誘導素子２０は、シート状の材料から生成される。誘導素子２０は、プロセスチャンバ１２の誘電体の壁または窓１６の外側に位置し、一般的には誘電体の壁または窓に一致し、一つ以上の層またはループ４０が形成される。導電体は、ヘビ状または振動する形状を有する各々のループの周りに導電経路を与え、各々のループの周りの導電経路は、誘導素子２０の円周よりも大きくなるようになっている。導電経路は、誘導素子の側面のエッジに沿ったカットアウト３０によって形作られている。導電体は、導電経路を横切る幅とシートの厚さで決められる大小のアスペクト比を有する交互のセグメント３１−３５によって形作られている。セグメントはシートのカットアウトからも決められている。電流を集束されるセグメントが細ければ細い程、インダクタンスは高くなり、チャンバ内部に多量のエネルギーを結合し、それによって、離散的にプラズマが集束したリングを生成する。
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本発明による誘導結合プラズマ源は、半導体ウェハのコーティングやエッチングを行い得るよう、真空チャンバ（３２）内に高密度プラズマを生成するための周縁電離源（３９）を具備している。ＩＣＰ源は、複数の高放射セグメントと複数の低放射セグメントとを有してなるセグメント化構成を具備しており、チャンバの周囲まわりにおいて、プラズマに、リング形状アレイをなすエネルギー分布を付与する。エネルギーは、セグメント化された低インダクタンスアンテナ（４０）から、誘電性ウィンドウ（２５）またはウィンドウアレイ（２５ａ）を介して、さらに、セグメント化されたシールドまたはバッフル（５０）を介して、結合される。アンテナ（４０）は、稠密化して配置された複数の導体セグメント（４５）と、交互的に配置されかつ疎化して配置された複数の導体セグメント（４６）と、を備えている。
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処理中にコンポーネント(200,300)の状態をモニタリングする方法およびシステム。本方法は、処理中にコンポーネントを反応ガス(エロージョン生成物発生のためコンポーネント材をエッチングできる)に曝露することと、コンポーネントの状態を判定するため処理中にエロージョン生成物の放出をモニタリングすることを含む。モニターできる処理はチャンバークリーニング、同コンディショニング、基板エッチングおよび薄膜形成処理を含む。コンポーネントは、チューブ(25)、シールド、リング、バッフル、インジェクター、基板ホルダー(35,12)、ライナー、ペデスタル、キャップカバー、電極およびヒーター(15,20,65,70,122)等消耗部品でもよく、それらは保護コーティングを有していてもよい。処理システム(1,100)は、処理チャンバー(10,102)内のコンポーネント、ガス噴射システム(94,102)、チャンバー保護システム(92,108)およびコントローラ(90,124)を含む。
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本発明においては、半導体ウェハ処理装置（１０）のチャンバ（１１）内にチャンバシールドを設置することにより、装置内におけるパーティクルの剥離を低減する。シールドアセンブリは、複数のシールド（４１，４２，４３，４４）を備えている。これらシールドは、互いに接触しないような位置関係でもって配置され、さらには、熱的な膨張や収縮を起こしたときでも、アークの発生を回避し得るのに十分なギャップ（５２，５６）の分だけ互いに離間した位置関係でもって配置される。シールド上のおよびチャンバ壁上の位置合わせ特徴物が、シールドどうしを互いに同心的に位置合わせし、ギャップを維持する。
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