【課題】新規のＣ_１-Ｃ_４亜硝酸アルキル生成方法の提供。
【解決手段】次のステップによりＣ_１-Ｃ_４亜硝酸アルキルを生成する。ａ）反応器Ｉへ酸化窒素および酸素を仕込み、アルミノケイ酸塩触媒に接触させて反応させ、ＮＯ_２および未反応のＮＯを含む流出物Ｉを生成する、ｂ）反応器ＩＩへ上記流出物ＩおよびＣ_１-Ｃ_４アルカノールを仕込み、反応させ、Ｃ_１-Ｃ_４亜硝酸アルキルを含む流出物ＩＩを生成する、ｃ）上記Ｃ_１-Ｃ_４亜硝酸アルキルを含む流出物ＩＩを分離し、Ｃ_１-Ｃ_４亜硝酸アルキルを得る、を含んでおり、反応器Ｉは、固定層式反応器であり、反応器ＩＩは、回転式高重力反応器であり、ステップａ）における上記酸化窒素は、ＮＯ、または、ＮＯとＮ_２Ｏ_３およびＮＯ_２のうち１つ以上とを含む混合ガスであってＮＯのモル数がＮＯ_２のモル数よりも大きい混合ガスであり、酸化窒素中のＮＯと酸素とのモル比は、４：１〜２５：１である。 （もっと読む）

本発明は、複合床において実施される、スチレンの存在下でフェニルアセチレンに選択的に水素を付加する方法を開示する。本方法では、水素付加反応条件の下で、フェニルアセチレンおよびスチレンを含有する炭化水素画分の供給原料を、触媒Ａおよび触媒Ｂを収納する複合床反応器に通して、供給原料を触媒Ａおよび触媒Ｂに順に接触させる。なお、上記触媒Ａはニッケル系触媒であり、上記触媒Ｂはパラジウム系触媒および銅系触媒からなる群より選択される少なくとも１つの触媒であり、装荷された触媒Ｂに対する装荷された触媒Ａの重量比は０．５：１〜５：１である。 （もっと読む）

本発明は、スチレンの存在下でフェニルアセチレンに選択的に水素を付加する方法を開示する。本方法では、水素付加反応条件の下で、フェニルアセチレンおよびスチレンを含有する炭化水素画分の供給原料を、炭素を包含する触媒に接触させる。なお、上記炭素を包含する触媒の炭素含有量は、上記触媒の重量を基準にすると０．０２重量％〜８重量％である。 （もっと読む）

トルエンを選択的に不均化するための触媒は、（ａ）平均粒径が０．３〜６μｍであり、ＳｉＯ_２／Ａｌ_２Ｏ_３のモル比が２０〜１２０であるＺＳＭ−５の分子篩を４５〜９５ｗｔ％、（ｂ）周期表の元素である２Ｂ族、３Ｂ族、希土類元素およびＮｉ以外の８族の金属、またはそれらの酸化物の少なくとも１つを０．０１〜３０ｗｔ％、（ｃ）周期表の元素である５Ａ族、６Ｂ族およびアルカリ土類金属、またはそれらの酸化物の少なくとも１つを０〜２０ｗｔ％、（ｄ）有機ポリシロキサンに由来するシリカの不活性な表面コーティングを１〜２５ｗｔ％、ならびに（ｅ）バインダーを１〜５０ｗｔ％含んでいる。トルエンをｐ−キシレンへ選択的に不均化するための方法は、トルエンを選択的に不均化する条件下において、トルエンを含んでいる反応蒸気を、上記触媒と接触させる工程を含んでいる。 （もっと読む）