【課題】ｐ−ｎ接合を含むシリコン基材を含む光起電力素子を製造するための方法を提供する。
【解決手段】有機シラン、アミノシラン及びそれらの混合物からなる群より選択される前駆体を含む組成物を化学気相成長させることにより、シリコン基材の少なくとも一方の表面上に非晶質炭化ケイ素の反射防止コーティングを形成する工程を含み、該非晶質炭化ケイ素の反射防止コーティングが、式Ｓｉ_vＣ_xＮ_uＨ_yＦ_zによって表される膜であって、式中、ｖ＋ｘ＋ｕ＋ｙ＋ｚ＝１００％、ｖが１〜３５原子％、ｘが５〜８０原子％、ｕが０〜５０原子％、ｙが１０〜５０原子％、及びｚが０〜１５原子％である、ｐ−ｎ接合を含むシリコン基材を含む光起電力素子を製造するための方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】３．７以下の誘電率を有するシリカ系の材料及び膜、並びにそれを作製及び使用するための組成物及び方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系材料を調製するための組成物であって、少なくとも１つのシリカ源と、溶剤と、少なくとも１つのポロゲンと、任意選択で触媒と、任意選択で流動添加剤とを含み、該溶剤が、９０℃〜１７０℃の温度で沸騰し、化学式、ＨＯ−ＣＨＲ⁸−ＣＨＲ⁹−ＣＨ₂−ＣＨＲ¹⁰Ｒ¹¹（式中、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、独立して１〜４個の炭素原子のアルキル基又は水素原子であることができる）；Ｒ¹²−ＣＯ−Ｒ¹³（式中、Ｒ¹²は３〜６個の炭素原子を有する炭化水素基であり；Ｒ¹³は１〜３個の炭素原子を有する炭化水素基である）；及びそれらの混合物によって表される化合物から成る群より選択された組成物によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】本発明は基材に非晶質炭素層を形成する方法を提供する。
【解決手段】この方法は、プロセシングチャンバーに基材を配置する；プロセシングチャンバーにプロセスガスを導入する；プロセスガスのプラズマを発生させる；および基材に非晶質炭素層を堆積させる、工程を含み、ここでプロセスガスは単一の炭素−炭素二重結合を有するＣ_４〜Ｃ_１０の環状炭化水素を含む組成物を含み、ここでこの組成物は安定化剤を含まない。 （もっと読む）

【課題】工業用途に有用なバンドギャップを示し、容易に水に分散でき、及び溶液中で安定して有用な保存期間を提供できる本質的に導電性のポリマーを提供する。
【解決手段】モノマー、オリゴマー、及びポリマー導電性化合物並びに下記式


の繰り返し単位を有する化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】充填物層を収容する交換塔において降下する液体の流れを集めて再分配するための装置を提供する。
【解決手段】複数の水平方向に間隔を置いて配置された長手方向の部材であって、各部材が内側及び充填物層の底部に隣接する上端を有する長手方向の部材；充填物層の底部から鉛直方向に間隔を置いて配置された少なくとも１つのプレートであって、各プレートが降下する液体の流れの一部を集めるよう適合され、一対の長手方向の部材の各内側に接続された対向する端部を有するプレート；並びにプレートと連通しかつプレートの下から上まで交換塔において上昇する蒸気の流れの少なくとも一部を受け入れて送るよう適合された少なくとも１つの蒸気ライザーであって、各蒸気ライザーが充填物層の底部から鉛直方向に間隔を置いて配置されたキャップを有する蒸気ライザーを含む装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】凝縮した天然ガスから窒素を除去するための方法を提供する。
【解決手段】（ａ）凝縮天然ガスを蒸留塔へその第１の箇所で導入し、この蒸留塔から窒素を富化した塔頂蒸気流を抜き出し、そしてこの塔の底部から精製した液化天然ガス流を抜き出すこと、（ｂ）低温の還流の流れを当該蒸留塔へ第１の箇所より上方の第２の箇所で導入し、この低温の還流の流れを提供するための寒冷を、窒素を含む冷媒流を圧縮し仕事膨張させて得ること、（ｃ）（１）上記の精製した液化天然ガス流を冷却し又は上記の凝縮天然ガスの流れを冷却するか、あるいは（２）上記の精製した液化天然ガスの流れと上記の凝縮天然ガスの流れの両方を冷却し、（１）又は（２）のための寒冷を上記の窒素を含む冷媒流を圧縮し仕事膨張させることにより得ること、を含む手段により凝縮天然ガスから窒素を除去する。冷媒流は、蒸留塔からの窒素に富む蒸気流の全部又は一部を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】安定した充放電特性を得ること。
【解決手段】少なくとも１種の有機非プロトン性溶媒、少なくとも１種の塩および少なくとも１種のキレートボレート添加物を含む電解質。正極、負極および電解質を含むセル中にＳＥＩ層を生成する方法、該方法は、過充電セルを組み立てる前または生成サイクルの間の該セルに電解質を過充電するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】反応器内の内壁や部品に付着した窒化チタン残留物の効果的な除去方法を提供する。
【解決手段】(a)フッ素含有物質及び塩素含有物質からなる群より選ばれる少なくとも一種の反応体を含む処理ガスを供給すること、(b)当該処理ガスを、少なくとも一種の反応体からなる少なくとも一種の反応性化学種で富化して富化された処理ガスを生成させ、この富化を第一の場所で行うこと、(c)基体表面の少なくとも一部が窒化チタンで被覆されている基体を、５０℃を超える基体温度で供給すること、そして(d)当該基体表面の窒化チタンを、富化された処理ガスと接触させて基体表面から窒化チタンを揮発、除去し、この接触を第一の場所とは異なる第二の場所で行うこと、を含む基体表面から窒化チタンを除去する方法。 （もっと読む）

【課題】 高誘電異方性を有する液晶組成物を提供すること。
【解決手段】 有機基に結合したＳＦ₄−Ｏ−ＣＦ₃を含有する新規組成物が開示される。
アリールトリフルオロメトキシテトラフルオロスルフラン（又はＡｒ−ＳＦ₄−Ｏ−ＣＦ₃）が、アリールジスルフィド又はチオールと、フルオロオキシトリフルオロメタン（Ｆ₃ＣＯＦ）との反応を介して合成された。この組成物は有用なシントンであり、それを誘導体化して、高極性分子、特に高誘電異方性を有する新規の液晶組成物を得ることができる。シクロアルキルトリフルオロメトキシテトラフルオロスルフランが同様の有用性を有する。 （もっと読む）

【課題】イオン輸送膜システムを提供する。
【解決手段】（ａ）内部、外部、入口、入口導管、出口、及び出口導管を含む圧力容器、（ｂ）該圧力容器の内部に配置されそして直列に配列された複数の平面状イオン輸送膜モジュールであって、各膜モジュールが混合金属酸化物セラミック材料を含みかつ内部領域と外部領域を有し、前記圧力容器の入口及び出口が前記膜モジュールの外部領域と連通している複数の平面状イオン輸送膜モジュール、（ｃ）内部表面を有するガスマニホールドであって、前記平面状イオン輸送膜モジュールのそれぞれの内部領域及び前記圧力容器の外部と連通しているガスマニホールド、並びに、（ｄ）前記入口導管の内部、前記出口導管の内部、及び前記ガスマニホールドの内部表面のいずれかに配置されたライナーを含むイオン輸送膜システムが提供される。 （もっと読む）