【課題】被洗浄物に与えるダメージが小さく、かつ十分な洗浄効果が得られる超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被洗浄物を超音波洗浄するための洗浄装置であって、少なくとも、超音波振動を発する超音波振動子と、該超音波振動子が装着され、前記超音波振動が印加された洗浄液と被洗浄物を接触させる手段と、前記洗浄液に飽和溶存ガス量以上のガスを導入して洗浄液中に気泡を存在させるガス導入手段とを具備し、前記超音波振動子により超音波振動を前記洗浄液に印加することで、前記洗浄液中に導入された気泡を振動させて前記被洗浄物を洗浄するものであることを特徴とする超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】必要以上にコストや手間をかけずに、基板面内で洗浄むらがなく、均一で高品質に基板を洗浄することができる基板の洗浄装置および基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄基板をブラシで洗浄する枚葉式の洗浄装置であって、少なくとも、被洗浄基板を保持する保持具と、該保持具に保持された前記被洗浄基板を洗浄するブラシと、該ブラシが取り付けられ、該ブラシの少なくとも旋回位置と高さ位置を制御するサーボ駆動式アームと、該サーボ駆動式アームおよび前記ブラシとは独立して配設され、前記ブラシによる押圧力を測定する押圧力センサとを具備し、前記サーボ駆動式アームは、前記押圧力センサに所定の押圧力で押圧されたブラシの高さ位置を基準として、前記保持具に保持された被洗浄基板を所定の押圧力で押圧して洗浄する高さ位置に前記ブラシを自動的に配置できるものであることを特徴とする基板の洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】チャンバー内の酸素ガスを効率良く排気できるとともに、処理されるワークに対し、効果的に紫外線を照射することのできるアッシング処理装置およびアッシング処理方法を提供する。
【解決手段】ワークに紫外線を照射してアッシング処理をする装置であって、少なくとも、ワークに紫外線を照射する紫外線照射ランプと、前記処理されるワークを収容するチャンバーと、該チャンバー内の圧力を測定する圧力計と、前記チャンバーに接続されたポンプとを具備し、前記圧力計に基づき前記ポンプを用いて所定圧に減圧された前記チャンバー内のワークに、前記紫外線照射ランプにより紫外線を照射してアッシング処理をするものであるアッシング処理装置。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエーハ、フォトマスク基板、液晶基板等のダメージを受けやすい基板でも、基板自体にダメージを与えずに超音波洗浄することができる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄物１０を超音波洗浄するための洗浄装置であって、少なくとも、超音波振動を発する超音波振動子３と、該超音波振動子が装着され、前記超音波振動が印加された洗浄液９と被洗浄物を接触させる手段２とを具備し、前記超音波振動子が、該超音波振動子が装着された面に対して横方向の超音波振動を付与するものであり、該超音波振動を前記洗浄液に印加して前記被洗浄物を洗浄するものであることを特徴とする超音波洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】本発明は、初学者でも簡単に短時間で組み立てることができる、結晶構造や分子構造の模型を提供する。
【解決手段】結晶構造や化合物の分子構造を立体的に表現する模型であって、少なくとも原子に相当する部位と化学結合手に相当する部位を一体とした部品が、前記原子に相当する部位に溝を有し、該溝同士を嵌め合わせることにより前記部品を接合して前記結晶構造や化合物の分子構造の骨格を組み立てるものであることを特徴とする模型。 （もっと読む）

【課題】マスク基板や半導体ウエーハ等の基板をブラシで洗浄する際、ブラシ自体を劣化させずに清浄な状態で洗浄し、それにより基板を清浄な状態で洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板８を保持するための基板保持手段３と、基板を洗浄するためのブラシ４と、ブラシを駆動させるためのブラシ駆動手段５と、基板保持手段により保持された基板又はブラシに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給手段６と、ブラシを洗浄するためのブラシ洗浄手段９とを備え、ブラシ洗浄手段が、ブラシを収容し、該ブラシを押し当てて洗浄するためのブラシ洗浄板が設けられたブラシ洗浄槽１０と、ブラシ洗浄槽にブラシ用の洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給手段１３と、ブラシ洗浄槽に対して超音波を印加してブラシ洗浄板を洗浄するための超音波印加手段１６とを有することを特徴とする基板洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の半導体ウエーハ等の平板状物の全面にわたってウオーターマークやステインを残さず、清浄な状態で乾燥させることができる平板状物の乾燥システム及び乾燥方法を提供する。
【解決手段】平板状物を純水でリンスした後に該ウエーハを乾燥させるためのシステムであって、少なくとも、平板状物Ｗを立てた状態で該平板状物の周辺部を支持し、該平板状物を純水でリンスするための水槽３と、前記純水から出た平板状物に対して上方からクリーンエアを吹き付けるための給気ダクト４と、前記クリーンエアが吹き付けられた前記平板状物の周辺部を把持し、前記水槽から前記平板状物を搬出するためのロボットハンド５と、前記ロボットハンドで把持された前記平板状物と接触することなく、該平板状物の下部を吸引乾燥するための乾燥ステージ６とを備えたものであることを特徴とする平板状物の乾燥システム１。 （もっと読む）

【課題】洗浄等に使用した後や、余剰のオゾン水またはオゾン水を含む混合溶液を効率良く、確実にオゾンを分解することができるオゾン水分解装置を提供する。
【解決手段】オゾン水分解装置であって、少なくとも、オゾン水またはオゾン水を含む混合溶液である被分解オゾン水を受け入れる受けタンクと、該受けタンクとつながり、受けタンクから送液される前記被分解オゾン水を気液分離する気液分離手段を有するオゾン気液分離槽と、該オゾン気液分離槽とつながり、前記オゾン気液分離槽で分離されたオゾンガスを所定濃度以下に分解するオゾンガス分解槽と、前記オゾン気液分離槽とつながり、前記オゾン気液分離槽で分離された被分解オゾン水を所定濃度以下に分解するオゾン水分解槽を具備するオゾン水分解装置。 （もっと読む）

【課題】被洗浄基板の超音波洗浄に用いられ、横長のシャワータイプの超音波洗浄用ノズルにおいて、洗浄時に、少量の洗浄液で、ノズル内部の気泡を速やかに抜き、均一に洗浄液を吐出できる超音波洗浄用ノズルを提供する。
【解決手段】基板の超音波洗浄に用い、少なくとも、内部に横長台形形状の噴射室を有し、一端にスリット状の吐出口が開口されたノズルボディと、振動子と、振動板とを具備し、前記ノズルボディは、噴射室に洗浄液を供給する導入通路と、導入通路と噴射室とを連通し、噴射室の側面に等間隔で複数形成され、断面が円形の整流通路とを有するものである超音波洗浄用ノズルであって、吐出口の横の長さ（Ｗ）と、整流通路の直径（ｄ）と、各整流通路同士の間隔（Ｌ）と、洗浄液の総流量（Ｑ）とから求められる整流通路内を流れる洗浄液の流速（ｖ）が、ｖ＝１００ＬＱ／（３πＷｄ^２）≧１．８ｍ／ｓｅｃを満足する超音波洗浄用ノズル。 （もっと読む）

【課題】半導体基板等の高いクリーン度が要求される基板の洗浄を行う際、洗浄する面とは反対側の面に洗浄液が回り込むことを防ぐとともに、パーティクル等が局所的に溜まって汚染することも防ぐことができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板９を支持するための環状の基板支持手段３と、該基板支持手段により支持された基板に対して純水又は薬液からなる洗浄液６を供給するための洗浄液供給手段２とを具備し、基板支持手段が基板の端面を３点以上で支持して位置決めする位置決め用のピン４と、該位置決め用のピンで位置決めされた基板の下面の周囲に沿うように長短の突起５ａ，５ｂが連続的に配置された突起部５とを有するものであり、洗浄液供給手段から純水又は薬液を供給して基板を洗浄する際に位置決め用のピンで支持された基板の下面と突起部との間に形成された隙間が純水又は薬液でシールされた状態で基板が洗浄される基板の洗浄装置１。 （もっと読む）