭素コーティングを含む物品に関する。ＤＬＣまたはドープ処理されたＤＬＣコーティングの実施形態は、プラスチック単独の浸透率と比較して、被覆されたプラスチックまたは熱可塑性材料の水素またはヘリウムに対するガス浸透を低下させる。ＤＬＣまたはドープ処理されたＤＬＣコーティングは、約１０^７から約１０^１４オーム／スクエアの表面抵抗率を与え、約３００ｎｍから約１１００ｎｍの範囲の基礎プラスチック基板の透過率よりも約０％から約７０％低い範囲の透過率を有する。ＤＬＣが被覆されたプラスチックは、半導体ウエハおよびレチクルなどの環境感受性基板を保護するための環境包装材に使用することができる。
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本発明は、液浸リソグラフィ処理において用いるための調整浸漬流体を生成するための装置および方法を含む。調整浸漬流体は、浸漬システムレンズを保護し、液浸リソグラフィシステムのレンズ透過率および耐久性に悪影響を及ぼし得るレンズへの汚染物質の体積を低減または排除する。
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【課題】流体を精密に分配するように停止／吸引弁を調整する制御システムを提供する。
【解決手段】第１及び第２の流れ制限装置２０，２１は停止／吸引弁１０の停止部分及び吸引部分とそれぞれ流体的に連通した第１及び第２の空気出口を有する。第１及び第２の圧力センサ２４，２５は第１の空気出口内の圧力及び第２の空気出口内の圧力を感知する。コンピュータプロセッサ３０は第１及び第２の圧力センサに応答して第１及び第２の空気出口の圧力をそれぞれ制御する。停止／吸引弁の停止部分及び吸収部分の各々を所定の開放位置に維持するように、所定の時間に亘り前記第１及び第２の空気出口の圧力が維持され、且つ所定の時間に亘り停止／吸引弁の停止部分及び吸収部分の各々を所定の閉鎖位置に維持するように、第１及び第２の空気出口の圧力が制御される。 （もっと読む）

本発明は、半導体処理ツールのためのフィルタリングシステムを提供する。一実施形態においては、フィルタリングシステムは、半導体処理ツールに結び付けられる。本発明のシステムは、ガスフローパスに流体連通する第１および第２のフィルタ層を含む。フローパスは、ヘキサメチルジシロキサンおよびトリメチルシラノールなどの揮発性シリカ含有化合物を含むガスストリームである。ガスフローパスは、第１および第２のフィルタ層を通過して、半導体処理ツールに流体連通する。フィルタリングシステムの第１のフィルタ層は、ガスフローパスの途中で第２のフィルタ層の上流に位置すると好ましい。第１および第２のフィルタ層の媒体は、所与の汚染物質濃度にもとづいて選択され用意される。また、本発明は、半導体処理ツールに連通するヘキサメチルジシロキサンおよびトリメチルシラノールを含むガスをフィルタリングするための方法を提供し、これは、第１および第２のフィルタ層を含むシステムを使用する。
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バルブ連結管アセンブリは連結管胴部を有し、前記連結管胴部は第１の流路と、第１の流路の壁にある穴を通ってそれに流通するよう連結されている第２の流路とを形成する。頭部と頭部から延びるステムとを有するバルブが穴を通って配置されている。頭部は、ステムに隣接し且つステムの周りに延びるバルブシール面を有し、第１の流路に向いたシートシール面を有するバルブシートが穴の周りに延びている。バルブは閉塞位置と開放位置との間で選択的にシフト可能であり、閉塞位置においてはバルブシール面がシートシール面にシール係合することによって第２の流路と第１の流路との間の流体の流れを妨げ、開放位置においてはバルブシール面がシートシール面から離間することによって第２の流路と第１の流路との間に流体が流れるようにする。
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囲い部及びドアを含むフロントオープンウエハ収納容器。一対の間隔があけられた片持ちウエハ棚を含むウエハ支持システムが備えられており、各ウエハ棚は一対の対向傾斜ランプ部を含む。ランプ部は、ウエハが棚に受入れられた時に、ウエハがその下側外縁角部においてランプ上で支持されるように協働的に位置決めされると共に構成され、ウエハの他の全ての部分は、ウエハ支持システムと接触していない。各ウエハ棚は概ね凹状の上面を有してよく、またランプの傾斜は、ウエハ棚の凹状上面と連続する。
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本発明による一実施形態では液体濾過用のフィルタ装置が提供され、このフィルタ装置は複数の液体経路と流体連通し、この複数の液体経路のうちの少なくとも１つの経路は複数の液体経路のうちの最小の等価流体流れ直径を有する。この装置は、フィルタ膜１０８およびフィルタ膜と流体連通する少なくとも１つの横断孔１１０を備えるフィルタコア１０９を備え、各横断孔は等価流体流れ直径を有する。少なくとも１つの横断孔の等価流体流れ直径の合計は、複数の液体経路のうちの最小の等価流体流れ直径を超えない。
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本発明は、レチクルを保護するための方法、システム、および部品を提供し、具体的には、保管および使用中にレチクル上のヘイズ形成を最小限にするための方法、システム、および部品を提供する。レチクル上での湿度レベルが低減された保管庫ハウジング内のパージを実質的に継続的に持続することにより、またはパージされていないときにレチクルをコンテナ内で乾燥剤またはゲッタの近くに一時的に保管することにより、ヘイズ形成を、なくし、または最小限にし、または十分に抑制することができる。また、コンテナ内のフィルタ媒体を、レチクルを実質的に継続的にパージする間に「再生される」ように配置してもよく、コンテナがパージされていないときに、低減された望ましい湿度レベルをレチクル・コンテナ内で容易に維持することができる。さらに、本発明のシステムは、パージ・システムに付随するイオナイザを備えることができる。たとえば、イオナイザを、パージ・システムの複数のパージ・ラインのうちの少なくとも１つに付随させることができる。また本発明のシステムは、パージ・システムに接続された、ＣＤＡまたは超ＣＤＡの供給源を含むパージ・ガス源を備えることができる。保管庫ハウジングは、複数のレチクル保管容器を各々備える複数の棚を備えることができる。
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