【解決手段】ガスを分散されて含む洗浄流体は、ガスを溶解されて含む液体をバブルマシン内で減圧して気液分散を発生させることによって、キャビテーションを誘発するための超音波エネルギの使用を回避している。洗浄流体は、ホルダと、超音波エネルギまたはメガソニックエネルギを物品に供給するための振動器とを含む装置を使用して半導体ウエハなどの物品を洗浄するために使用することができる。 （もっと読む）

【解決手段】枚葉式ウエハ湿式処理のための装置におけるスピンチャックは、ウエハのエッジ周りでウエハのチャック対向面から流れるガスを方向付けてウエハの非チャック対向面から離れるようにガスを排出する一連の環状ノズルを、支持されたウエハと共に形成する構造を周囲に有しており、それによって、非チャック対向面に供給された処理流体がウエハのエッジ領域に触れることを防止する。拡大ヘッドを備えた保持ピンがウエハエッジと係合し、高流量のガスが利用された場合にウエハが上方にずれることを防ぐ。 （もっと読む）

【解決手段】化学的に不活性なプラスチックのピン本体が空洞を備えており、その空洞内に、不活性プラスチックよりも大きいヤング率を有する材料から形成された挿入材が含まれている複合支持ピン構造を用いることにより、スピンチャックの耐久性および寿命の改善を実現する。 （もっと読む）

【解決手段】ウエハを支えるチャックにおける温度関連の劣化又は変形に対する耐性の向上は、チャック部品を高温処理流体による効果から物理的に且つ／又は熱的に保護する少なくとも１つの遮蔽部材によって提供される。 （もっと読む）

【解決手段】処理対象とされるウエハ表面の層に、気液分散系、すなわち硫酸中にオゾンの発泡体が含まれたものが適用されるように、気体オゾンと加熱硫酸とを組み合わせることによって、枚葉式フロントエンドウェット処理ステーションにおける、イオン注入されたフォトレジストの除去が改善された。 （もっと読む）

【解決手段】板状物品を乾燥させるための方法が開示される。該方法は、水性すすぎ液によるすすぎと、有機溶媒による後続のすすぎとを含み、有機溶媒は、２０重量％未満の含水量を有し、有機溶媒は、少なくとも３０℃で、かつ６０℃を超えない溶媒温度で供給される。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】半導体ウエハを処理するための方法であって：ハフニウムおよび／またはジルコニウムを含む第１の酸化物材料を含む高誘電体層と；前記高誘電体層の上部に蒸着され、ランタン、ランタニド、および／または、アルミニウムを含む第２の酸化物材料を含むキャップ層と、を備えたスタックを準備する工程と；酸化剤を含む水溶液である液体Ａを前記半導体ウエハの表面に供給する工程ＳＡと；工程ＳＡの後に、６未満のｐＨ値の液体である液体Ｂを前記半導体ウエハの前記表面に供給する工程ＳＢと；工程ＳＢの後に、少なくとも１０ｐｐｍのフッ素濃度の酸性水溶液である液体Ｃを前記半導体ウエハの前記表面に供給する工程ＳＣとを備える方法が開示されている。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】半導体ウエハを処理するための方法であって：酸化ランタンまたは酸化ランタニド（例えば、Ｄｙ₂Ｏ₃、Ｐｒ₂Ｏ₃、Ｃｅ₂Ｏ₃）を含む層を準備する工程と；炭酸水である水溶液を供給することにより、酸化ランタンまたは酸化ランタニドを含む層を特定の領域で除去して、酸化ランタンまたは酸化ランタニドを含む層が上に蒸着された表面を露出させる工程とを備える方法が開示されている。 （もっと読む）

【解決手段】開示されるのは、円盤状の物品を流体で処理するための装置であり、この装置は、円盤状の物品の上に流体を分配するための分配手段と、円盤状の物品を該円盤状の物品に垂直な軸Ａを中心に保持する及び回転させるためのチャックとを含み、チャックは、ベース本体と、駆動リングと、円盤状の物品の縁に接触するための把持部材とを含み、把持部材は、円盤状の物品の中心に対して偏心して移動可能であり、把持部材の偏心移動は、駆動リングによって駆動され、駆動リングは、軸Ａを中心にベース本体に対して回転可能であることによって把持部材を駆動するように、ベース本体に回転可能に取り付けられ、ベース本体に対する駆動リングの相対的回転移動は、ベース本体を保持するとともに駆動リングを回転させること、または駆動リングを保持するとともにベース本体を回転させることによって実行され、これによって、保持対象パーツ（駆動リングまたはベース本体）は、それぞれの保持対象パーツに触れることなく磁力によって保持される。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】ディスク状物品を支持および回転するための装置であって、
前記ディスク状物品を支持するための支持体を備え、処理チャンバ内に配置された第１のロータと、第２のロータを回転させるための駆動機構に接続された第２のロータであって、前記第１のロータに接触することなく磁力によって前記第１のロータに結合され、前記処理チャンバの外側に配置され、前記第１のロータと前記第２のロータとの間に壁が配置されている、第２のロータと、第１の結合部分と第２の結合部分とを備える少なくとも１つの磁気対であって、前記第１の結合部分は、前記第１のロータに取り付けられた結合磁石（例えば、永久磁石）を備え、前記第２の結合部分は、高温超伝導材料（ＨＴＳ）を備える、磁気対と、を備え、前記磁気対は、前記第１のロータが前記第２のロータと共に移動するように、前記第１のロータおよび前記第２のロータの間に自由度が残らないような方法で配列および／または形成される、装置が開示されている。さらに、かかる装置を動作させるための方法が開示されている。 （もっと読む）